JP2000351892A - 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
リカーボネート樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)粘度平均分子量が10,000〜
50,000の芳香族ポリカーボネート樹脂100重量
部と、(B)塩素原子および塩素イオン濃度が1〜11
000ppmである特定のリン系安定剤組成物0.00
01〜0.15重量部からなる芳香族ポリカーボネート
樹脂組成物。
Description
熱疲労性に優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に
関する。
料の中では比較的耐熱性に優れる材料である。しかしな
がら、材料の高機能化、高性能化の要求が高まる中で
は、さらに成形耐熱性等の向上が必要とされている。
の提案がなされてきた。芳香族ポリカーボネート樹脂の
耐熱性を向上させる方法として、安定剤を添加する方法
がある。芳香族ポリカーボネート樹脂に対して多く用い
られている安定剤は、芳香族のホスファイト系化合物や
ホスホナイト系化合物であり、その代表的な安定剤の一
つにテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)ビフェニレンホスホナイト系安定剤がある。
組成物の提案は多くなされており、例えば、特開昭57
−158254では、テトラキス(2,4−ジ−ter
t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンホスホ
ナイトとホスファイトとホスファイト系安定剤を組み合
わせ配合することにより熱安定性を向上させる方法を提
案している。しかしながら、この安定剤組成物中に含ま
れる塩素原子および塩素イオン濃度がどのように成形耐
熱性等へ影響をするかについては触れていない。
のビフェニレンホスホナイトを使用した系において、成
形耐熱性と耐湿熱疲労性が共に優れたの芳香族ポリカー
ネート樹脂組成物を提供することにある。これまで、多
くの安定剤やそれを用いた芳香族ポリカーボネート樹脂
組成物が提案されてきた。ポリカーボネート樹脂製品の
多種多様化が進む中で、今後も新しい安定剤の開発が必
要である。同時に、既存の各安定剤に関しては、その安
定剤を用いた樹脂組成物に関し、安定効果やその他の性
能を少しでも向上させることが重要である。
ために鋭意検討した結果、驚くべきことに、安定剤とし
て特定のビフェニレンホスホナイトと他のリン系安定剤
を組合わせることと、該リン系安定剤組成物に含まれる
塩素原子あるいは塩素イオン濃度が、樹脂組成物の成形
耐熱性と耐湿熱疲労性の両方に寄与していることを発見
し、本発明に至った。
が10,000〜50,000の芳香族ポリカーボネー
ト樹脂100重量部と、(B)下記一般式(1)で表さ
れる化合物(B−1成分)、下記一般式(2)で表され
る化合物(B−2成分)、下記一般式(3)で表される
化合物(B−3成分)からなり、その合計を100重量
%とした時、B−1成分が40〜80重量%、B−2成
分が0〜25重量%およびB−3成分が5〜50重量%
であって、且つ塩素原子および塩素イオン濃度が1〜1
1000ppmであるリン系安定剤組成物0.0001
〜0.15重量部からなる芳香族ポリカーボネート樹脂
組成物である。
があってもよい芳香族基であって、同一でも異なってい
てもよい。またAr3はジアルキル置換芳香族基であっ
て、同一でも異なっていてもよい。]
分、B−2成分およびB−3成分からなり、その合計を
100重量%とした時、B−1成分が40〜80重量
%、B−2成分が0〜25重量%およびB−3成分が5
〜50重量%である。好ましくは、B−1成分が40〜
80重量%、B−2成分が5〜25重量%およびB−3
成分が5〜50重量%であり、より好ましくは、B−1
成分が55〜80重量%、B−2成分が5〜25重量%
およびB−3成分が5〜45重量%である。
テトラキス(2,4−ジ−iso−プロピルフェニル)
−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス
(2,4−ジ−n−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t
ert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジ
ホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブ
チルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラ
キス(2,6−ジ−iso−プロピルフェニル)−4,
4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,
6−ジ−n−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレ
ンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert
−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホ
ナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフ
ェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テ
トラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−
3,3’−ビフェニレンジホスホナイト等があげられ、
テトラキス(ジ−tert−ブチルフェニル)−ビフェ
ニレンジホスホナイトが好ましく、テトラキス(2,4
−ジ−tert−ブチルフェニル)−ビフェニレンジホ
スホナイトがより好ましい。このテトラキス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)−ビフェニレンジホス
ホナイトは、2種以上の混合物が好ましく、具体的には
テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)
−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(B−1−1
成分)、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフ
ェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト(B
−1−2成分)および、テトラキス(2,4−ジ−te
rt−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホ
スホナイト(B−1−3成分)の3種の混合物がより好
ましい。また、この混合物の混合比は、B−1−1成
分、B−1−2成分およびB−1−3成分を重量比で1
00:37〜64:4〜14の範囲が好ましく、10
0:40〜60:5〜11の範囲がより好ましい。
ビス(2,4−ジ−iso−プロピルフェニル)−4−
フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−
n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホ
ナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス
(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェ
ニル−フェニルホスホナイトビス(2,6−ジ−iso
−プロピルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホ
ナイト、ビス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−3
−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ
−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニ
ルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル
フェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト等が
あげられ、ビス(ジ−tert−ブチルフェニル)−フ
ェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、ビス(2,
4−ジ−tert−ブチルフェニル)−フェニル−フェ
ニルホスホナイトがより好ましい。このビス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)−フェニル−フェニル
ホスホナイトは、2種以上の混合物が好ましく、具体的
にはビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−
4−フェニル−フェニルホスホナイト(B−2−1成
分)および、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェ
ニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト(B−2
−2成分)の混合物がより好ましい。また、この混合物
の混合比は、B−2−1成分および、B−2−2成分を
重量比で5:1〜4の範囲が好ましく、5:2〜3の範
囲がより好ましい。
トリス(ジメチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ
エチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−iso−
プロピルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−n−ブ
チルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t
ert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,
6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト等が
あげられ、トリス(ジアルキル置換フェニル)ホスファ
イトが好ましく、トリス(ジ−tert−ブチルフェニ
ル)ホスファイトがより好ましく、トリス(2,4−ジ
−tert−ブチルフェニル)ホスファイトが特に好ま
しい。かかるB−3成分の化合物は1種または2種以上
の混合物であってもよい。
族ポリカーボネート樹脂100重量部に対して、0.0
001〜0.15重量部の範囲であり、0.002〜
0.15重量部の範囲がより好ましく、0.02〜0.
1重量部の範囲が最も好ましい。
まれる塩素原子および塩素イオン」とは、本発明のリン
系安定剤組成物に含有した塩素化合物に由来するもので
ある。その塩素化合物は、例えば、製造過程において該
安定剤中に生じたり、原料の段階から存在していたもの
であって、かつ、精製時に除去しきれないものである。
これらの塩素化合物は、具体的に、製造(反応、精製な
ど)時に使用した塩素系溶媒、塩素系触媒、未反応塩
素、副生したハロゲン化水素、副生したハロゲン化水素
のアンモニウムやアミン塩などを挙げることができる。
物を低減する方法には、安定剤の製造において、精製を
強化する方法がある。例えば、溶媒を使用した洗浄によ
る精製の場合、洗浄用溶媒を増やしたり、洗浄回数を多
くしたり、塩素化合物を選択的に溶解しやすい溶媒を用
いること等を挙げることができる。蒸留、あるいは、昇
華による精製の場合は、精留塔部を長くして蒸留段数を
増やして、分離能を上げる方法等がある。 また、該リン系安定剤組成物に含有する塩素化合物を低
減するために、製造における合成反応終了直後でかつ精
製前の時点において、塩素化合物を少なくしておくこと
も有効である。例えば、使用する塩素系触媒の量を減ら
すこと、塩素を含まない触媒を用いること、反応溶媒と
して使用する塩素系溶媒の量を減らすこと、塩素系溶媒
を使用しないこと、反応をより完全に完結させること等
をあげることができる。反応をより完全に終結させるた
めには、反応時間を長くしたり、反応温度を上げたり、
より活性な触媒を使用したり、原料の仕込みにおいて
「塩素化合物に対するフェノール化合物のモル比」を大
きくしたり、製造工程に脱塩化水素反応がある場合は、
塩化水素の補足効率をあげる方法等を挙げることができ
る。
と塩化水素補足剤との反応生成物」を含有する場合、こ
れを低減するために、これまで述べた方法以外に、精製
段階で除去しやすい「塩化水素と塩化水素補足剤との反
応生成物」となるような塩化水素補足剤を使用すること
等が挙げられる。
て塩素系触媒を使用し、該安定剤中にこの塩素系触媒や
それに由来する塩素系化合物が残存する場合、それらを
低減する方法として、これまで述べた方法以外に、精製
段階で除去しやすいものを塩素系触媒として選択する方
法を挙げることができる。
て塩素系溶媒を使用する場合、該安定剤中の塩素系溶媒
を低減するには、これまで述べた方法以外に、精製段階
で非塩素系の溶媒で洗浄したり、乾燥時間を延長する方
法等があげられる。
減する方法として、これまで述べた方法を安定剤の生産
効率や収率を犠牲にすることなく実施するのが好まし
い。しかしながら、本発明の目的を達成するためには、
安定剤の生産効率や収率を犠牲にして、これまで述べた
方法を実施してもよい。
ン濃度」は、任意の方法で測定することができる。例え
ば、化学分析法、蛍光X線法、燃焼クロル法、ヘッドス
ペースガスクロマトグラフィー法、パージアンドトラッ
プガスクロマトグラフィー法をあげることができる。そ
の中でも、特に好ましいのは、蛍光X線法であり、塩素
原子と塩素イオンを同時に測定できる。
〜11000ppmであり、好ましくは1〜8000p
pmであり、より好ましくは1〜3000ppmであ
る。
イオンを完全に取除くことは工業的に困難な面があり、
経済的な観点からその濃度は1〜20000ppmであ
り、好ましくは1〜14500ppmであり、より好ま
しくは1〜5500ppmである。
イオンを完全に取除くことは工業的に困難な面があり、
経済的な観点からその濃度は1〜20000ppmであ
り、好ましくは1〜14500ppmであり、より好ま
しくは1〜5500ppmである。
イオンを完全に取除くことは工業的に困難な面があり、
経済的な観点からその濃度は0.1〜50ppmであ
り、好ましくは0.1〜40ppmであり、より好まし
くは10〜40ppmである。
脂の分子量は、粘度平均分子量(M)で10,000〜
50,000が好ましく、14,000〜35,000
がより好ましい。かかる粘度平均分子量を有する芳香族
ポリカーボネート樹脂は、押出・成形加工時に比較的良
好な流動性を保ちながら、得られた成形品に関して一定
の機械的強度を有するので好ましい。
レン100mlに芳香族ポリカーボネート樹脂0.7g
を20℃で溶解した溶液を用いて測定された比粘度(η
SP)を次式に挿入して求めるMを指す。 ηSP/c=[η]+0.45×[η]2c(但し[η]
は極限粘度) [η]=1.23×10-4M0.83 c=0.7
族ポリカーボネート樹脂は、二価フェノールとカーボネ
ート前駆体とを界面重合法(溶液法)また溶融法で反応
させて得られるものである。ここで使用される二価フェ
ノールの代表的な例としては、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル、4,4−ジヒドロキシジフェニ
ル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等が挙げられる。
好ましい二価フェノールは、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)アルカンであり、なかでもビスフェノールAが特
に好ましい。
ライド、カーボネートエステルまたはハロホルメート等
が使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネ
ートまたは二価フェノールのジハロホルメート等が挙げ
られる。
を界面重合法または溶融法によって反応させて芳香族ポ
リカーボネート樹脂を製造するに当っては、二価フェノ
ールは単独または2種以上を使用することができ、必要
に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールの酸化防止
剤等を使用してもよい。また芳香族ポリカーボネート樹
脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分
岐ポリカーボネート樹脂であってもよい。また、2種以
上の芳香族ポリカーボネート樹脂の混合物であってもよ
い。
ールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶
媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。有
機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進
のために例えば第三級アミンや第四級アンモニウム塩等
の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常
0〜40℃であり、反応時間は数分〜5時間程度であ
る。
とジフェニルカーボネートとのエステル交換反応であ
り、不活性ガスの存在下に二価フェノールとジフェニル
カーボネートを混合し、減圧下通常120〜350℃で
反応させる。減圧度は段階的に変化させ、最終的には1
mmHg以下にして生成したフェノール類を系外に除去
させる。反応時間は通常1〜4時間程度である。
て単官能フェノール類を使用することができる。とくに
カーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の
場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調
節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリ
カーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づ
く基によって封鎖されているので、そうでないものと比
べて熱安定性に優れている。かかる単官能フェノール類
としては、ポリカーボネートの末端停止剤として使用さ
れるものであればよく、一般にはフェノールまたは低級
アルキル置換フェノールであって、下記一般式(4)で
表される単官能フェノール類を示すことができる。
のアルキル基もしくはフェニルアルキル基であり、mは
1〜5、好ましくは1〜3の整数を示す。]
は、例えばフェノール、p−tert−ブチルフェノー
ル、p−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノー
ルが挙げられる。
物には、成形時における分子量の低下や色相の悪化を高
度に防止するために、本発明の請求項で示したリン系安
定剤組成物に加えて、本発明の請求項で示したリン系安
定剤組成物の成分化合物や他の熱安定剤を追加併用する
ことができる。かかる熱安定剤としては、亜リン酸、リ
ン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステ
ル等が挙げられ、具体的には、トリフェニルホスファイ
ト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリデシ
ルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオク
タデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファ
イト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプ
ロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニ
ルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、
モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス(2,6−
ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、2,2−メチレンビス
(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)オクチルホ
スファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブ
チルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、
ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ト
リブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ
メチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフ
ェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホス
フェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホ
スフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホ
スホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル等が
挙げられる。なかでも、亜リン酸、トリメチルホスフェ
ート、ベンゼンホスホン酸ジメチルが好ましく使用され
る。
て用いてもよい。かかる熱安定剤の配合量は、該芳香族
ポリカーボネート樹脂100重量部に対して0.001
〜0.15重量部が好ましく、0.001〜0.10重
量部がより好ましく、0.001〜0.05重量部がさ
らに好ましい。
物には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を配
合することができる。かかる酸化防止剤としては、例え
ばペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプ
ロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3
−ラウリルチオプロピオネート)、グリセロール−3−
ステアリルチオプロピオネート、トリエチレングリコー
ル−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−
ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]、ペンタエリスリトール−テトラキス[3−(3,
5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5
−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシン
ナマイド)、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、ト
リス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)イソシアヌレート、4,4’−ビフェニレン
ジホスホスフィン酸テトラキス(2,4−ジ−tert
−ブチルフェニル)、3,9−ビス{1,1−ジメチル
−2−[β−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]エチル}
−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウ
ンデカン等が挙げられる。これら酸化防止剤の配合量
は、該芳香族ポリカーボネート樹脂100重量部に対し
て0.001〜0.05重量部が好ましい。
物には、溶融成形時の金型からの離型性をより向上させ
るために、本発明の目的を損なわない程度で離型剤を配
合することができる。かかる離型剤としては、一価また
は多価アルコールの高級脂肪酸エステル、ポリオルガノ
シロキサン、パラフィンワックス、蜜蝋等が挙げられ
る。かかる高級脂肪酸エステルとしては、炭素原子数1
〜20の一価または多価アルコールと炭素原子数10〜
30の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルで
あるのが好ましい。かかる一価または多価アルコールと
飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとして
は、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリ
セリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モ
ノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエ
リスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトール
テトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラ
ルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、
ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブ
チルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパ
ルミテート、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノ
ステアレート、2−エチルヘキシルステアレート等が挙
げられ、なかでも、ステアリン酸モノグリセリド、ステ
アリン酸トリグリセリド、ペンタエリスリトールテトラ
ステアレートが好ましく用いられる。かかる離型剤の配
合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂組成物100重量
部に対して0.001〜0.5重量部が好ましい。
物には、紫外線吸収剤を配合することができる。紫外線
吸収剤化合物は、具体的に、ベンゾフェノン系では、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベン
ジロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シ−5−スルホキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−メトキシ−5−スルホキシトリハイドライドレイト
ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,
4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロ
キシ−4,4’−ジメトキシ−5−ソジウムスルホキシ
ベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキ
シ−2−メトキシフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−
4−n−ドデシルオキシベンソフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン等
があげられ、ベンゾトリアゾール系では、2−(2−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、
2−(2−ヒドロキシ−5−tert−オクチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキシ−3,
5−ジクミルフェニル)フェニルベンゾトリアゾール、
2−(2−ヒドロキシ−3−tert−ブチル−5−メ
チルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2,
2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメ
チルブチル)−6−(2N−ベンゾトリアゾール−2−
イル)フェノール]、2−(2−ヒドロキシ−3,5−
ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、
2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチル
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキシ−5−
tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2
−(2−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキシ−4−オク
トキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2,2’−メチ
レンビス(4−クミル−6−ベンゾトリアゾールフェニ
ル)、2,2’−p−フェニレンビス(1,3−ベンゾ
オキサジン−4−オン)、2−[2−ヒドロキシ−3−
(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)
−5−メチルフェニル]ベンゾトリアゾ−ルがあげら
れ、これらを単独あるいは2種以上の混合物で用いるこ
とができる。
物には、帯電防止剤を配合することができる。かかる帯
電防止剤としては、例えばポリエーテルエステルアミ
ド、グリセリンモノステアレート、ドデシルベンゼンス
ルホン酸アンモニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸
ホスホニウム塩、無水マレイン酸モノグリセライド、無
水マレイン酸ジグリセライド、カーボン、グラファイ
ト、金属粉末等が挙げられる。かかる帯電防止剤の配合
量は、芳香族ポリカーボネート樹脂組成物100重量部
に対して0.1〜10重量部が好ましい。
的を損なわない範囲でブルーイング剤を配合することが
できる。ブルーイング剤は、樹脂組成物の黄色味を消す
ために有効である。とくに耐候性を付与した組成物の場
合は、一定量の紫外線吸収剤が配合されているため「紫
外線吸収剤の作用や色」によって樹脂製品が黄色味を帯
びやすい現実があり、とくにシート製品やレンズ製品に
自然な透明感を付与するためにはブルーイング剤の配合
は非常に有効である。
は、樹脂組成物全体の0.05〜1.5ppmであり、
好ましくは、0.1〜1.2ppmである。配合量多す
ぎると樹脂製品の青みが強くなって視感透明度が低下す
る。
バ・スペシャリティ・ケミカルズ社のマクロレックスバ
イオレットやトリアゾ−ルブル−RLS等があげられる
が、特に制限されるものではない本発明の芳香族ポリカ
ーボネート樹脂組成物には、本発明の目的が損なわれな
い量の難燃剤を配合することができる。難燃剤として
は、ハロゲン化ビスフェノールAのポリカーボネート型
難燃剤、有機塩系難燃剤、芳香族リン酸エステル系難
剤、あるいは、ハロゲン化芳香族リン酸エステル型難燃
剤等があげられ、それらを一種以上配合することができ
る。具体的にハロゲン化ビスフェノールAのポリカーボ
ネート型難燃剤は、テトラブロモビスフェノールAのポ
リカーボネート型難燃剤、テトラブロモビスフェノール
AとビスフェノールAとの共重合ポリカーボネート型難
燃剤等である。具体的に有機塩系難燃剤は、ジフェニル
スルホン−3,3’−ジスルホン酸ジカリウム、ジフェ
ニルスルホン−3−スルホン酸カリウム、2,4,5−
トリクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、2,4,5
−トリクロロベンゼンスルホン酸カリウム、ビス(2,
6−ジブロモ−4−クミルフェニル)リン酸カリウム、
ビス(4−クミルフェニル)リン酸ナトリウム、ビス
(p−トルエンスルホン)イミドカリウム、ビス(ジフ
ェニルリン酸)イミドカリウム、ビス(2,4,6−ト
リブロモフェニル)リン酸カリウム、ビス(2,4−ジ
ブロモフェニル)リン酸カリウム、ビス(4−ブロモフ
ェニル)リン酸カリウム、ジフェニルリン酸カリウム、
ジフェニルリン酸ナトリウム、パーフルオロブタンスル
ホン酸カリウム、ラウリル硫酸ナトリウムあるいはカリ
ウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウムあるいはカリウム等
である。具体的にハロゲン化芳香族リン酸エステル型難
燃剤は、トリス(2,4,6−トリブロモフェニル)ホ
スフェート、トリス(2,4−ジブロモフェニル)ホス
フェート、トリス(4−ブロモフェニル)ホスフェート
等である。具体的に芳香族リン酸エステル系難剤は、ト
リフェニルホスフェート、トリス(2,6−キシリル)
ホスフェート、テトラキス(2,6−キシリル)レゾル
シンジホスフェート、テトラキス(2,6−キシリル)
ヒドロキノンジホスフェート、テトラキス(2,6−キ
シリル)−4,4’−ビフェノールジホスフェート、テ
トラフェニルレゾルシンジホスフェート、テトラフェニ
ルヒドロキノンジホスフェート、テトラフェニル−4,
4’−ビフェノールジホスフェート、芳香環ソースがレ
ゾルシンとフェノールでありフェノール性OH基を含ま
ない芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがレゾルシ
ンとフェノールでありフェノール性OH基を含む芳香族
ポリホスフェート、芳香環ソースがヒドロキノンとフェ
ノールでありフェノール性OH基を含まない芳香族ポリ
ホスフェート、同様のフェノール性OH基を含む芳香族
ポリホスフェート、(以下に示す「芳香族ポリホスフェ
ート」は、フェノール性OH基を含む芳香族ポリホスフ
ェートと含まない芳香族ポリホスフェートの両方を意味
するものとする)芳香環ソースがビスフェノールAとフ
ェノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソース
がテトラブロモビスフェノールAとフェノールである芳
香族ポリホスフェート、芳香環ソースがレゾルシンと
2,6−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、
芳香環ソースがヒドロキノンと2,6−キシレノールで
ある芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがビスフェ
ノールAと2,6−キシレノールである芳香族ポリホス
フェート、芳香環ソースがテトラブロモビスフェノール
Aと2,6−キシレノールである芳香族ポリホスフェー
ト等である。
物には、他の樹脂やエラストマーを本発明の目的が損な
われない範囲で少割合配合することもできる。
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、
ポリエーテルイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコー
ン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレン
スルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹
脂、アクリロニトリル/スチレン共重合体(AS樹
脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合
体(ABS樹脂)、ポリメタクリレート樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。
ブチレン/イソプレンゴム、スチレン/ブタジエンゴ
ム、エチレン/プロピレンゴム、アクリル系エラストマ
ー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラス
トマー、コアシェル型のエラストマーであるMBS(メ
タクリル酸メチル/ステレン/ブタジエン)ゴム、MA
S(メタクリル酸メチル/アクリロニトリル/スチレ
ン)ゴム等が挙げられる。
物において芳香族ポリカーボネート樹脂とリン系安定剤
組成物や他の配合添加剤をブレンドするには、任意の方
法が採用される。例えばタンブラー、V型ブレンダー、
スーパーミキサー、ナウターミキサー、バンバリーミキ
サー、混練ロール、押出機等で混合する方法が適宜用い
られる。こうして得られた芳香族ポリカーボネート樹脂
組成物パウダーやペレットのブレンド品は、そのまま又
は溶融押出機で一旦ペレット状にしてから、射出成形
法、押出成形法、圧縮成形法、シート押出し法等の通常
知られている方法で成形品やシートにすることができ
る。
ドにあたっては、一段階で実施してもよいが、二段階以
上に分けて実施してもよい。二段階に分けて実施する方
法には、例えば、配合予定の芳香族ポリカーボネート樹
脂パウダーやペレットの一部と配合添加剤とをブレンド
した後、つまり、配合添加剤を芳香族ポリカーボネート
樹脂パウダーで希釈して添加剤のマスターバッチとした
後、これを用いて最終的なブレンドを行う方法がある。
ては、所定量のB−1成分〜B−3成分を予め混合した
ものを芳香族ポリカーボネート樹脂パウダーやペレット
とブレンドする方法、また、所定量のB−1成分〜B−
3成分を各々別個に計量し、芳香族ポリカーボネート樹
脂パウダーやペレットに順次添加後ブレンドする方法等
を採用することができる。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。な
お、評価は下記の方法で行った。 (1)安定剤のCl含有量 蛍光X線法により、安定剤中の塩素原子および塩素イオ
ンを測定した。 (2)成形耐熱性 射出成形機を用いてペットを成形温度340℃、1分サ
イクルで「滞留前の色相測定用平板」(70mm×50
mm×2mm)に成形した。さらに、シリンダ−中に樹
脂を10分間滞留させた後、「滞留後の色相測定用平
板」を得た。滞留前後の平板の色相を色差計により測定
し、次式により色差△Eを求めた。表に示した値(△
E)が小さいほど成形耐熱性が優れることを示す。
80℃、90%RHの雰囲気で、正弦波で振動数1H
z、最大荷重2kgの条件で、以下の疲労試験機
[(株)島津製作所製 島津サーボパルサー EHF−
EC5型]を用いて、測定用サンプルが破断するまでの
回数を測定した。表に示した値(破断するまでの回数)
が大きいほど、耐湿熱疲労性に優れることを示す。
下の通りである。 B−1安定剤 テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,
4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレ
ンジホスホナイトおよび、テトラキス(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホ
ナイトの100:50:10(重量比)混合物 B−2安定剤 ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−
フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェ
ニルホスホナイトの5:3(重量比)混合物 B−3安定剤 トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホス
ファイト(安定剤中のCl含有量20ppm) TNPP安定剤 トリスノニルフェニルホスファイト
ルA、p−tert−ブチルフェノール(末端停止剤)
とホスゲンから界面重合法により得られた粉粒状芳香族
ポリカーボネート樹脂に対し、表1のようなCl含量の
リン系安定剤組成物を表1に示した組成の通り添加混合
し、280℃で押出ペレット化後、上記の成形評価を行
い、表1の評価結果を得た。
香族ポリカーボネート樹脂組成物において、該リン系安
定剤組成物に含まれる塩素量を規定することにより、該
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物の成形耐熱性と耐湿
熱疲労性を向上させることができる。
ゆるC型サンプルの正面図である。なおサンプルの厚み
は3mmである。符号6で示される孔の部分に試験機の
治具を通し、符号7で示される垂直方向に所定の荷重を
かけて試験を行う。
幅の中央に位置する) 7 疲労試験時におけるサンプルに課される荷重の方
向
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)粘度平均分子量が10,000〜
50,000の芳香族ポリカーボネート樹脂100重量
部と、(B)下記一般式(1)で表される化合物(B−
1成分)、下記一般式(2)で表される化合物(B−2
成分)、下記一般式(3)で表される化合物(B−3成
分)からなり、その合計を100重量%とした時、B−
1成分が40〜80重量%、B−2成分が0〜25重量
%およびB−3成分が5〜50重量%であって、且つ塩
素原子および塩素イオン濃度が1〜11000ppmで
あるリン系安定剤組成物0.0001〜0.15重量部
からなる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。 【化1】 [式中、Ar1、Ar2はアルキル置換基があってもよ
い芳香族基であって、同一でも異なっていてもよい。ま
たAr3はジアルキル置換芳香族基であって、同一でも
異なっていてもよい。] - 【請求項2】 B−2成分が5〜25重量%である請求
項1記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
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JP16498299A JP3847490B2 (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006143967A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Teijin Chem Ltd | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法 |
JP2006143966A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Teijin Chem Ltd | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物および成形品 |
WO2013081236A1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-06-06 | 제일모직 주식회사 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 |
-
1999
- 1999-06-11 JP JP16498299A patent/JP3847490B2/ja not_active Expired - Lifetime
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