JP2001026184A - 湿し水不要平版原版 - Google Patents

湿し水不要平版原版

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JP2001026184A
JP2001026184A JP11201430A JP20143099A JP2001026184A JP 2001026184 A JP2001026184 A JP 2001026184A JP 11201430 A JP11201430 A JP 11201430A JP 20143099 A JP20143099 A JP 20143099A JP 2001026184 A JP2001026184 A JP 2001026184A
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JP11201430A
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English (en)
Inventor
Taketaka Matsumoto
雄剛 松本
Koji Sonokawa
浩二 園川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程中のブロッキングや搬送トラブルを
抑制して、画像記録の鮮鋭性(再現性)を向上させるこ
とを特徴とする湿し水不要平版原版の提供。 【解決手段】 プラスチックフィルムの支持体の片面
に、光熱変換層及びシリコーンゴム層がこの順に積層さ
れ、支持体の反対側に少なくとも1層の帯電防止層を有
し、該帯電防止層側の面のベック平滑度が50〜500
(秒)の湿し水不要平版原版である。好ましくは帯電防
止層に、または帯電防止層上のオーバーコート層に平均
粒径が0.5μm〜20μmのマット剤が含有される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光によるヒ
ートモード記録によって、湿し水を必要としない印刷が
できる湿し水不要平版原版に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の湿し水を必要とする印刷方式は湿
し水とインキの微妙なバランスのコントロールが難し
く、インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざ
ったりして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の
原因となるなど、大きな問題点を有していた。それに対
して、湿し水不要平版原版は湿し水を必要としないため
に数多くの利点を有する。
【0003】一方、近年プリプレスシステムやメッセー
ジセッター、レーザープリンターなどの出力システムの
急激な進歩によって、印刷画像をデジタルデーター化
し、コンピューター・トゥ・プレート、コンピューター
・トゥ・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版
を得る方法が提案されるようになり、これら印刷システ
ムのための新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進
められている。
【0004】レーザー書き込みにより湿し水不要平版原
版を形成できる例としては、特公昭42−21879号
公報、特開平5−94008号公報、特開平6−557
23号公報、特開平6−186750号公報、特開平7
−314934号公報、US5,353,705号公報
およびWO−9401280公報等が挙げられる。これ
らには、カーボンブラック等のレーザー光吸収剤および
ニトロセルロース等の自己酸化性バインダーを含有し
た、光を熱に変換する層(以下、光熱変換層と称す)を
設けた上に、または金属薄膜層上に、インキ反撥性のシ
リコーンゴム層を設けた印刷原版を作製し、これにレー
ザー照射することで、シリコーンゴム層の一部を除去し
てインク付着性とし、水なし印刷することが記載されて
いる。
【0005】このような湿し水不要平版原版において
は、支持体に親水性のアルミ基板を用いる必要はなく、
上記公報あるいは特開平9−314794等にはプラス
チックフィルムを支持体に用いることが開示されてい
る。
【0006】しかし、これらの刷版には、下記に示す欠
点がある。支持体に用いるプラスチックフィルムは、一
般に帯電しやすい性質を有している。このため、原版の
製造工程、レーザーによる書き込み記録工程、現像処
理、水洗処理、乾燥処理の各工程、および印刷工程にお
いて、静電気によるトラブルを発生しやすい。例えば、
製造工程では、光熱変換層塗布の際に塗布前のフィルム
支持体が帯電すると、小さな塵や埃を付着させた上に塗
布されることになるため、塗布欠陥の原因となる。ま
た、書き込み時では埃がバック面に付着していると、そ
の部分が書き込み時にドラムより浮き上がった状態とな
り、記録書き込みに用いるレーザー光の焦点が合わなく
なり、画像の鮮鋭性(再現性)が損なわれる。さらに印
刷工程では印刷用ドラムの周囲へ平版を巻き付ける際に
フィルムが帯電していると抵抗となり巻き付けにくくな
ったり、また印刷版上へのゴミ付着による印刷汚れ、印
刷シートの蛇行などの原因にもなりうる。
【0007】この他に支持体にプラスチックフィルムを
用いる場合の欠点として、光熱変換層を設けていない側
の面が平滑すぎることがあげられる。この場合には、原
版の製造工程、レーザーによる書き込み記録工程、現像
処理、水洗処理、乾燥処理の各工程、および印刷工程に
おいて、ブロッキングや搬送不良等のトラブルを起こし
やすい。例えば、製造工程では、光熱変換層塗布後のフ
ィルムを巻き取る際および巻き取った形態で保存したり
する際にブロッキングが起こる。また、フィルムが平滑
なことで巻き取るフィルムの中に局所的にエアーが取り
込まれたりして、フィルムシートにクニック状の凹凸が
残ることになる。この様な凹凸部分では、書き込み時に
レーザー光の焦点がずれてしまうので、画像記録の鮮鋭
性(再現性)を失わせる原因となる。また、書き込み時
には、フィルムをドラムに巻き付ける際にフィルム支持
体とドラムとの間にエアーが局所的に取り込まれたりし
て、凹凸部を形成し、書き込み時のレーザー光の焦点が
ずれる。さらには、現像水洗処理工程では、水洗クリー
ナーでの搬送時に、搬送ローラーとガイド部の間でステ
ィッキングが起こる。
【0008】これらのうち、前者のプラスチックフィル
ムの帯電による欠点を改良するため、特開平6−299
113号公報、特開平6−157963号公報には、帯
電防止効果のある印刷インキが開示されている。また、
特開平7−314934号公報には、印刷工程の版胴周
囲へ平版を巻き付ける際の静電気トラブルを解決する方
法として、支持体が帯電防止性を備えたポリエステルフ
ィルムを使用する方法が開示されている。しかし、ここ
に記載されているDu Pont MYLARJXM3
01製品およびJMX502製品を支持体に用いると、
上記後者のプラスチックフィルムの欠点であるブロッキ
ングや搬送不良等のトラブルが更に起こりやすくなって
しまう。さらには、これらのフィルムは22℃55%R
H程度の雰囲気下においては電気抵抗値が1×1010
1×1012Ω/□程度の充分な帯電防止性能を示すもの
の、10℃15%RHのような低温条件下においては電
気抵抗値が1×1013Ω/□以上の値となり帯電防止性
能を失うという問題がある。従って、プラスチックフィ
ルムの上記欠点はまだ十分に解決されておらず、その改
善が強く望まれている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、製造
工程、書込み工程、印刷工程等において静電気によるゴ
ミ付着等のトラブルを抑制しつつ、かつ、ブロッキン
グ、クニック、現像水洗工程での搬送トラブル等を抑制
した湿し水不要平版原版を提供することにあり、更に
は、低温下においても帯電防止性能が損なわれず、ま
た、製造工程等で帯電防止剤が脱落することがない湿し
水不要平版原版を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、以下の構成を有する湿し水不要平版原版によって達
成される。 <1> プラスチックフィルム支持体の片側に、光熱変
換層およびシリコーンゴム層がこの順で積層され、支持
体の反対側に少なくとも1層の帯電防止層を有し、該帯
電防止層側のベック平滑度(秒)が50〜500秒であ
ることを特徴とする湿し水不要平版原版である。 <2> 前記帯電防止層が、平均粒径が0.5μ〜20
μのマット剤を含有することを特徴とする前記<1>に
記載の湿し水不要平版原版である。 <3> 前記帯電防止層と同じ側にあり、前記帯電防止
層とは異なる層に、平均粒径が0.5μ〜20μのマッ
ト剤を含有することを特徴とする前記<1>に記載の湿
し水不要平版原版である。 <4> 前記帯電防止層側の最外層表面と水との接触角
が60°以上であることを特徴とする前記<1>〜前記
<3>のいずれかに記載の湿し水不要平版原版である。 <5> 前記帯電防止層側の最外層に、ポリオレフィン
からなるオーバーコート層を有する前記<1>〜前記<
4>のいずれかに記載の湿し水不要平版原版である。 <6> 前記帯電防止層側の10℃15%RHにおける
表面電気抵抗値が、1×107〜1×1012Ωであるこ
とを特徴とする前記<1>〜前記<5>のいずれかに記
載の湿し水不要平版原版である。 <7> 前記帯電防止層が、ZnO、TlO2、Sn
2、Al23、In23、MgO、および、これらの
複合酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種の金
属酸化物粒子、および/または該金属酸化物に更に異種
原子を含む金属酸化物粒子を含有することを特徴とする
前記<1>〜前記<6>のいずれかに記載の湿し水不要
平版原版である。 <8> 前記帯電防止層が、アクリル樹脂、ビニル樹
脂、ポリウレタン樹脂およびポリエステル樹脂からなる
群より選ばれる、少なくとも一種のポリマーとメラミン
化合物との硬化生成物を含む前記<1>〜前記<7>の
いずれかに記載の湿し水不要平版原版である。
【0011】前記<1>に記載の湿し水不要平版原版に
おいては、帯電防止層側のベック平滑度(秒)が50〜
500秒であり、この範囲のベック平滑度(秒)では、
プラスチックフィルムを支持体とする原版は支障なく搬
送され、書き込み時のレーザー光の焦点のずれがなく、
画像記録の鮮鋭性(再現性)が損なわれることがない。
前記<2>及び前記<3>に記載の湿し水不要平版原版
においては、帯電防止層側の帯電防止層または該帯電防
止層と異なる層(例えば、オーバーコート層)に含有さ
れるマット剤によって、帯電防止層側のベック平滑度
(秒)を50〜500秒の範囲に調整可能である。前記
<4>に記載の湿し水不要平版原版においては、帯電防
止層側の最外層表面の水との接触角が60°以上であって
撥水性を有しており、プラスチックフィルムを支持体と
する原版の搬送時、原版がガイドとスティッキングを起
こすのを抑制でき、上記したマット剤との併用により原
版の搬送性がより向上する。前記<5>に記載の湿し水
不要平版原版においては、ポリオレフィンからなるオー
バーコート層を設けることによって帯電防止層側の最外
層表面の水との接触角を60°以上に調整可能である。前
記<6>に記載の湿し水不要平版原版においては、帯電
防止層側の10℃15%RHにおける表面電気抵抗値
が、1×107〜1×1012Ωであり、プラスチックフ
ィルムを支持体とする原版の帯電による塗布欠陥、ゴミ
等の付着による記録書き込み時のレーザー光の焦点のず
れ等が解消される。前記<7>に記載の湿し水不要平版
原版においては、帯電防止層に特定の金属酸化物粒子を
含有させることによって、帯電防止層側の10℃15%
RHにおける表面電気抵抗値を1×107〜1×1012
Ωに調整可能であり、イオン性の帯電防止剤と異なり,
低温低湿下での帯電防止性能を維持できる。前記<8>
に記載の湿し水不要平版原版においては、帯電防止層が
アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂およびポ
リエステル樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも一
種のポリマーとメラミン化合物との硬化生成物を含んで
おり、帯電防止層に滑り性と,耐傷性を発現でき、かつ帯
電防止層に含有される金属酸化物粒子を帯電防止層に強
固に保持できる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を詳細に説明する。 −−支持体−− 本発明におけるプラスチックフィルムとしては、ポリエ
ステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレ
ンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフ
ィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアル
コールフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリカーボネー
トフィルム、アセテートフィルム、ポリアミドフィル
ム、ポリイミドフィルム等を用いることができるが、こ
れらに限定されるものではない。また、これらは単独で
使用しても、2種以上組み合わせて使用してもよい。こ
れらの中で適度の撓み性と強度の面からポリエチレンテ
レフタレートフィルムもしくはポリエチレン−2,6−
ナフタレートフィルムが好ましい。
【0013】また、プラスチックフィルムは、逐次二軸
延伸前、同時二軸延伸前、一軸延伸後で再延伸前、ある
いは二軸延伸後のいずれであっても良く、好ましくは二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムである。こ
のポリエチレンテレフタレートフィルムには、空洞を含
有させたものを使用することができる。この空洞を含有
させたフィルムにおいては、レーザー光を有効に使用す
ると共にレーザー光により光熱変換層で発生した熱が支
持体に拡散しエネルギーロスを起こすのを抑制するのに
好適である。
【0014】本発明に用いられるプラスチックフィルム
からなる支持体は、通常の印刷機にセットできる程度の
たわみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に耐えるも
のでなければならない。従って、支持体の膜厚は25μ
mから3mm、好ましくは75μmから500μmが適
当であるが、用いる支持体の種類と印刷条件により最適
な厚さは変動する。一般には100μmから300μm
が最も好ましい。
【0015】また、表面の密着性向上のため、該支持体
に、コロナ放電処理、マット化易接着処理等の各種表面
処理を施してもよい。
【0016】−−光熱変換層−− 本発明に用いられる光熱変換層は書き込みに使用される
レーザー光を熱に変換(光熱変換)する機能を有する層
であり、これらの機能を有する公知の光熱変換層が使用
可能である。
【0017】この光熱変換層に用いられる光熱変換剤と
しては、光吸収領域が書き込みに使用されるレーザー光
の波長に合った各種の有機及び無機材料、例えば、有機
色素、有機顔料、金属及び金属酸化物等が使用可能であ
ることが従来より知られている。レーザー光源が赤外線
レーザー光源である場合の有機色素の例としては、「赤
外増感色素」(松岡著 Plenum Press ,New York,NY(199
0))、並びにUS−4833124、EP−32192
3、US−4772583、US−4942141、U
S−4948776、US−4948777、US−4
948778、US−4950639、US−4912
083、US−4952552、及びUS−50232
29等の明細書に記載の各種化合物等が挙げられる。ま
た、レーザー光源が赤外線レーザー光源である場合の有
機顔料の例としては、酸性カーボンブラック、塩基性カ
ーボンブラック、中性カーボンブラック、分散性改良等
のために表面修飾又は表面コートされた各種カーボンブ
ラック、及びニグロシン類等が挙げられる。レーザー光
源が赤外線レーザー光源である場合の金属の例として
は、アルミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、イン
ジウム、ビスマス、亜鉛、鉛及びこれらの合金等が挙げ
られ、レーザー光源が赤外線レーザー光源である場合の
金属酸化物の例としては、インジウムスズ酸化物、酸化
タングステン、酸化マンガン、及び酸化チタン等が挙げ
られる。この他に、前記金属の炭化物、窒化物、ホウ化
物及びフッ化物、並びにポリピロール及びポリアニリン
等の導電性ポリマー等も使用可能である。これらの材料
は単独膜の形態で、又はバインダーや添加剤等他の成分
との混合膜の形態で使用される。
【0018】光熱変換層が単独膜である場合には、アル
ミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、インジウム、
ビスマス、亜鉛、鉛等の金属、これらの合金、金属酸化
物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属フッ
化物及び有機色素等の少なくとも一種を含有する膜を蒸
着法又はスパッタリング法等により支持体上に形成させ
ることができる。
【0019】また、光熱変換層が混合膜である場合に
は、光熱変換剤をバインダーに溶解又は分散して他の成
分と共に塗布法により形成することができる。前記バイ
ンダーには光熱変換剤を溶解又は分散する公知のバイン
ダーが使用され、その例としては、セルロース、ニトロ
セルロース及びエチルセルロース等のセルロース誘導体
類、アクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、ポ
リメチルメタクリレート及びポリブチルメタクリレート
等のメタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、
アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、
ポリスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノ
マーの単独重合体及び共重合体、ポリイソプレン及びス
チレン−ブタジエン共重合体等の各種合成ゴム類、ポリ
酢酸ビニル等のビニルエステル類の単独重合体、酢酸ビ
ニル−塩化ビニル共重合体等のビニルエステル含有の共
重合体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル及び
ポリカーボネート等の縮合系各種ポリマー、並びに「J.
Imaging Sci.,P59-64 ,30(2), (1986) (Frechet
ら)」、「Polymers in Electronics(Symposium Seri
es,P11, 242, T.Davidson,Ed.,ACS Washington,DC(198
4) (Ito,Willson )」及び「Microelectronic Enginee
ring,P3-10,13(1991)(E. Reichmanis,L.F.Thompso
n)」に記載のいわゆる「化学増幅系」に使用されるバ
インダー等が挙げられる。
【0020】光熱変換層を混合膜として形成する場合に
は、光熱変換層の機械的強度を向上させたり、レーザー
記録感度を向上させたり、光熱変換層中の光熱変換剤等
の分散性を向上させたり、支持体や後述するプライマー
層等のような光熱変換層に隣接する層に対する密着性を
向上させる等種々の目的に応じて光熱変換層に各種の添
加剤を添加することができる。
【0021】例えば、光熱変換層の機械的強度を向上さ
せるための添加剤としては、光熱変換層を架橋する各種
の架橋剤が使用される。
【0022】また、レーザー記録感度を向上させるため
の添加剤としては、照射されたレーザー光エネルギーか
ら変換された熱によって分解してガスを発生させ、これ
により光熱変換層の体積を急激に膨張させて後述するシ
リコーンゴム層の剥離を容易にする公知の化合物が使用
される。このような添加剤の例としては、ジニトロペン
タメチレンテトラミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジニトロソテレフタルアミド、p−トルエンスルホニ
ルヒドラジド、4、4−オキシビス(ベンゼンスルホニ
ルヒドラジド)、ジアミドベンゼン等が挙げられる。
【0023】さらに、加熱により分解し酸性化合物を生
成する公知の化合物を添加剤として使用することができ
る。これらを化学増幅系のバインダーと併用することに
より、光熱変換層の構成物質の分解温度を大きく低下さ
せ、結果としてレーザー記録感度を向上させることが可
能である。このような添加剤の例としては、各種のヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウムトシレー
ト、オキシムスルホネート、ジカルボジイミドスルホネ
ート、トリアジン等が挙げられる。
【0024】光熱変換剤にカーボンブラック等の有機顔
料を用いた場合には、該有機顔料の分散度がレーザー記
録感度に影響を与えることがあり、該有機顔料の分散度
を上げてレーザー記録感度を向上させるために、各種の
顔料分散剤を添加剤として使用することができる。
【0025】また、接着性を向上させるために公知の密
着改良剤、例えば、シランカップリング剤、チタネート
カップリング剤等を添加剤として使用しても良い。この
他にも、塗布性を改良するための界面活性剤等必要に応
じて各種の添加剤を使用することができる。
【0026】光熱変換層の膜厚は、単独膜の場合には蒸
着法又はスパッタリング法等にて薄膜が形成できる。こ
の場合の膜厚は50Åから1000Å、好ましくは10
0Åから800Åである。また、混合膜は塗布により形
成される。この場合の膜厚は0.05μmから10μ
m、好ましくは0.1μmから5μmである。光熱変換
層の膜厚は厚すぎるとレーザー記録感度を低下させる等
の好ましくない結果を与える。
【0027】−−シリコーンゴム層−− 本発明において用いられるインキ反撥性のシリコーンゴ
ム層は光熱変換層上にシリコーンゴムの皮膜を反応形成
させることによって形成される。具体的には、縮合型シ
リコーンを架橋剤を用いて硬化させるか、付加型シリコ
ーンを触媒により付加重合させて形成することが好まし
い。縮合型シリコーンを用いる場合には、(a)ジオル
ガノポリシロキサン100重量部に対して、(b)縮合
型架橋剤を3〜70重量部、(c)触媒0.01〜40
重量部を加えた組成物を用いるのが好適である。
【0028】前記成分(a)のジオルガノポリシロキサ
ンは、下記一般式で示されるような繰り返し単位を有す
るポリマーである。R1及びR2は炭素数1〜10のアル
キル基、ビニル基、アリール基であり、またその他の適
当な置換基を有していても良い。一般的にはR1及びR2
の60%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル
基、ハロゲン化フェニル基等であるものが好ましい。
【0029】
【化1】
【0030】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。
【0031】また、前記成分(a)は、数平均分子量が
3,000〜100,000であり、より好ましくは、
5,000〜70,000である。
【0032】成分(b)の架橋剤は縮合型のものであれ
ばいずれであってもよいが、次の一般式で示されるよう
なものが好ましい。
【0033】
【化2】
【0034】ここでR1は先に説明したR1と同じ意味で
あり、Xは、Cl、Br,I等のハロゲン原子、水素原
子、水酸基、或いは、以下に示す如き有機置換基を表
す。
【0035】
【化3】
【0036】式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基
及び炭素数6〜20のアリール基を、R4及びR5は炭素
数1〜10のアルキル基を示す。
【0037】成分(c)としては、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガン等の金属カルボン酸塩、例えば、ラウ
リン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛等、ある
いは塩化白金酸等のような公知の触媒が挙げられる。
【0038】付加型シリコーンを用いる場合には、
(d)付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキ
サン100重量部に対して、(e)オルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン0.1〜25重量部及び(f)付加
触媒0.00001〜1重量部を添加した組成物を用い
ることが好ましい。
【0039】上記成分(d)の付加反応性官能基を有す
るジオルガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原
子に直接結合したアルケニル基(より好ましくはビニル
基)を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン
で、アルケニル基は分子の末端、中間いずれにあっても
よく、アルケニル基以外の有機基として、置換若しくは
非置換の炭素数1〜10のアルキル基、アリール基を有
していてもよい。また、成分(d)には水酸基を微量有
することも任意である。成分(d)は、数平均分子量が
3,000〜100,000であり、より好ましくは、
5,000〜70,000である。
【0040】成分(e)としては、両末端に水素基を有
するポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシ
ロキサン、両末端にメチル基を有するメチルシロキサン
−ジメチルシロキサン共重合体、環状ポリメチルシロキ
サン、両末端にトリメチルシリル基を有するポリメチル
シロキサン、両末端にトリメチルシリル基を有するジメ
チルシロキサン−メチルシロキサン共重合体等が例示さ
れる。
【0041】成分(f)としては、公知の重合触媒の中
から任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望まし
く、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位
白金等が例示される。
【0042】これらの組成物においてシリコーンゴム層
の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビ
ニル)シロキサン等のビニル基含有のオルガノポリシロ
キサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等の架橋抑制剤
を添加することも可能である。
【0043】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の
微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や
光重合開始剤を添加しても良い。
【0044】本発明に係るインキ反撥性のシリコーンゴ
ム層は、厚さが小さいとインキ反撥性が低下し、傷が入
りやすい等の問題点があり、厚さが大きい場合、画像現
像性が悪くなるという点から、厚みとしては乾燥膜厚と
して0.5〜5g/m2が好ましく、より好ましくは1
〜3g/m2である。
【0045】−−プライマー層−− 本発明において、支持体と光熱変換層との間にプライマ
ー層を設けてもよい。プライマー層は支持体と光熱変換
層との間の接着層、シリコーン層除去部のインキ受容層
として有用である。また、プライマー層は印刷時のシリ
コーン層への圧力緩和のためのクッション層としての役
割も有している。
【0046】本発明に用いられるプライマー層として
は、例えば、特開昭60−22903号公報に開示され
ているような種々の感光性ポリマーを光熱変換層を積層
する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−50
760号公報に開示されているエポキシ樹脂を熱硬化せ
しめたもの、特開昭63−133151号公報に開示さ
れているゼラチンを硬膜せしめたもの、さらに特開平3
−200965号公報に開示されているウレタン樹脂と
シランカップリング剤を用いたものや特開平3−273
248号公報に開示されているウレタン樹脂を用いたも
の等を挙げることができる。この他、ゼラチン又はカゼ
インを硬膜させたものも有効である。
【0047】さらに、前記のプライマー層中に、ポリビ
ニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、ポリウレタン、ポリアミド、スチレン−
ブタジエンゴム、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシ
変性アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリイソプレ
ン、アクリレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチ
レン、塩素化ポリプロピレン、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ニトロセルロース、ハロゲン化ポリヒドロキ
シスチレン、塩化ゴム等のポリマーを添加しても良い。
その添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範
囲内であれば、添加剤だけでプライマー層を形成しても
良い。また、これらのプライマー層には前記の目的に沿
って、接着助剤(例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹
脂、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤
やアルミニウムカップリング剤)や染料等の添加物を含
有させることもできる。また、塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般に、プライマー層の塗布量
は乾燥重量で0.1〜10g/m2の範囲が適当であ
り、好ましくは0.2〜8g/m2であり、さらに好ま
しくは0.5〜5g/m2である。
【0048】−−光熱変換層側のその他の層−− また、この水なし平版原版において、シリコーンゴム層
の上に、耐刷性、耐傷性、画像再現性及び汚れ性等の向
上の目的で、さらに種々のシリコーンゴム層を塗工して
も良い。
【0049】さらに、シリコーンゴム層は柔軟で傷がつ
きやすいため、表面保護の目的で、シリコーンゴム層上
に透明なフィルム、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビリニデン、ポリビニル
アルコール、ポリエチレンテレフタレート、セロファン
等をラミネートしたり、ポリマーのコーティングを施し
ても良い。これらのフィルムは延伸して用いても良い。
また、表面にマット加工を施しても良いが、画像再現性
の観点から、マット加工の無いものの方が本発明では好
ましい。
【0050】−−帯電防止層−− 上記の光熱変換層とシリコーンゴム層が設けられた面と
反対側の支持体面側に少なくとも1層の帯電防止層が設
けられる。この帯電防止層は、アクリル樹脂とメラミン
化合物との硬化物中に導電性金属酸化物粒子が分散した
層が好ましい。本発明の帯電防止層または必要に応じて
該帯電防止層上に形成されるオーバーコート層にはマッ
ト剤、界面活性剤、滑り剤などを併用して使用すること
ができる。
【0051】−−マット剤−− マット剤としては、好ましくは平均粒径が0.5μm〜
20μm、より好ましくは平均粒径が1.0μm〜15
μmの粒径をもつ酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マ
グネシウムなどの酸化物や、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン等の重合体あるいは共重合体等があげ
られる。特にこれらの重合体あるいは共重合体の架橋粒
子が好ましい。
【0052】これらのマット剤を帯電防止層側の少なく
ともいずれかの層に(帯電防止層及び/またはオーバー
コート層)所定量含有させることによって、帯電防止層
側の表面のベック平滑度(秒)を50〜500秒、好ま
しくは60〜450秒、より好ましくは200〜400
秒とすることができる。ここで、帯電防止層側の表面の
ベック平滑度(秒)は、JIS−P8119−1998
ならびにJ.TAPPI紙パルプ試験方法No.5に記
載された方法で測定された値を意味する。帯電防止層側
の表面のベック平滑度(秒)が50秒未満では、原版の
搬送性は高まるが、帯電防止層側の表面の凹凸が大きす
ぎてマット剤が層から脱落しやすくなり、原版の搬送性
が経時的に低下する。一方、帯電防止層側の表面のベッ
ク平滑度(秒)が500秒を超えると、帯電防止層側の
平滑度が高すぎて原版の搬送性が低下し、搬送不良に伴
う種々の弊害が生じる。
【0053】−−金属酸化物粒子−− 本発明における帯電防止層には、導電性金属酸化物粒子
を添加することができる。導電性金属酸化物粒子の材料
としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In
23、MgO、BaO及びMoO3及びこれらの複合酸
化物、及び/該金属酸化物に更に異種原子を含む金属酸
化物を挙げることができる。
【0054】金属酸化物としては、SnO2、ZnO、
Al23、TiO2、In23、及びMgOが好まし
く、さらにSnO2、ZnO、In23及びTiO2が好
ましく、SnO2が特に好ましい。異種原子を少量含む
例としては、ZnOに対してAlあるいはIn、TiO
2に対してNbあるいはTa、In23に対してSn、
及びSnO2に対してSb、Nbあるいはハロゲン元素
などの異種元素を0.01〜30モル%(好ましくは
0.1〜10モル%)ドープしたものを挙げることがで
きる。異種元素の添加量が、0.01モル%未満の場合
は酸化物または複合酸化物に充分な導電性を付与するこ
とができず、30モル%を超えると粒子の黒化度が増
し、帯電防止層が黒ずむため感材用としては適さない。
従って、本発明では導電性金属酸化物粒子の材料として
は、金属酸化物または複合金属酸化物に対し異種元素を
少量含むものが好ましい。また結晶構造中に酸素欠陥を
含むものも好ましい。
【0055】導電性金属酸化物粒子は、帯電防止層中
に、結合剤(アクリル樹脂及びメラミン化合物の合計)
に対して10〜1000重量%の範囲で含まれているこ
とが好ましく、更に100〜800重量%の範囲が好ま
しい。10重量%未満の場合は、充分な帯電防止性が得
られず、1000重量%を超えた場合は導電性金属酸化
物粒子の感材からの脱落を防止することができない。
【0056】導電性金属酸化物粒子の粒子径は、光散乱
をできるだけ小さくするために小さい程好ましいが、粒
子と結合剤の屈折率の比をパラメーターとして決定され
るべきものであり、ミー(Mie)の理論を用いて求め
ることができる。一般に、平均粒子径が0.001〜
0.5μmの範囲であり、0.003〜0.2μmの範
囲が好ましい。ここでいう、平均粒子径とは、導電性金
属酸化物粒子の一次粒子径だけでなく高次構造の粒子径
も含んだ値である。
【0057】上記金属酸化物の微粒子の帯電防止層形成
用塗布液への添加する際は、そのまま添加して分散して
も良いが、水等の溶媒(必要に応じて分散剤、バインダ
ーを含む)に分散させた分散液を添加することが好まし
い。
【0058】本発明において、帯電防止層に上記した本
発明の金属酸化物粒子を含有させることに原版の帯電防
止層側の10℃15%RHにおける表面電気抵抗値を、
1×107〜1×1012Ω、好ましくは1×109〜1×
1011Ωに調整することができ、また高温高湿下におけ
る表面電気抵抗値も所定の値に調整することができる。
原版の帯電防止層側の10℃15%RHにおける表面電
気抵抗値を1×107Ωよりも小さくすることは、多量
の導電性金属酸化物粒子を必要とするため、この粒子が
脱落しやすくなり、脱落した粒子が塗布膜のハジキの核
となるというような二次故障を引き起こす原因となる。
また、1×1012Ωを超えると、湿し水不要平版原版の
製造時に塗布欠陥を生じ、また、原版にゴミ等が付着
し、記録書き込み時にレーザー光の焦点のずれが生じ、
画像記録の鮮鋭性(再現性)が損なわれる。そして、上
記した金属酸化物粒子を用いると、高温高湿下において
も所望の帯電防止性能を有し、高温高湿下における湿し
水不要平版原版の製造時の塗布欠陥を防止し、また、原
版へのゴミ等の付着による記録書き込み時にレーザー光
の焦点のずれが防止し、画像記録の鮮鋭性(再現性)を
向上させることができる
【0059】−−帯電防止層の結合剤−− 導電性金属酸化物粒子を分散、支持する結合剤として、
アクリル樹脂とメラミン化合物との硬化物が望ましい。
本発明では、良好な作業環境の維持、及び大気汚染防止
の観点から、ポリマーもメラミン化合物も、水溶性のも
のを使用するか、あるいはエマルジョン等の水分散状態
で使用することが好ましい。また、ポリマーは、メラミ
ン化合物との架橋反応が可能なように、メチロール基、
水酸基、カルボキシル基及びグリシジル基のいずれかの
基を有する。水酸基及びカルボキシル基が好ましく、特
にカルボキシル基が好ましい。ポリマー中の水酸基又は
カルボキシル基の含有量は、0.0001〜10当量/
1kgが好ましく、特に0.01〜1当量/1kgが好
ましい。
【0060】アクリル樹脂としては、アクリル酸、アク
リル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルア
ミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸
アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミ
ド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独
重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得ら
れる共重合体を挙げることができる。これらの中では、
アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメ
タクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいず
れかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種
以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例え
ば、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアクリル酸
エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモ
ノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重
合により得られる共重合体を挙げることができる。
【0061】上記アクリル樹脂は、上記組成を主成分と
し、メラミン化合物との架橋反応が可能なように、例え
ば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びグリシ
ジル基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用して
得られるポリマーである。
【0062】本発明で使用されるメラミン化合物として
は、メラミン分子内に二個以上(好ましくは三個以上)
のメチロール基および/またはアルコキシメチル基を含
有する化合物およびそれらの縮重合体であるメラミン樹
脂あるいはメラミン・ユリア樹脂などをあげることがで
きる。
【0063】メラミンとホルマリンの初期縮合物の例と
しては、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミ
ン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラ
ミン、ヘキサメチロールメラミンなどがあり、その具体
的な市販品としては、例えばスミテックス・レジン(Su
mitex Resin)M−3、同MW、同MK及び同MC(住友
化学(株)製)などを挙げることができるが、これらに
限定されるものではない。
【0064】上記縮重合体の例としては、ヘキサメチロ
ールメラミン樹脂、トリメチロールメラミン樹脂、トリ
メチロールトリメトキシメチルメラミン樹脂等をあげる
ことができる。市販品としては、MA−1及びMA−2
04(住友ベークライト(株製)、ベッカミン(BEC
KAMINE)MA−S、ベッカミンAPM及びベッカ
ミンJ−101(大日本インキ化学工業(株)製)、ユ
ーロイド344(三井東圧化学(株)製)、大鹿レジン
M31及び大鹿レジンPWP−8(大鹿振興(株)製)
等をあげることができるが、これらの限定されるもので
はない。
【0065】本発明のメラミン化合物としては、分子量
を1分子内の官能基数で割った値で示される官能基当量
が50以上300以下であることが好ましい。ここで官
能基とはメチロール基および/またはアルコキシメチル
基を示す。この値が300を超えると硬化密度が小さく
高い強度が得られず、メラミン化合物の量を増やすと塗
布性が低下する。硬化密度が小さいとスリ傷が発生しや
すくなる。また導電性金属酸化物を保持力も低下する。
官能基当量が50未満では硬化密度は高くなるが透明性
が損なわれ、減量しても良化しない。本発明の水性メラ
ミン化合物の添加量は、上記ポリマーに対して0.1〜
100重量%、好ましくは10〜90%重量%である。
【0066】これらのメラミン化合物は単独で用いても
よいし、二種以上併用してもよい。また、他の化合物と
の併用も可能であり、例えばC.E.K.Meers およびT.H.Ja
mes著「The Theory of the Photographic Process」第
3版(1966年)、米国特許第3316095号、同
3232764号、同3288775号、同27323
03号、同3635718号、同3232763号、同
2732316号、同2586168号、同31034
37号、同3017280号、同2983611号、同
2725294号、同2725295号、同31007
04号、同3091537号、同3321313号、同
3543292号及び同3125449号、及び英国特
許994869号及び同1167207号等に記載され
ている硬化剤などがあげられる。
【0067】代表的な例としては、ムコクロル酸、ムコ
ブロム酸、ムコフェノキシクロル酸、ムコフェノキシプ
ロム酸、ホルムアルデヒド、グリオキザール、モノメチ
ルギリオキザール、2,3−ジヒドロキシ−1,4ジオ
キサン、2,3−ジヒドロキシ−5−メチル−1,4−
ジオキサンサクシンアルデヒド、2,5−ジメトキシテ
トラヒドロフラン及びグルタルアルデヒド等のアルデヒ
ド系化合物およびその誘導体;
【0068】ジビニルスルホン−N,N’−エチレンビ
ス(ビニルスルホニルアセトアミド)、1,3−ビス
(ビニルスルホニル)−2−プロパノール、メチレンビ
スマレイミド、5−アセチル−1,3−ジアクリロイル
−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、1,3,5−トリア
クリロイル−ヘサヒドロ−s−トリアジン及び1,3,
5−トリビニルスルホニル−ヘキサヒドロ−s−トリア
ジンなどの活性ビニル系化合物;
【0069】2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−
トリアジンナトリウム塩、2,4−ジクロロ−6−(4
−スルホアニリノ)−s−トリアジンナトリウム塩、
2,4−ジクロロ−6−(2−スルホエチルアミノ)−
s−トリアジン及びN,N’−ビス(2−クロロエチル
カルバミル)ピペラジン等の活性ハロゲン系化合物;
【0070】ビス(2,3−エポキシプロピル)メチル
プロピルアンモニウム・p−トルエンスルホン酸塩、
1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピルオキシ)
ブタン、1,3,5−トリグリシジルイソシアヌレー
ト、1,3−ジクリシジル−5−(γ−アセトキシ−β
−オキシプロピル)イソシアヌレート、ソルビト−ルポ
リグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシ
ジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジル
エーテル類、ジグリセロ−ルポリグルシジルエーテル、
1,3,5−トリグリシジル(2−ヒドロキシエチル)
イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエー
テル類およびトリメチロ−ルプロパンポリグリシジルエ
ーテル類等のエポキシ化合物;
【0071】2,4,6−トリエチレン−s−トリアジ
ン、1,6−ヘキサメチレン−N,N’−ビスエチレン
尿素およびビス−β−エチレンイミノエチルチオエーテ
ル等のエチレンイミン系化合物;1,2−ジ(メタンス
ルホンオキシ)エタン、1,4−ジ(メタンスルホンオ
キシ)ブタン及び1,5−ジ(メタンスルホンオキシ)
ペンタン等のメタンスルホン酸エステル系化合物;ジシ
クロヘキシルカルボジイミド及び1−ジシクロヘキシル
−3−(3−トリメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド塩酸塩等のカルボジイミド化合物;2,5−ジメチル
イソオキサゾール等のイソオキサゾール系化合物;クロ
ム明ばん及び酢酸クロム等の無機系化合物;
【0072】N−カルボエトキシ−2−イソプロポキシ
−1,2−ジヒドロキノリン及びN−(1−モルホリノ
カルボキシ)−4−メチルピリジウムクロリド等の脱水
縮合型ペプチド試薬;N,N’−アジポイルジオキシジ
サクシンイミド及びN,N’−テレフタロイルジオキシ
ジサクシンイミド等の活性エステル系化合物:トルエン
−2,4−ジイソシアネート及び1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート等のイソシアネート類;及びポリア
ミド−ポリアミン−エピクロルヒドリン反応物等のエピ
クロルヒドリン系化合物を挙げることができるが、これ
に限定されるものではない。
【0073】界面活性剤としては公知のアニオン系界面
活性剤、カチオン系界面活性剤、両性系界面活性剤、非
イオン系界面活性剤等があげられる。
【0074】滑り剤としては、炭素数8〜22の高級ア
ルコールのリン酸エステルもしくはそのアミノ塩;パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸およびそのエステル
類;及びシリコーン系化合物等を挙げることができる。
【0075】本発明の帯電防止層は、上記導電性金属酸
化物粒子をそのままあるいは水等の溶媒(必要に応じて
分散剤、バインダーを含む)に分散させた分散液を、ア
クリル樹脂、メラミン化合物及び適当な添加剤を含む水
分散液あるいは水溶液に、添加、混合(必要に応じて分
散)して帯電防止層形成用塗布液を調製し、これを塗布
乾燥することによって得られる。
【0076】本発明の帯電防止層は、上記帯電防止層形
成用塗布液をプラスチックフィルムの表面(光熱変換層
及びシリコーンゴム層が設けられない側)に一般によく
知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナ
イフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート
法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法な
どにより塗布することができる。
【0077】本発明の帯電防止層の層厚は、0.01〜
1μmの範囲が好ましく、さらに0.1〜0.5μmの
範囲が好ましい。0.01μm未満では塗布剤を均一に
塗布しにくいため製品に塗布むらが生じやすく、1μm
を超える場合は、帯電防止性能や耐傷性が劣る場合があ
る。
【0078】−−オーバーコート層−− 本発明では、帯電防止層の上には、オーバーコート層を
設けることが望ましい。オーバーコート層は、主として
滑り性及び耐傷性を向上させるため、及び帯電防止層の
導電性金属酸化物粒子の脱離防止の機能を補助するため
に設けられる。
【0079】オーバーコート層の材料としては、エチ
レン、プロピレン、1−ブテン及び4−メチル−1−ペ
ンテン等の1−オレフィン系不飽和炭化水素の単独また
は共重合体からなるワックス、樹脂及びゴム状物(例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−1−ブテ
ン、ポリ−4−メチル−1−ペンテン、エチレン/プロ
ピレン共重合体、エチレン/1−ブテン共重合体及びプ
ロピレン/1−ブテン共重合体)、上記1−オレフィ
ンの二種以上と共役または非共役ジエンとのゴム状共重
合体(例えば、エチレン/プロピレン/エチリデンノル
ボルネン共重合体、エチレン/プロピレン/1,5−ヘ
キサジエン共重合体及びイソブテン/イソプレン共重合
体)、1−オレフィンと共役または非共役ジエンとの
共重合体、(例えば、エチレン/ブタジエン共重合体お
よびエチレン/エチリデンノルボルネン共重合体)、
1−オレフィン、特にエチレンと酢酸ビニルとの共重合
体およびその完全もしくは部分ケン化物、1−オレフ
ィンの単独または共重合体に上記共役もしくは非共役ジ
エンまたは酢酸ビニル等をグラフトさせたグラフト重合
体およびその完全もしくは部分ケン化物、などを挙げる
ことができるが、これに限定されるものではない。上記
化合物は、特公平5−41656号公報に記載されてい
る。
【0080】上記のポリオレフィンであって、カルボキ
シル基および/またはカルボン酸塩基を有するものが好
ましい。本発明では、通常水溶液あるいは水分散液とし
て使用する。
【0081】本発明のオーバーコート層中には、ホルム
アルデヒド捕捉剤を含有させることが望ましい。ホルム
アルデヒド捕捉剤としては、ホルムアルデヒドが付加反
応し構造中にメチロール基あるいはメトキシメチル基を
形成するような性質を有する化合物である。具体的な化
合物の例としては、尿素、尿素誘導体、メラミン、メラ
ミン誘導体、フェノール、レゾルシン、チオ尿素、チオ
尿素誘導体、2−イミダゾリジノン、2−イミダゾリジ
ノン誘導体等があるが、なかでも2−イミダゾリジノン
および/または2−イミダゾリジノン誘導体が好まし
い。
【0082】塗設量としては、帯電防止層中に含有する
メラミン化合物の固形分量をa(mg/m2)、メラミ
ン化合物1分子中のホルムアルデヒドを遊離し得る官能
基数をna、ホルムアルデヒド捕捉剤1分子中のホルム
アルデヒドが付加し得る官能基数をnb、メラミン化合
物の分子量をMa、ホルムアルデヒド捕捉剤の分子量を
Mbとしたときに、下記式であらわされるb(mg/m
2)を用いてあらわすと、 b=a×(nb/na)×(Mb/Ma) 単位面積あたりの塗設量は、0.1×b(mg/m2
以上、100×b(mg/m2)以下であることが好ま
しい。さらに、b(mg/m2)以上、10×b(mg
/m2)以下であることがより好ましい。0.1×b
(mg/m2)未満では現像性の低下を抑制することが
できない。また、100×b(mg/m2)を超えると
塗布された後経時でホルムアルデヒド捕捉剤が析出して
くる等の現象が起こる場合があり、バック層表面の滑り
性を低下させるなどの弊害を引き起こす。
【0083】上記オーバーコート層は、本発明の帯電防
止層上に一般によく知られた塗布方法、例えばディップ
コート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、
ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストル
ージョンコート法などにより上記バインダー等を含む塗
布液(水分散液または水溶液)を塗布することにより形
成することができる。
【0084】上記オーバーコート層の層厚は、0.01
〜1μmの範囲が好ましく、さらに0.01〜0.2μ
mの範囲がより好ましい。0.01μm未満では塗布剤
を均一に塗布しにくいため製品に塗布ムラが生じやす
く、1μmを超える場合は、帯電防止性能や耐傷性が劣
る場合がある。本発明において、オーバーコート層を湿
し水不要平版原版の帯電防止層側の最外層に形成するこ
とによって、最外層表面と水との接触角を60°以上、
好ましくは70°以上とすることができる。湿し水不要
平版原版の最外層表面と水との接触角が60°未満の場
合、湿し水不要平版原版の製造時に湿し水不要平版原版
がガイドとの間でスティッキングを起こしやすくなり、
好ましくない。
【0085】−−湿し水不要平版原版の製造方法−− 本発明において、湿し水不要平版原版を露光するのに使
用されるレーザーは、シリコーンゴム層が剥離除去され
るのに十分な密着力の低下が起きるのに必要な露光量を
与えるものであれば特に制限はなく、Arレーザー、炭
酸ガスレーザーのごときガスレーザー、YAGレーザー
のような固体レーザー、そして半導体レーザー等が使用
できる。通常出力が50mWクラス以上のレーザーが必
要となる。保守性、価格等の実用的な面からは、半導体
レーザー及び半導体励起の固体レーザー(YAGレーザ
ー等)が好適に使用される。
【0086】これらのレーザーの記録波長は赤外線の波
長領域であり、800nmから1100nmの発振波長
を利用することが多い。
【0087】また、特開平6−186750号公報に記
載されているイメージング装置を用いて露光することも
可能である。
【0088】前記の如くシリコーンゴム層の表面保護の
ためのフィルムを設ける場合には、レーザー露光する際
には光透過性のフィルムであればそのまま露光しても良
いし、剥がした後に露光しても良い。
【0089】本発明の湿し水不要平版原版を製版する際
に用いられる現像液としては、湿し水不要平版原版の現
像液として公知のもの、例えば、炭化水素類、極性溶
媒、水及びこれらの組み合わせ等、が使用できるが、安
全性の観点から、水又は水を主成分とする有機溶剤の水
溶液を用いることが好ましく、安全性及び引火性等を考
慮すると有機溶剤の濃度は40重量%未満が望ましい。
【0090】用い得る炭化水素類としては、脂肪族炭化
水素類〔具体的には、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ガ
ソリン、灯油、市販の溶剤である”アイソパーE、H、
G”(エッソ化学社製)等〕、芳香族炭化水素類(例え
ば、トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化
水素(トリクレン等)等が挙げられる。また、極性溶媒
としては、アルコール類(具体的には、例えば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコ
ール、テトラエチレングリコール等)、ケトン類(例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル類
(例えば、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等)、その他、トリエチルホスフェート、トリクレジル
ホスフェート等が挙げられる。また、単に水道水、純
水、蒸留水等の水そのものを用いることもできる。これ
らは単独で用いてもよく、2種以上、例えば、炭化水素
類に水を添加したり、極性溶媒に水を添加したり、炭化
水素類と極性溶媒を組み合わせて、用いることもでき
る。
【0091】さらに、上記炭化水素類や極性溶媒のうち
水に対する親和性の低いものについては界面活性剤等を
添加して水に対する溶解性を向上させてもよい。また、
界面活性剤とともにアルカリ剤(例えば、炭酸ナトリウ
ム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等)を添加
することもできる。
【0092】現像は、例えば、上記のような現像液を含
む現像用パッドで版面をこすったり、現像液を版面に注
いだ後に水中にて現像ブラシでこする等、公知の方法で
行うことができる。現像液温は任意の温度とすることが
できるが、好ましくは10℃〜50℃である。これによ
り画像部のインキ反撥層であるシリコーンゴム層が除か
れ、その部分がインキ受容部となる。
【0093】以上のような現像処理、又はそれに続く水
洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこともできる。この
ような自動処理機の好ましいものは、特開平2−220
061号公報に記載されている。
【0094】また、本発明の湿し水不要平版原版は接着
層をシリコーンゴム層表面に張り合わせた後に、接着層
を剥離することにより現像することも可能である。接着
層は、シリコーンゴム層の表面に密着できる公知のもの
がいずれも使用できる。これらの接着層を可撓性支持体
に設けたものは、例えば、住友スリーエム社の「スコッ
チテープ#851A」の商品名で市販されている。
【0095】また、このように処理された刷版を積み重
ねて保管する場合には、刷版を保護するために合紙を挿
入し挟んでおくことが好ましい。
【0096】
【実施例】(実施例1)二軸延伸(延伸比は縦、横それ
ぞれ3.3倍)し240℃で3分間熱固定した、厚さ1
80μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面
に、コロナ放電処理を施した後、下記組成から成る塗布
液を塗布乾燥させることにより帯電防止層およびオーバ
ーコート層をこの順で下記のように形成した。
【0097】 (帯電防止層用塗布液) アクリル樹脂水分散液 9.6重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 90.0重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.14重量部 (MX−300、平均粒径3.0μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。
【0098】上記帯電防止層用塗布液を、上記ポリエチ
レンテレフタレートフィルムのコロナ放電処理を施した
表面にワイヤーバーコート法により塗布し、180℃で
30秒間乾燥して層厚0.2μmの帯電防止層を形成し
た。
【0099】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 3.1重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。
【0100】上記オーバーコート層用塗布液を、上記帯
電防止層上にワイヤーバーコート法により塗布し、17
0℃で30秒間乾燥して、層厚0.05μmのオーバー
コート層を形成した。
【0101】(光熱変換層の形成)下記の混合液をガラ
スビーズとともにペイントシェーカーにて30分間撹拌
しカーボンブックを分散させ、ガラスビーズを濾別した
後、フッ素系界面活性剤メガファックF177(大日本
インキ化学工業(株)製)0.005重量部を添加、撹
拌し、光熱変換層用塗布液を調製した。 (光熱変換層用混合液) ポリウレタン(コートロンMW−060、三洋化成工業(株)製)4.0重量部 カーボンブラック(MA−220、三菱化学(株)製) 1.0重量部 分散剤(ソルスパースS24000R、ICI社製) 0.2重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 100.0重量部
【0102】上記塗布液を、上記の帯電防止層およびオ
ーバーコート層を塗設したポリエチレンテレフタレート
フィルムの帯電防止層と反対側の面に、エクストルージ
ョンコート法により塗布した後、80℃で2分間加熱乾
燥し、層厚1μmの光熱変換層を形成した。
【0103】(シリコーンゴム層の形成)下記の塗布液
を上記光熱変換層上にエクストルージョンコート法によ
り塗布し、100℃で1分間加熱乾燥し、層厚2μmの
シリコーンゴム層を形成した。 (シリコーンゴム層用塗布液) α,ω−ジビニルポリメチルシロキサン(平均重合度1500) 9.0重量部 (CH33SiO(SiH(CH3)O)8−Si(CH33 0.2重量部 1,3−ジビニル−1,1,3,3 −テトラメチルジシロキサン−白金錯体 0.1重量部 制御剤[HC≡C−C(CH32−O−Si(CH33] 0.2重量部 アイソパーG(エクソン化学(株)製) 120.0重量部
【0104】次に、上記のシリコーンゴム層の表面に厚
さ6μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをカバ
ーフィルムとしてラミネートし、実施例1の湿し水不要
平版原版を得た。
【0105】このようにして得た実施例1の湿し水不要
平版原版において、該帯電防止層側の表面抵抗値(S
R)、ゴミ付着性、マット剤脱落耐性、接触角およびベ
ック平滑度を測定し、表1に記すような結果を得た。
【0106】上記の作製方法にて得られた実施例1の湿
し水不要平版原版のカバーフィルムを剥離した後に、波
長830nm、ビーム径32μm(1/e2)、出力3
00mWの半導体レーザーを用いて、書き込みを行っ
た。その後、イソプロパノールを含ませた現像用パッド
で版面を拭った後、プレステク・インコーポレイテッド
製パールクリーナー80において、クリーニング液にノ
ニオン系界面活性剤(レオドールTW−0106、花王
(株)製)の0.2重量%水溶液を用いてクリーナー搬
送性評価を行い、表1に記すような結果を得た。
【0107】 (実施例2) (帯電防止層用塗布液) アクリル樹脂水分散液 19.1重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 36.0重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.14重量部 (MX−500、平均粒径5.0μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。
【0108】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 6.2重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。
【0109】帯電防止層用塗布液として上記の塗布液を
用い、層厚0.4μmの帯電防止層を形成し、オーバー
コート層の層厚を0.1μmとした以外は実施例1と同
様にして湿し水不要平版原版を作製した。
【0110】 (実施例3) アクリル樹脂水分散液 19.1重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 27.0重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.14重量部 (MX−300、平均粒径3.0μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。 帯電防止層用塗布液として上記の塗布液を用い、層厚
0.4μmの帯電防止層を形成した。
【0111】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 3.1重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.3重量部 (MX−150、平均粒径1.5μm、綜研化学(株)製) オーバーコート層の塗布液として上記の塗布液を用い
た。上記以外は、実施例1と同様にして湿し水不要平版
原版を作製した。
【0112】 (実施例4) アクリル樹脂水分散液 19.1重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 23.5重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.14重量部 (MX−1000、平均粒径10.0μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。 帯電防止層用塗布液として上記の塗布液を用い、層厚
0.4μmの帯電防止層を形成した。
【0113】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 6.2重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) オーバーコート層の塗布液として上記の塗布液を用い、
オーバーコート層の層厚を0.1μmとした。上記以外
は、実施例1と同様にして湿し水不要平版原版を作製し
た。
【0114】 (実施例5) アクリル樹脂水分散液 19.1重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 21.0重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.07重量部 (MX−1000、平均粒径10.0μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。 帯電防止層用塗布液として上記の塗布液を用い、層厚
0.4μmの帯電防止層を形成した。
【0115】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 6.2重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) オーバーコート層の塗布液として上記の塗布液を用い、
オーバーコート層の層厚を0.1μmとした。上記以外
は、実施例1と同様にして湿し水不要平版原版を作製し
た。
【0116】(実施例6)光熱変換層を下記組成の塗布
液を用いて形成した以外は、実施例1と同様にして湿し
水不要平版原版を作製した。 (光熱変換層用塗布液) ・コートロンMW−060(三洋化成工業(株)製 ポリウレタン) 4.0g ・赤外線吸収剤NK−3508(日本感光色素研究所(株)製) 1.0g ・フッ素系界面活性剤メガファックF177(大日本インキ化学工業(株)製) 0.005g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 100g
【0117】(実施例7)光熱変換層を5×10-5To
rrの条件でチタンをOD=0.5(830nm)とな
るように蒸着して形成した以外は、実施例1と同様にし
て湿し水不要平版原版を作製した。
【0118】(実施例8)シリコーンゴム層を下記組成
の塗布液を用いて形成した以外は、実施例1と同様にし
て湿し水不要平版原版を作製した。 (シリコーンゴム層用塗布液) ・α,ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン(重合度700) 9.0 g ・トリアセトキシメチルシラン 0.5g ・ジアセトキシジメチルシラン 0.1g ・ジブチル錫ジオクタネート 0.2g ・アイソパーG(エッソ化学(株)製) 160g
【0119】(比較例1)厚さ188μmのポリエステ
ルフィルムDuPont Mylar J−502を用
いて、これに実施例1と同様に光熱変換層およびシリコ
ーンゴム層を塗設し、その上にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをラミネートして、湿し水不要平版原版を
作製した。
【0120】(比較例2)厚さ188μmのポリエステ
ルフィルムクリスパーG1212(東洋紡績(株)製)
を用いて、これに実施例1と同様に光熱変換層およびシ
リコーンゴム層を塗設し、その上にポリエチレンテレフ
タレートフィルムをラミネートして、湿し水不要平版原
版を作製した。
【0121】 (比較例3) (帯電防止層用塗布液) アクリル樹脂水分散液 1.9重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 150重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。 帯電防止層用塗布液として上記の塗布液を用い、層厚
0.04μmの帯電防止層を形成した。
【0122】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 1.9重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) オーバーコート層の塗布液として上記の塗布液を用い、
オーバーコート層の層厚を0.03μmとした。上記以
外は、実施例1と同様にして湿し水不要平版原版を作製
した。
【0123】 (比較例4) (帯電防止層用塗布液) アクリル樹脂水分散液 19.1重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 27.0重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.14重量部 (MP−1000、平均粒径0.4μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。
【0124】上記帯電防止層用塗布液を用いて層厚0.
4μmの帯電防止層を形成した。
【0125】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 6.2重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。
【0126】上記オーバーコート層用塗布液を用いて層
厚0.1μmのオーバーコート層を形成した。
【0127】 (比較例5) (帯電防止層用塗布液) アクリル樹脂水分散液 23.0重量部 (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 21.0重量部 (平均粒径:0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.6重量部 アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデッドBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) メラミン化合物 0.2重量部 (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、 住友化学工業(株)製) ポリメタクリル樹脂粒子(マット剤) 0.2重量部 (MR−20G、平均粒径22μm、綜研化学(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部となるように調製した。 帯電防止層用塗布液として上記の塗布液を用い、層厚
0.5μmの帯電防止層を形成した。
【0128】 (オーバーコート層用塗布液) ポリオレフィン 6.2重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井化学(株)製) コロイダルシリカ 1.2重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6重量部 (サンデットBL、濃度44重量%、三洋化成工業(株)製) エポキシ化合物 0.6重量部 (デナコールEX−614B、有効成分濃度100重量%、 ナガセ化成(株)製) オーバーコート層の塗布液として上記の塗布液を用い、
オーバーコート層の層厚を0.1μmとした。
【0129】(評価方法について) ◇表面電気抵抗値(SR)の測定方法 JIS−K−6911−1995に記載された方法にて
測定。定電圧電源(TR−300C、タケダ理研工業
(株)製)、電流計(TR−8651、タケダ理研工業
(株)製)、サンプルチャンバー(TR−42、タケダ
理研工業(株)製)を使用。 測定条件 20℃65%RH、10℃15%RH
【0130】◇ゴミ付着性の測定方法 サンプルを20℃65%RHおよび10℃15%RHの
雰囲気下にてナイロン製布で10回擦った後、煙草の灰
に近づけて、フィルム上への付着状態を目視で観察して
下記のようにランク付けする。 A:灰の付着が全くない B:灰の付着がほとんどない C:灰の付着が少しある D:灰の付着がかなりある
【0131】◇接触角の測定方法 サンプルを25℃65%RH雰囲気下にて3時間以上調
湿後に水に対する接触角を測定する。 接触角測定装置 CA−Z型 協和界面科学(株)製
【0132】◇ベック平滑度測定方法 JIS−P8119−1998ならびにJ.TAPPI
紙パルプ試験方法No.5に記載された方法。 デジタル型王研式平滑度専用機 EBO1型 旭精工
(株)製
【0133】◇マット剤脱落耐性 光熱変換層およびシリコーンゴム層を形成する前のフィ
ルム(すなわち、支持体の片側面に、帯電防止層、オー
バーコート層が塗設されたもの)を25℃65%RH雰
囲気下で一日間保存した後、前記フィルムを20cm巾
の長尺フィルムに加工し、光熱変換層の模擬装置である
ハンドリング機を用いて、前記長尺フィルムをラインス
ピード50m/分で、かつ、ハンドリング機中のラップ
角が180度の駆動ロール(フラットロール)の周速が
47m/分になる状態で5分間搬送した後、駆動ロール
表面に付着した粉状物の量を目視で下記基準に従って評
価した。 A:粉状物の付着が認められない B:粉状物の付着がほとんど認められない C:粉状物の付着が少しだけ認められる D:粉状物の付着がはっきり認められる
【0134】◇クリーナー搬送性 湿し水不要平版原版をプレステク・インコーポレイテッ
ド製パールクリーナー80にて搬送させる。クリーニン
グ液にはノニオン性界面活性剤(レオドールTW−01
06、花王(株)製)の0.2重量%水溶液を用いる。 A:スムースに搬送される。(通過率 90%以上10
0%以下) B:搬送途中に停止することがときどきある。(通過率
60%以上90%未満) C:搬送途中に停止することがしばしばある。(通過率
30%以上60%未満) D:搬送途中に停止することが頻繁にある。 (通過率
30%未満)
【0135】
【表1】
【0136】表1から、実施例1〜実施例8の湿し水不
要平版原版においては、高温高湿下及び低温低湿下のい
ずれにおいても表面電気抵抗値を所定の範囲に保持で
き、高温高湿下及び低温低湿下におけるゴミの付着が少
ない。また、これらの湿し水不要平版原版においては、
ベック平滑度が50〜500秒の範囲にあり、かつ、湿
し水不要平版原版の最外表面の水との接触角が60°以
上を有しており、原版の搬送性に優れており、さらに、
オーバーコート層の膜構成によってマット剤の脱落を防
止できることがわかる。
【0137】
【発明の効果】請求項1の記載の湿し水不要平版原版に
よれば、プラスチックフィルムを支持体とする原版は搬
送性がよく、したがって、書き込み時のレーザー光の焦
点のずれがなく、画像記録の鮮鋭性(再現性)が向上す
る。損なわれることがない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H096 AA13 BA09 CA01 CA20 EA04 2H114 AA05 AA14 AA24 AA25 AA27 AA29 AA30 BA01 BA10 DA03 DA04 DA05 DA08 DA41 DA51 DA56 DA57 DA59 DA60 DA62 DA75 EA02 EA06 EA07 FA04 FA11

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラスチックフィルム支持体の片側に、
    光熱変換層およびシリコーンゴム層がこの順で積層さ
    れ、支持体の反対側に少なくとも1層の帯電防止層を有
    し、該帯電防止層側のベック平滑度(秒)が50〜50
    0秒であることを特徴とする湿し水不要平版原版。
  2. 【請求項2】 前記帯電防止層が、平均粒径が0.5μ
    〜20μのマット剤を含有することを特徴とする請求項
    1に記載の湿し水不要平版原版。
  3. 【請求項3】 前記帯電防止層と同じ側にあり、該帯電
    防止層とは異なる層に、平均粒径が0.5μ〜20μの
    マット剤を含有することを特徴とする請求項1に記載の
    湿し水不要平版原版。
  4. 【請求項4】 前記帯電防止層側の最外層表面と水との
    接触角が60°以上であることを特徴とする請求項1〜
    3のいずれかに記載の湿し水不要平版原版。
  5. 【請求項5】 前記帯電防止層側の最外層に、ポリオレ
    フィンからなるオーバーコート層を有する請求項1〜4
    のいずれかに記載の湿し水不要平版原版。
  6. 【請求項6】 前記帯電防止層側の10℃15%RHに
    おける表面電気抵抗値が、1×107〜1×1012Ωで
    あることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の
    湿し水不要平版原版。
  7. 【請求項7】 前記帯電防止層が、ZnO、TlO2
    SnO2、Al23、In23、MgO、および、これ
    らの複合酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種
    の金属酸化物粒子、および/または該金属酸化物に更に
    異種原子を含む金属酸化物粒子を含有することを特徴と
    する請求項1〜6のいずれかに記載の湿し水不要平版原
    版。
  8. 【請求項8】 前記帯電防止層が、アクリル樹脂、ビニ
    ル樹脂、ポリウレタン樹脂およびポリエステル樹脂から
    なる群より選ばれる、少なくとも一種のポリマーとメラ
    ミン化合物との硬化生成物を含む請求項1〜7のいずれ
    かに記載の湿し水不要平版原版。
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