JP2000285426A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法、並びに薄膜磁気ヘッドを用いた回転ヘッド組立体 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法、並びに薄膜磁気ヘッドを用いた回転ヘッド組立体

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JP2000285426A
JP2000285426A JP11083701A JP8370199A JP2000285426A JP 2000285426 A JP2000285426 A JP 2000285426A JP 11083701 A JP11083701 A JP 11083701A JP 8370199 A JP8370199 A JP 8370199A JP 2000285426 A JP2000285426 A JP 2000285426A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＭＲヘッド及びインダクティブヘッドを有
し、磁気ギャップにアジマス角が設けられ、磁気テープ
を用いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に使
用される薄膜磁気ヘッド及びその製造方法、並びに薄膜
磁気ヘッドを用いた回転ヘッド組立体を提供する。 【解決手段】 相対向された２つの平面１ａと、平面１
ａとそれぞれ交わる相対向された２つの側面１ｂと、平
面１ａ及び側面１ｂの一端部に設けられたテープ摺動面
１ｃとを有する基板１の１つの側面１ｂ上に、誘導型磁
気ヘッド２ｂの磁気ギャップＧｂ及び磁気抵抗効果型磁
気ヘッド２ａの磁気抵抗効果素子Ｇａのうち少なくとも
一方がテープ摺動面１ｃ側に露出された状態で積層され
たヘッド素子部２、及びヘッド素子部２に接続されたボ
ンディングパッド３が設けられ、ヘッド素子部２及びボ
ンディングパッド３が設けられた１つの側面１ｂと、１
つの平面１ａとで形成される角度がアジマス角を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録再生装置
用の回転ヘッド組立体及びその製造方法に係り、特に磁
気テープを用いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再生
装置に使用される薄膜磁気ヘッド及びその製造方法、並
びに薄膜磁気ヘッドを用いた回転ヘッド組立体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来のヘリカルスキャン方式の
磁気記録再生装置の説明図であり、同図Ａは、回転ドラ
ムの斜視図であり、同図Ｂは、磁気テープへの記録を説
明する概略図である。また、図６は、従来のヘリカルス
キャン方式の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッド
の斜視図であり、同図Ａは、ＭＩＧヘッドの斜視図であ
り、同図Ｂは、積層型ヘッドの斜視図である。また、図
７は、従来の磁気ヘッドをベースに取り付けた時の斜視
図であり、同図Ａは、一つのＭＩＧヘッドにより構成さ
れたシングルヘッドであり、同図Ｂは、二つのＭＩＧヘ
ッドにより構成されたコンビネーションヘッドである。
また、図８は、ハードディスク装置等の磁気記録再生装
置で用いられている薄膜磁気ヘッドの説明図であり、同
図Ａは、薄膜磁気ヘッドの斜視図であり、同図Ｂは、同
図Ａの要部平面図である。また、図９は、図８の薄膜磁
気ヘッドをヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に
適用した場合の回転ヘッド組立体の説明図であり、同図
Ａは、薄膜磁気ヘッドをベースに取り付けたときの斜視
図であり、同図Ｂは、薄膜磁気ヘッドを回転ドラムに取
り付けたときの側面図であり、同図Ｃは、薄膜磁気ヘッ
ドによる磁気テープへの記録を説明する概略図である。
また、図１０は、図８の回転ヘッド組立体を回転ドラム
に取り付けたとき側面図であり、同図Ａは、ベースを傾
斜させて取り付けたときの側面図であり、同図Ｂは、薄
膜磁気ヘッドのベースへの取付面を傾斜させた時の側面
図である。
【０００３】ＶＴＲやコンピュータ用データ記録再生装
置等の、磁気記録媒体として磁気テープを用いた磁気記
録再生装置では、ヘリカルスキャン方式による記録再生
が行われている。このヘリカルスキャン方式による記録
・再生では、磁気テープの走行方向に対して磁気ヘッド
の磁気ギャップの軌跡（トラック）が斜め方向にされる
とともに、磁気ヘッドの磁気ギャップがトラックの幅方
向に対して所定の角度（アジマス角）だけ傾けられた、
いわゆるアジマス記録・再生が行われている。
【０００４】一般的なヘリカルスキャン方式の磁気記録
再生装置では、記録密度やデータの転送レートを向上す
るために複数のヘッドが用いられ、例えば、図５Ａに示
すように回転ドラムＤの対向する位置に２組の磁気ヘッ
ドＨ１、Ｈ２が配設されているものなどがある。磁気ヘ
ッドＨ１、Ｈ２は、１つの記録ヘッドにより記録された
トラックを１つの再生ヘッドにより再生する「シングル
ヘッド」や、記録ヘッドと再生ヘッドとをそれぞれ２つ
ずつ用いる「コンビネーションヘッド」等がある。どち
らの場合にも、回転ドラムＤが駆動して磁気ヘッドＨ１
又はＨ２のいずれか一方が磁気テープＴｐに記録する際
には、記録するトラックは他方の磁気ヘッドにより直前
に記録された別のトラックの一部領域に重複するように
される、いわゆるガードバンドレス方式による記録が行
われる。例えば、図中５Ｂに示すように、トラックＴ１
が記録された後に、トラックＴ１の上端の一部領域に重
複してトラックＴ２が記録される。
【０００５】「シングルヘッド」及び「コンビネーショ
ンヘッド」は、共にそれぞれの磁気ヘッドＨ１、Ｈ２の
各磁気ギャップＧ１、Ｇ２のアジマス角θ１、θ２は、
図５Ｂに示したように、それぞれ互いに逆向きに傾けら
れているダブルアジマス方式のがとられている。これ
は、磁気ヘッドＨ１により再生するトラックＴ１は、磁
気ヘッドＨ２により記録された隣接する別のトラックＴ
２と重複された領域があるものの、トラックＴ１のアジ
マス角θ１とトラックＴ２のアジマス角θ２とが異なる
ことに基づくアジマス損失を利用して、隣接するトラッ
クＴ２とのクロストークを除去するためである。また、
磁気ヘッドＨ２によるトラックＴ２の再生時にも、同様
にアジマス損失により隣接するトラックＴ１とのクロス
トークが除去される。
【０００６】ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置
に用いられる磁気ヘッドとしては、従来より図６Ａに示
すようなＭＩＧ（Metal-In-Gap）ヘッドや、図６Ｂに示
すような積層型ヘッド等が用いられている。図６Ａに示
したＭＩＧヘッドは、フェライト等の磁性材料からなる
コア５１と、コア５１の突き合わせ面に設けられた金属
磁性材料からなる薄膜５２と、コア５１の胴部に巻回さ
れたコイル５３とにより構成された２つの半体Ｈｍ１、
Ｈｍ２を突き合わせ、薄膜５２が設けられた面にガラス
等の非磁性材料を介在させて磁気ギャップＧｍが形成さ
れてなるものである。また、図６Ｂに示した積層型ヘッ
ドは、結晶化ガラス等の非磁性材料からなる２つの基板
５４と、２つの基板５４の間に介在され、磁性材料と非
磁性材料とが複数積層された積層膜５５と、それぞれの
胴部に巻回されたコイル５３とにより構成された２つの
半体Ｈｐ１、Ｈｐ２を突き合わせ、突き合わせ面にガラ
ス等の非磁性材料を介在させて磁気ギャップＧｐが形成
されてなるものである。
【０００７】図６Ａに示したＭＩＧヘッドでは、それぞ
れ半体Ｈｍ１、Ｈｍ２の突き合わせ面を研削加工し、磁
気ギャップＧｍの幅を所望の微小な幅に形成して、記録
・再生のトラック幅としている。半体Ｈｍ１、Ｈｍ２
は、それぞれの突き合わせ面をトラック幅方向に対して
傾斜させて研磨した後に突き合わせて、磁気ギャップＧ
ｍにアジマス角θｍが設けられている。また、図６Ｂに
示した積層型ヘッドでは、トラック幅は積層膜５５の厚
さで決定されているため、ＭＩＧヘッドＨｍのようなト
ラック幅を決定するための研削工程は必要ない。各半体
Ｈｐ１、Ｈｐ２は、その突き合わせ面をトラック幅方向
に対して傾斜させて研磨した後に突き合わせて、磁気ギ
ャップＧｐにアジマス角θｐが設けられている。ＭＩＧ
ヘッド及び積層型ヘッドは、ともにダブルアジマス方式
の場合には、アジマス角θｍ及びθｐが逆向きの異なる
２つの磁気ヘッドがそれぞれ準備される。
【０００８】ＭＩＧヘッドや積層型ヘッド等からなる磁
気ヘッドＨ１、Ｈ２は、図７に示すように、回路基板
（図示せず）が設けられたベース５６の端部に、それぞ
れ１つ又は２つ取り付けられ、コイル５３の端部と回路
基板（図示せず）とが接続される。図７Ａには１つのＭ
ＩＧヘッドにより構成されたシングルヘッドを、図７Ｂ
には２つのＭＩＧヘッドが並設されたコンビネーション
ヘッドをそれぞれ例示している。磁気ヘッドＨ１、Ｈ２
はベース５６に取り付けられ回転ヘッド組立体とされ、
コイル５３は回路基板（図示せず）を介して信号の授受
を制御する外部処理回路（図示せず）と接続されてい
る。そして、回転ヘッド組立体は、図５Ａに示したよう
に、磁気ギャップＧ１、Ｇ２が回転ドラムＤの外周面に
露出するようにして、回転ドラムＤの対向する位置に取
り付けられている。
【０００９】近年、ＶＴＲやデータ記録再生装置におい
て、磁気記録媒体への高記録密度化を実現するために、
よりトラック幅を狭くする挟トラック化や高周波化が図
られている。狭トラック化のためには、磁気ギャップの
幅を小さくする（挟ギャップ化）必要があるが、上述の
ＭＩＧヘッドでは、磁気ギャップＧｍを研削により形成
しているためにその小型化が難しく、狭トラック化に対
応できない。また、挟トラック化のためには磁気ギャッ
プＧｍを形成するための突き合わせ面に高い研磨精度が
要求されるが、微小な磁気ギャップＧｍにおける研磨精
度の向上が難しくなっている。また、高周波化に対応す
るにはインダクタンスを低くする必要があるが、ＭＩＧ
ヘッドや積層型ヘッドではインダクタンスを低くするこ
とができない。さらに、ＭＩＧヘッドや積層型ヘッドで
は、それらの再生出力は高記録密度化が図られた際に大
きくとれない欠点があった。
【００１０】ところで、ハードディスク装置等の磁気記
録再生装置においては、既に各種の薄膜磁気ヘッドが用
いられている。一般的に用いられている薄膜磁気ヘッド
としては、主に記録用の誘導型磁気ヘッド（インダクテ
ィブヘッド）と、再生用の磁気抵抗効果（Magneto Resi
stive）型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）があり、これらを
積層した複合型薄膜磁気ヘッドが多用されている。ハー
ドディスク装置等の磁気記録再生装置において用いられ
ている薄膜磁気ヘッド６１は、図８Ａ及び図８Ｂに示す
ように、アルミナ・チタンカーバイド（Ａｌ2Ｏ3・Ｔｉ
Ｃ）等のセラミックス材からなるウェハを切り出したス
ライダ６２の側面に、ＭＲヘッド６３ａと、その上に積
層されたインダクティブヘッド６３ｂとで構成されたヘ
ッド素子部６３、及びＭＲヘッド６３ａやインダクティ
ブヘッド６３ｂと接続されたボンディングパッド６４が
設けられてなる。ＭＲヘッド６３ａは、ＭＲ層６３ａ１
と、その上層に設けられた上部ギャップ層６３ａ２と、
スライダ６２側の下層に設けられた下部ギャップ層６３
ａ３とを有し、これらの３層を合わせた膜厚によって磁
気抵抗効果素子（ＭＲ素子）Ｇａが設定される。また、
インダクティブヘッド６３ｂは、上部コア層６３ｂ１
と、下部コア層６３ｂ２とを有し、これらの間に介在さ
れた非磁性材料層６３ｂ３の膜厚により記録の磁気ギャ
ップＧｂが設定される。また、スライダ６２の上面に露
出されたＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧｂは、積層構
造であるので平行とされている。また、スライダ６２の
側面に設けられた４つのボンディングパッド６４は、４
つの引き出し線（図示せず）により、ＭＲヘッド６３ａ
のＭＲ層６３ａ１及びインダクティブヘッド６３ｂのコ
イル（図示せず）にそれぞれ接続されている。
【００１１】このような薄膜磁気ヘッドは、薄膜形成プ
ロセスにより一度に大量生産でき、得られた薄膜磁気ヘ
ッドは小型であり、且つ記録・再生が高精度なものとな
る利点を有する。また、薄膜磁気ヘッドは、狭トラック
化のための狭ギャップ化等の微細寸法化に容易に対応で
き、高記録密度化を実現できる。また、特にＭＲヘッド
に関しては、磁気記録媒体の相対速度に依存せず、信号
磁界に直接応答でき、高再生出力が可能であるととも
に、インダクタンスがＭＩＧヘッドや積層型ヘッド等に
比べて格段に低いため、高周波化に対応できる。このよ
うに従来の磁気ヘッドの問題点を解消できるため、薄膜
磁気記録ヘッドを回転ヘッドに搭載して、磁気テープを
用いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に適用
することが望まれていた。
【００１２】薄膜磁気ヘッド６１を、磁気テープを用い
たヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に適用する
には、例えば図９Ａに示すようなＭＲ素子Ｇａ及び磁気
ギャップＧｂを側部に設けた薄膜磁気ヘッド６１とし、
ベース６５に取り付け、外部処理回路と接続されたフレ
キシブルプリント配線基板等の回路基板６６を同じ面上
に設け、その端子部６６ａとボンディングパッド６４と
を、ボールボンディング法で形成されたボール６７によ
り接続して構成した回転ヘッド組立体を、図９Ｂに示す
ように、ＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧｂが回転ドラ
ムＤの外周面に向くようにして、回転ドラムＤの対向す
る位置に取り付けることによる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】このような薄膜磁気ヘ
ッド６１を用いて磁気テープの記録・再生を行う際に
も、アジマス記録・再生が欠かせないため、ＭＲ素子Ｇ
ａ及び磁気ギャップＧｂをトラック幅方向に対して所定
のアジマス角だけ傾けておく必要がある。しかし、前述
のハードディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッドを
そのまま適用すると、図９Ｂに示したように、ＭＲ素子
Ｇａ及び磁気ギャップＧｂはベース６５の取付面と垂直
になり、図９Ｃに示すように薄膜磁気ヘッド６１による
記録・再生時には、トラックＴに対して垂直となり、ア
ジマス角が０°となる。これは、薄膜磁気ヘッド６１は
平板なウェハの上面に順次積層する製造プロセスにより
得られるので、ウェハの上面であるスライダ６２の端面
上にＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧｂを所望のアジマ
ス角だけ正確に傾斜させて製造することが困難であるた
めである。
【００１４】薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップにアジマス
角を設ける場合、図１０Ａに示すように、薄膜磁気ヘッ
ド６１を取り付けたベース６５を、回転ドラムＤに所望
のアジマス角だけ適宜手段により傾斜させて取り付ける
ことが考えられる。あるいは、図１０Ｂに示すように、
ベース６５の回転ドラムＤへの取付面（薄膜磁気ヘッド
６１が取り付けられた面の反対側の面）に研磨加工を施
して傾斜させ、所望のアジマス角だけ傾斜させることが
考えられる。
【００１５】しかし、図１０Ａに示す手段では、個々の
薄膜磁気ヘッド６１のＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧ
ｂのアジマス角や、回転ドラムＤに対する取り付け位置
は正確である必要があり、ベース６５を傾斜させて取り
付ける手段では、傾斜角度やＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャ
ップＧｂの取り付け位置を高い精度で再現するのは非常
に困難である。
【００１６】また、図１０Ｂに示す研磨により傾斜を形
成する手段では、工程数が増えて煩雑になると共に、傾
斜角度を高い精度の再現するのは非常に困難である。ま
た、狭トラック化及び高周波化に伴い、クロストークを
防ぐためにアジマス角はより厳密に制御される必要があ
るため、これらの手段で対応することは非常に困難であ
る。
【００１７】本発明が解決しようとする課題は、ＭＲヘ
ッド及びインダクティブヘッドを有し、磁気ギャップに
アジマス角が設けられ、磁気テープを用いたヘリカルス
キャン方式の磁気記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘ
ッド及びその製造方法、並びに薄膜磁気ヘッドを用いた
回転ヘッド組立体を提供することである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の解決手段として、本発明の薄膜磁気ヘッドは、相対向
された２つの平面と、該平面とそれぞれ交わる相対向さ
れた２つの側面と、前記平面及び前記側面の一端部に設
けられたテープ摺動面とを有する基板の１つの前記側面
上に、誘導型磁気ヘッドの磁気ギャップ及び磁気抵抗効
果型磁気ヘッドの磁気抵抗効果素子のうち少なくとも一
方が前記テープ摺動面側に露出された状態で積層された
ヘッド素子部、及び前記ヘッド素子部に接続されたボン
ディングパッドが設けられ、前記ヘッド素子部及び前記
ボンディングパッドが設けられた１つの前記側面と、１
つの前記平面とで形成される角度がアジマス角を成す構
成とした。
【００１９】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、前記基
板の２つの前記平面及び２つの前記側面が、それぞれ平
行とされた構成とした。
【００２０】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、前記ヘ
ッド素子部を覆うように貼り合わされ前記ヘッド素子部
を保護する保護板が設けられた構成とした。
【００２１】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、平
板状のウェハ上に誘導型磁気ヘッド及び磁気抵抗効果型
磁気ヘッドのうち少なくとも１つを積層して複数のヘッ
ド素子部を形成して、該ヘッド素子部に接続させた複数
組のボンディングパッドを形成し、次に、前記ヘッド素
子部の磁気ギャップを同じ端面に露出させて前記ウェハ
を切り出して、複数組の前記ヘッド素子部及び前記ボン
ディングパッドが並列されたバーを形成し、次に、該バ
ーの複数の前記ヘッド素子部上を跨って覆うように棒状
の非磁性材料からなる保護部材を貼り合わせ、次に、各
々の前記ヘッド素子部及び前記ボンディングパッドごと
に前記バーと前記保護部材とを一体に切断して、１組の
前記ヘッド素子部を介在する基板と保護板とにそれぞれ
形成し、切断された面と前記ヘッド素子部が設けられた
面とが形成する角度を所望のアジマス角とする構成とし
た。
【００２２】本発明の回転ヘッド組立体は、前記薄膜磁
気ヘッドの１つの前記平面が、板状部材からなるベース
の上面に接するように載置され、前記ヘッド素子部及び
前記ボンディングパッドが設けられた１つの前記側面
と、前記ベースの上面とで形成される角度により、アジ
マス角が定められた構成とした。
【００２３】また、本発明の回転ヘッド組立体は、前記
ヘッド素子部及び前記ボンディングパッドが設けられた
１つの前記側面と前記ベースとで形成され、前記ヘッド
素子部及び前記ボンディングパッドが設けられた側の角
度が、鈍角となるようにした構成とした。
【００２４】また、本発明の回転ヘッド組立体は、前記
薄膜磁気ヘッドの１つの前記平面が、板状部材からなる
ベースの上面に接するようにして並列して２つ載置さ
れ、前記ヘッド素子部及び前記ボンディングパッドが設
けられた１つの前記側面と、前記ベースの上面とで形成
される角度により、２つの前記薄膜磁気ヘッドのアジマ
ス角が各々定められる構成とした。
【００２５】また、本発明の回転ヘッド組立体は、１つ
の前記薄膜磁気ヘッドの、前記ヘッド素子部及び前記ボ
ンディングパッドが設けられた１つの前記側面が、他の
前記薄膜磁気ヘッドの前記側面と対向しないようにして
前記ベースに載置されてなる構成とした。
【００２６】また、本発明の回転ヘッド組立体は、１つ
の前記薄膜磁気ヘッドの前記ヘッド素子部及び前記ボン
ディングパッドが設けられた１つの前記側面と、他の前
記薄膜磁気ヘッドの前記ヘッド素子部及び前記ボンディ
ングパッドが設けられた１つの前記側面とが、対向する
ようにして前記ベースに載置され、各々の前記ヘッド素
子部及び前記ボンディングパッドが設けられた１つの前
記側面と前記ベースとで形成され、前記ヘッド素子部及
び前記ボンディングパッドが設けられた側の角度が、そ
れぞれ鈍角となるようにした構成とした。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の薄膜磁気ヘッド
及びその製造方法、並びに薄膜磁気ヘッドを用いた回転
ヘッド組立体の実施の形態について説明する。図１は、
本発明の薄膜磁気ヘッドの説明図であり、同図Ａは、薄
膜磁気ヘッドの斜視図であり、同図Ｂは、同図Ａの要部
斜視図であり、同図Ｃは、同図Ａの要部平面図である。
また、図２は、本発明の薄膜磁気ヘッドを用いた回転ヘ
ッド組立体の取り付け説明図であり、同図Ａは、本発明
の薄膜磁気ヘッドをベースに取り付けた回転ヘッド組立
体の斜視図であり、同図Ｂは、本発明の回転ヘッド組立
体を回転ドラムに取り付けたときの側面図である。ま
た、図３は、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の工程
説明図である。また、図４は、本発明の薄膜磁気ヘッド
を用いてダブルアジマス方式の回転ヘッド組立体を構成
したときの斜視図であり、同図Ａは、２つの薄膜磁気ヘ
ッドのうち、１つの薄膜磁気ヘッドのヘッド素子部が設
けられた側面と、回路基板とにより形成される角度が９
０°未満である組み合わせであり、同図Ｂ、２つの薄膜
磁気ヘッドのヘッド素子部が設けられた側面と、回路基
板とにより形成される角度が共に９０°を超える角度を
有し、各側面が対向しない状態の組み合わせであり、同
図Ｃは、２つの薄膜磁気ヘッドのヘッド素子部が設けら
れた側面と、回路基板とにより形成される角度が共に９
０°を超える角度を有し、各側面が対向する状態の組み
合わせである。
【００２８】薄膜磁気ヘッドは、図１Ａ及び図１Ｂに示
すように、アルミナチタンカーバイド（Ａｌ2Ｏ3・Ｔｉ
Ｃ）等の非磁性材料からなる基板１は、相対向する平行
な２つの平面１ａと、平面１ａに交わり、相対向する平
行な２つの側面１ｂと、平面１ａ及び側面１ｂの端部に
設けられ、なだらかな形状となるように円筒面状に形成
されたテープ摺動面１ｃと、テープ摺動面１ｃと相対向
する位置に設けられた端面１ｄとからなり、長手方向と
直交する面の断面が平行四辺形である四角柱状をなして
いる。また、基板１の平面１ａと側面１ｂとがなす角度
（即ち断面である平行四辺形の内角）と鉛直方向との角
度の差がアジマス角θｘとなるように形成されている。
【００２９】また、図１Ｂ及び図１Ｃに示すように、薄
膜形成プロセスで形成されたヘッド素子部２は、基板１
の側面１ｂに設けられた再生用のＭＲヘッド２ａと、そ
の上に積層された記録用のインダクティブヘッド２ｂと
からなる。ＭＲヘッド２ａは、ＭＲ層２ａ１と、その上
層に設けられた上部ギャップ層２ａ２と、基板１側の下
層に設けられた下部ギャップ層２ａ３とを有し、これら
の３層を合わせた膜厚によってＭＲ素子Ｇａが設定され
る。また、インダクティブヘッド２ｂは、上部コア層２
ｂ１と、下部コア層２ｂ２と、コイル（図示せず）とを
有し、これらの間に介在された非磁性材料層２ｂ３の膜
厚により記録の磁気ギャップＧｂが設定される。また、
ＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧｂの長手方向の長さに
よりトラック幅が設定される。また、ＭＲ素子Ｇａ及び
磁気ギャップＧｂは、基板１のテープ摺動面１ｃと同じ
面位置で露出されている。尚、図１Ｃ中では、ＭＲヘッ
ド２ａのＭＲ素子Ｇａとインダクティブヘッド２ｂの磁
気ギャップＧｂとは、便宜的に同等に描いているが、実
際にはＭＲ層２ａ１の膜厚が非常に小さいため、ＭＲ素
子Ｇａはより薄いものとなっている。
【００３０】また、基板１の側面１ｂ側に設けられた４
つのボンディングパッド３は、４つの引き出し線（図示
せず）により、ＭＲヘッド２ａのＭＲ層２ａ１及びイン
ダクティブヘッド２ｂのコイル（図示せず）にそれぞれ
接続されている。
【００３１】また、アルミナチタンカーバイド等の非磁
性材料からなる保護板４は、数十μｍの厚さの非常に薄
いヘッド素子部２が磁気テープの摺動により過剰に磨耗
したり破損したりするのを防止し、保護するために設け
られている。保護板４は、図１Ａに示したように、ヘッ
ド素子部２を覆い、４つのボンディングパッド３を露出
するようにして、樹脂からなる接着剤やガラス融着等の
適宜手段により貼り合わされている。また、テープ摺動
面４ａは、基板１のテープ摺動面１ｃ、ＭＲ素子Ｇａ及
び磁気ギャップＧｂが露出された面となだらかに連なる
円筒面状に形成されている。また、保護板４の２つの平
面４ｂは、基板１の平面１ａと同一面となるように形成
されている。このようにして、略Ｌ字状とされた薄膜磁
気ヘッドＨ１が構成されている。
【００３２】このようにして構成された薄膜磁気ヘッド
Ｈ１は、ベースに取り付けられて回転ヘッド組立体が構
成される。板状部材からなるベース５は略方形状（図示
せず）を成しており、図２Ａに示すように、ヘッド取付
面（ベース５の上面）５ａには薄膜磁気ヘッドＨ１が配
設され、接着剤やネジ止め等の適宜手段で固着されてい
る（図中には、保護板４を点線で示している）。また、
絶縁材料に配線が施されたフレキシブルプリント配線
（ＦＰＣ）基板等の回路基板６は、ベース５の薄膜磁気
ヘッドＨ１が配設されたヘッド取付面５ａに配設され、
設けられた４つの端子部６ａは、薄膜磁気ヘッドＨ１の
４つのボンディングパッド３にそれぞれ近接されてい
る。この際、薄膜磁気ヘッドＨ１の４つのボンディング
パッド３が設けられた側面１ｂと回路基板６とが成す取
付角αｘは、鈍角（９０°を越える角）であるように配
設されている。そして、４つのボンディングパッド３と
４つの端子部６ａとは、それぞれボールボンディング法
により形成された導電性材料からなるボール７により接
続されている。
【００３３】そして、図２Ｂに示すように、図２Ａに示
したベース５に薄膜磁気ヘッドＨ１が配設された回転ヘ
ッド組立体は、ヘッド取付面５ａと対向する面が回転ド
ラムＤに取り付けられている。尚、薄膜磁気ヘッドＨ１
の、ＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧｂは、回転ドラム
Ｄの外周面に向くようにして取り付けられている。この
ように、薄膜磁気ヘッドＨ１がベース５が取り付けられ
回転ヘッドに配設された状態で、ＭＲ素子Ｇａ及び磁気
ギャップＧｂのアジマス角θｘが決定されている。
【００３４】次に、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
について説明する。まず、図３Ａに示すように、アルミ
ナチタンカーバイド等の非磁性材料からなるウェハ１１
に、メッキやフォトリソグラフィ等の薄膜形成プロセス
により、ヘッド素子部２、引き出し線（図示せず）及び
４つのボンディングパッド３等からなる複数組の薄膜素
子Ｚを、マトリックス状に形成する。
【００３５】次に、図３Ｂに示すように、ヘッド素子部
２のＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギャップＧｂが設けられた面
が並列して露出するように、ウェハ１１を切断してバー
１２を形成する。尚、図中の点線は、各ユニットごとの
薄膜素子Ｚの領域の境界を示すものである。
【００３６】次に、図３Ｃに示すように、アルミナチタ
ンカーバイド等の非磁性材料からなる角材状の保護部材
１３を、複数のヘッド素子部２に跨って覆い、４つのボ
ンディングパッド３は露出するようにして、樹脂からな
る接着剤やガラス融着等の適宜手段により貼り合わせ
る。
【００３７】次に、図３Ｄに示すように、バー１２を保
護部材１３と共に、各薄膜素子Ｚごとに切断する。この
時の切断方向は、図中に点線で示した薄膜素子Ｚの各ユ
ニットごとの境界に沿って切断するのではなく、図中に
実線で示したように境界から所定の角度（アジマス角θ
ｘ）だけ傾けて切断する。この切断面は基板１及び保護
板４のそれぞれの平面１ａ、４ｂとなり、基板１の薄膜
素子Ｚが設けられた面は側面１ｂとなる。このように、
バー１２の状態から切断するだけでＭＲ素子Ｇａ及び磁
気ギャップＧｂのアジマス角θｘが高精度に決定され
る。ここで、必要に応じて、平面１ａ及び側面１ｂ（ヘ
ッド素子部２及びボンディングパッド３が設けられてい
ない面）の研磨を行っても良い。そして、研磨・研削工
程を経て成形することで、円筒面状になだらかなテープ
摺動面１ｃ及び４ａを有する、図１Ａに示したような薄
膜磁気ヘッドＨ１が得られる。
【００３８】尚、図３Ｂに示した工程において、バー１
２の両端部に薄膜素子Ｚが形成されていない部分のウェ
ハ１１も残しておくことで、図３Ｃに示した切断工程で
は、端部に位置する２つの薄膜素子Ｚを破棄することな
く薄膜磁気ヘッドＨ１として使用できる。
【００３９】次に、回転ヘッド組立体を製造する。板状
部材からなるベース５の回路基板６が配設されたヘッド
取付面５ａに、４つのボンディングパッド３と４つの端
子部６ａとをそれぞれ近接させて、接着剤やネジ止め等
の適宜手段で固着する（図２Ａ参照）。この時、薄膜磁
気ヘッドＨ１の薄膜素子Ｚ（ヘッド素子部２、ボンディ
ングパッド３）が設けられた側面１ｂは、回路基板６と
成す角度（取付角）αｘが鈍角（９０°を越える角）と
なるように取り付ける。即ち、上方からボンディングパ
ッド３が確認できるように配設する。次に、ボールボン
ディング用のキャピラリ（図示せず）の先端部をボンデ
ィングパッド３と端子部６ａとの間に挿入して、ボール
７をボンディングパッド３及び端子部６ａの両者に超音
波接合して接続が完了する。
【００４０】そして、図２Ｂに示したように、薄膜磁気
ヘッドＨ１が配設されたベース５のヘッド取付面５ａと
対向する面を回転ドラムＤの下面に取り付け、磁気ギャ
ップＧａ、Ｇｂが回転ドラムＤの外周面に向くようにす
る。この際、ベース５を傾けて取り付ける必要はなく、
アジマス角θｘが設けられた薄膜磁気ヘッドＨ１の搭載
が完了する。このようにして、回転ドラムＤに取り付け
られた薄膜磁気ヘッドＨ１は、磁気テープを用いたヘリ
カルスキャン方式の磁気記録再生装置に適用することが
でき、アジマス記録・再生を行うことができる。
【００４１】尚、上述の薄膜磁気ヘッドＨ１では、再生
用のＭＲヘッド２ａと、その上に積層された記録用のイ
ンダクティブヘッド２ｂとが積層されたものを例示した
が、用途により少なくともその一方が積層されたもので
あっても良い。また、保護板４は、ヘッド素子部２を保
護するために設けているが、必要に応じて設けなくとも
良い。
【００４２】さらに、基板１はその長手方向と直交する
面の断面が平行四辺形である四角柱状をなしているもの
を示した。基板１の断面が平行四辺形である場合には上
述の薄膜磁気ヘッドの製造方法で説明したように容易に
形成されるが、基板１の平面１ａと側面１ｂとがなす角
度と鉛直方向との角度の差がアジマス角θｘとなるよう
にされたものであれば、形状は問わない。即ち、基板１
は、その長手方向と直交する面の断面が、例えば三角形
のものや多角形のものであっても良い。
【００４３】記録密度やデータの転送レートを向上する
ためにダブルアジマス方式を採用する際には、薄膜磁気
ヘッドＨ１の磁気ギャップＧａ、Ｇｂのアジマス角θｘ
と異なるアジマス角を有する別の薄膜磁気ヘッドＨ２を
準備しなければならない。この様な場合には、上述の薄
膜磁気ヘッドの製造方法の図３Ｄで示した工程で、薄膜
素子Ｚの境界から所定の角度だけ傾けて切断する際に、
その切断角度を変えるだけでアジマス角を変更できる。
例えば、薄膜磁気ヘッドＨ１のＭＲ素子Ｇａ及び磁気ギ
ャップＧｂのアジマス角θｘと同じ大きさで、逆向きな
アジマス角θｙのＭＲ素子Ｇａ’及び磁気ギャップＧ
ｂ’を有する薄膜磁気ヘッドＨ２が必要である場合、図
３Ｄ中に一点鎖線で示したような切断位置で切断するこ
とで得ることができる。
【００４４】このようにして得られた、逆向きのアジマ
ス角θｘ、θｙを有する、２つの薄膜磁気ヘッドＨ１、
Ｈ２を、１つのベース５のヘッド取付面５ａに取り付け
て回転ヘッド組立体を構成したコンビネーションヘッド
について、以下に説明する。図４Ａに示すように、それ
ぞれＬ字状の薄膜磁気ヘッドＨ１、Ｈ２を同じ向きに配
設すると、薄膜磁気ヘッドＨ２のボンディングパッド３
が設けられた側面１ｂと、回路基板６とが成す角度（取
付角）αｙが鋭角（９０°未満）となるように配設する
こともできる。しかし、近接されたボンディングパッド
３と回路基板６の端子部６ａとの間に、ボールボンディ
ング用のキャピラリの先端部が挿入しにくくなる。この
ような現象は、図４Ａに示したコンビネーションヘッド
の場合に、隣接する薄膜磁気ヘッドＨ１との距離が近い
ためにより顕著となるが、１つのベース５に１つの薄膜
磁気ヘッドＨ２が配設されるシングルヘッドの場合にも
同様である。また、ボンディングパッド３と端子部６ａ
との接合にボールボンディング法を用いた場合に限ら
ず、ワイヤボンディング法等によって接合する場合にお
いても同様である。
【００４５】そこで、より好ましくは、薄膜磁気ヘッド
Ｈ１、Ｈ２をベース５のヘッド取付面５ａに取り付ける
際に、ボンディングパッド３が設けられた側面１ｂと、
回路基板６とが成す角度（取付角）αｘ、αｙを鈍角と
なるように配設して取り付ける。例えば、図４Ｂに示す
ように、即ち、図４Ａで示した薄膜磁気ヘッドＨ２を裏
返した状態で配設し、薄膜磁気ヘッドＨ１のヘッド素子
部２及びボンディングパッド３が設けられた側面１ｂ
と、薄膜磁気ヘッドＨ２のヘッド素子部２及びボンディ
ングパッド３が設けられた側面１ｂとが対向しない状態
とする。ＭＲ素子Ｇａ’及び磁気ギャップＧｂ’のアジ
マス角θｙは、それぞれ対向する２つの平面１ａ及び４
ｂが平行であるために、裏返した状態としても変わらな
い。そして、ボールボンディング等によるボンディング
パッド３と回路基板６の端子部６ａとの接続時に、ボン
ディングパッド３と端子部６ａとの間にキャピラリの先
端部を上方から容易に挿入でき、接続を確実に行うこと
ができる。
【００４６】あるいは、図４Ｃに示すように、設計の都
合等により、膜磁気ヘッドＨ１、Ｈ２の、各々のヘッド
素子部２及びボンディングパッド３が設けられた側面１
ｂが対向する様に配設する必要がある場合にも、側面１
ｂと、回路基板６とが成す角度（取付角）αｘ、αｙを
鈍角としておくことで、各々の臆面１ｂの上方が開いた
状態となるため、ボールボンディング等によるボンディ
ングパッド３と回路基板６の端子部６ａとの接続時に、
ボンディングパッド３と端子部６ａとの間にキャピラリ
の先端部を上方から容易に挿入でき、接続を確実に行う
ことができる。
【００４７】
【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、相対
向された２つの平面と、平面とそれぞれ交わる相対向さ
れた２つの側面と、平面及び側面の一端部に設けられた
テープ摺動面とを有する基板の１つの側面上に、誘導型
磁気ヘッドの磁気ギャップ及び磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ドの磁気抵抗効果素子のうち少なくとも一方がテープ摺
動面側に露出された状態で積層されたヘッド素子部、及
びヘッド素子部に接続されたボンディングパッドが設け
られ、ヘッド素子部及びボンディングパッドが設けられ
た１つの側面と、１つの平面とで形成される角度がアジ
マス角を成すことにより、磁気ギャップが所定のアジマ
ス角だけ傾けられた薄膜磁気ヘッドとでき、所定のアジ
マス角を精度高く、且つ容易に再現されたものを得るこ
とができる。
【００４８】また、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、
基板の２つの平面及び２つの側面が、それぞれ平行とさ
れたことにより、磁気ギャップが所定のアジマス角だけ
傾けられた薄膜磁気ヘッドを容易に形成することができ
る。
【００４９】また、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、
ヘッド素子部を覆うように貼り合わされヘッド素子部を
保護する保護板が設けられたことにより、厚さの非常に
薄いヘッド素子部が磁気テープの摺動により過剰に磨耗
したり破損したりするのを防止し、保護することができ
る。
【００５０】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
によれば、平板状のウェハ上に誘導型磁気ヘッド及び磁
気抵抗効果型磁気ヘッドのうち少なくとも１つを積層し
て複数のヘッド素子部を形成して、ヘッド素子部に接続
させた複数組のボンディングパッドを形成し、次に、ヘ
ッド素子部の磁気ギャップを同じ端面に露出させてウェ
ハを切り出して、複数組のヘッド素子部及びボンディン
グパッドが並列されたバーを形成し、次に、バーの複数
のヘッド素子部上を跨って覆うように棒状の非磁性材料
からなる保護部材を貼り合わせ、次に、各々のヘッド素
子部及びボンディングパッドごとにバーと保護部材とを
一体に切断して、１組のヘッド素子部を介在する基板と
保護板とにそれぞれ形成し、切断された面とヘッド素子
部が設けられた面とが形成する角度を所望のアジマス角
とすることにより、磁気ギャップが所定のアジマス角だ
け傾けられた薄膜磁気ヘッドを容易に形成することがで
きる。
【００５１】また、本発明の回転ヘッド組立体によれ
ば、薄膜磁気ヘッドの１つの平面が、板状部材からなる
ベースの上面に接するように載置され、ヘッド素子部及
びボンディングパッドが設けられた１つの側面と、ベー
スの上面とで形成される角度により、アジマス角が定め
られたことにより、回転ヘッド組立体が回転ドラムに取
り付けられた状態で、磁気ギャップが所定のアジマス角
だけ傾けられた磁気ヘッドとでき、所定のアジマス角を
精度高く、且つ容易に再現されたものを得ることができ
る。
【００５２】また、本発明の回転ヘッド組立体によれ
ば、ヘッド素子部及びボンディングパッドが設けられた
１つの側面とベースとで形成され、ヘッド素子部及びボ
ンディングパッドが設けられた側の角度が、鈍角となる
ようにしたことにより、ボンディングパッドと端子部と
をボールボンディング法等により接続する際に接合作業
が容易に行われ、得られた薄膜磁気ヘッドは、ボンディ
ングパッドと端子部とが確実に接合された磁気ヘッドを
得ることができる。
【００５３】また、本発明の回転ヘッド組立体によれ
ば、薄膜磁気ヘッドの１つの平面が、板状部材からなる
ベースの上面に接するようにして並列して２つ載置さ
れ、ヘッド素子部及びボンディングパッドが設けられた
１つの側面と、ベースの上面とで形成される角度によ
り、２つの薄膜磁気ヘッドのアジマス角が各々定められ
ることにより、回転ヘッド組立体が回転ドラムに取り付
けられた状態で、磁気ギャップが所定のアジマス角だけ
傾けられたダブルアジマス方式の磁気ヘッドとでき、所
定のアジマス角を精度高く、且つ容易に再現されたもの
を得ることができる。
【００５４】また、本発明の回転ヘッド組立体によれ
ば、１つの薄膜磁気ヘッドの、ヘッド素子部及びボンデ
ィングパッドが設けられた１つの側面が、他の薄膜磁気
ヘッドの側面と対向しないようにしてベースに載置され
てなることにより、ダブルアジマス方式の回転ヘッド組
立体において、ボンディングパッドと端子部とをボール
ボンディング法等により接続する際に接合作業が容易に
行われ、得られた薄膜磁気ヘッドは、ボンディングパッ
ドと端子部とが確実に接合された磁気ヘッドを得ること
ができる。
【００５５】また、本発明の回転ヘッド組立体によれ
ば、１つの薄膜磁気ヘッドのヘッド素子部及びボンディ
ングパッドが設けられた１つの側面と、他の薄膜磁気ヘ
ッドのヘッド素子部及びボンディングパッドが設けられ
た１つの側面とが、対向するようにしてベースに載置さ
れ、各々のヘッド素子部及びボンディングパッドが設け
られた１つの側面とベースとで形成され、ヘッド素子部
及びボンディングパッドが設けられた側の角度が、それ
ぞれ鈍角となるようにしたことにより、ダブルアジマス
方式の回転ヘッド組立体において、ボンディングパッド
と端子部とをボールボンディング法等により接続する際
に接合作業が容易に行われ、得られた薄膜磁気ヘッド
は、ボンディングパッドと端子部とが確実に接合された
磁気ヘッドを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの説明図である。
【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドを用いた回転ヘッド組
立体の取り付け説明図である。
【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の工程説明
図である。
【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドを用いてダブルアジマ
ス方式の回転ヘッド組立体を構成したときの斜視図であ
る。
【図５】従来のヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装
置の説明図である。
【図６】従来のヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装
置に用いられる磁気ヘッドの斜視図である。
【図７】従来の磁気ヘッドをベースに取り付けた時の斜
視図である。
【図８】ハードディスク装置等の磁気記録再生装置で用
いられている薄膜磁気ヘッドの説明図である。
【図９】図８の薄膜磁気ヘッドをヘリカルスキャン方式
の磁気記録再生装置に適用した場合の回転ヘッド組立体
の説明図である。
【図１０】図８の回転ヘッド組立体を回転ドラムに取り
付けたとき側面図である。
【符号の説明】
１ 基板 １ａ 平面 １ｂ 側面 １ｃ テープ摺動面 １ｄ 端面 ２ ヘッド素子部 ２ａ 磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド） ２ａ１ ＭＲ層 ２ａ２ 上部ギャップ層 ２ａ３ 下部ギャップ層 ２ｂ 誘導型磁気ヘッド（インダクティブヘッド） ２ｂ１ 上部コア層 ２ｂ２ 下部コア層 ２ｂ３ 非磁性材料層 ３ ボンディングパッド ４ 保護板 ４ａ テープ摺動面 ４ｂ 平面 ５ ベース ５ａ ヘッド取付面 ６ 回路基板 ６ａ 端子部 ７ ボール １１ ウェハ １２ バー １３ 保護部材 θｘ、θｙ アジマス角 Ｇａ、Ｇａ’ 磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子） Ｇｂ、Ｇｂ’ 磁気ギャップ Ｈ１、Ｈ２ 磁気ヘッド αｘ、αｙ 取付角 Ｚ 薄膜素子 Ｔｐ 磁気テープ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 相対向された２つの平面と、該平面とそ
    れぞれ交わる相対向された２つの側面と、前記平面及び
    前記側面の一端部に設けられたテープ摺動面とを有する
    基板の１つの前記側面上に、誘導型磁気ヘッドの磁気ギ
    ャップ及び磁気抵抗効果型磁気ヘッドの磁気抵抗効果素
    子のうち少なくとも一方が前記テープ摺動面側に露出さ
    れた状態で積層されたヘッド素子部、及び前記ヘッド素
    子部に接続されたボンディングパッドが設けられ、前記
    ヘッド素子部及び前記ボンディングパッドが設けられた
    １つの前記側面と、１つの前記平面とで形成される角度
    がアジマス角を成すことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項２】 前記基板の２つの前記平面及び２つの前
    記側面が、それぞれ平行とされたことを特徴とする請求
    項１に記載の薄膜磁気ヘッド。
  3. 【請求項３】 前記ヘッド素子部を覆うように貼り合わ
    され前記ヘッド素子部を保護する保護板が設けられたこ
    とを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の薄膜磁気
    ヘッド。
  4. 【請求項４】 平板状のウェハ上に誘導型磁気ヘッド及
    び磁気抵抗効果型磁気ヘッドのうち少なくとも１つを積
    層して複数のヘッド素子部を形成して、該ヘッド素子部
    に接続させた複数組のボンディングパッドを形成し、次
    に、前記ヘッド素子部の磁気ギャップを同じ端面に露出
    させて前記ウェハを切り出して、複数組の前記ヘッド素
    子部及び前記ボンディングパッドが並列されたバーを形
    成し、次に、該バーの複数の前記ヘッド素子部上を跨っ
    て覆うように棒状の非磁性材料からなる保護部材を貼り
    合わせ、次に、各々の前記ヘッド素子部及び前記ボンデ
    ィングパッドごとに前記バーと前記保護部材とを一体に
    切断して、１組の前記ヘッド素子部を介在する基板と保
    護板とにそれぞれ形成し、切断された面と前記ヘッド素
    子部が設けられた面とが形成する角度を所望のアジマス
    角とすることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  5. 【請求項５】 請求項１、請求項２又は請求項３に記載
    の前記薄膜磁気ヘッドの１つの前記平面が、板状部材か
    らなるベースの上面に接するように載置され、前記ヘッ
    ド素子部及び前記ボンディングパッドが設けられた１つ
    の前記側面と、前記ベースの上面とで形成される角度に
    より、アジマス角が定められたことを特徴とする回転ヘ
    ッド組立体。
  6. 【請求項６】 前記ヘッド素子部及び前記ボンディング
    パッドが設けられた１つの前記側面と前記ベースとで形
    成され、前記ヘッド素子部及び前記ボンディングパッド
    が設けられた側の角度が、鈍角となるようにしたことを
    特徴とする請求項５に記載の回転ヘッド組立体。
  7. 【請求項７】 請求項１、請求項２又は請求項３に記載
    の前記薄膜磁気ヘッドの１つの前記平面が、板状部材か
    らなるベースの上面に接するようにして並列して２つ載
    置され、前記ヘッド素子部及び前記ボンディングパッド
    が設けられた１つの前記側面と、前記ベースの上面とで
    形成される角度により、２つの前記薄膜磁気ヘッドのア
    ジマス角が各々定められることを特徴とする回転ヘッド
    組立体。
  8. 【請求項８】 １つの前記薄膜磁気ヘッドの、前記ヘッ
    ド素子部及び前記ボンディングパッドが設けられた１つ
    の前記側面が、他の前記薄膜磁気ヘッドの前記側面と対
    向しないようにして前記ベースに載置されてなることを
    特徴とする請求項７に記載の回転ヘッド組立体。
  9. 【請求項９】 １つの前記薄膜磁気ヘッドの前記ヘッド
    素子部及び前記ボンディングパッドが設けられた１つの
    前記側面と、他の前記薄膜磁気ヘッドの前記ヘッド素子
    部及び前記ボンディングパッドが設けられた１つの前記
    側面とが、対向するようにして前記ベースに載置され、
    各々の前記ヘッド素子部及び前記ボンディングパッドが
    設けられた１つの前記側面と前記ベースとで形成され、
    前記ヘッド素子部及び前記ボンディングパッドが設けら
    れた側の角度が、それぞれ鈍角となるようにしたことを
    特徴とする請求項７に記載の回転ヘッド組立体。
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