JP2000247729A - アルミナ基焼結体 - Google Patents

アルミナ基焼結体

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Abstract

(57)【要約】 【目的】700℃付近の高温下で高い絶縁性とバラツキ
の少ない耐電圧性を要求されるセラミック製品の材料と
して好適な、アルミナ基焼結体及びその製造方法を提供
する。 【構成】アルミナ基焼結体の切断面における気孔の面積
割合が4%以下、該気孔の最大長径が15μm以下と
し、更に、該アルミナ基焼結体中の各気孔の長径(単
位;μm)を確率変数としたときの面積分布を対数正規
分布で表した場合の標準偏差が2μm以下とする。該ア
ルミナ基焼結体に希土類元素RE(ランタン、プラセオ
ジウム、ネオジウム等)を添加し、焼結体中にRE−β
−アルミナ(REAl1118)の結晶相を生成させるこ
とで耐電圧特性を更に向上できる。該アルミナ基焼結体
の耐電圧値は60kV/mm以上の高い値を示し、スパ
ークプラグ等に用いる絶縁碍子に好適である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミック製品の材料
として好適な、高い絶縁性、バラツキの少ない耐電圧性
を有するアルミナ基焼結体に関するものである。特に
は、スパークプラグ等に用いる絶縁碍子のように、高温
下(例えば700℃)での耐電圧性を要求されるアルミ
ナ基焼結体として好適なものである。
【0002】
【従来の技術】アルミナセラミックスは、耐電圧性、耐
熱性及び機械的特性等に優れ、安価であるため、スパー
クプラグ用の絶縁碍子やICパッケージの多層配線基板
などのセラミック製品の材料として用いられている。特
に、スパークプラグの絶縁碍子に於いては室温から70
0℃付近の高温まで高い絶縁性とバラツキの少ない耐電
圧性が要求される。
【0003】アルミナ基焼結体中に残留気孔が存在する
と、高電圧印加時に残留気孔で絶縁破壊が起こるため、
アルミナ基焼結体の耐電圧特性が低下する。そこで、ア
ルミナ基焼結体の緻密化を目的として、種々の方法が検
討されている。
【0004】例えば、特開昭62−100474号公報
では造粒子の粒径を制御することにより、また、特開昭
62−143866号公報では、粒径の異なる2種類の
アルミナ原料を使用することにより、焼結体中の残留気
孔を減少させ耐電圧性を向上させる方法が開示されてい
る。また、特許第2035965号公報では、YO
Laといった希土類やZrO等を含む焼結助剤
を用い、また、焼結体の空孔率を6%以下にして高耐電
圧化を達成している。
【0005】ところが、上記の従来の技術のように焼結
体の緻密化の促進を目的とする方法では、耐電圧性のレ
ベル自体は向上することができるが、製品の信頼性に大
きく影響する耐電圧性のバラツキを十分に抑制、制御す
ることはできなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、アルミナ絶
縁層の肉厚を薄くしても700℃付近の高温下で十分か
つバラツキの少ない耐電圧性が得られるアルミナ基焼結
体を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、アル
ミナ基焼結体の鏡面研磨面に露出した気孔の特性を所定
の範囲に規定したアルミナ基焼結体を要旨とする。ここ
で規定する気孔の特性とは、(a)気孔の面積率(4%
以下)、(b)気孔の最大長径Dmax(15μm以下)、
(c)気孔の面積分布を対数正規分布で表示した際の標
準偏差σ(2μm以下)である。気孔の特性を係る範囲
に規定することでアルミナ基焼結体の耐電圧性のバラツ
キを大幅に低減可能となる。
【0008】ここにいう「焼結体の鏡面研磨面」とは、
焼結体の表面或いは切断面を以下の方法を用いて研磨加
工した面をいう。すなわち、45μmのダイヤモンド砥
石を用いて平面に加工し、順次9μm、3μm、0.25
μmのダイヤモンドペーストを用いて鏡面研磨を行い、R
a=0.01μm程度まで研磨加工した面である。
【0009】前記(a)にいう「面積率で100%」と
は、原則として、観察視野の具体的面積値を100%と
することをいう。例えば、倍率500倍のSEM写真に
基づいて気孔の諸特性を得る場合、原則としてSEM写
真の観察部の面積を100%とする。次いで、該SEM
写真上に観察される気孔の総面積を画像処理装置を用い
て求め、得られた気孔の総面積を観察部の面積で除して
百分率にて面積率を算出する。気孔の面積割合が4%以
下になると、耐電圧性が60kV/mm以下に低下す
る。
【0010】前記(b)にいう「気孔の最大長径
max」とは、観察対象となった全気孔の気孔周縁上の
2点間の直線距離のうち、最も大きい値のものをいう。
気孔の最大長径Dmaxが15μm以上になると、耐電圧性
のバラツキ幅が大きくなったり、耐電圧性が60kV/
mm以下に低下したり不安定な挙動となる。
【0011】前記(c)にいう「対数正規分布」とは、
しばしば粒度分布を表すのに用いられるものである。対
数正規分布による標準偏差σを用いることで気孔の大き
さのばらつきを容易に判断できる。気孔の面積分布に基
づく標準偏差σが2μm以上になると、耐電圧性自体が
問題無い場合でも、耐電圧性のバラツキ幅が大きくな
る。
【0012】したがって、上記の(a)、(b)、
(c)の3種類のすべての特性を所定の範囲にコントロ
ールすれば、バラツキ幅の少ない優れた耐電圧性を有す
るアルミナ基焼結体が得られる。
【0013】請求項2の発明は、希土類元素RE.のう
ちLa(ランタン)、Pr(プラセオジウム)、Nd
(ネオジウム)のうち少なくとも一種類を含むアルミナ
基焼結体を要旨とし、請求項1に記載の発明のより好ま
しい構成を例示したものである。希土類元素のうちこれ
ら3種類を用いれば、気孔の発生量を減らして、気孔径
をある程度均一にすることができる。更に、アルミナ粒
界の耐熱性を上げて耐電圧性を向上できる。希土類元素
の添加量としては、0.01〜20重量部の範囲が特性
面及びコスト面から望ましい。
【0014】これら3種類の希土類元素は、硝酸塩、炭
酸塩、水酸化物等の様々な形態で入手可能なため、製造
方法の選択の幅を広くできる。また、HIP法(ホット
アイソスタチックプレス法)、真空又は大気以外の雰囲
気中での焼成、2000℃近い高温条件下での焼成等の
特殊な条件を用いることなく、大気中で通常の温度範囲
での焼成が可能になる。
【0015】上記希土類を添加したアルミナ基焼結体中
には、RE.−β−アルミナ(組成式:RE.Al11
18)若しくはRE.AlO3から選ばれる少なくとも一
種類の結晶相を析出させてもよい。係る結晶相を析出さ
せることで、アルミナ粒界の耐熱性を上げて耐電圧性を
更に向上できるからである。これらの結晶相は、焼成過
程で反応焼成により析出させても、あらかじめ反応させ
て結晶相を析出させてから添加しても同様の効果が得ら
れる。
【0016】
【実施例】(1)アルミナ基焼結体の製作 平均粒径0.4μmのアルミナ原料粉末に、焼結助剤と
して平均粒径0.6μmのSiO粉末、平均粒径0.8
μmのCaCO粉末、平均粒径0.3μmのMgO粉
末及び表1に示す平均粒径1.0μmの各種希土類元素
の酸化物を、表1に示す量比となるように秤量し配合し
た粉末を製造する。尚、希土類元素の添加量は、全て
「RE.23換算」で求めた。
【0017】これらの配合粉末をそれぞれボールミルに
て、20mmφのアルミナボールを使用しエタノール中
16時間混合した後、湯煎にて乾燥し混合粉末を得る。
これらの混合粉末をそれぞれ150MPaの静水圧プレ
スで50×50×20mmの成形体に成形し、次に大気
雰囲気下において表1に示す焼成温度(1475℃から
1600℃)で2時間保持して焼成する。また、試料番
号11及び試料番号13については、大気中での焼成の
後に、1450℃×1000気圧×1時間の条件でHI
P処理(ホットアイソスタチックプレス処理)する。
【0018】(2)気孔率の測定 (1)で得られた各焼結体の切断面を45μmのダイヤ
モンド砥石を用いて平面に加工し、順次9μm、3μm、
0.25μmのダイヤモンドペーストを用いて鏡面研磨
を行い、Ra=0.01μm程度まで研磨する。この鏡面
研磨面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察する。倍
率500倍にて撮影したSEM写真をもとに個々の気孔
の長径、面積及び最大長径と視野面積を画像処理装置
(機種名;ニレコ社製LUZEX3)を用いて測定する。結
果を「気孔率」、「最大長径Dmax」として表2に示
す。
【0019】(3)標準偏差σの算出 測定した個々の長径及び面積を、長径について分級し
(各分級の最大値をBmax(μm)、最小値をBmin(μm)とした
とき、Log(Bmax)−Log(Bmin)=0.15)、各階級に属
する気孔の面積を階級毎に合計した面積分布に対して対
数正規分布を適用し、以下の数式1を用いて標準偏差σ
を求める。結果を「標準偏差σ」として表2に示す。
【0020】
【数1】
【0021】(4)耐電圧性の評価 耐電圧性は、700℃における耐電圧値で評価する。ア
ルミナ基焼結体を16mm×16mm×0.65mmに
加工した試験片1を用いて、図1に示す構成の装置によ
り測定する。具体的な方法は以下のようである。まず、
試験片1をアルミナ製碍筒2aとアルミナ製碍筒2bと
ではさんだ状態で、SiO系の封着ガラス3を用いて
1400℃に加熱溶融し、ガラス接合体7を作製する。
加熱用ヒータ5を有する加熱用ボックス8中にガラス接
合体7をセットした後、高電圧発生装置6に接続された
電極4aと接地された電極4bとで試験片1をはさむ。
その後、加熱用ヒータ5で700℃まで加熱した状態で
高電圧を印加し、絶縁破壊が発生したときの値を耐電圧
値として計測する。結果は、「耐電圧平均値」、「耐電
圧バラツキ幅(耐電圧値の最大値から最小値を引いた
値)」として表2に示す。
【0022】
【表1】
【0023】
【表2】
【0024】本発明の実施例である試料番号3、試料番
号4、試料番号6、試料番号7、試料番号11乃至試料
番号15では、気孔率、最大長径、標準偏差が規定の範
囲内にあるため、耐電圧平均値が60kV/mm以上、
耐電圧バラツキ幅が20kV/mm以下の優れた耐電圧
性を示す。
【0025】希土類元素を含む実施例である試料番号
3、試料番号4、試料番号6、試料番号7、試料番号1
2、試料番号14、試料番号15では、HIP法(ホッ
トアイソスタチックプレス法)を用いなくとも良好な焼
結体が得られることがわかる。HIP法を用いた実施例
である試料番号11及び試料番号13は、どちらも良好
な耐電圧性が得られる。両者を比較すると、希土類元素
を含む試料番号13の方が良好な耐電圧性を示すことが
わかる。
【0026】本発明の比較例である試料番号1及び試料
番号2は、最大長径が規定範囲内にあるものの、気孔率
及び標準偏差が規定範囲外のため、耐電圧性が劣る。同
じく比較例である試料番号5は、気孔率及び最大長径は
規定範囲内であるものの、標準偏差が規定範囲外のた
め、耐電圧バラツキ幅が大きい。同じく比較例である試
料番号8は、気孔率、最大長径及び標準偏差の全てが規
定範囲外であるため、耐電圧性が劣る。同じく比較例で
ある試料番号9は、標準偏差は規定範囲内であるもの
の、気孔率及び最大長径が規定範囲外であるため、耐電
圧平均値が劣る。同じく比較例である試料番号10は、
気孔率及び標準偏差が規定範囲内であるものの、最大長
径が規定範囲外であるため、耐電圧バラツキ幅が大き
い。すなわち、気孔率、最大長径、標準偏差のいずれか
が欠けても良好な耐電圧性が得られないことがわかる。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、セラミック製品の材料
として好適な、高い絶縁性、バラツキ幅の小さい耐電圧
性を有するアルミナ基焼結体を提供することができる。
特には、スパークプラグ等のように高温下(例えば70
0℃)で使用される絶縁碍子に用いるアルミナ基焼結体
として好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に使用した耐電圧性評価方法の模式図で
ある。
【符号の説明】
1 アルミナ基焼結体からなる試験片 2a アルミナ製碍筒 2b アルミナ製碍筒 3 封着ガラス 4a 電極 4b 電極 5 加熱用ヒータ 6 高電圧発生装置 7 ガラス接合体 8 加熱用ボックス
フロントページの続き Fターム(参考) 4G030 AA08 AA11 AA13 AA36 BA10 BA12 BA18 CA01 GA29 5G059 AA05 FF01 FF02 FF14

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 焼結体の任意の鏡面研磨面に露出した気
    孔が以下の特徴を有するアルミナ基焼結体。 (a)前記鏡面研磨面を面積率で100%とした場合の
    前記気孔の面積率が4%以下である。 (b)前記気孔の最大長径Dmaxが15μm以下であ
    る。 (c)前記気孔の各長径(単位;μm)を確率変数とし
    た場合の面積分布を対数正規分布で表示した際の標準偏
    差σが2μm以下である。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のアルミナ基焼結体であ
    って、希土類元素RE.のうちLa(ランタン)、Pr
    (プラセオジウム)、Nd(ネオジウム)のうち少なく
    とも一種類を含むことを特徴とするアルミナ基焼結体。
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