JP2001278638A

JP2001278638A - 感光性ガラスペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイ

Info

Publication number: JP2001278638A
Application number: JP2000093988A
Authority: JP
Inventors: Kazutaka Kusano; 一孝草野; Mitsuyo Hashimoto; 充代橋本; Hiroyuki Mitsui; 宏行三井
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2000-03-30
Filing date: 2000-03-30
Publication date: 2001-10-10

Abstract

(57)【要約】【課題】低温焼成可能な感光性ガラスペーストを提供
し、低コストで高品質のプラズマディスプレイを提供す
る。【解決手段】ガラス粉末（Ａ）と感光性化合物を含む有
機成分（Ｂ）から主として構成される感光性ガラスペー
ストであって、感光性化合物を含む有機成分（Ｂ）がブ
チルメタクリレートおよび／またはブチルアクリレート
と重合性不飽和酸単量体との共重合物にアクリル性不飽
和二重結合を有する化合物を付加させた感光性樹脂
（Ｃ）を含むことを特徴とする感光性ガラスペースト。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ、プラズマアドレス液晶ディスプレイなどのプラズマ
ディスプレイおよびそれに用いる感光性ガラスペースト
に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、また
大型化が容易であることからＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。さらに、高品位テレビジ
ョンの分野などでの進展が非常に期待されている。この
ような用途拡大に伴って、微細で多数の表示セルを有す
るカラーＰＤＰが注目されている。

【０００３】ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に備えられた放電空間内で電極間にプラズマ放
電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスか
ら発生した紫外線を放電空間内の蛍光体に当てることに
より表示を行うものである。この場合、放電の広がりを
一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時
に、均一な放電空間を確保するために、およそ幅２０〜
６００μｍ、高さ６０〜２００μｍの形状をもつ隔壁
（障壁またはリブともいう）が設けられている。

【０００４】この隔壁の形成方法として、高精細パター
ンと精度良くパターン加工ができる点から、ガラス粉末
と感光性樹脂組成物からなる感光性ガラスペーストをフ
ォトリソグラフィ技術で形成する方法が提案されてい
る。

【０００５】かかる感光性ガラスペーストとしては、例
えば、メチルメタクリレートとメタクリル酸および／ま
たはアクリル酸との共重合物にグリシジルアクリレート
を付加反応させたポリマー、光反応性化合物、光重合開
始剤およびガラスフリットを含有するペーストが知られ
ている（特開平１０−７２２４０号公報）。

【０００６】しかしながら、このような感光性ガラスペ
ーストは、熱分解性が悪いために焼成温度を高く、焼成
時間を長くする必要がある。ＰＤＰの製造コストでは、
材料や装置のコスト以外に焼成によるエネルギーコス
ト、プロセスタイムが大きく加わっている。そのため、
焼成温度が高く、焼成時間が長くなると、ＰＤＰの製造
コストが大きくなる問題があった。

【０００７】また、感光性樹脂組成物が、焼成温度でも
分解せずに残った場合、焼成後の隔壁に気泡が発生し、
欠けが生じやすくなったり、着色などを生じる問題やパ
ネル点灯中に隔壁から出ガスが生じ、異常放電が発生す
るなどの問題を生じ、高品質のプラズマディスプレイが
製造できないという問題があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解決するために、低温、短時間で焼成可能
な感光性ガラスペーストを提供することを目的とする。
また、、かかる感光性ガラスペーストを用いた、低コス
トで高品質のプラズマディスプレイを提供することを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、少な
くともガラス粉末（Ａ）と感光性化合物を含む有機成分
（Ｂ）から構成される感光性ガラスペーストであって、
感光性化合物を含む有機成分（Ｂ）がブチルメタクリレ
ートおよび／またはブチルアクリレートと重合性不飽和
酸単量体との共重合物にアクリル性不飽和二重結合を有
する化合物を付加させた感光性樹脂（Ｃ）を含むことを
特徴とする感光性ガラスペーストである。

【００１０】また、本発明は上記感光性ガラスペースト
を使用してなることを特徴とするプラズマディスプレイ
部材およびそれを用いたことを特徴とするプラズマディ
スプレイである。

【００１１】

【発明の実施の形態】（本発明の感光性ガラスペース
ト）本発明の感光性ガラスペーストは、少なくともガラ
ス粉末（Ａ）と感光性成分を含む有機成分（Ｂ）から構
成されることを必須とする。

【００１２】本発明におけるガラス粉末（Ａ）は、５０
〜４００℃の熱膨張係数が５０×１０−７〜１００×１
０−７であることが好ましい。また、ガラス中に酸化珪
素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％の範
囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張
係数、絶縁層の緻密性などの隔壁として要求される電
気、機械および熱的特性を向上することができる。本発
明におけるガラス粉末としては、主として低融点ガラス
粉末からなることが好ましい。低融点ガラス粉末のガラ
ス転移温度は、３５０〜５００℃、ガラス軟化点は、４
００〜５５０℃であることが好ましい。ガラス転移温度
とガラス軟化点がこの範囲にあると、焼成時に基板の歪
みが小さく、また、緻密な隔壁層が得られる。ガラス粉
末の粒子径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考
慮して選ばれるが、マイクロトラック社製粒度測定装置
ＨＸ−１００を用いて測定した５０体積％粒子径（平均
粒子径Ｄ５０）が１〜６μｍ、最大粒子サイズが３０μ
ｍ以下、比表面積１．５〜４ｃｍ²／ｇであることが好
ましい。

【００１３】本発明の感光性ガラスペーストにおけるガ
ラス粉末の含有量は、５０〜９０重量％、さらには、６
５〜９０重量％であることが焼成時の収縮率が小さく、
焼成による形状変化を小さくすることができるため好ま
しい。

【００１４】本発明の感光性ガラスペーストにおける感
光性化合物を含む有機成分（Ｂ）は、ブチルメタクリレ
ートおよび／またはブチルアクリレートと重合性不飽和
酸単量体との共重合物にアクリル性不飽和二重結合を有
する化合物を付加させた感光性共重合樹脂（Ｃ）を必須
成分とし、更に、必要に応じて、光重合性モノマー、光
重合開始剤、増感剤、光吸収剤、有機溶剤、耐火物フィ
ラー等を添加する。

【００１５】上記ブチルメタクリレートおよび／または
ブチルアクリレートは、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−
ブチルメタクリレートから選ばれたものである。

【００１６】ここで、重合性不飽和酸単量体とは、アク
リル性不飽和二重結合を形成するためにエポキシ基含有
不飽和物と反応するものであり、例えばアクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、イタコン酸、マ
レイン酸などの重合性不飽和カルボン酸が挙げられる。
これらは単独で使用しても２種以上を混合して使用して
も良い。

【００１７】アクリル性不飽和二重結合を有する化合物
としてはエポキシ基含有アクリル系不飽和単量体が挙げ
られ、具体的にはグリシジルアクリレート、グリシジル
メタクリレート、メチルグリシジルアクリレート、メチ
ルグリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロ
ヘキサンメチルアクリレート、３，４−エポキシシクロ
ヘキサンメチルメタクリレートなどが挙げられる。これ
らは単独で使用しても２種以上を混合して使用しても良
い。

【００１８】上記感光性樹脂は、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）が５０００〜２０００００の範囲内であり、かつ数
平均分子量（Ｍｎ）が３０００〜５００００の範囲内で
あることが好ましく、Ｍｗが１０００〜１０００００の
範囲内かつ数平均分子量（Ｍｎ）が、５０００〜３００
００の範囲内であることがより好ましい。重量平均分子
量が５０００以上かつ数平均分子量が３０００以上であ
れば光に対して充分な硬化性を得られる傾向にあり、ま
た重量平均分子量が２０００００以下かつ数平均分子量
が３００００以下であれば粘度が適切で取り扱い性が良
好であるためである。また、上記要件に加え、さらにＭ
ｗ／Ｍｎが１．２〜５．０の範囲内であることが好まし
く、１．５〜３．５の範囲内であることがより好まし
い。Ｍｗ／Ｍｎの範囲を１．２〜５．０とすることで光
に対する硬化性のばらつきを抑制できる。

【００１９】上記感光性樹脂の酸価は、５０〜２００ｍ
ｇ／ＫＯＨであることが好ましい。さらに好ましくは６
０〜１５０ｍｇ／ＫＯＨである。酸価がこの範囲にある
ことで、現像液に対する現像許容幅を拡大できるためで
ある。

【００２０】光重合性モノマーは、感光性ガラスペース
トの光硬化の促進および現像性を向上させるために用い
る。具体的には、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメ
チロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレ
ート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変
性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トおよび上記アクリレートに対応する各メタクリレート
類、多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
トとのモノ−、ジ−、トリ−またはそれ以上のポリエス
テルなどがあり、これらは単独で使用しても２種以上を
混合して使用しても良い。

【００２１】光重合開始剤の具体的な例としては、例え
ばベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，
４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−
ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチル
フェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、
２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキ
シ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブ
チルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メ
チルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−
イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサント
ン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメ
トキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノ
ン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアント
ラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベ
ンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロ
ン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−
ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘ
キサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−
（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニルプ
ロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（ｏ−
エトキシカルボニル）オキシム、２−メチル−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリ
ンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリド
ン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニル
ジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフ
ェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、
トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイルおよび
エオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアス
コルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み
合わせなどが挙げられる。

【００２２】本発明では、これらを１種または２種以上
使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に
対し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好
ましくは、０．１〜１０重量％である。重合開始剤の量
が少なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の
量が多すぎる場合には、露光部の残存率が小さくなるお
それがある。

【００２３】光重合開始剤と共に増感剤を使用し、感度
を向上させたり、反応に有効な波長範囲を拡大すること
ができる。

【００２４】増感剤の具体例としては、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，
３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタ
ノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シ
クロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベ
ンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケト
ン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジ
メチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾー
ル、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセ
トン、１，３−カルボニルビス（４−ジエチルアミノベ
ンザル）アセトン、３，３−カルボニルビス（７−ジエ
チルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタ
ノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−ト
リルジエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェ
ニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル
−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げ
られる。

【００２５】本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始
剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感
光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分
に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは
０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば
光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多
すぎれば露光部の残存率が小さくなる恐れがある。など
が挙げられる。これらを１種または２種以上使用するこ
とができる。

【００２６】光吸収剤を添加することも有効である。紫
外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することに
よって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られ
る。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ま
しく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケト
ン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アント
ラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシ
アノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミ
ノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼
成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁
膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中
でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。
有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、
より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が
少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあ
り、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向に
ある。

【００２７】有機溶媒の具体例としては、１−ブトキシ
−２−プロパン、１，２−ジアセトキシプロパン、１−
メトキシ−２−プロパノール、２−アセトキシ−１−エ
トキシプロパン、（１，２−メトキシプロポキシ）−２
−プロパノール、（１，２−エトキシプロポキシ）−２
−プロパノール、２−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペ
ンタノン、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテー
ト、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノー
ル、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプ
ロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−
（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオ
キシ）エタノール、２−フェノキシエタノール、２−
（ベンジルオキシ）エタノール、ベンジルアルコール、
フルフリルアルコール、テトラフルフリルアルコール、
２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテル、２−（２−
メトキシエトキシ）エタノール、２−［２−（２−メト
キシエトキシ）エトキシ］エタノール、２−メチル−１
−ブタンノル、３−メチル−２−ブタノール、２−メチ
ル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノー
ル、２−エチル−１−ブタノール、２−メトキシエチル
アセテート、２−エトキシエチルアセテート、２−ブト
キシエチルアセテート、２−フェノキシエチルアセテー
ト、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエ
タン、１，２−ジブトキシエタン、シクロヘキサンノ
ン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソ
プロピル、酢酸ブチル、１−メチルペンチルアセテー
ト、２−エチルブチルアセテート、２−エチルヘキシル
アセテート、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、ヘキ
サン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、２−ペン
タノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイ
ソブチルケトン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチル
ラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、炭酸プロ
ピレン、スルホラン、γ−ブチロラクトンなどが挙げら
れる。これらの有機溶剤は、単独で用いてもよく、２種
以上を組み合わせて用いてもよい。

【００２８】耐火物フィラーは、焼成時の形状を安定さ
せるために好ましく添加される。耐火物フィラーとして
は、５００〜６５０℃程度の焼成温度で軟化しないもの
が広く使用でき、高融点ガラスや、アルミナ、マグネシ
ア、カルシア、コーディエライト、シリカ、ムライト、
ジルコン、ジルコニア等のセラミック粉末が例示でき
る。感光性ガラスペーストの場合には、耐火物フィラー
として高融点ガラスが好適に用いられる。ＰＤＰの外光
反射を低減し、実用上のコントラストを上げるために隔
壁を暗色にする場合には、耐火性の黒色顔料として、Ｃ
ｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ
−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−
Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍ
ｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等の顔料を用いてもよい。
一方、蛍光体の発光を有効にパネル前面に導く目的で隔
壁を白くする場合には、耐火性の白色顔料としてチタニ
アなどを用いてもよい。

【００２９】本発明の感光性ガラスペーストのその他の
構成成分としては、可塑剤、重合禁止剤、酸化防止剤、
消泡剤、分散剤、レベリング剤などの添加剤成分を挙げ
ることができる。

【００３０】本発明の感光性ガラスペーストは、各種成
分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや
混練機などの混練・分散手段によって均質に混合・分散
し作製する。（本発明のプラズマディスプレイおよびその部材）本発
明に用いるガラス基板としては、ソーダガラスの他にＰ
ＤＰ用の耐熱ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”
や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”を用いることができ
る。該ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッ
ケルなどの金属によりアドレス電極を形成する。形成す
る方法としては感光性ペースト法、パターン印刷法、エ
ッチング法等が用いられる。

【００３１】これらの方法を用いて電極を形成した基板
上にガラス粉末と有機バインダーをを主成分とするガラ
スペーストを塗布した後に、通常４００〜６００℃で焼
成することにより誘電体層を形成できる。

【００３２】誘電体層を形成したガラス基板上に本発明
の感光性ガラスペーストを基板上に塗布する。塗布方法
としては、バーコーター、ロールコーター、ダイコータ
ー、ブレードコーター、スクリーン印刷などの常法を用
いることができる。

【００３３】塗布した後、通風オーブン、ホットプレー
ト、ＩＲ乾燥炉など任意のものを用いて乾燥し、ガラス
ペーストの塗布膜を形成する。

【００３４】塗布、乾燥した後、露光装置を用いて露光
を行う。露光は通常のフォトリソグラフィで行われるよ
うに、フォトマスクを介して露光する方法が一般的であ
る。また、フォトマスクを用いずに、レーザ光などで直
接描画する方法を用いても良い。

【００３５】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機などを用いることができる。また、
大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に
感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行
うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面
積を露光することができる。この際使用される活性光源
は、例えば、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ
光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好まし
く、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、通常１〜１００
ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．０１〜
３０分間露光を行う。

【００３６】露光後、露光部分と非露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行う。現像液には、
感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒
を用いると良い。また、有機溶媒にその溶解力が失われ
ない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカ
ルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場
合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液とし
ては水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化カルシ
ウム水溶液などが使用できる。

【００３７】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や
温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気
中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やローラー式の連続型焼成炉を
用いることができる。

【００３８】焼成温度は通常４００〜１０００℃で行
う。ガラス基板上にパターン加工する場合は、通常、５
２０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を
行う。

【００３９】隔壁を形成した後に、ＲＧＢ各色に発光す
る蛍光体層を形成する。蛍光体粉末、有機バインダーお
よび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔
壁間に形成することにより、蛍光体層を形成することが
できる。蛍光体層を形成する方法としては、スクリーン
印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐
出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出する
ディスペンサー法、また、有機バインダーとして、前述
の感光性を有する有機成分を用いることにより、感光性
蛍光体ペーストを作製して、感光性ペースト法により各
色蛍光体層を所定の場所に形成することができる。

【００４０】蛍光体層を形成した該基板を必要に応じ
て、通常、４００〜５５０℃で焼成する事により、本発
明のプラズマディスプレイ部材を作製することができ
る。

【００４１】該プラズマディスプレイ部材を背面基板と
して用いて、前面基板と封着後、前背面の基板間隔に形
成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから
構成される放電ガスを封入後、駆動用のドライバーＩＣ
を実装することによってプラズマディスプレイを作製で
きる。前面基板は、基板上に所定のパターンで透明電
極、バス電極、誘電体、保護膜（ＭｇＯ）を形成した基
板であり、背面基板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層
に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良
い。また、コントラストを向上するために、ブラックス
トライプを形成しても良い。

【００４２】

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
する。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。（背面基板中の出ガス量の測定法）耐圧性のチャンバー
内に背面基板を入れ、Ｈｅガスを注入しながら温度を上
げてＧＣ−ＭＳを測定し、発生するガスを調べた。（感光性樹脂重合例）反応容器中に１−ブタノール１０
０重量部を仕込み、８０℃まで昇温した。これに表１に
示すアルキルメタクリレートまたはアルキルアクリレー
ト５０重量部、メタクリル酸３０重量部およびアゾイソ
ブチロニトリル２．０重量部からなる混合物を８０℃温
度条件下で３時間滴定した。滴定終了から１時間経過し
た後、さらにアドビスイソブチロニトリル１．２部と１
−ブタノール１０重量部を４回に分けて３０分おきに添
加し、添加終了後さらに１時間重合を継続し、１−ブタ
ノール１０重量部およびメトキシフェノール１重量部を
添加し、メタクリル酸グリシジル２０重量部を３時間滴
下した。滴下終了後２時間反応を継続し１−ブタノール
１０重量部で希釈し感光性樹脂を得た（表１）。

【００４３】

【表１】

【００４４】実施例１〜４、比較例１表２のガラス粉末７０ｇ、上記感光性樹脂重合例で得ら
れた感光性樹脂（表１）１５ｇ、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート１５ｇ、ベンゾフェノン４ｇ、
１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］
０．０５ｇ、有機染料（ベーシックブルー７）０．００
２ｇ、および３−メトキシ−３−メチルブタノールを感
光性ガラスペーストの粘度が３００［Ｐａ・ｓ／２５
℃］になるように加え、３本ローラーで混合・分散し
て、感光性ガラスペーストを得た。

【００４５】

【表２】

【００４６】次に、３４０×２６０×２．８ｍｍサイズ
のガラス基板（ＰＤ−２００；旭硝子（株）製）を使用
してＡＣ（交流）型プラズマディスプレイパネルの背面
板を形成した。基板上に、書き込み電極として、感光性
銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、ピ
ッチ１４０μｍ、線幅６０μｍ、焼成後厚み４μｍのス
トライプ状電極を形成した。この基板に誘電体ペースト
をスクリーン印刷法により塗布した後、５５０℃で焼成
して、厚み１０μｍの誘電体層を形成した。

【００４７】さらに、誘電体層上に感光性ガラスペース
トを３２５メッシュのステンレススクリーン用いて塗布
し、通風オーブンを用いて乾燥した。塗布、乾燥は、８
回繰り返し行ない、途中の乾燥は、８０℃で１０分間行
った。さらに８０℃で１時間乾燥後、フォトリソ法でパ
ターン形成し、表２に示す条件で焼成し、ピッチ１４０
μｍ、線幅２０μｍ、高さ１００μｍのストライプ状の
隔壁パターンを形成した。

【００４８】このようにして形成された隔壁に、赤、
青、緑に発光する蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を
用いて塗布、その後焼成（５００℃、３０分）して隔壁
の側面および底部に蛍光体層を形成した。得られた背面
基板を上記出ガスの測定法に従って測定した結果を表３
に示した。

【００４９】

【表３】

【００５０】実施例１〜８で形成した背面基板の出ガス
量（Ｈ₂Ｏ、ＣＯ₂、ＣＯ、有機ガスの総量）は１２０〜
２４０ｐｐｍであったが、比較例１〜４で形成した背面
基板の出ガス量は約５４０〜８８０ｐｐｍであった次
に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、背面
板と同じガラス基板上に、ＩＴＯをスパッタ法で形成
後、レジスト塗布し、露光・現像処理、エッチング処理
によって厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を
形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペースト
を用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み１
０μｍのバス電極を形成した。電極はピッチ１４０μ
ｍ、線幅６０μｍのものを作製した。

【００５１】さらに、電極形成した前面板上に透明誘電
体ペーストを２０μｍ塗布し、４３０℃で２０分間保持
して焼き付けた。次に形成した透明電極、黒色電極、誘
電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用い
て、厚みは０．５μｍのＭｇＯ膜を形成して前面板を完
成させた。

【００５２】得られた前面ガラス基板を、前記の背面ガ
ラス基板と貼り合わせ封着した後、放電用ガスを封入
し、駆動回路を接合してプラズマディスプレイを作製し
た。このパネルに電圧を印加して表示を行った。実施例
１〜８で形成した背面基板を用いたものは異常放電など
はなく良好な表示状態を示したが、比較例１〜４で形成
した背面基板を用いたものは、異常放電が認められた。

【００５３】

【発明の効果】本発明の感光性ガラスペーストは、低温
焼成が可能なため低コストでプラズマディスプレイを提
供できる。また、本発明の感光性ガラスペーストを用い
たプラズマディスプレイは、出ガスが少なく、パネル点
灯時に異常放電などが認められず、高品質のプラズマデ
ィスプレイを提供できる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｋ 7/20 Ｃ０８Ｋ 7/20 ４Ｊ０２７Ｃ０８Ｌ 33/06 Ｃ０８Ｌ 33/06 ５Ｃ０４０Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ 7/038 ５０１ 7/038 ５０１Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 ＢＦターム(参考） 2H025 AA04 AB20 AC01 AD01 BC13 BC85 BC86 CC08 CC20 DA19 FA29 4G059 AA07 AC30 FA15 FA28 FB05 4G062 AA03 AA08 AA09 BB05 BB06 DA04 DA05 DB03 DB05 DC03 DC04 DD01 DE03 DE04 DF01 EA04 EB01 EC01 ED03 EE03 EF01 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA04 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 NN17 NN29 4J002 BG031 DL006 FA086 FD010 FD090 FD150 GP03 4J011 PA15 PB06 PC02 QB03 QC03 QC07 SA02 SA04 SA07 SA22 SA25 SA27 SA32 SA34 SA42 SA54 SA56 SA62 SA63 SA64 SA65 SA74 SA76 SA79 SA80 SA83 SA84 SA88 UA01 UA02 UA03 UA04 VA01 WA01 4J027 AA02 AC03 AC06 AG01 AJ01 BA01 BA08 BA20 BA23 BA24 BA26 BA27 CA19 CB10 CC05 CC06 CC07 CC08 CD10 5C040 GF18 KA08 KA16 KA17 KB04 KB11 KB19 KB28 KB29 MA20 MA26

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくともガラス粉末（Ａ）と感光性化合
物を含む有機成分（Ｂ）から構成される感光性ガラスペ
ーストであって、感光性化合物を含む有機成分（Ｂ）が
ブチルメタクリレートおよび／またはブチルアクリレー
トと重合性不飽和酸単量体との共重合物にアクリル性不
飽和二重結合を有する化合物を付加させた感光性樹脂
（Ｃ）を含むことを特徴とする感光性ガラスペースト。
【請求項２】ブチルメタクリレートおよび／またはブチ
ルアクリレートが、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチ
ルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチ
ルメタクリレートから選ばれたものであることを特徴と
する請求項１記載の感光性ガラスペースト。
【請求項３】ガラス粉末がガラス転移温度３５０〜５０
０℃、熱軟化温度４００〜５５０℃であることを特徴と
する請求項１または２記載の感光性ガラスペースト。
【請求項４】感光性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍ
ｗ）が５０００〜２０００００、数平均分子量（Ｍｎ）
が３０００〜５００００、Ｍｗ／Ｍｎが１．２〜５．０
であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の感光性ガラスペースト。
【請求項５】感光性樹脂（Ｃ）の酸価が５０〜２００ｍ
ｇＫＯＨであることを特徴とする請求項１〜４のいずれ
かに記載の感光性ガラスペースト。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の感光性ガ
ラスペーストから製造されることを特徴とするプラズマ
ディスプレイ用部材。
【請求項７】請求項６に記載のプラズマディスプレイ用
部材を用いてなることを特徴とするプラズマディスプレ
イ。