JP2000312826A - 酸化触媒およびこの触媒の利用方法 - Google Patents
酸化触媒およびこの触媒の利用方法Info
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Abstract
化させおよび/またはエチレンを酢酸まで酸化させるた
めの触媒、並びにこの触媒を用いる酢酸および/または
エチレンの製造方法を得る。 【解決手段】 エタンをエチレンおよび/または酢酸ま
で酸化させおよび/またはエチレンを酢酸まで酸化させ
る触媒組成物およびその使用。触媒組成物は酸素と元素
Mo、V、NbおよびAuをPdの不存在下に実験式:
MoaWbAucVdNbeYf(I)に従う触媒組成
物とし、この触媒を流動床として使用して、エチレンま
たは酢酸を製造する。
Description
および/または酢酸まで酸化させおよび/またはエチレ
ンを酢酸まで酸化させる触媒、並びに前記触媒を利用す
る酢酸および/またはエチレンの製造方法に関するもの
である。
の製造方法に使用するため酸素と組み合わせてモリブデ
ン、バナジウムおよびニオブを含む触媒はたとえばUS
−A−4,250,346号から当業界にて公知であ
る。
応にて比較的高レベルの変換率、選択率および生産性で
500℃未満の温度にてエタンをエチレンまで酸化脱水
素化することを開示しており、これには元素モリブデ
ン、XおよびYを比MoaXbYc[式中、XはCr、
Mn、Nb、Ta、Ti、Vおよび/またはW、好まし
くはMn、Nb、Vおよび/またはWであり;YはB
i、Ce、Co、Cu、Fe、K、Mg、Ni、P、P
b、Sb、Si、Sn、Tlおよび/またはU、好まし
くはSb、Ceおよび/またはUであり;aは1であ
り、bは0.05〜1.0であり、cは0〜2、好まし
くは0.05〜1.0であり、ただしCo、Niおよび
/またはFeにつきcの合計値は0.5未満である]か
らなる組成物を触媒として使用する。
号は、エタン、エチレンまたはその混合物と酸素とから
酢酸を高温度にて式MoaPdbXcYd[式中、Xは
Cr、Mn、Nb、Ta、Ti、V、TeおよびWの1
種もしくは数種を示し;YはB、Al、Ga、In、P
t、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、Rh、Ir、C
u、Ag、Au、Fe、Ru、Os、K、Rb、Cs、
Mg、Ca、Sr、Ba、Nb、Zr、Hf、Ni、
P、Pb、Sb、Si、Sn、TlおよびUの1種もし
くは数種を示し;a=1、b=0.0001〜0.0
1、c=0.4〜1およびd=0.005〜1である]
を有する触媒の存在下に選択的に製造する方法に関する
ものである。
2A1号はa=1、b>0、c>0およびd=0〜2で
ある同様な触媒組成物に関するものである。好ましくは
a=1、b=0.0001〜0.5、c=0.1〜1.
0およびd=0〜1.0である。
630832号の両者における触媒はパラジウムの存在
を必要とする。
レンもしくはその混合物からの酢酸の製造方法および式
WaXbYcZd[式中、XはPd、Pt、Agおよび
Auの1種もしくは数種を示し、YはV、Nb、Cr、
Mn、Fe、Sn、Sb、Cu、Zn、U、Niおよび
Biの1種もしくは数種を示し、ZはLi、Na、K、
Rb、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、
Y、La、Ti、Zr、Hf、Ru、Os、Co、R
h、Ir、B、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、
Pb、P、AsおよびTeの1種もしくは数種を示し、
a=1、b>0、c>0およびd=0〜2である]を有
する触媒に関するものである。
デンを含有しない。
エチレンを酢酸まで選択的に酸化させる触媒組成物に関
するものであり、この組成物は酸素と組み合わせて元素
Mo aWbAgcIrdXeYf[式中、Xは元素Nb
およびVであり;YはCr、Mn、Ta、Ti、B、A
l、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、C
o、Rh、Cu、Au、Fe、Ru、Os、K、Rb、
Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Zr、Hf、Ni、
P、Pb、Sb、Si、Sn、Tl、U、ReおよびP
dよりなる群から選択される1種もしくはそれ以上の元
素であり;a、b、c、d、eおよびfは0<a≦1、
0≦b<1およびa+b=1;0<(c+d)≦0.
1;0<e≦2;および0≦f≦2となるような各元素
のグラム原子比を示す]にて構成される。
酸化させおよび/またはエチレンを酢酸まで酸化させる
触媒、並びにこの触媒を用いる酢酸および/またはエチ
レンの製造方法につきニーズが残されている。
を酸素と組み合わせて含むと共に必須成分として金をパ
ラジウムの不存在下に用いる酸化触媒は、酸化触媒およ
びこれを用いる方法のニーズを満たしうることが突き止
められた。
必須成分として用いると共にパラジウムの不存在下に酸
素と組み合わせてモリブデン、バラジウムおよびニオブ
を含む酸化触媒、並びにその利用方法を提供することに
ある。
らエチレンおよび/または酢酸への酸化およびエチレン
から酢酸への酸化のための触媒組成物を提供し、この組
成物は酸素と組み合わせて元素モリブデン、バナジウ
ム、ニオブおよび金をパラジウムの不存在下に実験式:
MoaWbAucVdNbeYf(I) [式中、YはCr、Mn、Ta、Ti、B、Al、G
a、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、R
h、Ir、Cu、Ag、Fe、Ru、Os、K、Rb、
Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Zr、Hf、Ni、
P、Pb、Sb、Si、Sn、Tl、U、Re、Te、
LaおよびPdよりなる群から選択される1種もしくは
それ以上の元素であり;a、b、c、d、eおよびfは 0<a≦1;0≦b<1およびa+b=1; 10−5<c≦0.02; 0<d≦2; 0<e≦1;および 0≦f≦2 となるような各元素のグラム原子比を示す]に従って含
むことを特徴とする。
のものを含む: MoaWbAucVdNbeYf MoaAucVdNbeYf MoaWbAucVdNbe MoaAucVdNbe
のを包含する:Mo1.00V0.25Nb0.12A
u0.01Oy;Mo1.00V0.2 13Nb
0.138Au0.007Oy;Mo1.00V
0.232Nb0.1 39Au0.007Oy;および
Mo1.000V0.426Nb0.115Au
0.0008Oy[式中、yは酸素につき組成物中の各
元素の原子価を満たす数である]。
はd>0.1であり、好ましくはe>0.01であり、
好ましくはe≦0.5であり、好ましくはf≧0.01
であり、好ましくはf≦0.5である。
K、P、Sb、LaおよびTeよりなる群から選択され
る。
がエタンおよび/またはエチレンを酢酸および/または
エチレンまで変換させる際に一層活性かつ選択性となり
うる点である。
られている任意の方法により作成することができる。好
適には、触媒は可溶性化合物および/または錯体および
/または各金属の化合物の溶液から作成することができ
る。溶液は好ましくは1〜12、好ましくは2〜8の範
囲のpHを20〜100℃の温度にて有する水性系であ
る。
は、触媒組成物中に各元素の所望のグラム原子比を与え
るのに充分な量の可溶性化合物を溶解させると共に不溶
性化合物を分散させることにより作成される。次いで触
媒組成物は、混合物から溶剤を除去して作成することが
できる。この触媒を200〜550℃の温度まで好適に
は空気もしくは酸素中で1分間〜24時間にわたり加熱
して焼成することができる。好ましくは空気もしくは酸
素をゆっくり流動させる。
ができる。適する支持体はシリカ、アルミナ、ジルコニ
ア、チタニア、炭化珪素およびその2種もしくはそれ以
上の混合物を包含する。
はたとえばEP−A−0166438号に見ることがで
きる。
ことができる。
び/またはエチレンを含むガス混合物からのエチレンお
よび/または酢酸の製造方法を提供し、この方法はガス
混合物を高められた温度にて上記触媒組成物の存在下に
分子状酸素含有ガスと接触させることを特徴とする。
酸化させおよび/または酢酸および/またはエチレンを
酢酸まで酸化させる。好ましくはエタンおよび必要に応
じエチレンをエチレンと酢酸とからなる混合物まで酸化
させ、これを一体的過程にて分子状酸素含有ガスと反応
させることにより酢酸ビニルを製造すべく酢酸および/
またはエチレンを追加もしくは除去しながら或いはそれ
なしに使用することができる。
ン、好ましくはエタンを含む。
純粋型にて或いは窒素、メタン、二酸化炭素および水蒸
気としての水の1種もしくはそれ以上(これらはたとえ
ば5容量%以上で多量に存在させることができる)また
は水素、一酸化炭素、C3/C4アルケンおよびたとえ
ば5容量%未満の少量で存在しうるアルケンの1種もし
くはそれ以上と混合して使用することができる。
素の豊富または貧弱なガス、たとえば酸素とすることが
できる。適するガスはたとえば適する希釈剤(たとえば
窒素)で希釈された酸素とすることができる。
状酸素含有ガスの他に、水(水蒸気)を供給することが
好ましい。何故なら、これは酢酸への選択率を向上させ
うるからである。
℃、好ましくは200〜400℃の範囲とすることがで
きる。
ば1〜50バール、好ましくは1〜30バールの範囲と
することができる。
用する前に焼成される。焼成は、好適には250〜50
0℃の範囲の温度にて酸素含有ガス(たとえば空気)の
存在下に加熱して達成することができる。
他の情報は前記従来技術、たとえば米国特許第4,25
0,346号に見ることができる。
らに説明する。
u0.007Oy) 12.71gのモリブデン酸アンモニウムと2.11g
のバナジウム酸アンモニウムと2.43gの塩化ニオブ
と0.36gのアンモニウムAu四塩化物と2.03g
の蓚酸とを200mlの水に70℃まで15分間にわた
り加熱して溶解させることにより溶液を作成し、次いで
2時間にわたり蒸発乾固させた。得られた触媒ケーキを
磨砕し、次いで静的空気中で350℃のオーブン内にて
5時間にわたり焼成した。触媒の組成をXRFにより分
析し、微量の白金と銀とイリジウムとロジウムとルテニ
ウムとを含有することも判明し、これを次の実験式とし
て示す: Mo1.00V0.213Nb0.138Au
0.007Pt0.000035Ag0.000005
Ir0.000001Rh0.000002Ru
0.00 0004Oy
0.139Au0.007Oy) 12.71gのモリブデン酸アンモニウムと2.11g
のバナジウム酸アンモニウムと2.43gの塩化ニオブ
と0.36gのアンモニウムAu四塩化物と2.03g
の蓚酸とを200mlの水に70℃まで15分間にわた
り加熱して溶解することにより溶液を作成し、次いで2
時間かけて蒸発乾固させた。得られた触媒ケーキを磨砕
し、次いで静的空気中で350℃のオーブン内にて5時
間にわたり焼成した。触媒の組成をXRFにより分析
し、微量の白金と銀とイリジウムとロジウムとルテニウ
ムとを含有することも判明し、これを次の実験式として
示す: Mo1.00V0.232Nb0.139Au
0.007Pt0.000005Ag0.000007
Ir0.0000002Rh0.0000003Ru
0. 000004Oy
b0.115Au0.0008Oy) 12.92gのモリブデン酸アンモニウムと3.65g
のバナジウム酸アンモニウムと2.27gの塩化ニオブ
と0.0214gのアンモニウムAu四塩化物と2.4
3gの蓚酸とを200mlの水に70℃まで15分間に
わたり加熱して溶解させることにより溶液を作成し、次
いで2時間にわたり蒸発乾固させた。得られた触媒ケー
キを磨砕し、次いで静的空気中で400℃のオーブン内
にて5時間にわたり焼成した。触媒の名目組成は次の通
りであった: Mo1.000V0.426Nb0.115Au
0.0008Oy
加熱された50mlの水に溶解させて溶液Aを作成し
た。2.11gのバナジウム酸アンモニウムを70℃ま
で加熱された70mlの水に溶解させて第2溶液Bを作
成した。さらに2.43gの塩化ニオブと2.02gの
蓚酸とを70℃まで加熱された50mlの水に溶解させ
て溶液Cを作成した。次いで溶液Cを溶液Bに添加し、
得られた混合物を70℃にて15分間加熱した。次いで
溶液Aを添加すると共に最終混合物を70℃にて15分
間加熱した後、混合物を2時間以内に蒸発乾固させた。
得られた触媒ケーキを磨砕し、次いで静的空気中で35
0℃のオーブンにて5時間にわたり焼成した。触媒の名
目組成はMo1.00V0.25Nb0.12Oyであ
った。
の名目組成はMo1. 00V0.25Oyであった。
0.12Pd0.01Oy) 0.23gのPd酢酸塩を溶液Aに添加した以外は比較
例Aと同様にした。触媒の名目組成はMo1.00V
0.25Nb0.12Pd0.01Oyであった。
0.12Ru0.01Oy) 0.36gのアンモニウムRu六塩化物を溶液Aに添加
した以外は比較例Aと同様にした。触媒の名目組成はM
o1.00V0.25Nb0.12Ru0.0 1Oyで
あった。
0.12Rh0.01Oy) 0.15gのRh(III)水酸化物を溶液Aに添加し
た以外は比較例Aと同様にした。触媒の名目組成はMo
1.00V0.25Nb0.12Rh0.01Oyであ
った。
0cmの寸法を有するハステロイ級C276で作成され
た固定床反応器に充填した。ガラスビーズを用いて触媒
を反応器の中心位置に維持した。触媒の上方にてガラス
ビーズは気体および液体の各試薬の混合および予備加熱
帯域として作用した。次いで試験装置をヘリウムにより
21バールにて圧力試験し、漏れを点検した。次いで触
媒を反応圧力まで5℃/minにてヘリウム中で16時
間にわたり加熱することにより活性化させて、触媒先駆
体の完全分解を確保した。
タンとヘリウム中の20%酸素と水との所要の流れを反
応器に導入して、42%v/vのエタン、6.6%の酸
素、25%v/vのヘリウムおよび26.4%v/vの
水(水蒸気として)の入口組成を確保した。全供給物流
量を、約3000/hの供給物GHSVを確保するレベ
ルに維持した。実施例3の場合、実施例1および2より
も低い供給物における水で性能を測定し、エチレンを5
2%v/vのエタンと5%v/vのエチレンと6.6%
の酸素と10%v/vの水と残部のヘリウムとの入口供
給組成物が使用されるよう供給混合物に添加した。
料を出口流から抜き取ってエタン、酸素およびヘリウム
につきGC(モデル・ユニカム4400)を検量した。
次いで反応器の設定点温度を75〜100%の酸素変換
率が達成されるまで上昇させ、これは2.2%v/v未
満の酸素の出口流における存在により示された。
下で典型的には4〜5時間にわたり評価した。出口ガス
容積を試験期間にわたり水−ガスメータにより測定し
た。液体生成物を回収し、試験期間の後に秤量した。ガ
ス生成物および液体生成物の組成をGC分析(それぞれ
TCDおよびFID検出器を装着したユニカム4400
および4200)を用いて測定した。
をスプレッドシートに入力し、次のパラメータをAcO
Hが酢酸を示す次式に従って計算した: STY(空時収率)%=(gAcOH)/リットル触媒
床/hr変換率: エタン=(入口モルエタン−出口モルエタン)/入口モ
ルエタン*100 酸素=(入口モル酸素−出口モル酸素)/入口モル酸素
*100選択率: AcOH(C−モル%)=(出口モルAcOH*2)/
(変換モルエタン*2)*100 エチレン(C−モル%)=(出口モルエチレン*2)/
(変換モルエタン*2)*100 CO(C−モル%)=(出口モルCO)/(変換モルエ
タン*2)*100 CO2(C−モル%)=(出口モルCO2)/(変換モ
ルエタン*2)*100 COx=CO(C−モル%)への変換率+CO2(C−
モル%)への選択率。
素バランスは100+/−5%であると判明した。
下表に示した標準条件下で評価し、ただし温度を70〜
90%酸素変換率を達成するよう変化させて比較を容易
化させた。
物触媒に対する金の促進効果を明らかに示す。さらに表
における結果は、本発明による金促進触媒の性能がモリ
ブデンとバナジウムとニオブとのモル比および金含有量
により影響を受けると共に反応条件によっても影響を受
けることを示す。
Claims (9)
- 【請求項1】 エタンからエチレンおよび/または酢酸
への酸化およびエチレンから酢酸への酸化のための触媒
組成物において、酸素と組み合わせて元素モリブデン、
バナジウム、ニオブおよび金をパラジウムの不存在下に
実験式:Mo aWbAucVdNbeYf(I) [式中、YはCr、Mn、Ta、Ti、B、Al、G
a、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、R
h、Ir、Cu、Ag、Fe、Ru、Os、K、Rb、
Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Zr、Hf、Ni、
P、Pb、Sb、Si、Sn、Tl、U、Re、Te、
LaおよびPdよりなる群から選択される1種もしくは
それ以上の元素であり;a、b、c、d、eおよびfは 0<a≦1;0≦b<1およびa+b=1; 10−5<c≦0.02; 0<d≦2; 0<e≦1;および 0≦f≦2 となるような各元素のグラム原子比を示す]に従って含
むことを特徴とする触媒組成物。 - 【請求項2】 式IがMoaWbAucVdNb
eYf;MoaAucVdNbeYf;MoaWbAu
cVdNbeおよびMoaAucVdNbeよりなる群
から選択される請求項1に記載の触媒組成物。 - 【請求項3】 a>0.01および/またはd>0.1
および/またはe>0.01および/またはe≦0.5
および/またはf≧0.01および/またはf≦0.5
である請求項1または2に記載の触媒組成物。 - 【請求項4】 YがBi、Ca、Ce、Cu、K、P、
Sb、LaおよびTeよりなる群から選択される請求項
1〜3のいずれか一項に記載の触媒組成物。 - 【請求項5】 Mo1.00V0.25Nb0.12A
u0.01Oy;Mo1.00V0.213Nb
0.138Au0.007Oy;Mo1.00V0
.232Nb0.139Au0.007Oy;およびM
o1.000V0.42 6Nb0.115Au
0.0008Oy[ここでyは酸素につき組成物中の各
元素の原子価を満たす数である]よりなる群から式を有
する請求項1に記載の触媒組成物。 - 【請求項6】 エタンからエチレンおよび/または酢酸
へのおよび/またはエチレンから酢酸への酸化方法にお
いて、エタンおよび/またはエチレンを含むガス混合物
を高められた温度にて請求項1〜5のいずれか一項に記
載の触媒組成物の存在下に分子状酸素含有ガスと接触さ
せることを特徴とする酸化方法。 - 【請求項7】 エタンおよび必要に応じエチレンをエチ
レンと酢酸とからなる混合物まで酸化する請求項6に記
載の方法。 - 【請求項8】 エチレンと酢酸とからなる混合物を、酢
酸および/またはエチレンの添加もしくは除去と共にま
たはそれなしに、分子状酸素含有ガスとさらに反応させ
て酢酸ビニルを生成させる請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 触媒を流動床として使用する請求項6〜
8のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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