JP2542627Y2

JP2542627Y2 - 薄膜磁気ヘッド

Info

Publication number: JP2542627Y2
Application number: JP1990009045U
Authority: JP
Inventors: 幹夫北村; 正朝藪田
Original assignee: 関西日本電気株式会社
Priority date: 1990-01-31
Filing date: 1990-01-31
Publication date: 1997-07-30
Anticipated expiration: 2005-01-31
Also published as: JPH03102108U

Description

【考案の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本考案は、センダスト等の金属磁性体薄膜をコアに使
用した薄膜磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

大型コンピュータや近年パーソナルコンピュータでも
用いられるようになって来たハードディスクドライブ装
置は、磁気記録媒体が塗布されたディスクが3000rpm〜3
600rpmの高速で回転するため、スライダと一体化された
磁気ヘッドがディスク面から僅かに浮上した状態で情報
の読み書きを行うようになっている。

このようなハードディスクドライブ装置の磁気ヘッド
としては、第６図に示すコンポジットヘッド101と称さ
れるものがあった。このコンポジットヘッド101は、セ
ラミックスからなるスライダ102に形成された溝部102a
内にMIGヘッド103（メタル・イン・ギャップ・ヘッド）
を埋め込んで低融点ガラス104で融着一体化ることによ
り得られる。

MIGヘッド103は、第７図に示すように、フェライト等
の酸化物磁性体からなる２つのコアチップ103aの接合面
にそれぞれセンダスト等の金属磁性体薄膜103bが薄膜形
成され、この金属磁性体薄膜103bが形成された接合面同
士をギャップ形成膜103cを介して低融点ガラス103dによ
り融着接合することによってギャップ103eが形成された
ものである。このMIGヘッド103は、磁気記録媒体に近接
するギャップ103e部分のコアに金属磁性体薄膜103bを用
いることにより、高抗磁力媒体に十分な飽和記録ができ
るため線記録密度を向上させることができることから、
ハードディスクドライブ装置のような高密度の磁気記録
を行う磁気ヘッドに適したものとなる。

ただし、このコンポジットヘッド101は、スライダ102
の溝部102a内にMIGヘッド103を埋め込み低融点ガラス10
4で融着させる作業が容易でなく、生産性が低いもので
あった。

そこで、従来は、第８図に示すように、コアを全てセ
ンダスト等の金属磁性体薄膜で形成した薄膜磁気ヘッド
１が使用されていた。この薄膜磁気ヘッド１は、フロン
トギャップ2a及びバックギャップ2bを介して一方のコア
を形成する金属磁性体薄膜3aがスライダ部４を構成する
セラミック製のスライダ部ブロック4aの各接合面間に挟
み込まれるようにして形成されている。また、フロント
ギャップ2a及びバックギャップ2bを介して他方のコアを
形成する金属磁性体薄膜3bは、ヘッド部５を構成するセ
ラミック製のヘッド部ブロック50の各接合面間に挟み込
まれるようにして形成されている。このヘッド部５は、
ギャップ形成膜（図示しない）を介してスライダ部４に
接合されていて、このヘッド部５の接合面に形成された
巻線溝６の上下に上記フロントギャップ2aとバックギャ
ップ2bとが形成されることになる。そして、このヘッド
部５の巻線溝６を通して巻線７が施されることにより薄
膜磁気ヘッド１が磁気ヘッドとして機能する。

上記第８図の薄膜磁気ヘッド１の製造は、通常次のよ
うにして行われる。なお、ここでは簡単のために薄膜磁
気ヘッド１が１個だけの場合について示す。まず第９図
（イ）に示すようにセラミック板を２分割して分割ブロ
ック40を得る。一方の分割ブロック40は、第９図（ロ）
に示すように、分割面にセンダスト等からなる金属磁性
体薄膜３が薄膜形成される。そして、これら分割ブロッ
ク40をそれぞれの分割面を接合面として再び接合一体化
し、第９図（ハ）の分割ブロック接合体41を得る。次
に、この分割ブロック接合体41を一端部分で前記分割方
向とは直交する方向に切断し、第９図（ニ）に示すよう
に、スライダ部ブロック4a及び金属磁性体薄膜3aからな
るスライダ部４と、ヘッド部ブロック5a及び金属磁性体
薄膜3bからなるヘッド部５とに分割する。また、このヘ
ッド部５は、金属磁性体薄膜3bを中心にしてヘッド部ブ
ロック5aの両側を切り落として0.2mm〜0.3mm程度の厚さ
となるようにすると共に、分割面に巻線溝６を形成す
る。そして、第９図（ホ）に示すようにスライダ部４と
ヘッド部５の分割面を接合面として再びこれらを接合一
体化する。ただし、このスライダ部４とヘッド部５の接
合面の何れかには、接合前に非磁性体、例えばガラスの
ギャップ形成膜（図示しない）を薄膜形成しておく。す
ると、このスライダ部４とヘッド部５の上下の接合面に
金属磁性体薄膜3a,3bのフロントギャップ2a及びバック
ギャップ2bが形成され、巻線溝６を通して巻線７を施す
ことにより第８図に示す薄膜磁気ヘッド１が完成する。

この薄膜磁気ヘッド１の場合も、コア全体がセンダス
ト等の金属磁性体薄膜3a,3bからなるので、摺動ノイズ
がなくなり高周波特性が向上することから、ハードディ
スクドライブ装置のような高密度の磁気記録を行う磁気
ヘッドに適したものとなる。また、磁気記録媒体と近接
するフロントギャップ2aのトラック幅が金属磁性体薄膜
3a,3bの膜厚によって定まるので、製造の際のこのトラ
ック幅の高精度な管理が容易になり、これによっても高
密度の磁気記録を行う磁気ヘッドに適したものとなる。
しかも、コンポジットヘッド101のように、スライダ102
の溝部102a内にMIGヘッド103を埋め込み低融点ガラス10
4で融着するような作業がなくなるので、生産性が向上
する。

〔考案が解決しようとする課題〕

ところが、上記第８図の薄膜磁気ヘッド１では、コア
全体が金属磁性体薄膜3a,3bの膜厚（24μｍ〜12μｍ以
下）分の厚さしかないため、第９図（ホ）でスライダ部
４にヘッド部５を再度接合する際に、金属磁性体薄膜3a
と金属磁性体薄膜3bとの中心位置をフロントギャップ2a
側とバックギャップ2b側との両方で正確に合わせるため
の作業が困難なものになる。また、コア全体の厚さが薄
いため、磁路の磁気抵抗が大きくなる。

このため、従来は、高精度の薄膜磁気ヘッド１を高い
歩留まりで効率よく製造することが容易でなく、また、
磁気ヘッドとしての再生効率も低下するという問題が生
じていた。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題を解決するために、本考案は、スライダ部に
一方のコアが形成されると共に、このスライダ部にギャ
ップ形成膜を介して接合されたヘッド部に他方のコアが
形成され、これらのコアがスライダ部とヘッド部との接
合面における上下のフロントギャップとバックギャップ
とに関して上記ギャップ形成膜を介した磁路を形成する
ハードディスクドライブ装置用の薄膜磁気ヘッドにおい
て、バックギャップにおけるコアの磁路がスライダ部と
ヘッド部のバックギャップ側部分を構成する酸化物磁性
体ブロックによって形成されると共に、フロントギャッ
プにおけるコアの磁路がスライダ部とヘッド部のフロン
トギャップ側部分を構成する非磁性体ブロックの側面上
にそれぞれ形成された金属磁性体薄膜によって形成さ
れ、かつ、スライダ部の非磁性体ブロックの側面に形成
された金属磁性体薄膜とこのスライダ部の酸化物磁性体
ブロックとの接合部分の周囲にコイルパターンが薄膜形
成されたことを特徴としている。

〔作用〕

上記構成により、フロントギャップ側では、スライダ
部及びヘッド部の非磁性体ブロック上の金属磁性体薄膜
によってのみ磁路が形成される。このため、磁気記録媒
体に近接するフロントギャップは、従来と同様に金属磁
性体薄膜の膜厚分のトラック幅を有することになる。ま
た、バックギャップ側では、スライダ部及びヘッド部の
酸化物磁性体ブロックによって磁路が形成されるので、
ギャップ形成膜を介した磁路の接合面積が広くなり、磁
気抵抗も小さくなる。

このため、スライダ部とヘッド部とを接合して薄膜磁
気ヘッドを製造する際に、フロントギャップ側ではスラ
イダ部とヘッド部の金属磁性体薄膜の中心位置を確実に
合わせなければならないが、バックギャップ側では厳密
な位置合わせを要求されない。また、バックギャップ側
での磁気抵抗が小さくなることから、薄膜磁気ヘッドと
しての再生効率の向上も期待できる。さらに、薄膜のコ
イルパターンによってこの磁路に鎖交する巻線を形成す
るので、巻線を巻回する手間を省くことができる。

〔実施例〕

以下、図面を参照しながら、本考案の実施例を詳述す
る。

第１図は、本考案の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの
斜視図である。

この薄膜磁気ヘッド１は、第１図に示すようにスライ
ダ部４と２個のヘッド部５とから構成されている。

スライダ部４は、高速回転するディスク面上で浮上す
るための空気層を得るように方形の広い板状をしてい
て、第２図に示すように下層部がセラミックからなる非
磁性体ブロック40によって構成され、上層部がフェライ
トからなるスライダ部酸化物磁性体ブロック41によって
構成されている。スライダ部非磁性体ブロック40は、セ
ラミックス等の非磁性体からなり、ここではチタン酸カ
ルシウム（CaTiO₃）又はアルミナチタンカーバイト（Al
₂O₃TiC）等のセラミックスが用いられている。スライダ
部酸化物磁性体ブロック41は、フェライト等の酸化物磁
性体からなり、ここではうず電流損を低減するためにNi
−Znフェライトが用いられている。

また、このスライダ部４の両側面前方には、薄膜磁気
ヘッドのコイルパターン70とスライダ部金属磁性体薄膜
3aとが形成されている。このコイルパターン70は、まず
スライダ部４の両側面を覆う絶縁膜（図示しない）上に
第３図（イ）に示すような下部コイルパターン70aを形
成し、この下部コイルパターン70a上に絶縁膜（図示し
ない）を介して第３図（ロ）に示すような螺旋状の上部
コイルパターン70bを形成したものである。上部コイル
パターン70bは、螺旋状の中心がスライダ部４における
スライダ部酸化物磁性体ブロック41上に位置するように
形成される。また、下部コイルパターン70a上の絶縁膜
には予めこの下部コイルパターン70aの下端部に開口部
が設けられているため、この部分で上部コイルパターン
70bの螺旋状の中心端と接続され一連のコイルパターン7
0が形成される。これらのコイルパターン70a,70bは、ス
パッタリング等により導電性の高い金属薄膜を形成し、
これをフォトリソグラフィによって所定のパターンにし
たものである。

スライダ部金属磁性体薄膜3aは、第３図（ハ）に示す
ように上部コイルパターン70b上に絶縁膜（図示しな
い）を介して所定のパターンに形成される。

スライダ部金属磁性体薄膜3aの形成パターンは、一端
側が上記コイルパターン70の螺旋状の中心部に達し、他
端側がスライダ部４における非磁性体ブロック40上の前
方下端に達するものである。このスライダ部金属磁性体
薄膜3aは、センダスト等の金属磁性体からなり、ここで
はセンダスト又はCo−Zr−Niアモルファス等からなる金
属磁性体をスパッタリング等により24μｍ〜12μｍ程度
の厚さの薄膜に形成した後に、これをフォトリソグラフ
ィによって所定のパターンにしたものである。なお、こ
のスライダ部金属磁性体薄膜3a上にも保護のための絶縁
膜（図示しない）が形成される。

上記のようにしてコイルパターン70及びスライダ部金
属磁性体薄膜3aが形成されたスライダ部４の両側面下部
には、第２図に示すようなセラミックブロック８が接合
される。このセラミックブロック８は、非磁性体ブロッ
ク40と同様のセラミックからなり、コイルパターン70や
スライダ部金属磁性体薄膜3aを保護するためのものであ
る。なお、コイルパターン70は、第１図に示すように、
このセラミックブロック８よりも上方に上端引き出し部
を形成しているので、このコイルパターン70と外部回路
との接続は可能である。

ヘッド部５は、第４図に示すように、一対のヘッド部
ブロック50をヘッド部金属磁性体薄膜3bを介して接合し
たものである。ヘッド部金属磁性体薄膜3bは、上記スラ
イダ部金属磁性体薄膜3aと同様にセンダストをスパッタ
リング等により24μｍ〜12μｍ程度の厚さの薄膜に形成
したものである。一対のヘッド部ブロック50は、両者を
合わせて0.2mm〜0.3mm程度の厚さを有し、それぞれ下層
部がセラミックからなるヘッド部非磁性体ブロック40に
よって構成され、上層部がフェライトからなるヘッド部
酸化物磁性体ブロック41によって構成されている。この
ヘッド部５には低融点ガラス溝60が形成され、第１図に
示すように、この低融点ガラス溝60に充填された低融点
ガラス61によってスライダ部４の前方端面に接合されて
いる。ただし、このヘッド部５の接合面又はスライダ部
４の接合面には、接合前にギャップ形成膜（図示しな
い）が形成されている。従って、このヘッド部５の接合
面は、第５図に示すように、下方でスライダ部金属磁性
体薄膜3aと金属磁性体薄膜3bとがギャップ形成膜９によ
ってフロントギャップ2aを形成し、上方でスライダ部４
の酸化物磁性体ブロック41とヘッド部５の酸化物磁性体
ブロック41とが広い面積でバックギャップ2bを形成する
ことになる。

上記構成によりフロントギャップ2aでは、スライダ部
非磁性体ブロックとヘッド部非磁性体ブロックのスライ
ダ部金属磁性体薄膜3a、ヘッド部金属磁性体薄膜3bによ
ってのみ形成される。このため、磁気記録媒体に近接す
るフロントギャップ2aは、従来と同様にスライダ部金属
磁性体薄膜3a、ヘッド部金属磁性体薄膜3bの膜厚分のト
ラック幅を有することになる。また、バックギャップ側
では、十分な厚さを有するスライダ部酸化物磁性体ブロ
ックとヘッド部酸化物磁性体ブロックによって磁路が形
成されるので、ギャップ形成膜９を介した磁路の接合面
積が広くなり、磁気抵抗も小さくなる。

このため、スライダ部４とヘッド部５とを接合して薄
膜磁気ヘッド１を製造する際に、フロントギャップ2a側
ではスライダ部金属磁性体薄膜3aとヘッド部金属磁性体
薄膜3bの中心位置を確実に合わせなければならないが、
バックギャップ2b側では厳密な位置合わせを要求されな
い。また、バックギャップ2b側での磁気抵抗が小さくな
ることから、薄膜磁気ヘッド１としての再生効率の向上
も期待できる。さらに、薄膜のコイルパターン70によっ
てこの磁路に鎖交する巻線を形成するので、巻線を巻回
する手間を省くことができる。

〔考案の効果〕

以上の説明から明かなように、本考案の薄膜磁気ヘッ
ドによれば、バックギャップの磁路が十分な厚さを有す
る酸化物磁性体ブロックによって形成されるので、スラ
イダ部とヘッド部とを接合する際に、フロントギャップ
側での金属磁性体薄膜の中心位置のみを正確に合わせる
だけでよく、製造が容易となり生産性の向上を図ること
ができる。また、このバックギャップの磁路を形成する
酸化物磁性体ブロックによりコアの磁気抵抗が十分小さ
くできることから、薄膜磁気ヘッドとしての再生効率が
向上する。さらに、薄膜のコイルパターンによってこの
磁路に鎖交する巻線を形成するので、巻線を巻回する手
間を省くことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの斜視
図、第２図はこの薄膜磁気ヘッドのスライダ部の斜視
図、第３図（イ）〜（ハ）はいずれもコイルパターンと
金属磁性体薄膜の製造方法を示す説明図、第４図はヘッ
ド部の分解斜視図、第５図は薄膜磁気ヘッドの要部側面
図、第６図はコンポジットヘッドの斜視図、第７図はMI
Gヘッドの縦断面図、第８図は従来の薄膜磁気ヘッドの
斜視図、第９図（イ）〜（ホ）はいずれもこの薄膜磁気
ヘッドの製造方法を工程順に示す説明図である。１…薄膜磁気ヘッド、2a…フロントギャップ、2b…バッ
クギャップ、3,3a,3b…金属磁性体薄膜、４…スライダ
部、５…ヘッド部、40…非磁性体ブロック、41…酸化物
磁性体ブロック、70…コイルパターン。

Claims

(57)【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】上層部をスライダ部酸化物磁性体ブロック
（41）および下層部をスライダ部非磁性体ブロック（40）として積層してなるスライダ本体とこのスライダ本体の側面に螺旋の中心がスライダ部酸化物磁性体ブロック（41）上
に位置するコイルパターン（70）と、一端側が前記コイルパターン（70）の螺旋の中心部に達
し、他端側がスライダ部非磁性体ブロック（40）上の前方下端に達する磁気コア半体となるスライダ部金属磁
性体薄膜（3a）と、を有するスライダ部（４）と、上層部をヘッド部酸化物磁性体ブロックおよび下層部をヘッド部非磁性体ブロックとして積層してなる一対のヘッド部ブロックを前記磁気コア半体と対の他の磁気コア半体となるヘッド
部金属磁性体薄膜（3b）を介して接合したヘッド部とを、前記スライダ部（４）の前方端面にギャップ形成膜を介
してそれぞれの上層部および下層部どうしが略一致するよう
に接合してスライダ部金属磁性体薄膜（3a）、スライダ部酸化物磁
性体、ヘッド部酸化物磁性体、ヘッド部金属磁性体薄膜（3b）
によってループ状磁路を形成するようにフロントギャップ部（2a）ではスライダ部金属磁性体薄膜とヘッド部金属磁性体薄膜のみによって磁気ギャップを形成するようにし、バックギャップ部ではスライダ部酸化物磁性体ブロック
（41）とヘッド部酸化物磁性体ブロックとが広い面積で対接した薄膜磁気ヘッド