JPH03228209A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、センダスト等の金属磁性体薄膜をコアに使用
し・た薄膜磁気ヘッド二こ（以下、薄膜ヘッドと称する
）間する。

〔従来の技術〕

大型コンピュータや近年では、パーソナルコンピュータ
にも用いられるようになって来たハードディスクドライ
ブ装置は、磁気記録媒体が塗布されたディスクが３００
０ｒｐｍ〜３６００　ｒ　ｐｍの高速で回転するため、
スライダと一体化された磁λノ＼ソトかディスク面から
僅かに浮上し・た状態で情報の読み書きを行うようにな
っている。

このようなハードディスクドライブ装置の磁ｌヘッドと
して；ま、第３図に示すコンポジットヘッド１０１と称
されるものがあった。このコンポジットヘッド１０１は
、七うミンクスからなるスライダ１０２に形成された溝
部１０２ａ内にさｉｌＧヘッド１０３（メタル・イン・
ギャップ°・ヘッド）を埋め込んで低融点ガラス１０４
で融着一体化することにより得られる。

ＭＩＧヘッド１０３は、第４図に示すように、フェライ
ト等の酸化物磁性体からなる２つのコアチップ１０３ａ
の接合面にそれぞれセンダスト等の金属磁性体薄膜１０
３ｂが薄膜形成され、この金属磁性体薄膜１０３ｂが形
成された接合面同士をギャップ形成膜１０３Ｃを介して
低融点ガラス１０３ｄにより融着接合することによって
ギヤング１０３ｅが形成されたものである。このＭＩＧ
ヘッド１０３は、８１気記録媒体二こ近接するギヤツブ
１０３ｅ部分のコアに金属磁性体薄膜１０３ｂを用いる
二とここより、高抗磁力媒体ミニ十分な飽和記録ができ
るため、線記録’！度を向上させる二とができる二とか
ら、ハードディスクドライブ装置のような高密度の磁気
記録を行う磁気ヘッドに適したものとなる。

たたし、このコンポシフト・＼ブト１０１は、スライダ
１０２の１部１０２ａ内にへ４１Ｇ／＼ツト１Ｏ３を埋
め込み低融点ガラス１０４て触着させる作業が容易でな
く、生産性が低いものであった。

そこで、従来は、第５図に示すように、コアを全てセン
ダスト等の金属磁性体薄膜で形成した薄膜ｌ＼ラッドが
使用されていた。この薄膜ヘッド１は、フロントギャッ
プ２ａ及びバックギャップ２ｂを介し・て一方のコアを
形成する金属磁性体薄膜３ａがスライダ部４を構成する
セラミック製のスライダ部ブロック４ａの各接合面間に
挟み込まれるようにして形成されている。また、フロン
トギャップ２ａ及びハックギャップ２ｂを介して他方の
コアを形成する金ｒｌＬ磁性体薄膜３ｂは、ヘッド部５
を構成するセラミック製のｌ＼ット部ブロノブロック５
ａ合面間に挟み込まれるよう；こして形成されている。

このｌ＼・ソト部５は、ギャップ形成膜（図示し・ない
）を介してスライダ部４に接合されていて、このヘッド
部５の接合面に形成された巻線溝６の上下ミニ上記フロ
ントギャップ２ａとバックキャップ２１〕とが形成され
る二とになる。そし・で、この・′＼ノド部５の巻線溝
６を通して巻線７か施されることにより薄膜ヘッド１が
磁気ヘッドとして機能する。

上記第５図の薄膜ヘッド１の製造は、通常次のようにし
て行われる。なお、ここでは簡単のために薄膜ヘッド１
がＩＷＡだけの場合について示す。

まず第６図（イ）に示すようにセラミック板を２分割し
て分割ブロック４０を得る。一方の分割ブロック４０は
、第６図（ロ）に示すように、分割面にセンダスト等か
らなる金属磁性体薄膜３が薄膜形成される。そして、こ
れら分割ブロック４０をそれぞれの分割面を接合面とし
て再び接合一体１ヒし、第６図（ハ）の分割ブロック接
合体４１を得る。次に、この分割ブロック接合体４１を
一端部分て前記分割方向とは直交する方向に切断し、第
６図（ニ）′、こ示すように、スライダ部ブロック４ａ
及び金属磁性体薄膜３ａからなるスライダ部４と、ヘッ
ド部ブロック５ａ及び金属磁性体′ＪＩｌｌ１３ｂから
なるｌ＼フット５とに分割する。また、このヘッド部５
は、金属磁性体薄膜３ｂを中心にし。

てｌ＼ット部ブロノブロック５ａを切り落とし・てＯ１
２■〜Ｏ−３ｎｖ程度の厚さとなるようにすると共に、
分割面に巻線溝６を形成する。そして、第６図（ホ）！
こ示すようにスライダ部４とヘッド部５の分割面を接合
面として再びこれらを接合一体化する。ただし、このス
ライダ部４とヘッド部５の接合面の何れかには、接合前
に非磁性体、例えばガラスのギャップ形成膜（図示しな
い）を薄膜形成しておく。すると、このスライダ部４と
ヘッド部５の上下の接合面に金属磁性体薄膜３　ａ、　
　３　ｂのフロントギャップ２ａ及びバックギャップ２
ｂが形成され、巻線溝６を通し・て巻線７を施すことミ
ニより１５図に示す薄膜ヘッド１が完成する。

この薄膜ヘラＦ’　１の場合も、コア全体がセンダスト
等の金属磁性体薄膜３ａ、３ｂからなるので、摺動ノイ
ズがなくなり高周波特性が向上することから、ハードデ
ィスクドライブ装置のような高密度の磁気記録を行う磁
気ｌ＼フット適したものとなる。また、磁気記録媒体と
近接するフロントギャップ２ａのトラック幅が金属磁性
体薄膜３ａ、３ｂの膜厚によって定まるので、製造の際
のこのトラック幅の高精度な管理が容易になり、−これ
によっても高密度の磁気記録を行う磁気ヘッドに適した
ものとなる。しかも、コンポジットヘッド１０１のよう
に、スライダ１０２の溝部１０２ａ内にＭＩＧヘッド１
０３を埋め込み低融点ガラス１０４て融着するような作
業がなくなるので、生産性が向上する。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上記第５図の薄膜ヘッド１て；よ、コア全体
が金属磁性体１膜３ａ、３ｂの膜厚（２４μｍ〜１２μ
ｍ以下）分の厚ざしかないため、第６図（ホ）でスライ
ダ部４にヘッド部５を再度接合する際に、金属磁性体薄
膜３ａと金属磁性体薄膜３ｂとの中心位置をフロントギ
ャップ２ａ側とハックギヤツブ２ｈ側との両方で正確：
こ合わせるための作業が困難なもの；こなる。また、コ
ア全体の厚さが薄いため、磁路の磁気抵抗が大きくなる
。

このため、従来は、高精度の薄膜ヘッド１を高い歩留ま
りで効率よく製造することが容易でなく、また、８ｉｙ
Ｃヘツトとしての再生効率も低下するという問題が生じ
ていた。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題を解決するために、本発明は、スライダ部が金
属磁性体薄膜を介して非磁性体が接合された少なくとも
一対のスライダ部ブロックからなると共に、このスライ
ダ部にギャップ形成膜を介し・て巻線溝の上下の接合面
で接合されたヘッド部が金属磁性体１膜を介して非磁性
体が接合された少なくとも一対のヘッド祁ブロックから
なり、これらスライダ部とヘッド部の金属磁性体薄膜が
ヘッド部のスライダ部への接合面における巻線溝の上下
のフロントギャップとパックギャツブとについて上記キ
ャップ形成膜を介し・た磁路を形成したハードディスク
ドライブ装置用の薄膜ヘッドにおいて、上記スライダ部
ブロックとｌ＼フットフロックにおけるフロントキャッ
プ側部分が非磁性体７０ツクによって構成されると共に
、このスライダ部ブロックとヘッド部ブロックにおＣす
るバックギャップ側部分が酸化物磁性体フロックによっ
て構成されたことを特徴としている。

〔作　用〕

上記構成により、薄膜ヘッドのフロントギャップ側では
、金属磁性体薄膜がスライダ部ブロック及びヘッド部ブ
ロックの非磁性体ブロックによって両側を挟まれるので
、磁路がこの金属磁性体薄膜部分だけとなる。このため
、磁気記録媒体に近接するフロントギャップは、従来と
同様に金属磁性体薄膜の膜厚分のトラック幅を有するこ
とになる。また、パックギャップ側では、金属磁性体薄
膜がスライダ部ブロック及びヘッド部ブロックの酸化物
磁性体ブロックによって両側を挟まれるので、磁路がこ
れら酸化物磁性体ブロック部分にまで広がる。このため
、パックキャップでは、ギヤツブ形成膜を介した磁路の
接合面積が広くなり、磁気抵抗も小さくなる。

このため、スライダ部とヘッド部とを接合して薄膜ヘッ
ドを製造する際に、スライダ部とヘッド部の金属磁性体
薄膜の中心位置をフロントギャップ側で確実に合わせさ
えすれば、バックギャップ側では多少のずれがあっても
支障は生しない。また、ハックギャップ側での磁気抵抗
が小さくなることから、薄膜ヘッドとしての再生効率の
向上も其月１寺で　き　る。

〔実施例〕

以下、図面を参照しながら、本発明の実施例を詳述する
。

第１図は、本発明の一実施例に係る薄膜ヘッドの斜視図
である。

この薄膜ヘッド１は、スライダ部４と２個のヘッド部５
とから構成されている。スライダ部４は、互いに接合さ
れた３個のスライダ部ブロック４ａとこれらの接合面間
に形成された金属磁性体薄膜３ａとからなり、高速回転
するディスク面上で浮上するための空寛層を得るように
方形の広い板状をし・でいる。このスライダ部ブロック
４ａは、下層部がセラミックからなる非磁性体ブロック
５０ａによって構成され、上層部がフェライトからなる
酸化物磁性体ブロック５０ｂによって構成されている。

ヘッド部５は、互いに接合された一対のノ＼ット部フロ
ック５ａとこの接合面間に形成された金属磁性体薄膜３
ｂとからなり、接合−面に巻線溝６を形成したコの字形
状をしている。ヘッド部ブロック５ａは、上記スライダ
部ブロック４ａと同様に、下層部がセラミックからなる
非磁性体ブロック５０ａによフて構成され、上層部がフ
ェライトからなる酸化物磁性体ブロック５０ｂによフて
構成されている。そして、このヘッド部５は、スライダ
部４の金属磁性体薄膜３ａが露出する側面に、接合面が
ギャップ形成膜（図示しない）を介して接合されている
。このため、ヘッド部５における巻線溝６の下方で金ｍ
磁性体薄膜３ａと金属磁性体薄膜３ｂとがギャップ形成
膜を介して接合される部分がフロントギャップ２ａを構
成し、巻線溝６の上方で金属磁性体薄膜３ａと金属磁性
体１膜３ｂとがギャップ形成膜を介して接合される部分
がパックギャツブ２ｂを構成することになる。また、こ
のヘッド部５の巻線ｍ６には、巻線７が施されている。

上記第１図の薄膜ヘッドｌの製造は、次のように行われ
る。なお、二こでは説明を容易にするために薄膜ヘッド
ｌが１個だけの場合について示す。

まず第２図（イ）に示す板状の非磁性体ブロック５０ａ
上に板状の酸化物磁性体ブロック５０ｂが積層されて、
第２図（ロ）に示すブロック積層体５０を得る。非磁性
体ブロック５０ａは、セラミックス等の非磁性体からな
り、ここではチタン酸カルシウム（ＣａＴｉＯ＝）又は
アルミナチタンカーバイト（Ａ１２０３　Ｔ　ｉＣ）等
のセラミックスが用いられている。酸化物磁性体ブロッ
ク５０ｂは、フェライト等の酸化物磁性体からなり、こ
二てはうず電流損を低減するためにＮｉ−Ｚｎフェライ
トが用いられている。

ブロック積層体５０は、第２図（ハ）に示すように積層
面；こ直交する方向に２分割されて分割ブロック積層体
５１ａを得る。そして、一方の分割ブロック積１体５１
ａの分割面には、第２図（ニ）に示すように金＠磁性体
渾Ｍ３が、例えば、スパッタリング技術を用いて薄膜形
成される。金属磁性体重Ｍ３；よ、七ンダスト等の金属
磁性体からなり、ユニでは七ンダスト又；よＣｏ−Ｚｒ
−Ｎｉアモルファス等からなる金属磁性体をスパッタリ
ング等により２４μｍ−１２μｍ程度の厚さの薄膜状に
形成したものを用いている。なお、この金属磁性体薄膜
３は、例えば０．１μｍ程度の絶縁層を介して６μｍず
つの２層構造に形成すれば、うず電流損をほぼ完全にな
くすことができ高周波特性をさらに向上させることがで
きる。他方の分割ブロック積層体５１ａの分割面には、
スパッタリングにより低融点ガラス（図示しない）の薄
膜が形成される。そして、これらの分割ブロック積層体
５１ａの分割面を接合面として再び重ね合わせ、加圧し
ながら６５０℃〜７５０℃程度に加熱し、上記低融点ガ
ラスによって融着させる二とにより第２図（ホ）に示す
分割ブロック接合体δｌを得る。

この分割ブロック接合体５１は、一端部分で前記分割方
向とは直交する方向に切断され、第２図（へ）に示すよ
うに、スライダ部ブロック４ａ及び金属磁性体ＪｌｌＩ
３ａからなるスライダ部４と、ヘッド部ブロック５ａ及
び金ｒｌＩｋ磁性体薄膜３ｂからなるヘンド部５とに分
割される。また、このヘッド部５は、金属磁性体１膜３
ｂを中心にしてヘッド部ブロック５ａの両側を切り落と
して０．　２ｍｍ〜０．　３ｍｍ程度の厚さどなるよう
にすると共に、分割面に巻線ａ６を形成する。そして、
第２図（ト）に示すようにスライダ部４とヘッド部５の
分割面を接合面として再びこれらを低融点ガラスによっ
て接合一体止する。たたし、このスライダ部４とヘッド
部５の接合面の何れかには、接合前にギャップ形成膜（
図示しない）を薄膜形成しておく。すると、このスライ
ダ部４とヘッド部５の上下の接合面に金属磁性体薄膜３
ａ、３ｂのフロントギャップ２ａ及びバンクギャップ２
ｂが形成され、巻線溝６を通し・て巻線７を施す二とに
より第１図に示す薄膜ヘッド１が完成する。

上記構成により本実施例の薄膜ｌ＼ツＦ’　１は、フロ
ントギャップ２ａ側において金属磁性体薄膜３ａ、３ｂ
がスライダ部ブロック４ａ及びヘッド部ブロック５ａの
下層の非磁性体７０ツク５０ａによって両側を挟まれる
ので、磁路がこの金属磁性体重膜３　ａｔ　　３　ｂ部
分だけとなる。このため、磁気記録媒体に近接するフロ
ントギャップ２ａは、従来と同様に金属磁性体薄膜３ａ
、３ｂの膜厚く２４μｍ〜１２μｍ以下）分のトラック
幅を有することになる。また、パックギャップ２ｂ側で
は、金属磁性体薄膜３　ａｔ　　３　ｂがスライダ部ブ
ロンク４ａ及びヘッド部ブロック５ａの上層の酸化物磁
性体ブロック５０ｂによって両側を挟まれるので、磁路
がこれら酸化物磁性体ブロック５０ｂ部分にまで広がる
。このため、パックギャップ２ｂでは、ギャップ形成膜
を介し・た磁路の接合面積が広くなり、磁気抵抗も小さ
くなる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明かなようここ、本発明の薄膜磁気ノ＼
ソトによれば、バックギャップ側における金属磁性体薄
膜の両側に酸化物磁性体ブロックが配置されるので、ス
ライダ部とヘッド部とを接合する際に、フロントキャッ
プ側での金＠磁性Ｉ４：薄膜の中心位ＩＯ′）みな正確
ミニ合わせるたけてよく、製造が容易となり生産性の向
上を図る二とができる。

また、このパックギャップ側での酸化物磁性体ブロック
によりコアの磁気抵抗が十分小さくてきることから、薄
膜磁気ヘッドとしての再生効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの斜視
図、第２図（イ）〜（ト）はいずれもこの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法を工程順に示す説明図、１３図はコンポジ
ットヘッドの斜視図、第４図はＭＩＧヘッドの縦断面図
、第５図は従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第６図（イ
）〜（ホ）はいずれもこの薄膜磁気ヘッドの製造方法を
工程順に示す説明図である。 １　・・・薄膜磁気へ　ッ　ト、 ２ａ・・・フロントギャップ、 ２ｂ・・・バンクギャップ、 ３．３ａ、３ｂ・・・金属磁性体薄膜、Ｊ・・・スライ
ダ部、 ４ａ・・・スライダ部フロック、 ５・・・・＼ット部、 ５ａ・・・ヘッド部ブロック、 ６・・・巻線溝、 ５０ａ・・・非磁性体ブロック、 ５０ｂ・・・酸化物磁性体ブロック。 特　　許　　出　　願　　人 関西日本電気株式会社 第 図 第２図 簗２図 策２図 ０ 第３図 第４図 　０３ｃ へ− ０３ｅ 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）スライダ部が金属磁性体薄膜を介して非磁性体が
   接合された少なくとも一対のスライダ部ブロックからな
   ると共に、このスライダ部にギャップ形成膜を介し巻線
   溝の上下の接合面で接合されたヘッド部が金属磁性体薄
   膜を介して非磁性体が接合された少なくとも一対のヘッ
   ド部ブロックからなり、これらスライダ部とヘッド部の
   金属磁性体薄膜がヘッド部のスライダ部への接合面にお
   ける巻線溝の上下のフロントギャップとバックギャップ
   とについて、上記ギャップ形成膜を介した磁路を形成し
   たハードディスクドライブ装置用の薄膜磁気ヘッドにお
   いて、 上記スライダ部ブロックとヘッド部ブロックにおけるフ
   ロントギャップ側部分が、非磁性体ブロックによって構
   成されると共に、このスライダ部ブロックとヘッド部ブ
   ロックにおけるバックギャップ側部分が、酸化物磁性体
   ブロックによって構成されたことを特徴とする薄膜磁気
   ヘッド。