JPS61287023A - 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法Info
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- JPS61287023A JPS61287023A JP12814585A JP12814585A JPS61287023A JP S61287023 A JPS61287023 A JP S61287023A JP 12814585 A JP12814585 A JP 12814585A JP 12814585 A JP12814585 A JP 12814585A JP S61287023 A JPS61287023 A JP S61287023A
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、記録媒体との当接の安定化と長寿命化を図っ
たビデオテープレコーダに好適な薄膜磁気ヘッドとその
製造方法に関する。
たビデオテープレコーダに好適な薄膜磁気ヘッドとその
製造方法に関する。
・ 〔発明の背景〕
近年、磁気記録の高密度化に伴ない高保持力の記録媒体
に充分に記録できる軟磁性合金を磁気ヘッドの磁気コア
に用いることが必須となってきている。
に充分に記録できる軟磁性合金を磁気ヘッドの磁気コア
に用いることが必須となってきている。
軟磁性合金を磁気コアに用いた例としては特開昭５５−
８７３０号公報がある。しかし、この公報に開示された
様な構成の磁気ヘッドにおいては、軟磁性合金が記録媒
体の走行により摩耗し、これを挾む様に配置された非磁
性体との間に段差が生じ、記録媒体と磁気ヘッドの良好
な当接が得られず記録再生特性が劣化する問題点がある
。また、これを対策した例としては、特開昭５８−１９
６６１７号公報がある。この公報に開示された構造では
、非磁性体を軟磁性合金よりも摩耗しやすい材料とする
ことにより上記問題点を解決しようとしているが、摩耗
寿命としては、いずれの材料も記録媒体に対して摩耗し
やすいために、磁気ヘッドの摩耗寿命が短くなるととも
に、非磁性体と軟磁性合金を１ヘツド毎にはめ合わせる
方法をとることから作業性（量産性）に問題がある。
８７３０号公報がある。しかし、この公報に開示された
様な構成の磁気ヘッドにおいては、軟磁性合金が記録媒
体の走行により摩耗し、これを挾む様に配置された非磁
性体との間に段差が生じ、記録媒体と磁気ヘッドの良好
な当接が得られず記録再生特性が劣化する問題点がある
。また、これを対策した例としては、特開昭５８−１９
６６１７号公報がある。この公報に開示された構造では
、非磁性体を軟磁性合金よりも摩耗しやすい材料とする
ことにより上記問題点を解決しようとしているが、摩耗
寿命としては、いずれの材料も記録媒体に対して摩耗し
やすいために、磁気ヘッドの摩耗寿命が短くなるととも
に、非磁性体と軟磁性合金を１ヘツド毎にはめ合わせる
方法をとることから作業性（量産性）に問題がある。
本発明の目的は、記録媒体との当接の安定化、摩耗の長
寿命化および−ＪｋＭ性を向上させた薄膜磁気ヘッドと
′その製造方法を提供するにある。
寿命化および−ＪｋＭ性を向上させた薄膜磁気ヘッドと
′その製造方法を提供するにある。
この目的を達成するために、本発明は、磁気ヘッドの磁
気コアとなる１対の軟磁性合金薄膜の一方の端部を突き
合わせて磁気ギャップとし、他方の端部において軟磁性
合金薄膜と同程度あ゛るいはそれより耐摩耗性の良好な
第１の非磁性体で挾持させ、かつ該１対の軟磁性合金薄
膜の記録媒体摺動面に露出する摺動方向全長を１０〜３
００μｍとし、該軟磁性合金薄膜および第１の非磁性体
をその膜厚方向に第１の非磁性体より摩耗しやすい第２
の非磁性体で挾持する構成により記録媒体との当接の安
定化と摩耗の長寿命化を図り、また基板に前記軟磁性合
金薄膜を形成して、一括して該薄膜をパターニングし、
かつ前記第１の非磁性体を形成し、これを平坦化するこ
とにより薄膜磁気ヘッドの製造における量産性を向上さ
せた点に特徴がある。
気コアとなる１対の軟磁性合金薄膜の一方の端部を突き
合わせて磁気ギャップとし、他方の端部において軟磁性
合金薄膜と同程度あ゛るいはそれより耐摩耗性の良好な
第１の非磁性体で挾持させ、かつ該１対の軟磁性合金薄
膜の記録媒体摺動面に露出する摺動方向全長を１０〜３
００μｍとし、該軟磁性合金薄膜および第１の非磁性体
をその膜厚方向に第１の非磁性体より摩耗しやすい第２
の非磁性体で挾持する構成により記録媒体との当接の安
定化と摩耗の長寿命化を図り、また基板に前記軟磁性合
金薄膜を形成して、一括して該薄膜をパターニングし、
かつ前記第１の非磁性体を形成し、これを平坦化するこ
とにより薄膜磁気ヘッドの製造における量産性を向上さ
せた点に特徴がある。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する０
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図、第２図は第１図の磁気コアだけを取り出して示
す斜視図であって、２ａ。
斜視図、第２図は第１図の磁気コアだけを取り出して示
す斜視図であって、２ａ。
２ｂは磁気コアを形成する１対の軟磁性合金薄膜、４ａ
、４ｂは、合金薄膜２ａ、２ｂと同程度もしくはそれ以
上に耐摩耗性にすぐれた第１の非磁性体、ｌａ、ｌｂは
、第１の非磁性体４ａ。
、４ｂは、合金薄膜２ａ、２ｂと同程度もしくはそれ以
上に耐摩耗性にすぐれた第１の非磁性体、ｌａ、ｌｂは
、第１の非磁性体４ａ。
４ｂよりもより摩耗しやすい第２の非磁性体（基板とな
る）、３は磁気ギャップ、５は巻線である０ 第１図、第２図において、磁気コアを形成する軟磁性合
金薄膜２ａ、２ｂは、後部より記録媒体摺動面に近づく
に従い断面積が徐々に少さくなり磁束密度を高め、かつ
記録媒体摺動面においてはその露出している合金薄膜の
全長ｔが１０μｍから３００μｍの間におさえられてい
る。
る）、３は磁気ギャップ、５は巻線である０ 第１図、第２図において、磁気コアを形成する軟磁性合
金薄膜２ａ、２ｂは、後部より記録媒体摺動面に近づく
に従い断面積が徐々に少さくなり磁束密度を高め、かつ
記録媒体摺動面においてはその露出している合金薄膜の
全長ｔが１０μｍから３００μｍの間におさえられてい
る。
次に、本実施例の製造法について説明する。
第３図は本発明による薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
する工程図であって、１は基板、２は軟磁性合金＃膜、
４はＭｌの非磁性体、６はパターニングした軟磁性合金
薄膜素子、７ａ１７ｂはボンディングブロック、１４は
巻線用溝である。
する工程図であって、１は基板、２は軟磁性合金＃膜、
４はＭｌの非磁性体、６はパターニングした軟磁性合金
薄膜素子、７ａ１７ｂはボンディングブロック、１４は
巻線用溝である。
同図において、第１工程（イ）では、第２の非磁性体基
板１としてガラス、セラミック、フェライト等の該第１
の非磁性体４に較べ摩耗しやすい材料を用いる。この基
板１上にＦｅ−Ｓｉ −ＡＬ系、Ｆｅ−８ｔ系、等の結
晶質あるいはアモルファス（非結晶）等の軟磁性合金薄
膜２をスパッタリング等の手法により形成する。合金薄
膜２の膜構成は、磁気ヘッドの使用する周波数帯域で変
更する。例えば、５ＭＨｚ程度までであれば５〜１０μ
ｍの合金薄膜層を単位として０．０３〜０．１岬膜厚の
５ｉ０２）ＡｌｚＯａ、ＭｇＯ−Ｓ ｉｏｚ等の絶縁層
を介して磁気ヘッドのトラック幅程度まで多層膜構造と
する。一方、２０ＭＨｚ程度の高周波帯域に使用するの
であれば１〜５μｍ程度の合金薄膜の膜厚を単位とし、
渦電流損失を最少におさえる構造とする。次に第２工程
（ロ）においては、軟磁性合金薄膜２を、ホトリソグラ
フィー技術を用いて第２図の磁気コアの形状（但し、巻
線窓は無い）にパターニングして合金薄膜素子６を基板
１上に多数個形成する。この時、パターニング法として
は、レジスト等をマスクとしイオンシリングあるいはウ
ェットエツチングが用いられ、該合金薄膜素子６の端部
はテーパ角αが２０〜７０度位になる様に制御する。こ
のテーパ角αは第１図に見る様に、磁気ギャップ面３と
合金薄膜２ａ、２ｂの端部が非平行になる様に選ばれ、
特に膜全長りが小さくなるに従い発生する形状効果（磁
気ヘッドの再生過程に生ずる周波数特性のうねり）を防
ぐ効果がある。第３工程（ハ）では、基板１上に該合金
薄膜素子６と同程度あるいはそれ以上に耐摩耗性に優れ
た第１の非磁性体４としてＳ ｉｏｚ、ＡＬｚＯｓ、（
ＭｇＯ）ｘ−８ｔｏ２（ｘ＝０．５〜３ ）等の材料を
合金薄膜素子６の膜厚以上にスパッタリング、蒸着等の
手法により形成し、研摩等の手法により平坦化する。
板１としてガラス、セラミック、フェライト等の該第１
の非磁性体４に較べ摩耗しやすい材料を用いる。この基
板１上にＦｅ−Ｓｉ −ＡＬ系、Ｆｅ−８ｔ系、等の結
晶質あるいはアモルファス（非結晶）等の軟磁性合金薄
膜２をスパッタリング等の手法により形成する。合金薄
膜２の膜構成は、磁気ヘッドの使用する周波数帯域で変
更する。例えば、５ＭＨｚ程度までであれば５〜１０μ
ｍの合金薄膜層を単位として０．０３〜０．１岬膜厚の
５ｉ０２）ＡｌｚＯａ、ＭｇＯ−Ｓ ｉｏｚ等の絶縁層
を介して磁気ヘッドのトラック幅程度まで多層膜構造と
する。一方、２０ＭＨｚ程度の高周波帯域に使用するの
であれば１〜５μｍ程度の合金薄膜の膜厚を単位とし、
渦電流損失を最少におさえる構造とする。次に第２工程
（ロ）においては、軟磁性合金薄膜２を、ホトリソグラ
フィー技術を用いて第２図の磁気コアの形状（但し、巻
線窓は無い）にパターニングして合金薄膜素子６を基板
１上に多数個形成する。この時、パターニング法として
は、レジスト等をマスクとしイオンシリングあるいはウ
ェットエツチングが用いられ、該合金薄膜素子６の端部
はテーパ角αが２０〜７０度位になる様に制御する。こ
のテーパ角αは第１図に見る様に、磁気ギャップ面３と
合金薄膜２ａ、２ｂの端部が非平行になる様に選ばれ、
特に膜全長りが小さくなるに従い発生する形状効果（磁
気ヘッドの再生過程に生ずる周波数特性のうねり）を防
ぐ効果がある。第３工程（ハ）では、基板１上に該合金
薄膜素子６と同程度あるいはそれ以上に耐摩耗性に優れ
た第１の非磁性体４としてＳ ｉｏｚ、ＡＬｚＯｓ、（
ＭｇＯ）ｘ−８ｔｏ２（ｘ＝０．５〜３ ）等の材料を
合金薄膜素子６の膜厚以上にスパッタリング、蒸着等の
手法により形成し、研摩等の手法により平坦化する。
この場合、合金薄膜素子６上に多少の非磁性体４が残っ
ていても問題はない。更に、同図におけるＡ−Ａ’面で
基板１を短柵状に切断する。第４工程（ニ）では、切断
した短柵状基板１ａ、Ｎ）を図示の様にガラス等により
接着する。短柵状基板は図では３枚であるがそれ以上の
個数であってもかまわない。接着後、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ
’面で更に切断する。ここでＢ−Ｂ’面が磁気ギャップ
の突き合せ面である。第５工程（ホ）では、ボンディン
グブロック７ａ、７ｂのギャップ突き合せ面を鏡面研摩
した後、巻線用＃１４を形成し、更に磁気ギャップ長を
規制するためＫＳｉ０２等の非磁性体を０．２〜０．５
μｍ膜厚に形成する。第６エ程（へ）では、ボンディン
グブロック７ａ。
ていても問題はない。更に、同図におけるＡ−Ａ’面で
基板１を短柵状に切断する。第４工程（ニ）では、切断
した短柵状基板１ａ、Ｎ）を図示の様にガラス等により
接着する。短柵状基板は図では３枚であるがそれ以上の
個数であってもかまわない。接着後、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ
’面で更に切断する。ここでＢ−Ｂ’面が磁気ギャップ
の突き合せ面である。第５工程（ホ）では、ボンディン
グブロック７ａ、７ｂのギャップ突き合せ面を鏡面研摩
した後、巻線用＃１４を形成し、更に磁気ギャップ長を
規制するためＫＳｉ０２等の非磁性体を０．２〜０．５
μｍ膜厚に形成する。第６エ程（へ）では、ボンディン
グブロック７ａ。
７ｂをガラス等を用いて接着し、Ｅ−Ｅ’およびＤ−Ｄ
’面に沿って切断してヘッドチップとし、巻線を施せば
ｇ１図に示した本発明の薄膜磁気ヘッドが得られる。
’面に沿って切断してヘッドチップとし、巻線を施せば
ｇ１図に示した本発明の薄膜磁気ヘッドが得られる。
第４図は本発明による薄膜磁気ヘッドの製造方法の他の
実施例を説明するための工程の一部を示す図で、同図（
イ）は第３図の第２工程（ロ）に対応し、同図（ロ）は
第３図の第４工程（ニ） Ｋ対応する。
実施例を説明するための工程の一部を示す図で、同図（
イ）は第３図の第２工程（ロ）に対応し、同図（ロ）は
第３図の第４工程（ニ） Ｋ対応する。
すなわち、第１図における磁気へラドギャップ３にアジ
マス角度θを付ける場合には、第３図に示した製造方法
の第２工程（ロ）において、第４図（イ）に示すマスク
パターンとし、合金薄膜索子６の配列にあらかじめ角度
θをつけておき、第３図に示した製造方法の第４工程（
ニ）におけるボンディングブロック切断時に第４図（ロ
）に示すＦ−Ｆ’、Ｇ−Ｇ’面で切断し、その他の工程
を第３図に示したものと同様とすることにより、アジマ
ス角度０をもった薄膜磁気ヘッドを製造することができ
る。
マス角度θを付ける場合には、第３図に示した製造方法
の第２工程（ロ）において、第４図（イ）に示すマスク
パターンとし、合金薄膜索子６の配列にあらかじめ角度
θをつけておき、第３図に示した製造方法の第４工程（
ニ）におけるボンディングブロック切断時に第４図（ロ
）に示すＦ−Ｆ’、Ｇ−Ｇ’面で切断し、その他の工程
を第３図に示したものと同様とすることにより、アジマ
ス角度０をもった薄膜磁気ヘッドを製造することができ
る。
また、第３図（ロ）、第４図（イ）Ｋ示した第２工程に
おいて、所望形状のマスクを用い、マスクスパッタリン
グやマスク蒸着等を用いて合金薄膜素子６を形成する方
法、あるいは基板１にあらかじめ所定形状に溝を設け、
この溝に合金薄膜２を埋め込み、これを平坦化して合金
薄膜索子６を形成する方法、等を用いてもよい。さらに
、第３図に示した第３工程（ハ）において、第１の非磁
性体４として低融点ガラスを用い、 □該ガラス
を溶かした後に平坦化する方法を用い □てもよ
い。
おいて、所望形状のマスクを用い、マスクスパッタリン
グやマスク蒸着等を用いて合金薄膜素子６を形成する方
法、あるいは基板１にあらかじめ所定形状に溝を設け、
この溝に合金薄膜２を埋め込み、これを平坦化して合金
薄膜索子６を形成する方法、等を用いてもよい。さらに
、第３図に示した第３工程（ハ）において、第１の非磁
性体４として低融点ガラスを用い、 □該ガラス
を溶かした後に平坦化する方法を用い □てもよ
い。
以上の様に構成した本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては
、記録媒体の当接の安定化、摩耗に対する長寿命化およ
び量産性の向上が可能である０ 第５図は記録媒体の当接の安定化を説明する図であって
、同図（イ）は従来技術の、（ロ）は本発明による薄膜
磁気ヘッドの、各場合である０同図（イ）において、合
金薄膜素子２ａ、２ｂが全長ｔに渡って摺動面に露出し
ており、第１の非磁性体４ａ、４ｂによる挾持がない場
合である。ｔは約２−程度となり、記録媒体８が長時間
走行すると合金薄膜２ａ、２ｂが第２の非磁性体１ａ、
、ｌｂより摩耗が進み段差ｄが生ずる。このため、この
段差ｄが磁気ヘッドのスペーシング損失となり記録再生
特性を劣化させる０゜一方、同図（ロ）に示す本発明に
よる磁気ヘッドにおいては、合金薄膜２ａ、２ｂの摺動
面における全長ｔが小さくなっており、かつ記録媒体の
走行方向において、耐摩耗性の良好な第１の非磁性体４
ａ、４ｂにおいて挾持補強されて ′１いるため
に、段差ｄが、殆んど発生せず、記録媒体８との良好な
当接が可能となる。
、記録媒体の当接の安定化、摩耗に対する長寿命化およ
び量産性の向上が可能である０ 第５図は記録媒体の当接の安定化を説明する図であって
、同図（イ）は従来技術の、（ロ）は本発明による薄膜
磁気ヘッドの、各場合である０同図（イ）において、合
金薄膜素子２ａ、２ｂが全長ｔに渡って摺動面に露出し
ており、第１の非磁性体４ａ、４ｂによる挾持がない場
合である。ｔは約２−程度となり、記録媒体８が長時間
走行すると合金薄膜２ａ、２ｂが第２の非磁性体１ａ、
、ｌｂより摩耗が進み段差ｄが生ずる。このため、この
段差ｄが磁気ヘッドのスペーシング損失となり記録再生
特性を劣化させる０゜一方、同図（ロ）に示す本発明に
よる磁気ヘッドにおいては、合金薄膜２ａ、２ｂの摺動
面における全長ｔが小さくなっており、かつ記録媒体の
走行方向において、耐摩耗性の良好な第１の非磁性体４
ａ、４ｂにおいて挾持補強されて ′１いるため
に、段差ｄが、殆んど発生せず、記録媒体８との良好な
当接が可能となる。
第６図は合金薄膜２ａ、２ｂの全長りと記録媒体を１０
０時間走行させた後のヘッド出力の劣化の関係を説明す
る図であって、横軸は合金薄膜の全長Ｌｍｍ、、縦軸は
ヘッド出力Ｃ％）である。
０時間走行させた後のヘッド出力の劣化の関係を説明す
る図であって、横軸は合金薄膜の全長Ｌｍｍ、、縦軸は
ヘッド出力Ｃ％）である。
同図から、合金薄膜２ａ、２ｂの全長ｔとしては３・０
０μｍ以下とする必要がある。Ｌが小さくなり過ぎると
磁気ギャップそのものの存在がなくなることからその下
限は１０μｍとなる。
０μｍ以下とする必要がある。Ｌが小さくなり過ぎると
磁気ギャップそのものの存在がなくなることからその下
限は１０μｍとなる。
第７図は合金薄膜２ａ、２ｂの全長ｔと１０００時間走
行後の磁気ヘッドの摩耗量を示したものであり【、１２
は本発明の場合、１１は第５図（イ）に示した従来例で
、当接の安定化のために第２の非磁性体１ａ、ｌｂを合
金薄膜２ａ、２ｂより摩耗しやすい材料とした場合であ
る。従来例１１では、記録媒体との当接の安定化が実現
できるが、摩耗量が増大し寿命が短くなる。一方、本発
明の実施例である１２では、全長ｔとして１０μｍ〜３
００μｍとすることにより摩耗に対する長寿命化が可能
となる。また、上記に製造方法で説明した通り、基板１
上に多数個のヘッド素子６を形成できるフォトリソグラ
フィ技術を利用していることから、バッチ処理が可能で
あり量産性が高いことは言うまでもない。
行後の磁気ヘッドの摩耗量を示したものであり【、１２
は本発明の場合、１１は第５図（イ）に示した従来例で
、当接の安定化のために第２の非磁性体１ａ、ｌｂを合
金薄膜２ａ、２ｂより摩耗しやすい材料とした場合であ
る。従来例１１では、記録媒体との当接の安定化が実現
できるが、摩耗量が増大し寿命が短くなる。一方、本発
明の実施例である１２では、全長ｔとして１０μｍ〜３
００μｍとすることにより摩耗に対する長寿命化が可能
となる。また、上記に製造方法で説明した通り、基板１
上に多数個のヘッド素子６を形成できるフォトリソグラ
フィ技術を利用していることから、バッチ処理が可能で
あり量産性が高いことは言うまでもない。
以上説明したように、本発明によれば、磁気ヘッドコア
を構成する１対の軟磁性合金薄膜の記録媒体走行方向の
両端ＫＭＩの非磁性体で挟持補強し、かつ膜厚方向に第
２の非磁性体で挾持し、これら構成材に最適の摩耗性を
選択的に持たせ、かつ最適寸法を選んだことにより、記
録媒体との当接の安定化および摩耗に対する長寿命化が
可能となり、また、製造方法として、基板上に該軟磁性
合金薄膜素子６を一括して多数個処理するいわゆるフォ
トリソグラフィ技術を利用することによりｆ産性の向上
が可能となり、上記従来技術の欠点を除いて優れた機能
の薄膜磁気ヘッドとその製造方法を提供することができ
る。
を構成する１対の軟磁性合金薄膜の記録媒体走行方向の
両端ＫＭＩの非磁性体で挟持補強し、かつ膜厚方向に第
２の非磁性体で挾持し、これら構成材に最適の摩耗性を
選択的に持たせ、かつ最適寸法を選んだことにより、記
録媒体との当接の安定化および摩耗に対する長寿命化が
可能となり、また、製造方法として、基板上に該軟磁性
合金薄膜素子６を一括して多数個処理するいわゆるフォ
トリソグラフィ技術を利用することによりｆ産性の向上
が可能となり、上記従来技術の欠点を除いて優れた機能
の薄膜磁気ヘッドとその製造方法を提供することができ
る。
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図、第２図は第１図の磁気コアだけを取り出して示
す斜視図、第３図は本発明による薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を説明する工程図、第４図は本発明によ
る薄膜磁気ヘッドの製造方法の他の実施例を説明する部
分工程図、第５図は記録媒体の当接の安定化を説明する
図、第６図は合金薄膜の全長と記録媒体走行後のヘッド
出力との関係を示す図、第７図は合金薄膜の全長と記録
媒体走行後のヘッド摩耗蓋の関係を示す図である。 １、 １ ａ、 １ ｂ ”・第２の非磁性体（基板）
２．２ａ、２ｂ・・・・・軟磁性合金薄膜３・・・・・
磁気ギャップ ４．４ａ、４ｂ・・・・・第１の非磁性体６・・・・・
バターニングした軟磁性合金薄膜素子７ａｓ７ｂ・・・
・・ボンディングブロック８・・・・・記録媒体 １４・・・・・巻線用溝 工 代理人弁理士 小 川 勝 男 − 脩１図 窮２図 第３図 第４図 １ （ｍｍ）
斜視図、第２図は第１図の磁気コアだけを取り出して示
す斜視図、第３図は本発明による薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を説明する工程図、第４図は本発明によ
る薄膜磁気ヘッドの製造方法の他の実施例を説明する部
分工程図、第５図は記録媒体の当接の安定化を説明する
図、第６図は合金薄膜の全長と記録媒体走行後のヘッド
出力との関係を示す図、第７図は合金薄膜の全長と記録
媒体走行後のヘッド摩耗蓋の関係を示す図である。 １、 １ ａ、 １ ｂ ”・第２の非磁性体（基板）
２．２ａ、２ｂ・・・・・軟磁性合金薄膜３・・・・・
磁気ギャップ ４．４ａ、４ｂ・・・・・第１の非磁性体６・・・・・
バターニングした軟磁性合金薄膜素子７ａｓ７ｂ・・・
・・ボンディングブロック８・・・・・記録媒体 １４・・・・・巻線用溝 工 代理人弁理士 小 川 勝 男 − 脩１図 窮２図 第３図 第４図 １ （ｍｍ）
Claims (10)
- （１）１対の軟磁性合金薄膜の互いに対向する端部を第
２の非磁性体を挾んで磁気ギャップとし、該軟磁性合金
薄膜で磁気ヘッドコアを構成する薄膜磁気ヘッドにおい
て、少なくとも記録媒体摺動面において前記１対の軟磁
性合金薄膜の他端を第１の非磁性体で挾持したことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲（１）項記載の薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記軟磁性合金薄膜として、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ
系軟磁性合金薄膜あるいはアモルファス軟磁性合金を用
い、膜厚１μｍ〜１０μｍで前記非磁性薄膜との多層構
造としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （３）特許請求の範囲（１）項または（２）項記載の薄
膜磁気ヘッドにおいて、記録媒体摺動面に露出する前記
１対の軟磁性合金薄膜の前記記録媒体摺動方向の全長を
１０μｍ以上３００μｍ以下としたことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。 - （４）特許請求の範囲（１）項、（２）項および（３）
項のいづれかに記載した薄膜磁気ヘッドにおいて、前記
軟磁性合金薄膜を挾持する前記第１の非磁性体を、前記
記録媒体に対する耐摩耗性が前記軟磁性合金薄膜の耐摩
耗性と同程度もしくはそれ以上である材料で構成したこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （５）特許請求の範囲（１）項、（２）項、（３）項お
よび（４）項のいづれかに記載した薄膜磁気ヘッドにお
いて、前記１対の軟磁性合金薄膜とそれを挾持する前記
第１の非磁性体の記録媒体摺動面における境界面が、前
記磁気ギャップ面と非平行となる様に構成したことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （６）特許請求の範囲（１）項、（２）項、（３）項お
よび（４）項のいづれかに記載した薄膜磁気ヘッドにお
いて、前記１対の軟磁性合金薄膜および前記第１の非磁
性体を更に膜厚方向に前記第１の非磁性体よりも記録媒
体に対して摩耗しやすい前記第２の非磁性体で挾持した
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （７）１対の軟磁性合金薄膜の互いに対向する端部を第
２の非磁性体を挾んで磁気ギャップとし、該軟磁性合金
薄膜で磁気ヘッドコアを構成し、少なくとも記録媒体摺
動面において該１対の軟磁性合金薄膜の他端を第１の非
磁性体で挾持した薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
前記非磁性基板に前記軟磁性合金薄膜を単層あるいは非
磁性層を挾み多層に形成する第１の工程と、前記軟磁性
合金薄膜をフォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状
にパターニングする第２の工程と、パターニングした前
記軟磁性合金薄膜上に非磁性体を形成し平坦化する第３
の工程と、前記非磁性基板を切断し、切断した該非磁性
基板を接着して基板ブロックを作る第４の工程と、前記
基板ブロックを更に切断してコイルの巻線溝を形成しか
つ磁気ギャップ形成面を鏡面研摩しボンディングブロッ
クを作成する第５の工程と、磁気ギャップ長に見合う非
磁性体を介して前記ボンディングブロックを接着する第
６の工程と、前記ボンディングブロックをヘッドチップ
に切断する第７の工程と、前記ヘッドチップの記録媒体
摺動面を所定の形状に整形し巻線を施す第８の工程とを
含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - （８）特許請求の範囲（７）項記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法において、前記第１および第２の工程が、所定
形状のマスクを用いてマスクスパッタリング等の手法に
より前記軟磁性合金薄膜を前記非磁性基板上にパターニ
ング形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - （９）特許請求の範囲（７）項または（８）項記載の薄
膜磁気ヘッドの製造方法において、前記第３の工程が前
記第１の非磁性体として低融点ガラスを用い、該ガラス
を溶かした後に平坦化することを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。 - （１０）特許請求の範囲（７）項記載の薄膜磁気ヘッド
の製造方法において、前記第１および第２の工程が、前
記非磁性基板にあらかじめ所定のパターンの形状に溝を
設け、該溝に前記軟磁性合金薄膜を埋込み平坦化したこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12814585A JPS61287023A (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12814585A JPS61287023A (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61287023A true JPS61287023A (ja) | 1986-12-17 |
| JPH0584567B2 JPH0584567B2 (ja) | 1993-12-02 |
Family
ID=14977500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12814585A Granted JPS61287023A (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61287023A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01140411A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
-
1985
- 1985-06-14 JP JP12814585A patent/JPS61287023A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01140411A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0584567B2 (ja) | 1993-12-02 |
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