JPH01182907A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置用の薄膜磁気
ヘッドに係υ、薄膜コイルの低抗の低減。

チップ取シの増大、及びアジマス角度の高精度化を図っ
た薄膜磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

従来のＶＴＲなどの磁気記録再生装置用の磁気ヘッドと
して、ダブルアジマスヘッドを例にとると、特開昭６１
−１５０１１３号公報に記載の様に、７エライトあるい
は磁性合金体のブロックをギャップボンディングし、ヘ
ッドベースに貼シ付け、手巻によシコイルを巻回した構
成のものがある。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記、従来技術のダブルアジマス磁気ヘッドは、ブロッ
ク状の磁気コア体よシなり磁気コア体積が大きいのと、
コイルの巻回の半径が大きくなることから、２個のヘッ
ド間の磁束の洩れが大きく、クロストークが大きいとい
う問題がある。

また、上記の様に、磁気コア体積、コイル巻回の半径が
大きいことから、ヘッドのインダクタン。

スが増大し、単位インダクタンス当シのヘッド出力（ヘ
ッド効率）の観点から見た場合でも、必らずしも充分な
ヘッド効率が得られていない。

上記のクロストークおよびヘッド効率を改良したものと
して、磁気コア体積およびコイル巻回半径の小さい薄膜
磁気ヘッドがあるが、ＶＴＲに用いた場合に想定される
薄膜コイルのインピーダンスノイズ、素子取り効率、ア
ジマス角度の精度等を考慮したヘッド形状についての従
来例は見あたらない。

本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、薄膜
コイルのインピーダンスノイズ、素子取り効率、アジマ
ス角度の精度を考慮した最適ヘッド形状のＶＴＲ用薄膜
磁気ヘッドを提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、基板上に磁性体、導電体、保護膜等を所定
の形状く形成し各ヘッド素子毎に切断してなる薄膜磁気
ヘッドを略直方体とし、少なくとも薄膜形成面の幅Ｗｔ
−ａ、Ｓ〜１，０■の範囲でかつ、基板厚さＴｆ：Ｔ／
Ｗ≧１を満たす様にし、該基板切断面をヘッド取付台に
貼カ付ける様に構成したことによシ達成される。

〔作用〕

ＶＴＲ用磁気ヘッドとして、薄膜磁気ヘッドを採用する
ことにより、磁気コアおよびコイルの微少化が図られ、
ダブルアジマスヘッド構成とした場合には両ヘッド間の
磁束洩れが低減されることによシクロストークが改善さ
れる。同様に、シングルヘッドで見た場合にも、洩れイ
ンダクタンスが低減することにより単位インダクタンス
当たりのヘッド出力（ヘッド効率）が増大する。

上記薄膜磁気ヘッドのヘッド形状を略直方体とし、薄膜
形成面の幅Ｗをα３〜１．０ｍの範囲とする。これは、
幅Ｗがα３１１１１以下となると、この幅Ｗの中の薄膜
コイルを１０〜２０タ一ン巻回する必要があるため各薄
膜コイル形成面積が小さくなるためにコイル抵抗が増大
しインピーダンスノイズ増大するという問題があシ、ま
た１幅Ｗが１．０閣を超えて大きくなるとコイル抵抗が
小さくなるが基板当たシの薄膜磁気ヘッド素子取り数が
減夛素子取シ効率が悪くなる。更に、基板の厚みＴをＴ
／Ｗ≧１を満たす様厚クシ、該薄膜磁気ヘッドの基板切
断面側をヘッド取付台に貼り付けることによシ、ヘッド
取付台との突き合せ面積が充分に確保でき、ヘッド取付
台と薄膜磁気ヘッドの位置関係が正確になることによシ
ヘッドアジマス角度の高精度化が図られる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図、第２図、第３図および第４図は、それぞれ本発
明の実施例である薄膜磁気ヘッドのヘッド摺動面方向よ
り見た平面図、側面図、第２図のＡ−Ａ’断面図および
Ｂ−１１？断面（薄膜形成面）である。

Ｍ１図〜第４図において、１ａはアジマス角度十〇でト
ラックＩ［ＴＷｌ、１ｂはアジマス角度−〇でトラック
幅ＴＷ２　ｃ？薄膜磁気ヘッド、ヘッドベース３上九両
ヘッドギャップ間隔がＬｇとなる様に貼り付けられたダ
ブルアジマス磁気ヘッドを構成する。

また、５ａ、５ｂは薄膜磁気ヘッド素子、６ａ。

６ｂは薄膜磁気ヘッド素子を保穫するための保護膜、１
１ａ、１１ｂは非磁性基板、２ａ、２ｂは記録媒体（テ
ープ）と当接するヘッド摺動面、４ａ、４ｂは上記ヘッ
ド摺動面２ａ、２ｂを得るために必要なテーパ角αで加
工されたヘッドテーパ面、７はテープの走行方向で、薄
膜磁気ヘッド素子５ａ、５ｂは略直方体で、薄膜形成面
の幅Ｗ。

基板厚さで、長さＬとなっている。

上記実施例の薄膜磁気ヘッドは、次の様にして製造され
る。

薄膜磁気ヘッド１ａは、ガラス、セラミック。

フェライト等の非磁性基板（本実施例ではＭｎ０−Ｎｉ
０系のセラミックを用いた。）１１ａ上に。

下部コアとしてＧｏ−Ｎｂ−Ｚｒ等の非晶質合金をスパ
ッタリング等の手法によシ約２０μｍ形成する。

次に、５ｉｏ２　、ｈｔ２ｏ、等よ）なる絶縁層をスパ
ッタリング等の手法で形成した後、Ｃｕよシなる薄膜コ
イル９を形成し、更に絶縁層を形成して薄膜コイル９と
上部磁気コア８間の電気絶縁を確保する。

次に、ギャップ長を規制するギャップ材として５ｉ０２
　、Ａｔ２０．あるいはＣｒ等を０．３μｍ形成し、更
に上部コア８として下部コアと同一材料を所定の形状に
形成する。この時、第４図だ示す様に、電極引き出し部
１ｏとして上記上部コア８と同一材料である非晶質合金
を用いると、上部コア８のバターニング工程で同時に形
成が可能となるので製造工程が簡素化される。そして次
に、保護膜６ａ、６ｂとして、テープとの当接が良好な
材料としてＭｇＯ−８ｉ０２系層をスパッタリングある
いは蒸着等の手法によシ約１０〜６０μｍ形成する。

上記によシ得られた薄膜磁気ヘッド基板は、各ヘッド素
子毎に幅Ｗ、長さり、厚さでの略直方体□ 形状に切断された後、機械加工により、まず第４図に示
す様に薄膜コイル９を切らない様にヘッドテーパ面４ａ
を角度αで形成する。角度αとしては、３０〜６０度が
選ばれる。角度αが大きい方が、薄膜コイル９の配役面
積が大きくなり、薄膜コイル９の電気抵抗が小さくでき
、ヘッドのインピーダンスノイズが低減できるという効
果がある。　　　−一方、角度αが６０度を越えて大き
くなう過ぎるとと、テープ摺動によるヘッド摩耗に従い
急激てヘッド摺動面幅Ｖが犬きくな）、安定なテープ当
接がとれなくなるという問題が発生する。

同様に、該薄膜磁気ヘッドの幅Ｗは（Ｌ３ｍｍ〜１゜０
ｍの範囲に選ばれる０幅Ｗは上記の様に薄膜コイル９の
配役面積に係り、幅Ｗが大きい方が薄膜コイルの電気抵
抗が小さく出き、ヘッドのインピーダンスノイズが低減
できるが、犬きくなシ過ぎると基板当た）のヘッド素子
数シ数が減シ、素子取り効率が悪くなるといの問題があ
る。

ＶＴＲ用の磁気ヘッドとしては、薄膜コイル９の巻数は
１０〜２０ターン（第４図では、分かり易い図にするた
め２ターンとして示したが一般的であり、この巻数でコ
イル抵抗は５Ω以下が望まれる０本実施例において、薄
膜コイル９としてスパイラル形状で巻数１０〜２０ター
ン、コイル膜厚３〜１０μｍで上記コイル抵抗５Ω以下
とするためには、幅Ｗをα３■以上とする必要がある。

また、ヘッド素子数シ効率を考慮すると幅Ｗは１■以下
が望まれる。

次に、薄膜磁気ヘッド１ａ、Ｉｂの該基板切断面側をヘ
ッドベース３に所定の位置に接着剤で貼り付ける。ギャ
ップ間隔Ｌｇとしてはα３〜α７５■、ヘッドベース３
から薄膜磁気へラド１ａ、１ｂの突き出し寸法ｒ、／は
、ＶＴＲシリンダに取シ付（・−けた時の位置関係から
、（１６〜１１！Ｉｌ程度が選ばれる。第２図に示した
様に、薄膜磁気ヘッド１ａ。

１ｂとへラドペース３との貼シ付は面は１２となり、こ
の貼シ付は面１２における接着剤による貼シ付けの精度
が特にアジマス角度θの精度に大きく影響する。貼ル付
は面１２０面積が大きくなる程、薄膜磁気ヘッド１ａ、
１ｂとヘッドベース３間の接着剤の厚みバラツキが少な
くなシ、相互の位置精度が確保され、アジマス角度の精
度が向上するが、特に基板厚さＴと幅Ｗとの関係が重要
である。上記の様に幅Ｗは１３〜１．０１１１１に選ば
れるので、この幅ＷＫ対して基板厚みＴとしては、Ｔ／
Ｗ≧１を満たす様にする必要がある。Ｔ　／　Ｗが１よ
シ小さくなると、薄膜磁気ヘッド１ａ、Ｉｂをヘッドベ
ース３に貼り付ける場合、安定度が悪くなジアジマス角
度θの精度が得られなくなるとともに、貼り付は工程に
おける作業性も悪くなる。

薄膜磁気ヘッド１ａ、１ｂの長さＬに関しては、上記の
突き出し寸法Ｌ′よ）犬きくとること【よ多貼り付は面
１２の面積が大きくとれ、アジマス角度θの精度が上が
るが、大きくなり過ぎ°ると幅Ｗと同様にヘッド素子数
シ効率が悪くなる。素子数シ効率をさらに改善した実施
例を示す。

第５図と第６図は本発明の他の二つの実施例を示す要部
正面図であって、第５図における１３ａ。

ｆ、６図におけるｆ４ａは補助材であシ、これらの補助
材１３ａ、１４ａを用いることによシ、前記の幅Ｗ、基
板厚さＴ、及び長さＬの所望のヘッド形状を満たし、か
つヘッド素子取り効率を向上させる効果がある。補助材
１３ａ　、　１４ａには、更に薄膜配線パターンを配設
して薄膜磁気ヘッドとの結線をすることも可能である。

この様に構成した薄膜磁気ヘッドでは、コイルおよび磁
気コアを薄膜としたことにより、ダブルアジマスヘッド
の場合には両ヘッド間のクロストが低減され、従来バル
ク童ヘッドに比較して約１０ｄＢ以上改善され、またシ
ングルヘッド構成においても洩れインダクタンスが少な
くなることによ）ヘッド効率が向上する。また、薄膜磁
気ヘッドの幅Ｗ、基板厚さＴ、及び長さＬを最適の寸法
範Ｈに選んだことにより、薄膜コイルのインピーダンス
ノイズ低減、素子数シ効率の向上、貼シ付は時のアジマ
ス角度の高精度化が見られる。

また、上記各実施例において、幅Ｗが摺動面近傍におい
て除々に小さくなり摺動面部でＷ′になる様に構成され
ているが、これは、テープとの安定な当接を確保するた
めのものである。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、薄膜磁気ヘッド
を略直方体の形状とし、薄膜形成面の幅Ｗをα３〜１．
０龍の範囲としかつ基板厚さＴｔ−Ｔ／Ｗ≧１．０を満
たす様薄膜コイルの配設面積を適切に選択したことによ
シ、薄膜コイルのインピーダンスノイズ低減、素子数シ
効率の向上、及びヘッドベースへのヘッド貼シ付は時の
アジマス角度規制の高精度化を図つ九優れた機能のＶＴ
Ｒ用等の磁気記録再生装置用の薄膜磁気ヘッドを提供で
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である薄膜磁気ヘッドの平面
図、第２図は第１図の正面図、第３図は第２図のＡ　−
Ａ’断面図、第４図は第２図のＢ　−Ｂ’断面図、第５
図と第６図は本発明の他の実施例の正面図である。 １ａ、１ｂ・・・・・・薄膜磁気ヘッド、３・・・・・
・−＼ラドペース、６ａ、６ｂ・・・・・・保護膜、８
・・・・・・磁気コア。 ９・・・・・・薄膜コイル、１１ａ、１１ｂ・・・・・
・基板、１３ａ、１４ｂ・・・・・・補助材。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に磁性体、絶縁体、導電体、保護膜等を所定
   の形状に形成し各ヘッド素子毎に切断してなる薄膜磁気
   ヘッドを該基板切断面をヘッド取付台に貼り付け一体化
   した薄膜磁気ヘッドにおいて、前記薄膜磁気ヘッドのヘ
   ッド形状を略直方体とし、少なくとも薄膜形成面の幅Ｗ
   を０．３ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲でかつ、基板厚さＴを
   Ｔ／Ｗ≧１を満たす構成としたことを特徴とする薄膜磁
   気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項に記載の薄膜磁気ヘッドにお
   いて、前記薄膜形成面の幅Ｗを、ヘッド摺動面近傍にお
   いて、該摺動面に近づくに従い狭く構成したことを特徴
   とする薄膜磁気ヘッド。