JP2000347399A - 感光性ペースト、それを用いたディスプレイ用部材ならびに電極およびプラズマディスプレイの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】低光線透過性膜において、高感度かつアンダー
カットなどの欠点のなく、高精度のパターン加工を低コ
ストで可能にする感光性ペーストを提供する。 【解決手段】有機成分と無機微粒子からなる感光性ペー
ストであって、有機成分が化合物（Ａ）として下記式
（１）、（２）又は（３）で示される炭素数６〜２０個
のアルキル基を有するアクリル化合物又はメタクリル化
合物を含有し、化合物（Ｂ）として下記式（４）で示さ
れるエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド残基
を含むアクリル化合物又はメタクリル化合物を含有し、
無機微粒子の含有量が６０重量％以上である感光性ペー
スト。 但しＲ¹、Ｒ⁴は水素又はメチル基、Ｒ²は炭素数６〜２
０のアルキル基、Ｒ³は炭素数３以上のヒドロキシアル
キル基、Ｒ⁵は炭素数１〜２０のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、ｍは１〜３０の整数、ｎは１〜６の
整数を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性ペーストおよ
びそれを用いた電極の製造方法に関するものであり、回
路材料などのパターン加工およびその製造に用いられ
る。とりわけ、プラズマディスプレイをはじめとする、
プラズマアドレス液晶ディスプレイ、フィールドエミシ
ョンディスプレイ等各種のディスプレイとその部材の製
造に用いることができる。

【０００２】

【従来の技術】近年、回路材料やディスプレイにおいて
小型化・高精細化が進んでおり、これに対応することが
できるパターン加工技術が求められている。例えば高精
細のプラズマディスプレイでは、電極を１００〜２５０
μｍのピッチで形成することが要求されるが、このパタ
ーンの形成には、スクリーン版を用いてパターン印刷を
行うスクリーン印刷法ではその精細度に限界があるた
め、感光性ペーストを塗布し、フォトマスクを用いてパ
ターン露光し、現像してパターンを形成する感光性ペー
スト法が必須となる。

【０００３】例えば、特開平５−６７４０５号公報にお
いては、側鎖に感光性基を含む感光性導電ペーストが開
示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし従来の感光性導
電ペーストは、感度が不十分であり、また現像時に基板
とパターンの間に現像液が入り込み易く、パターンの端
部と基板の間に隙間（以下、アンダーカットという）が
生じやすかった。アンダーカットは、パターン形成した
電極の断線等の欠陥の原因となったり、プラズマディス
プレイにおいては電極を被覆する誘電体層に凹凸を生じ
させ、その上の隔壁の垂直でフラットな形成が困難にな
るなど、問題となっていた。従来、直接基板上にパター
ン形成する際にアンダーカットを回避することは難し
く、これを防ぐためには接着層を形成しその上に導体パ
ターンを形成する必要があった。

【０００５】そこで本発明は、高感度で、かつ、接着層
なしに直接ガラス基板などにパターンを形成してもアン
ダーカットなどの欠点のない感光性ペースト材料を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、有機
成分と無機微粒子からなる感光性ペーストであって、有
機成分が化合物（Ａ）として下記式（１）、（２）、ま
たは（３）で示される炭素数６個以上のアルキル基を有
するアクリル化合物またはメタクリル化合物を含有し、
化合物（Ｂ）として下記式（４）で示されるエチレンオ
キサイドまたはプロピレンオキサイド残基を含むアクリ
ル化合物またはメタクリル化合物を含有し、無機微粒子
の含有量が６０重量％以上であることを特徴とする感光
性ペーストである。 ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ² （１） ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ²−ＯＣＯＣＨＲ¹＝ＣＨ₂ （２） ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ³−ＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯ−Ｒ³−ＯＣＯＣＨＲ¹＝ＣＨ₂ （３） （ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−（ＣＨ₂ＣＨＲ⁴Ｏ）_m）_n−Ｒ⁵ （４） ここにおいて、Ｒ¹、Ｒ⁴は水素またはメチル基、Ｒ²は
炭素数６〜２０のアルキル基、Ｒ³は炭素数３以上のヒ
ドロキシアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜２０のアルキル
基、アリール基、アラルキル基、ｍは１〜３０の整数、
ｎは１〜６の整数を示す。

【０００７】また本発明は、上記の感光性ペーストを用
いて製造したことを特徴とするディスプレイ用部材およ
びプラズマディスプレイ用部材である。

【０００８】また本発明は、上記の感光性ペーストを基
板上に塗布し、マスクを介して活性光線を照射した後
に、現像処理により感光性ペースト層のマスクがされて
いなかった部分を除去し、ついで焼成することにより感
光性ペーストの有機成分を除去することを特徴とする電
極の製造方法である。

【０００９】また本発明は、上記の電極の製造方法によ
り基板上に電極を形成する工程を含むことを特徴とする
プラズマディスプレイの製造方法である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の感光性ペーストは、無機
微粒子と有機成分からなり、フォトリソグラフィを用い
たパターン形成後に焼成を行い、実質的に無機物からな
るパターンを形成する目的で使用する。

【００１１】本発明の感光性ペーストを用いて製造され
た実質的に無機物からなるパターンは、ディスプレイ用
途、とりわけプラズマディスプレイ用途において、プラ
ズマディスプレイ前面板または背面板の電極として好適
に用いられる。

【００１２】本発明の感光性ペーストを構成する有機成
分は、感光性ペーストの内無機成分を除いた成分全体を
意味する。有機成分は感光性ペースト中の５〜５０重量
％を占めることが好ましい。

【００１３】本発明の感光性ペーストの有機成分は、通
常、反応性モノマ、反応性オリゴマ、反応性ポリマから
選ばれた少なくとも１種、および必要に応じてバインダ
ポリマ、光重合開始剤、光酸発生剤、光塩基発生剤、増
感剤、増感助剤、紫外線吸収剤、有機染料、分散剤、可
塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸、塩基、沈降防止剤、酸化
防止剤などの添加剤成分を加えて構成される。ここで、
反応性モノマ、反応性オリゴマ、反応性ポリマにおける
反応性とは、感光性ペーストが活性光線の照射を受けた
場合に、反応性モノマ、反応性オリゴマ、反応性ポリマ
が光架橋、光重合、光解重合、光変性などの反応を通し
て化学構造が変化することを意味する。

【００１４】本発明の感光性ペーストの有機成分は、化
合物（Ａ）として下記式（１）、（２）、または（３）
で示される炭素数６個以上のアルキル基を有するアクリ
ル化合物またはメタクリル化合物を含有し、化合物
（Ｂ）として下記式（４）で示されるエチレンオキサイ
ドまたはプロピレンオキサイド残基を含むアクリル化合
物またはメタクリル化合物を含有することが必要であ
る。 ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ² （１） ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ²−ＯＣＯＣＨＲ¹＝ＣＨ₂ （２） ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ³−ＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯ−Ｒ³−ＯＣＯＣＨＲ¹＝ＣＨ₂ （３） （ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−（ＣＨ₂ＣＨＲ⁴Ｏ）_m）_n−Ｒ⁵ （４） ここにおいて、Ｒ¹、Ｒ⁴は水素またはメチル基、Ｒ²は
炭素数６〜２０のアルキル基、Ｒ³は炭素数３以上のヒ
ドロキシアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜２０のアルキル
基、アリール基、アラルキル基、ｍは１〜３０の整数、
ｎは１〜６の整数を示す。

【００１５】化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用するこ
とにより、露光時の感度が向上すると共に、現像時のア
ンダーカットを抑制することができる。その理由は必ず
しも明らかではないが、両者を反応性モノマとして組み
合わせることによってペースト塗布膜の基板への接着性
が向上し、かつ光硬化部（露光部）への現像液の浸透性
が抑制されるためアンダーカットが生じ難くなるものと
推察される。

【００１６】化合物（Ａ）において置換基Ｒ²は、炭素
数６〜２０のアルキル基を指し、直鎖状であっても分岐
していても、また環状であっても良い。ｎ−ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、ｉ−オクチル基、ｎ−ノニ
ル基、ラウリル基、ｎ−トリデシル基、ｉ−ミリスチル
基、ｉ−ボニル基、ステアリル基などが挙げられる。化
学式（１）、（２）、（３）と置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³の
具体例との組み合わせにより示される化合物群は単独で
用いても良いし、組み合わせて用いても良い。化合物
（Ａ）は有機成分量に対し、好ましくは５〜５０重量％
の範囲で添加され、より好ましくは１０〜５０重量％で
ある。化合物（Ａ）の添加量をこの範囲内とすることに
より、未露光部の現像液への溶解性を保ちつつ、高感度
化を実現させることができる。また化合物（Ａ）は、分
子内に水酸基を有していてもよい。水酸基を有すること
により、感度の向上やアンダーカットの抑制の効果をさ
らに得ることができる。

【００１７】化合物（Ｂ）としては、アルコール類（例
えばエタノール、プロパノール、ヘキサノール、オクタ
ノール、シクロヘキサノール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、ペンタエリスリトールなど）のエチレン
オキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオ
キサイド付加物のアクリル酸またはメタクリル酸エステ
ル、などを挙げることができる。化合物（Ｂ）をｎ＞１
の多官能モノマとする場合、不飽和基は、アクリル、メ
タクリル基が混合して存在してもよい。化学式（４）と
ｍ、ｎの具体的な数と置換基Ｒ⁵の具体例との組み合わ
せにより示される化合物群は単独で用いてもよく、また
組み合わせて用いてもよい。化合物（Ｂ）は有機成分量
に対し、好ましくは５〜５０重量％の範囲で添加され、
より好ましくは１０〜５０重量％である。化合物（Ｂ）
の添加量をこの範囲内とすることにより、未露光部の現
像液への溶解性を保ちつつ、高感度化を実現させること
ができる。

【００１８】また有機成分は、側鎖または末端にアクリ
ル基またはメタクリル基を有するアクリル系樹脂を含有
することが好ましい。このようなアクリル系樹脂は、例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれら
の酸無水物などのカルボキシル基含有モノマおよびメタ
クリル酸エステル、アクリル酸エステル、スチレン、ア
クリロニトリル、酢酸ビニル、２−ヒドロキシアクリレ
ートなどのモノマを選択し、アゾビスイソブチロニトリ
ルのような開始剤を用いて共重合することにより得られ
るが、とりわけ、スチレン／メタクリル酸メチル／メタ
クリル酸共重合体が好ましく用いられる。

【００１９】前記のアクリル系樹脂の樹脂酸価は５０〜
１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価を１
５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下とすることで、現像許容幅を広
くとることができる。また、酸価を５０ｍｇＫＯＨ／ｇ
以上とすることで、未露光部の現像液に対する溶解性が
低下することがなく、従って現像液濃度を濃くする必要
がなく露光部の剥がれを防ぎ、高精細なパターンを得る
ことができる。

【００２０】このような側鎖をポリマーに付加させる方
法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基や
カルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネー
ト基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロ
ライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライ
ドを付加反応させて作る方法がある。

【００２１】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。

【００２２】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアナー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネートなどが
ある。また、グリシジル基やイソシアネート基を有する
エチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタ
クリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマ
ー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル
基に対して０．０５〜１モル等量付加させることが好ま
しい。

【００２３】バインダ成分が必要な場合にはポリマーと
して、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、
メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合
体、ブチルメタクリレート樹脂などを用いることができ
る。

【００２４】有機成分の重合に用いる光重合開始剤は、
ラジカル種を発生するものから選んで用いることができ
る。光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−
イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル
プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）
フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、
１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、１−
フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキ
シカルボニル）オキシム、２−メチル−［４−（メチル
チオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテル、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸
メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４−ジクロ
ロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベ
ンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、ア
ルキル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ
（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−
オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタ
ナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリ
メチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３−
（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチ
ル−１−プロペンアミニウムクロリド一水塩、２−イソ
プロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサン
トン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジク
ロロチオキサントン、２ーヒドロキシ−３−（３，４−
ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イ
ロキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパナミニ
ウムクロリド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェ
ニルホスフィンオサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロ
フェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−
１，２−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロア
クリドン、２−エチルアンスラキノン、ベンジル、９，
１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、メチ
ルフェニルグリオキシエステル、η⁵−シクロペンタジ
エニル−η⁶−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフ
ルオロフォスフェイト（１−）、ジフェニルスルフィド
誘導体、ビス（η⁵−２，４−シクロペンタジエン−１
−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピ
ロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、４，４−
ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、チオキサントン、
２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベ
ンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセ
トフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−
フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル
プロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェ
ノン、ベンジルメトキシエチルアセタール、アントラキ
ノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアン
トラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、
ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアント
ロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビ
ス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６
−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−
（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェ
ニルプロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシム、ナフタレンスルフォニルクロライド、キ
ノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリ
ドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ベンズチ
アゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、四臭
素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾ
イルおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の
色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還
元剤の組み合わせなどが挙げられる。

【００２５】本発明では、これらを１種または２種以上
使用することができる。光重合開始剤は、感光性有機成
分に対し、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で添
加され、より好ましくは、０．１〜１０重量％である。
光重合開始剤の添加量をこの範囲内とすることにより、
露光部の残存率を保ちつつ良好な光感度を得ることがで
きる。

【００２６】光重合開始剤と共に増感剤を使用し、感度
を向上させたり、反応に有効な波長範囲を拡大すること
ができる。

【００２７】増感剤の具体例としては、２，４−ジメチ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２−イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−
ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−
ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４
−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチル
アミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデン
インダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノ
ン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソ
ナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノ
フェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビ
ス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−
カルボニルビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセト
ン、３，３−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマ
リン）、トリエタノールアミン、メチルジエタノールア
ミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ
−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールア
ミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、４−ジメチルア
ミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミ
ノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキ
シ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘ
キシル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどが挙げられる。

【００２８】本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始
剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感
光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性有機
成分に対して好ましくは０．０５〜１０重量％、より好
ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の添加量を
この範囲内とすることにより、露光部の残存率を保ちつ
つ光感度を向上させる効果が発揮される。

【００２９】本発明では有機成分には酸化防止剤が好ま
しく添加される。酸化防止剤とは、ラジカル連鎖禁止作
用、三重項の消去作用、ハイドロパーオキサイドの分解
作用をもつものである。感光性ペーストに酸化防止剤を
添加すると、酸化防止剤がラジカルを捕獲したり、励起
された光重合開始剤や増感剤のエネルギー状態を基底状
態に戻したりすることにより散乱光による余分な光反応
が抑制され、酸化防止剤で抑制できなくなる露光量で急
激に光反応が起こることにより、現像液への溶解、不溶
のコントラストを高くすることができる。

【００３０】酸化防止剤は具体的には、ｐ−ベンゾキノ
ン、ナフトキノン、ｐ−キシロキノン、ｐ−トルキノ
ン、２，６−ジクロロキノン、２，５−ジアセトキシ−
ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジカプロキシ−ｐ−ベンゾ
キノン、ヒドロキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、
２，５−ジブチルヒドロキノン、モノ−ｔ−ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ヒドロキノンモノメチル
エーテル、α−ナフトール、ヒドラジン塩酸塩、トリメ
チルベンジルアンモニウムクロリド、トリメチルベンジ
ルアンモニウムオキザレート、フェニル−β−ナフチル
アミン、パラベンジルアミノフェノール、ジ−β−ナフ
チルパラフェニレンジアミン、ジニトロベンゼン、トリ
ニトロベンゼン、ピクリン酸、キノンジオキシム、シク
ロヘキサノンオキシム、ピロガロール、タンニン酸、ト
リエチルアミン塩酸塩、ジメチルアニリン塩酸塩、クペ
ロン、（２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノ
レート）−２−エチルヘキシルアミノニッケル−（I
I）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビ
ス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、トリ
エチレングリコール−ビス［３−（ｔ−ブチル−５−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、などが挙げられ
るがこれらに限定されない。本発明では、これらを１種
以上使用することができる。

【００３１】酸化防止剤の添加量は、感光性ペースト中
に好ましくは０．１〜３０重量％、より好ましくは、
０．５〜２０％の範囲である。酸化防止剤の添加量をこ
の範囲内とすることにより、感光性ペーストの光感度を
維持し、また重合度を保ちパターン形状を維持しつつ、
現像液への溶解、不溶のコントラストを大きくとること
ができる。

【００３２】また、感光性有機成分に紫外線吸収剤を添
加することで、露光光によるペースト内部の散乱光を吸
収し、散乱光を弱めることができる。紫外線吸収剤とし
ては、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系
化合物、サリチル酸系化合物、ベンゾトリアゾール系化
合物、インドール系化合物、無機系の微粒子酸化金属な
どが挙げられる。これらの中でもベンゾフェノン系化合
物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール
系化合物、インドール系化合物が特に有効である。これ
らの具体例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジ
メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノ
ントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロ
キシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロ
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒド
ロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノ
ン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，
５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−４’−ｎ−オクトキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３
−ジフェニルアクリレート、２−エチル−２−シアノ−
３，３−ジフェニルアクリレート、インドール系の吸収
剤である”ＢＯＮＡＳＯＲＢ”ＵＡ−３９０１（オリエ
ント化学社製）、”ＢＯＮＡＳＯＲＢ”ＵＡ−３９０２
（オリエント化学社製）”ＳＯＭ”−２−０００８（オ
リエント化学社製）などが挙げられるがこれらに限定さ
れない。さらに、これら紫外線吸収剤の骨格にメタクリ
ル基などを導入し反応型として用いてもよい。本発明で
は、これらを１種以上使用することができる。

【００３３】紫外線吸収剤の添加量は、ペースト中に好
ましくは０．００１〜１０重量％、より好ましくは、
０．００５〜５％の範囲である。この範囲内とすること
により、透過限界波長および波長傾斜幅を所望範囲内に
とどめ、露光光の透過率、感光性ペーストの感度を保持
しつつ散乱光の吸収効果を得ることができる。

【００３４】また、本発明では、感光性有機成分に露
光、現像の目印として有機系染料を添加することができ
る。染料を添加して着色することにより視認性が良くな
り、現像時にペーストが残存している部分と除去された
部分との区別が容易になる。有機染料としては、特に限
定はされないが、焼成後の絶縁膜中に残存しないものが
好ましい。具体的にはアゾ系染料、アントラキノン系染
料、インジゴイド系染料、フタロシアニン系染料、カル
ボニウム系染料、キノンイミン系染料、メチン系染料、
キノリン系染料、ニトロ系染料、ニトロソ系染料、ベン
ゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、フタルイミド系
染料、ペリノン系染料などが使用できる。特に、ｈ線と
ｉ線付近の波長の光を吸収するもの、例えばベーシック
ブルー等のカルボニウム系染料を選択すると、本発明の
効果がより出やすくなり好ましい。有機染料の添加量は
０．００１〜１重量％であることが好ましい。

【００３５】感光性ペーストを基板に塗布する時の粘度
を塗布方法に応じて調整するために有機溶媒が使用され
る。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチル
エチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
フォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、ク
ロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、
ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの
１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００３６】本発明における無機微粒子としては、Ａ
ｕ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔなどの導電性粉末の微粒子
を好ましく用いることができ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ
の貴金属導電性微粒子が好ましく、特に有用であるのは
Ａｇ粉末を用いた場合である。各金属はそれぞれ単独に
または混合粉末として用いることができる。例えば、Ａ
ｇ（３０〜８０）−Ｐｄ（７０〜２０）、Ａｇ（４０〜
７０）−Ｐｄ（６０〜１０）−Ｐｔ（５〜２０）、Ａｇ
（３０〜８０）−Ｐｄ（６０〜１０）−Ｃｒ（５〜１
５）、Ｐｔ（２０〜４０）−Ａｕ（６０〜４０）−Ｐｄ
（２０）、Ａｕ（７５〜８０）−Ｐｔ（２５〜２０）、
Ａｕ（６０〜８０）−Ｐｄ（４０〜２０）、Ａｇ（４０
〜９５）−Ｐｔ（６０〜５）、Ｐｔ（６０〜９０）−Ｒ
ｈ（４０〜１０）（以上（ ）内は重量％を表す）など
の２元系、３元系の混合貴金属粉末が用いられる。ま
た、上記の組み合わせにＣｒやＲｈを添加したものは高
温特性を向上できる点で好ましい。

【００３７】これらの導電性無機微粒子の平均粒子径は
０．５〜５μｍが好ましい。平均粒子径を０．５μｍ以
上とすることで、紫外線露光時に光線が塗設後の膜の中
をスムースに透過し、良導体の線幅６０μｍ以下の微細
パターンの形成が可能になる。一方、５μｍ以下とする
ことで塗設後の回路パターンの表面の凹凸が粗くなら
ず、パターン精度が向上し、ノイズ発生を抑えることが
できる。

【００３８】微細パターンの形成や低抵抗化を満足する
好ましい導電性粉末の範囲がある。すなわち、導体パタ
ーンを塗設後、露光時に紫外線が散乱せず十分に透過
し、有効に作用して現像後１０〜４０μｍの微細回路パ
ターンを得るためには、導電性粉末の平均粒子径が１〜
４μｍであり、かつ比表面積が０．１〜５ｍ²／ｇであ
ることが好ましい。さらに好ましくは、平均粒子径が
０．８〜４μｍ、比表面積が０．５〜１．５ｍ²／ｇで
ある。この範囲版にある場合、現像時に未露光部におけ
る導体膜の残膜の発生が全くなく、高精度な回路パター
ンが得られる。

【００３９】貴金属導電性微粒子の比表面積は、０．１
〜３ｍ²／ｇが好ましく用いられる。比表面積が０．１
ｍ²／ｇ以上とすることで、回路パターンの精度を向上
できる。また、３ｍ²／ｇ以下とすることで紫外線の散
乱を防ぎ、パターン精度を向上できる。

【００４０】貴金属導電性微粒子の形状としては、フレ
ーク（板、円錐、棒）状や球状の物が使用できるが、凝
集が抑制されることから球状であることが好ましい。球
状の場合、露光時の紫外線の散乱が少ないので、この精
度のパターンが得られ、照射エネルギーが少なくて済
む。

【００４１】本発明の感光性ペーストは次の方法により
製造することができる。感光性ペーストは、通常、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、無機微粒子、感光性有機成分、
有機染料、分散剤、吸光剤、および溶媒などの各種成分
を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混
練機で均質に混合分散し作製する。

【００４２】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈降防止剤など添加割合によって
適宜調整されるが、その好ましい範囲は２０００〜２０
万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）にある。例えば、基板への
塗布をスピンコート法で行う場合は、２０００〜５００
０ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して
膜厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが
好ましい。ブレードコーター法やダイコーター法などを
用いる場合は、１万〜５万ｃｐｓが好ましい。

【００４３】次に、本発明のディスプレイ用部材ならび
に電極およびプラズマディスプレイの製造方法を、プラ
ズマディスプレイの作製手順に従って説明する。但し本
発明は、プラズマアドレス液晶ディスプレイ、フィール
ドエミッションディスプレイ等、その他各種のディスプ
レイにおいても、好ましく適用される。

【００４４】プラズマディスプレイの背面板の基板に
は、ソーダガラスやプラズマディスプレイ用ガラス基板
（旭硝子社製ＰＤ２００など）を使うことができる。

【００４５】次に基板上に、本発明の電極の製造方法に
より電極を形成する。基板上に、本発明の感光性ペース
トを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法と
しては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコー
ター、ダイコーター、ブレードコーターなどの方法を用
いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーン
のメッシュ、ペーストの粘度および塗出量を選ぶことに
よって調整できる。

【００４６】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としては、シランカッ
プリング剤、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリ
ス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロ
キシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（２−アミノ
エチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランなど、あるいは有機金属例えば、有機チタン、
有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。シラ
ンカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例え
ば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エ
チルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコー
ルなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。
次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗
布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥するこ
とによって表面処理ができる。

【００４７】塗布した後、所望のパターンを得るための
マスクを介して活性光線を照射する。活性光線の照射に
は、プロキシミティ露光機などを用いることができる。
また、大面積の露光を行う場合は、基板上に感光性ペー
ストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによ
って、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光す
ることができる。プラズマディスプレイ用の背面板とし
ては、電極は幅２０〜２００μｍのストライプ状に好ま
しく形成される。

【００４８】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像処理を行うが、この場
合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行う。現像処理
に用いる現像液は水を主成分とすることが好ましい。現
像液には、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能であ
る有機溶媒を用いることができる。また、該有機溶媒に
その溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感
光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化
合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。ア
ルカリ水溶液としては水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウ
ム、水酸化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機
アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除
去しやすいので好ましい。

【００４９】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。

【００５０】アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜５
重量％、より好ましくは０．１〜１重量％である。アル
カリ濃度が低すぎると可溶部が除去されない傾向とな
り、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ
る傾向となる。また、現像時の現像温度は、２０〜５０
℃で行うことが工程管理上好ましい。

【００５１】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や
温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気
中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。

【００５２】焼成温度は４００〜１０００℃で行う。ガ
ラス基板上にパターン加工する場合は、４８０〜６１０
℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うことが好
ましい。

【００５３】次いで電極を被覆するように誘電体層を好
ましく形成する。

【００５４】次いで誘電体層上、もしくは電極が形成さ
れた基板上に隔壁を形成する。隔壁の高さは、８０μｍ
〜２００μｍが適している。８０μｍ以上とすることで
蛍光体とスキャン電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電に
よる蛍光体の劣化を抑制できる。また、２００μｍ以下
とすることで、スキャン電極での放電と蛍光体の距離が
離れすぎるのを防ぎ、十分な輝度を得ることができる。
隔壁のピッチ（Ｐ）は、１００μｍ≦Ｐ≦５００μｍの
ものがよく用いられる。また、高精細ＰＤＰとしては、
隔壁のピッチ（Ｐ）は１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍであ
る。１００μｍ以上とすることで放電空間が狭くなるの
を防ぎ十分な輝度を得ることができ、５００μｍ以下と
することで画素が細かくなりきれいな映像表示ができ
る。２５０μｍ以下とすることにより、ハイビジョン
（ＨＤＴＶ）レベルの美しい映像を表示することができ
る。隔壁の線幅（Ｌ）は、半値幅で１０μｍ≦Ｌ≦５０
μｍであることが好ましい。１０μｍ以上とすることで
は前面板と背面板を封着する際の破損を防ぐことができ
る。また、５０μｍ以下とすることで蛍光体の形成面積
を大きくとることができ高輝度が得られる。

【００５５】隔壁は、無機微粒子と有機バインダーから
なるガラスペーストを隔壁の形状にパターン形成した後
に、４００〜６００℃に焼成して隔壁を形成する方法が
一般的である。ガラスペーストを用いて隔壁パターン加
工する方法としては、スクリーン印刷法、サンドブラス
ト法、感光性ペースト法、フォト埋め込み法、型転写法
等の方法によって形成可能であるが、各種の隔壁形成方
法の中で、高精細化・工程の簡便性の点で、本発明の電
極の製造方法と同様に感光性ペースト法が優れている。

【００５６】隔壁を形成した後に、ＲＧＢの各色に発光
する蛍光体層を形成する。蛍光体粉末、有機バインダー
および有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の
隔壁間に塗布することにより、蛍光体層を形成すること
ができる。その方法としては、スクリーン印刷版を用い
てパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先
端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサ
ー法、また、感光性を有する有機成分を有機バインダー
とする感光性蛍光体ペーストを用いる感光性ペースト法
等を採用することができる。

【００５７】蛍光体層を形成した基板を必要に応じて、
４００〜５５０℃で焼成し、本発明のディスプレイ用部
材の一例としてプラズマディスプレイ用の背面板を作製
することができる。

【００５８】次いでプラズマディスプレイ用の前面板
は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘
電体、保護膜（ＭｇＯ）を形成して作製することができ
る。前面板のバス電極にも、本発明の感光性ペーストが
適用可能である。背面基板上に形成されたＲＧＢ各色蛍
光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成して
も良い。また、コントラストを向上するために、ブラッ
クストライプを形成しても良い。

【００５９】かくして得られた背面板と前面板とを封着
後、両部材の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、
ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入
後、駆動回路を装着して本発明のプラズマディスプレイ
を作製できる。

【００６０】

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
する。

【００６１】（化合物）下記の実施例、比較例で用いた
ポリマー、化合物は次の通りである。ここで、化合物
（Ａ）に該当する化合物と化合物（Ａ）とは異なるが類
似の化合物をまとめて化合物（ａ）、化合物（Ｂ）に該
当する化合物をまとめて化合物（ｂ）とする。 ポリマー−１：スチレン／メチルメタクリレート／メタ
クリル酸コポリマ（重量組成比３０／３０／４０）にコ
ポリマ１００重量部に対してグリシジルアクリレートを
２３重量部付加させたポリマ（樹脂酸価１２０ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇ） ポリマー−２：スチレン／メチルメタクリレート／メタ
クリル酸コポリマ、重量組成比３０／５４／１６、樹脂
酸価１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ 化合物（ａ）−１：ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₅ＣＨ
（ＣＨ₃）₂（化合物（Ａ）に該当） 化合物（ａ）−２：ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₉ＯＣ
ＯＣＨ＝ＣＨ₂（化合物（Ａ）に該当） 化合物（ａ）−３：ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｏ
Ｈ）ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）₆ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＣ
ＯＣＨ＝ＣＨ₂（化合物（Ａ）に該当） 化合物（ａ）−４：ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣ
ＯＣＨ＝ＣＨ₂（化合物（Ａ）に類似） 化合物（ｂ）−１：ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂ＣＨ２
Ｏ）₄ＣＯＣＨ＝ＣＨ₂（化合物（Ｂ）に該当） 化合物（ｂ）−２：｛ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯＯＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ₂｝₃ＣＣＨ₂ＣＨ₃（化合物（Ｂ）に該
当） 化合物（ｂ）−３：｛ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯＯ（ＣＨ₂ＣＨ
₂Ｏ）₂ＣＨ₂｝₃ＣＣＨ₂ＣＨ₃（化合物（Ｂ）に該当） 各実施例および比較例に用いたポリマーおよび化合物の
組み合わせを、表１に示す。

【００６２】（評価方法） 最低露光量：様々な露光量において露光したサンプル
を、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．１重
量％水溶液にて６０秒間シャワー現像した。アンダーカ
ット以外に欠陥のないパターンが形成されたサンプルの
うち、露光量の最も少ないサンプルの露光量を最低露光
量とした。 アンダーカット：電極を形成したガラス基板を、電極を
形成した面とは反対の面から光学顕微鏡にて観察した。
１回の評価につき５０本の電極について調べ、１箇所に
でもアンダーカットが認められた場合には「あり」、全
く認められなかった場合には「なし」とした。

【００６３】（実施例１〜４、比較例１〜３）感光性ペ
ーストは、ポリマ、モノマに光重合開始剤（２−メチル
−１−（４−メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリ
ノプロパン−１−オン）２重量部、増感剤（２，４−ジ
エチルチオキサントン）１重量部、有機染料（ベーシッ
クブルー２６，吸収極大波長：５９２ｎｍ）０．０１重
量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル４重
量部、を５０℃に加熱しながら溶解し、その後貴金属導
電性微粒子（平均粒子径１．５μｍ、比表面積１．１０
ｍ²／ｇ）８８重量部を添加し、混練機を用いて混練し
た。

【００６４】ソーダガラス基板上に、スクリーン印刷法
により、感光性ペーストを均一に塗布して乾燥厚み６μ
ｍを得た。

【００６５】次に、プラズマディスプレイ用の電極パタ
ーン形成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パタ
ーン、パターンピッチ２３０μｍ、線幅１００μｍ）を
介して露光を行った。この時、マスクが汚染されるのを
防ぐため、マスクと塗膜面に１００μｍのギャップを設
けた。その後、３５℃に保持したモノエタノールアミン
の０．１重量％水溶液をシャワーで６０秒間かけること
により現像を行い、光硬化していないスペース部分を除
去してガラス基板上にストライプ状の電極パターンを形
成した。さらに、シャワースプレーを用いてパターンの
水洗浄を行った。

【００６６】各実施例、比較例における最低露光量の電
極パターンを顕微鏡で観察し、露光部の剥がれ、アンダ
ーカットおよびパターン間の埋まり（残膜）が発生しな
い露光量を調べ、評価結果を表１に示した。実施例１〜
４では、少ない露光量でパターン形成することができ、
アンダーカットも認められなかった。これに対して化合
物(a)または化合物（ｂ）を全く添加しない場合（比較
例１または２）や、化合物（ａ）と類似であるが異なる
化学構造の化合物(a)−４を添加した場合（比較例３）
では露光量が多く必要であり、アンダーカットも確認さ
れた。

【００６７】電極パターンの加工を終了したガラス基板
を８０℃で１５分乾燥した後、５８０℃で１５分焼成し
電極を形成した。

【００６８】

【表１】

【００６９】（実施例５）実施例１の、電極を製造した
ガラス基板上に、さらに誘電体層を形成した。酸化ビス
マスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０
％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０％、
エチルセルロース１５％、テルピネオール１５％を混練
して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、
表示エリア部分のアドレス電極が覆われるように２０μ
ｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行
って背面誘電体層を形成した。

【００７０】誘電体層上に、感光性ペースト法により隔
壁を形成した。感光性ペーストを塗布した後に、開口部
線幅３０μｍのフォトマスクを用いて露光し、次に０．
５重量％のエタノールアミン水溶液中で現像し、さら
に、５６０℃で１５分間焼成することにより、ピッチ２
３０μｍ、線幅３０μｍ、高さ１３０μｍの隔壁を形成
した。

【００７１】次に、隣り合う隔壁間に蛍光体層を形成し
た。蛍光体の塗布は、２５６カ所の穴（口径：１３０μ
ｍ）が形成されたノズル先端から蛍光体ペーストを吐出
するディスペンサー法により行った。蛍光体層が隔壁側
面に焼成後厚み２５μｍ、誘電体上に焼成後厚み２５μ
ｍになるように塗布した後に、５００℃で１０分間の焼
成を行い、本発明のディスプレイ用部材として、プラズ
マディスプレイ用の背面板を完成した。

【００７２】次に、前面板を作製した。ソーダガラス基
板上に、ＩＴＯを用いて、ピッチ３７５μｍ、線幅１５
０μｍのスキャン電極を形成した。また、その基板上に
実施例１で用いたのと同じ感光性ペーストを塗布した後
に、フォトマスクを介したマスク露光、０．３％炭酸ナ
トリウム水溶液を用いた現像、５８０℃１５分間の焼成
工程を経て、線幅５０μｍ、厚み３μｍのバス電極を形
成した。

【００７３】次に、酸化鉛を７５重量％含有する低融点
ガラスの粉末を７０％、エチルセルロース２０％、テル
ピネオール１０％を混練して得られたガラスペーストを
スクリーン印刷により、表示エリア部分のバス電極が覆
われるように２０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃
１５分間の焼成を行って前面誘電体を形成した。

【００７４】誘電体層を形成した基板上に電子ビーム蒸
着により厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層を形成し
て前面板を作製した。

【００７５】かくして得られた前面板と背面板を封着ガ
ラスを用いて封着し、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガ
ス圧６６５００Ｐａになるように封入し、駆動回路を実
装してプラズマディスプレイを作製した。

【００７６】このプラズマディスプレイに電圧を印加し
て表示を行ったところ、アンダーカットに帰因する電極
の断線による表示不良はなく、良好な表示状態であっ
た。

【００７７】（比較例３）比較例２で用いたのと同じ感
光性ペーストを用いた以外は実施例５と同様にしてプラ
ズマディスプレイを作製した。

【００７８】得られたプラズマディスプレイに電圧を印
加して表示を行ったところ、アンダーカットに帰因する
と思われる電極の断線による表示不良が見られた。

【００７９】

【発明の効果】本発明の感光性ペーストは、Ａｇなどの
微粒子を多量に含有するにもかかわらず感度が高く、ま
た現像時にアンダーカットを生じ難いので、ディスプレ
イ、回路材料などの高精度のパターン加工が可能にな
り、精細性の向上、工程の簡略化が可能になる。特に、
低コストでプラズマディスプレイパネルの電極などを形
成することができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 1/09 Ｈ０５Ｋ 1/09 Ｄ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AA02 AB17 AC01 AD01 BC12 BC13 BC32 BC34 BC42 BC81 BC86 CC12 FA17 FA29 4E351 BB31 DD05 DD06 DD19 DD20 EE13 GG01 5C027 AA01 5C040 GC18 GC19 JA02 JA15 KA01 KA16 KB03 KB04 KB17 KB28 MA24 MA26 5G301 DA03 DA05 DA10 DA11 DA12 DA42 DD01

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】有機成分と無機微粒子からなる感光性ペー
   ストであって、有機成分が化合物（Ａ）として下記式
   （１）、（２）または（３）で示される炭素数６〜２０
   個のアルキル基を有するアクリル化合物またはメタクリ
   ル化合物を含有し、化合物（Ｂ）として下記式（４）で
   示されるエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイ
   ド残基を含むアクリル化合物またはメタクリル化合物を
   含有し、無機微粒子の含有量が６０重量％以上であるこ
   とを特徴とする感光性ペースト。 ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ² （１） ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ²−ＯＣＯＣＨＲ¹＝ＣＨ₂ （２） ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−Ｒ³−ＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯ−Ｒ³−ＯＣＯＣＨＲ¹＝ＣＨ₂ （３） （ＣＨ₂＝ＣＲ¹ＣＯＯ−（ＣＨ₂ＣＨＲ⁴Ｏ）_m）_n−Ｒ⁵ （４） ここにおいて、Ｒ¹、Ｒ⁴は水素またはメチル基、Ｒ²は
   炭素数６〜２０のアルキル基、Ｒ³は炭素数３以上のヒ
   ドロキシアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜２０のアルキル
   基、アリール基、アラルキル基、ｍは１〜３０の整数、
   ｎは１〜６の整数を示す。
2. 【請求項２】化合物（Ａ）が分子内に水酸基を有するこ
   とを特徴とする請求項１記載の感光性ペースト。
3. 【請求項３】有機成分が、側鎖または末端にアクリル基
   またはメタクリル基を有するアクリル系樹脂を含有する
   ことを特徴とする請求項１または２記載の感光性ペース
   ト。
4. 【請求項４】無機微粒子がＡｕ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐ
   ｔから選ばれた少なくとも１種以上の金属を含有するこ
   とを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の感光性ペ
   ースト。
5. 【請求項５】請求項１〜４のいずれか記載の感光性ペー
   ストを用いて製造したことを特徴とするディスプレイ用
   部材。
6. 【請求項６】請求項１〜４のいずれか記載の感光性ペー
   ストを用いて製造したことを特徴とするプラズマディス
   プレイ用部材。
7. 【請求項７】請求項１〜４のいずれか記載の感光性ペー
   ストを基板上に塗布し、マスクを介して活性光線を照射
   した後に、現像処理により感光性ペースト層のマスクが
   されていなかった部分を除去し、ついで焼成することに
   より感光性ペーストの有機成分を除去することを特徴と
   する電極の製造方法。
8. 【請求項８】請求項７記載の方法により基板上に電極を
   形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプ
   レイの製造方法。