JPH0540910A - 狭トラツク磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 製造工程数を増加させることなく、狭トラッ
ク化に伴う磁気抵抗増加を改善する。 【構成】 メタル・イン・ギャップ型磁気ヘッドの磁気
コア半体を構成するコアブロックにトラック幅規制溝
２，７を直線的に、砥石による研削深さを、コア前方側
で深く、後方側で浅く切り込んでトラック幅規制溝２，
７の深さ及び幅を前方側で大、後方側で小に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は狭トラック磁気ヘッド、
特に２５μｍ以下、なかんづく１０μｍ以下のトラック
幅を有し、磁気コア半体の磁気ギャップを形成する互い
の突き合わせ面に強磁性金属薄膜が被着された構成を採
るといわゆるメタル・イン・ギャップ型の狭トラック磁
気ヘッドの製造方法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】本願出願人は、先に特開昭６０−２２９
２１０号に開示されている例えばメタルテープ等の高い
抗磁力を有する磁気テープに高密度記録するのに適した
磁気ヘッドを提案した。

【０００３】この磁気ヘッドは、図６Ｂに示すように、
メタル・イン・ギャップの型の構成を採り、一対の磁気
コア半体２１，２２を高透磁率のＭｎ−Ｚｎフェライト
等の強磁性酸化物により形成するとともに、これら磁気
コア半体２１，２２の突き合わせ面を斜めに切り欠き、
この斜面３上にセンダスト等の飽和磁束密度の高い強磁
性金属薄膜５を被着形成し、これら強磁性金属薄膜５を
当接させることにより両者間に磁気ギャップｇを形成す
る。そして、この磁気ギャップｇの例えば両端にトラッ
ク幅規制溝２及び７が切り込まれ、これら溝２及び７内
にテープ摺接面を確保し強磁性金属薄膜５の摩耗を防止
するため等の非磁性材６及び１３が充填されて構成され
るものであって、この場合信頼性や磁気特性、耐摩耗性
等の点で優れた特性を有するものである。

【０００４】この種の磁気ヘッドの製造方法としては、
例えば同様に本出願人によって提案した特開昭６１−１
０５７１０号公報に開示されている方法がある。

【０００５】この方法を図４〜図６を参照して説明す
る。この場合、先ず、表面をラップ処理等により平行度
良くかつ平滑度良く加工された例えばＭｎ−Ｚｎフェラ
イトよりなる強磁性酸化物基板１を用意する。

【０００６】そして図４Ａに示すように、この強磁性酸
化物基板１の磁気ギャップ形成面に対応する主面１ａ
に、第１のトラック幅規制溝２を直線的に回転砥石加工
により全域に亘って同一幅及び同一深さに複数平行に形
成する。

【０００７】これら第１の溝２にはその側面に強磁性金
属薄膜形成面に対する垂直に非らざる斜面３を形成す
る。この斜面３は、基板１の主面１ａに対し角度θで傾
斜しているが、この角度θは、２０°〜８０°程度の範
囲に設定することが好ましい。

【０００８】次いで、図４Ｂに示すように、強磁性酸化
物基板１に対しスパッタにより斜面３上に強磁性金属薄
膜５を形成する。

【０００９】そして、図４Ｃに示すように、強磁性酸化
物基板１の強磁性金属薄膜５によって覆われた第１の溝
２内に、ガラス等の非磁性材６を充填し、基板１の主面
１ａ上の強磁性金属薄膜５を平面研削して除去する。

【００１０】さらに、図５Ａに示すように、強磁性金属
薄膜５を被着した斜面３と隣接し、上記第１の溝２と平
行に、同様に全域に亘って同一幅及び深さとされた複数
の第２のトラック幅規制溝７を形成する。このとき第２
の溝７の切削位置は、この溝７が斜面３上に形成される
強磁性金属薄膜５の、基板１の主面１ａと同一面とされ
た端面５ａとほぼ一致するように設定されている。次い
で主面１ａを平面研磨し、さらに鏡面仕上げを行ない、
トラック幅Ｔｗの矯正を行うとともに、主面１ａすなわ
ち磁気ギャップ形成面に、第１の及び第２のトラック幅
規制溝２及び７によりトラック幅が規制され、主面１ａ
に斜面３上の強磁性金属薄膜５の端面が臨む対のコアブ
ロック１５及び１６（図においては一方のブロック１５
のみを示している）を作成する。

【００１１】そして、一方のブロック１６に対し、図６
Ｂに示すように、トラック幅規制溝２及び７に直交して
巻線溝１１を形成する。

【００１２】次に、図６Ａに示すように、コアブロック
１５及び１６を、互いに第１のトラック幅規制溝２が他
のコアブロック１６及び１５の第２のトラック幅規制溝
７と対向し、例えばコアブロック１５及び１６を、これ
らの主面１ａのいずれか一方に膜付けされたギャップス
ペーサを介して、それぞれの強磁性金属薄膜５が一致す
るように重ね合わせ、両者間に磁気ギャップｇを形成し
て合体させる。この場合、例えば巻線溝１１内にガラス
等の非磁性材１３を溶融してこれら一対のコアブロック
１５，１６を融着するとともにこの非磁性材１３を各第
２の溝７内に充填し、両コアブロック１５及び１６を合
体する。

【００１３】このようにしてコアブロック１５及び１６
が合体された合体ブロックを図６Ａ中ａ−ａ線、ａ′−
ａ′線の位置でスライシング加工し、複数個のヘッドチ
ップを切り出した後、磁気記録媒体との対接面を円筒研
磨して形成し、図６Ｂに示すような強磁性金属薄膜５が
所要角度で傾斜し、かつ磁気ギャップｇが強磁性金属薄
膜５のみで構成され、さらに強磁性酸化物により形成さ
れる磁気コア半体２１，２２が磁気ギャップ近傍部にお
いて精度良く加工された磁気ヘッドを得る。

【００１４】このような構成による磁気ヘッドは、磁気
ギャップのトラック幅をＴｗとすると、強磁性酸化物基
板１に被着形成される強磁性金属薄膜５の膜厚ｔは、 ｔ＝Ｔｗｓｉｎθ でよいことから、トラック幅に相当する膜厚を膜付けす
る必要がなく、ヘッド作製に要する時間を短縮すること
ができることになる。

【００１５】更にまた、このような構成による磁気ヘッ
ドは、強磁性金属薄膜５が傾いて形成されることから、
磁気記録媒体との対接面に臨んで形成される強磁性金属
薄膜５と、フェライト等より成るコア部との間に発生す
る擬似ギャップと、本来の磁気ギャップｇとは互いに非
平行に形成される。したがって擬似ギャップにおけるア
ジマス損が大となり、この擬似ギャップによる実質的影
響を小さくできるというものである。

【００１６】一方、昨今、より記録密度の高密度化の要
求から、この種のメタル・インギャップ型でかつ傾斜型
構造を有する磁気ヘッドにおいて、２５μｍ以下のトラ
ック幅の要求にとどまらず、更に、２．５μｍ² ／ｂｉ
ｔ、或いは１μｍ² ／ｂｉｔへとその高密度化が進む
と、そのトラック幅は１０μｍ以下、或いは５〜４μｍ
以下へとその要求が、より狭トラック化へと進む。

【００１７】このように狭トラック化が進むにつれ、前
述の第１及び第２の溝２及び７はその深さが著しく大と
なる。これら溝２及び７を上述したように、回転砥石加
工等により形成するとその幅も大となる。

【００１８】そして、これら第１及び第２の溝２及び７
は、いずれも、上述したように磁気コアブロック１５，
１６の一部から成るコア半体２１及び２２において、そ
の全長に亘って同一深さ及び幅に形成していることか
ら、磁気ギャップを形成する前方コア部のみならず後方
コア部においても、両コアを横切る磁路の断面積が小と
なるものであり、上述したようにそのトラック幅Ｔｗを
が２５μｍ以下、特に１０μｍ以下にすべく、第１及び
第２のトラック幅規制溝２及び７となると磁気抵抗が著
しく増加して来てこれによって磁気ヘッドの電磁変換特
性が劣化するという問題が生じて来る。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した狭
トラックのいわゆるメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘ
ッドの製造方法において、何ら工程数等の増加を来すこ
となく、充分な狭トラック化をはかり、しかも電磁変換
効率の低下を回避することができるようにした磁気ヘッ
ドを製造することができるようにする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明は、図１にその一
例の斜視図を示すように、対の磁気コア半体２１及び２
２の磁気ギャップｇを形成する突き合わせ面に強磁性金
属薄膜５が被着されて成る狭トラック磁気ヘッドの製造
方法において、磁気コア半体２１及び２２を得るコアブ
ロックに対するトラック幅規制溝２及び７の形成を、先
細テーパを有する砥石による研削によって直線的にかつ
砥石による研削深さを変えてトラック幅規制溝２及び７
の幅を磁気ギャップ形成側の前方側に比して後方側で幅
狭として磁気ギャップｇのトラック幅に比し大なるコア
厚を有する後方コア部を形成する。

【００２１】

【作用】上述したように本発明方法では、トラック幅規
制溝を砥石研削加工によって直線的に形成し、しかもそ
の研削の深さをコアの後方側で前方側より浅くして、そ
の深さと幅を後方側で小さくしたので、最終的に得たメ
タル・イン・ギャップ型、即ち磁気ギャップｇの形成部
が強磁性金属薄膜５より成る磁気ヘッドはそのトラック
幅Ｔｗが２５μｍ以下の１０μｍ以下に及ぶものであっ
ても、後方側のいわば磁気ヘッドの主磁路となる部分で
は、その磁路の断面積の減少を小さく抑えることができ
るので、磁気抵抗の増加を抑制でき、この磁気抵抗の増
加に伴う電磁変換効率の低下も回避できる。

【００２２】また、本発明方法では、トラック幅規制溝
の形成作業において、砥石による研削深さを変えるのみ
であるので製造工程数の増加を来すこともない。

【００２３】

【実施例】本発明方法によって、図１に示すように、磁
気ギャップｇの形成面が強磁性金属薄膜５によって形成
され、この強磁性金属薄膜５が傾いて形成されたメタル
・イン・ギャップ型狭トラック磁気ヘッドを得る場合の
一例を、図２及び図３の工程図を参照して説明する。

【００２４】先ず、前述したと同様に、表面をラップ処
理等により平行度良くかつ平滑度良く加工された例えば
Ｍｎ−Ｚｎフェライトよりなる強磁性酸化物基板１を用
意する。

【００２５】そして図２Ａに示すように、この強磁性酸
化物基板１の磁気ギャップ形成面に対応する主面１ａ
に、第１のトラック幅規制溝２を直線的に回転砥石加工
によって形成するが、特に本発明においては、この第１
のトラック幅規制溝２の、最終的に得る磁気ヘッドの磁
気記録媒体との対接面に臨んで形成する磁気ギャップの
形成側となる前方側の深さ及び幅をそれぞれＤ_F1及びＷ
_F1とし、後方側の深さ及び幅をそれぞれＤ_B1及びＷ_B1と
するとき、Ｄ_B1＜Ｄ_F1、Ｗ_B1＜Ｗ_F1に選定する。

【００２６】このような溝２の加工は、回転砥石の外周
縁（先端）の断面が先細の例えば断面３角形を有する砥
石を用い、その切り込み深さを前方側と後方側とで変え
ることによって、即ち後方側で浅く、前方側で深くす
る。

【００２７】このようにして斜面３を一側面に有する第
１のトラック幅規制溝２を形成する。したがってこの斜
面の幅は前方での幅をＬ_F とし、後方部での幅をＬ_B と
すると、Ｌ_B ＜Ｌ_F となる。

【００２８】そして、図２Ｂに示すようにこの斜面３
に、強磁性金属薄膜５を被着形成する。

【００２９】強磁性金属薄膜５の材質としては、強磁性
非晶質金属合金いわゆるアモルファス合金（たとえばＦ
ｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの
１つ以上の元素とからなる合金または、これを主成分と
しＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍ
ｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金）、Ｆｅ−
Ａｌ−Ｓｉ系合金であるセンダスト合金、Ｆｅ−Ａｌ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ系合金、パーマロイ等が使用可能であ
り、その膜付け方法としても、フラッシュ蒸着、ガス中
蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、クラス
ター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術
が採用される。

【００３０】そして、図２Ｃに示すように、強磁性酸化
物基板１の強磁性金属薄膜５によって覆われた第１の溝
２内に、ガラス等の非磁性材６を充填し、基板１の主面
１ａの上の強磁性金属薄膜５を平面研削して除去する。

【００３１】さらに、３Ａに示すように、強磁性金属薄
膜５を被着した斜面３と隣接し、上記第１の溝２と平行
に、同様に複数の第２のトラック幅規制溝７を同様に、
直線的に、回転砥石加工によって形成する

【００３２】この場合においても、その第２のトラック
幅規制溝７の磁気ギャップの形成側となる前方側の深さ
及び幅をそれぞれＤ_F2及びＷ_F2とし、後方側の深さ及び
幅をそれぞれＤ_B2及びＷ_B2とするとき、Ｄ_B2＜Ｄ_F2，Ｗ
_B2＜Ｗ_F2に選定する。

【００３３】このような溝７の加工も、回転砥石の外周
縁の断面が周縁に向って先細の例えば断面台形状の砥石
を用い、その切り込み深さを前方側と後方側とで変える
ことによって、即ち後方側で浅く、前方側で深くする。

【００３４】この第２のトラック幅規制溝７の形成位置
は、この溝７の幅広前方部において、この溝７の一方の
側縁が、第１のトラック幅規制溝２の斜面３上に形成さ
れる強磁性金属薄膜５の、基板１の主面１ａと同一面と
された端面５ａとほぼ一致するように設定されている。
次いで主面１ａを平面研磨し、さらに鏡面仕上げを行な
い、トラック幅Ｔｗの矯正を行うとともに、主面１ａす
なわち磁気ギャップ形成面に、第１及び第２のトラック
幅規制溝２及び７によりトラック幅が規制され、主面１
ａに斜面３上の強磁性金属薄膜５の端面が臨む対のコア
ブロック１５及び１６（図においては一方のブロック１
５のみを示している）を作成する。

【００３５】そして、一方のブロック１６に対し、図３
Ｂに示すように、トラック幅規制溝２及び７に直交して
巻線溝１１を形成する。

【００３６】次に、図３Ｃに示すように、コアブロック
１５及び１６を、互いに第１のトラック幅規制溝２が他
のコアブロック１６及び１５の第２のトラック幅規制溝
７と対向し、例えばコアブロック１５及び１６の主面の
いずれか一方に膜付けされたギャップスペーサを介し
て、強磁性金属薄膜５，５が一致するように重ね合わ
せ、両者間に磁気ギャップｇを形成して合体させる。こ
の場合、例えば巻線溝１１内にガラス等の非磁性材１３
を溶融しこれら一対のコアブロック１５，１６を融着す
るとともにこの非磁性材１３を各第２の溝７内に充填
し、両コアブロック１５及び１６を合体する。

【００３７】このようにしてコアブロック１５及び１６
が合体された合体ブロックを図３Ｃ中ａ−ａ線、ａ′−
ａ′線の位置でスライシング加工し、複数個のヘッドチ
ップを切り出した後、磁気記録媒体との対接面を円筒研
磨して形成し、図１に示すような強磁性金属薄膜５が所
要角度で傾斜し、かつ磁気ギャップｇが強磁性金属薄膜
５のみで構成され、さらに強磁性酸化物により形成され
る磁気コア半体２１，２２が磁気ギャップ近傍部におい
て精度良く加工された磁気ヘッドを得る。

【００３８】そして、巻線溝１１を通じてヘッド巻線２
３を巻装する。このようにしてメタル・イン・ギャップ
型でかつ傾斜型の磁気ヘッド３０を得る。そして、この
ようにして得た磁気ヘッド３０は、非磁性材６及び１３
が埋込まれるトラック幅規制溝２及び７の深さ及び幅を
磁気ギャップｇの形成部の前方においては、所定の深さ
及び幅、特にギャップのトラック幅を規定する正確で、
かつ所要の深さに設定するものであるが、後方部、特に
実質的に磁気ギャップｇの深さを規制する巻線溝１１よ
り後方においては、両溝２及び７の深さ及び幅を小さく
するものであることから、この後方部における非磁性材
６及び１３の存在する占有断面積を小さく、ひいては、
磁路の断面積を大とするものである。

【００３９】尚、トラック幅規制溝２及び７の斜面の傾
きθは０°＜θ≦６０°とし得るが、高記録密度化か
ら、磁気ギャップのトラック幅Ｔｗを２５μｍ以下、な
かんづく１０μｍ以下とするときは、後方でのトラック
幅は、Ｔｗの１．５〜５倍とするものである。

【００４０】このように本発明製法では、狭トラック化
にするにも拘わらず、磁路の断面積が非磁性材６及び１
３の存在によって低減化され磁気抵抗が著しく大となる
ことを効果的に回避できる。

【００４１】

【発明の効果】上述したように本発明方法では、トラッ
ク幅規制溝を砥石研削加工によって直線的に形成し、し
かもその研削の深さをコアの後方側で前方側より浅くし
て、その深さと幅を後方側で小さくしたので、最終的に
得たメタル・イン・ギャップ型、即ち磁気ギャップｇの
形成部が強磁性金属薄膜５より成る磁気ヘッドはそのト
ラック幅Ｔｗが１０μｍ以下に及ぶものであっても、後
方側のいわば磁気ヘッドの主磁路となる部分では、その
磁路の断面積の減少を小さく抑えることができるので、
磁気抵抗の増加を抑制でき、この磁気抵抗の増加に伴う
電磁変換効率の低下も回避できる。また、本発明方法で
は、トラック幅規制溝の形成作業において、砥石による
研削深さを変えるのみであるので製造工程数の増加を来
すこともない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明製法によって得た磁気ヘッドの一例の斜
視図である。

【図２】本発明製法の一例の一部の工程の斜視図（その
１）である。

【図３】本発明製法の一例の一部の工程の斜視図（その
２）である。

【図４】従来製法の一部の工程の斜視図（その１）であ
る。

【図５】従来製法の一部の工程の斜視図（その２）であ
る。

【図６】従来製法の一部の工程の斜視図（その３）であ
る。

【符号の説明】

２ 第１のトラック幅規制溝 ７ 第２のトラック幅規制溝 ３ 斜面 ６ 非磁性材 １３ 非磁性材 ｇ 磁気ギャップ １５ コアブロック １６ コアブロック ２１ 磁気コア半体 ２２ 磁気コア半体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対の磁気コア半体の磁気ギャップを形成
   する突き合わせ面に強磁性金属薄膜が被着されて成る狭
   トラック磁気ヘッドの製造方法において、 上記磁気コア半体を得るコアブロックに対するトラック
   幅規制溝の形成を、先細テーパを有する砥石による研削
   によって直線的にかつ上記砥石による研削深さを変えて
   上記トラック幅規制溝の幅を、磁気ギャップ形成側の前
   方側に比して後方側で幅狭として磁気ギャップのトラッ
   ク幅に比し大なるコア厚を有する後方コア部を形成する
   ことを特徴とする狭トラック磁気ヘッドの製造方法。