JP2000226278A - 陶器及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面に汚れが付着しにくい陶器を提供するこ
と。 【解決手段】 焼結温度（１１００〜１３００度）にお
ける熱処理で釉薬層が形成されている陶器において、前
記釉薬層の最表層はシリカ粒子が実質的に残存しないこ
とを特徴とする陶器。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、汚れの付着しにく
い表面を有する陶器に関する。

【０００２】

【従来の技術】陶器製品、例えば、衛生陶器や洗面器で
は、一般的に、成形素地に釉薬をスプレー等により塗布
し、成形素地が充分に焼結する温度（通常１１００〜１
３００度）で釉薬が軟化して下地の陶器素地に固着され
るようにする。ここで、成形素地の焼結温度において釉
薬が充分に軟化していないと固着性が不充分となり、他
方、成形素地の焼結温度において釉薬が軟化しすぎてい
ると、昇温時における粘土の化学反応等に伴い陶器素地
内に生成した気体が、焼結時の収縮に伴い外部に放出さ
れる際に釉薬内に気泡として残留してしまうことに基づ
く製品欠陥を生じる。そのため、一般的に、釉薬におい
ては、釉薬の軟化点を低下させる成分として石灰、ドロ
マイト等の２価金属を主成分とするフラックス成分を、
軟化点を上昇させる成分としてケイ砂や市販の長石原料
中に含まれる石英粒子等のシリカ成分を添加し、成形素
地の焼結温度における粘性を適度に調整している。

【０００３】従来の衛生陶器や洗面器においては、上記
シリカ成分の原料として、安価な天然のケイ砂や長石
を、施釉性が良好となる５０％粒径（Ｄ５０）で５〜１
０μｍ、９０％粒径（レーザー回折法により測定する粒
度分布測定データにおける微粒子側から累積９０％に相
当する粒径）で１５〜３０μｍになるまで粉砕したもの
を用いていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法では、シリカ粒子の粒径が大きいために、焼成過程で
結晶質であるシリカ粒子が充分にガラス化されずに残存
する。そのため、降温時にガラス相とシリカ粒子との界
面に残留応力が発生し、何等かの外力が加わったときに
クラックが発生しやすくなる。また、衛生陶器や洗面器
を、アンモニア水環境や石鹸水環境などのアルカリ環境
下で使用すると、優先的にガラス相の溶解反応が起こる
ため、クラックは増大し、シリカ粒子の欠落を伴う腐食
反応が生じる。そして、これらクラックや溶解・腐食に
より生成する凹部が、菌の温床になったり、汚物の付着
点になったりして、衛生陶器や洗面器の汚れるのを促進
するという問題点があった。本発明は、上記事情を鑑み
てなされたものであり、汚れの付着しにくい表面を有す
る陶器、及びその製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、陶器の焼結温度（１１００〜１３００℃、
好ましくは１１００〜１２５０℃、より好ましくは１１
００〜１２００℃）における熱処理においてもシリカ粒
子が実質的に残存しないようにする製造方法を見出し、
本発明を完成させるに至った。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明では、陶器素地表面に釉薬
層が形成されている陶器において、前記釉薬層の最表層
は実質的にガラス成分と顔料のみからなることを特徴と
する陶器、或いは陶器素地表面に釉薬層が形成されてい
る陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的にガラス
成分のみからなることを特徴とする陶器を提供する。か
かる構成にすることにより、シリカ粒子の残存に伴うシ
リカ粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する
腐食反応がほとんど生じなくなる、すなわち、溶解・腐
食による凹部が生成されにくくなるので、その凹部が菌
の温床になったり、汚物の付着点になったりすることに
よる陶器の汚れを抑制することができる。尚、本発明に
おいて、顔料とは、無機系の着色顔料および乳濁剤をさ
し、例えば、鉄系顔料、コバルト系顔料、ジルコン、酸
化錫等が挙げられる。

【０００７】本発明では、陶器素地表面に釉薬層が形成
されている陶器において、前記釉薬層の最表層には粒径
１０μｍ以上のシリカ粒子が存在しないことを特徴とす
る陶器を提供する。粒径１０μｍ以上のシリカ粒子が残
存しない状態であれば、降温時に生じるガラス相とシリ
カ粒子との界面の残留応力の大きさが小さいので、クラ
ックが生成しにくくなる。菌の温床になったり、汚物の
付着点になったりするクラックが生成しにくくなるの
で、それに伴う陶器の汚れを抑制することができる。

【０００８】本発明では、陶器素地表面に釉薬層が形成
されている陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的
にガラス成分のみからなり、ガラス成分以外の成分とし
ては、微量成分として、粒径１０μｍ未満のシリカ粒
子、顔料粒子、抗菌剤のうちの１種以上のみであること
を特徴とする陶器を提供する。かかる構成にすることに
より、釉薬層の最表層に粒径１０μｍ以上のシリカ粒子
が残存しないので、降温時に生じるガラス相とシリカ粒
子との界面の残留応力の大きさが小さいので、クラック
が生成しにくくなる。菌の温床になったり、汚物の付着
点になったりするクラックが生成しにくくなるので、そ
れに伴う陶器の汚れを抑制することができる。

【０００９】本発明では、陶器素地表面に釉薬層が形成
されている陶器において、前記釉薬層は実質的にガラス
成分と顔料のみからなることを特徴とする陶器、或いは
陶器素地表面に釉薬層が形成されている陶器において、
前記釉薬層は実質的にガラス成分のみからなることを特
徴とする陶器を提供する。最表層のみでなく、釉薬層全
体をかかる構成にすることにより、長期にわたりシリカ
粒子の残存に伴うシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシ
リカ粒子が欠落する腐食反応がほとんど生じなくなる、
すなわち、溶解・腐食による凹部が生成されにくくなる
ので、その凹部が菌の温床になったり、汚物の付着点に
なったりすることによる陶器の汚れを長期的に抑制する
ことができる。

【００１０】本発明では、陶器素地表面に釉薬層が形成
されている陶器において、前記釉薬層には粒径１０μｍ
以上のシリカ粒子が存在しないことを特徴とする陶器を
提供する。最表層のみでなく、釉薬層全体をかかる構成
にすることにより、長期にわたり菌の温床になったり、
汚物の付着点になったりするクラックが生成しにくくな
るので、それに伴う陶器の汚れを抑制することができ
る。

【００１１】本発明では、陶器素地表面に釉薬層が形成
されている陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的
にガラス成分のみからなり、ガラス成分以外の成分とし
ては、微量成分として、粒径１０μｍ未満のシリカ粒
子、顔料粒子、抗菌剤のうちの１種以上のみであること
を特徴とする陶器を提供する。かかる構成にすることに
より、釉薬層に粒径１０μｍ以上のシリカ粒子が残存し
ないので、降温時に生じるガラス相とシリカ粒子との界
面の残留応力の大きさが小さいので、クラックが生成し
にくくなる。菌の温床になったり、汚物の付着点になっ
たりするクラックが生成しにくくなるので、それに伴う
陶器の汚れを抑制することができる。

【００１２】本発明では、陶器素地上に第一の釉薬層が
形成されており、さらにその上に第二の釉薬層が形成さ
れている陶器であって、前記第二の釉薬層の最表層は実
質的にガラス成分と顔料のみからなることを特徴とする
陶器、或いは陶器素地上に第一の釉薬層が形成されてお
り、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている陶器
であって、前記第二の釉薬層の最表層は実質的にガラス
成分のみからなることを特徴とする陶器を提供する。陶
器素地上に第一の釉薬層を形成し、さらにその上に第二
の釉薬層が形成されているようにすることにより、以下
の効果が発揮される。 （１）第二の釉薬層を薄くできる。そのため、第二の釉
薬層が軟化しすぎた場合にも、昇温時における粘土の化
学反応等に伴い陶器素地内に生成した気体が、焼結時の
収縮に伴い外部に放出される際に釉薬内に気泡として残
留してしまうことに基づく製品欠陥を生じにくい。 （２）一般的に、釉薬成分として亜鉛が含有されている
場合には、亜鉛成分は焼成時に気化して窯内に亜鉛華と
して付着し、焼成窯を汚染する。しかし、第二の釉薬層
としてほとんどガラス相からなる釉薬層を設けた場合に
は、第一の釉薬層で気化した亜鉛が、第二の釉薬層中を
外向拡散することにより通過しないと、窯内雰囲気に蒸
発されない。従って、一層のみの場合と同一の膜厚にな
るように二層にした場合には、一層の場合と比較して亜
鉛華による窯の汚染が抑制される。さらに、亜鉛が表面
に組成傾斜を有しながら集中されるので、抗菌性が長期
にわたり発揮されるようになる。 上記（１）、（２）に加えて、かかる構成にすることに
より、シリカ粒子の残存に伴うシリカ粒子周囲のクラッ
クの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応がほとんど生
じなくなる、すなわち、溶解・腐食による凹部が生成さ
れにくくなるので、その凹部が菌の温床になったり、汚
物の付着点になったりすることによる陶器の汚れを抑制
することができる。

【００１３】本発明では、陶器素地上に第一の釉薬層が
形成されており、さらにその上に第二の釉薬層が形成さ
れている陶器であって、前記第二の釉薬層の最表層には
粒径１０μｍ以上のシリカ粒子が存在しないことを特徴
とする陶器を提供する。陶器素地上に第一の釉薬層を形
成し、さらにその上に第二の釉薬層が形成されているよ
うにすることにより、以下の効果が発揮される。 （１）第二の釉薬層を薄くできる。そのため、第二の釉
薬層が軟化しすぎた場合にも、昇温時における粘土の化
学反応等に伴い陶器素地内に生成した気体が、焼結時の
収縮に伴い外部に放出される際に釉薬内に気泡として残
留してしまうことに基づく製品欠陥を生じにくい。 （２）一般的に、釉薬成分として亜鉛が含有されている
場合には、亜鉛成分は焼成時に気化して窯内に亜鉛華と
して付着し、焼成窯を汚染する。しかし、第二の釉薬層
としてほとんどガラス相からなる釉薬層を設けた場合に
は、第一の釉薬層で気化した亜鉛が、第二の釉薬層中を
外向拡散することにより通過しないと、窯内雰囲気に蒸
発されない。従って、一層のみの場合と同一の膜厚にな
るように二層にした場合には、一層の場合と比較して亜
鉛華による窯の汚染が抑制される。さらに、亜鉛が表面
に組成傾斜を有しながら集中されるので、抗菌性が長期
にわたり発揮されるようになる。 上記（１）、（２）に加えて、かかる構成にすることに
より、粒径１０μｍ以上のシリカ粒子が残存しない状態
であれば、降温時に生じるガラス相とシリカ粒子との界
面の残留応力の大きさが小さいので、クラックが生成し
にくくなる。菌の温床になったり、汚物の付着点になっ
たりするクラックが生成しにくくなるので、それに伴う
陶器の汚れを抑制することができる。

【００１４】本発明では、陶器素地上に第一の釉薬層が
形成されており、さらにその上に第二の釉薬層が形成さ
れている陶器であって、前記第二の釉薬層の最表層は実
質的にガラス成分のみからなり、ガラス成分以外の成分
としては、微量成分として、粒径１０μｍ未満のシリカ
粒子、顔料粒子、抗菌剤のうちの１種以上のみであるこ
とを特徴とする陶器を提供する。陶器素地上に第一の釉
薬層を形成し、さらにその上に第二の釉薬層が形成され
ているようにすることにより、以下の効果が発揮され
る。 （１）第二の釉薬層を薄くできる。そのため、第二の釉
薬層が軟化しすぎた場合にも、昇温時における粘土の化
学反応等に伴い陶器素地内に生成した気体が、焼結時の
収縮に伴い外部に放出される際に釉薬内に気泡として残
留してしまうことに基づく製品欠陥を生じにくい。 （２）一般的に、釉薬成分として亜鉛が含有されている
場合には、亜鉛成分は焼成時に気化して窯内に亜鉛華と
して付着し、焼成窯を汚染する。しかし、第二の釉薬層
としてほとんどガラス相からなる釉薬層を設けた場合に
は、第一の釉薬層で気化した亜鉛が、第二の釉薬層中を
外向拡散することにより通過しないと、窯内雰囲気に蒸
発されない。従って、一層のみの場合と同一の膜厚にな
るように二層にした場合には、一層の場合と比較して亜
鉛華による窯の汚染が抑制される。さらに、亜鉛が表面
に組成傾斜を有しながら集中されるので、抗菌性が長期
にわたり発揮されるようになる。 上記（１）、（２）に加えて、かかる構成にすることに
より、釉薬層の最表層に粒径１０μｍ以上のシリカ粒子
が残存しないので、降温時に生じるガラス相とシリカ粒
子との界面の残留応力の大きさが小さいので、クラック
が生成しにくくなる。菌の温床になったり、汚物の付着
点になったりするクラックが生成しにくくなるので、そ
れに伴う陶器の汚れを抑制することができる。

【００１５】本発明では、陶器素地上に第一の釉薬層が
形成されており、さらにその上に第二の釉薬層が形成さ
れている陶器であって、前記第二の釉薬層は実質的にガ
ラス成分と顔料のみからなることを特徴とする陶器、或
いは陶器素地上に第一の釉薬層が形成されており、さら
にその上に第二の釉薬層が形成されている陶器であっ
て、前記第二の釉薬層は実質的にガラス成分のみからな
ることを特徴とする陶器を提供する。陶器素地上に第一
の釉薬層を形成し、さらにその上に第二の釉薬層が形成
されているようにすることにより、以下の効果が発揮さ
れる。 （１）第二の釉薬層を薄くできる。そのため、第二の釉
薬層が軟化しすぎた場合にも、昇温時における粘土の化
学反応等に伴い陶器素地内に生成した気体が、焼結時の
収縮に伴い外部に放出される際に釉薬内に気泡として残
留してしまうことに基づく製品欠陥を生じにくい。 （２）一般的に、釉薬成分として亜鉛が含有されている
場合には、亜鉛成分は焼成時に気化して窯内に亜鉛華と
して付着し、焼成窯を汚染する。しかし、第二の釉薬層
としてほとんどガラス相からなる釉薬層を設けた場合に
は、第一の釉薬層で気化した亜鉛が、第二の釉薬層中を
外向拡散することにより通過しないと、窯内雰囲気に蒸
発されない。従って、一層のみの場合と同一の膜厚にな
るように二層にした場合には、一層の場合と比較して亜
鉛華による窯の汚染が抑制される。さらに、亜鉛が表面
に組成傾斜を有しながら集中されるので、抗菌性が長期
にわたり発揮されるようになる。 上記（１）、（２）に加えて、最表層のみでなく、釉薬
層全体をかかる構成にすることにより、長期にわたりシ
リカ粒子の残存に伴うシリカ粒子周囲のクラックの拡大
やシリカ粒子が欠落する腐食反応がほとんど生じなくな
る、すなわち、溶解・腐食による凹部が生成されにくく
なるので、その凹部が菌の温床になったり、汚物の付着
点になったりすることによる陶器の汚れを長期的に抑制
することができる。

【００１６】本発明では、陶器素地上に第一の釉薬層が
形成されており、さらにその上に第二の釉薬層が形成さ
れている陶器であって、前記第二の釉薬層には粒径１０
μｍ以上のシリカ粒子が存在しないことを特徴とする陶
器を提供する。陶器素地上に第一の釉薬層を形成し、さ
らにその上に第二の釉薬層が形成されているようにする
ことにより、以下の効果が発揮される。 （１）第二の釉薬層を薄くできる。そのため、第二の釉
薬層が軟化しすぎた場合にも、昇温時における粘土の化
学反応等に伴い陶器素地内に生成した気体が、焼結時の
収縮に伴い外部に放出される際に釉薬内に気泡として残
留してしまうことに基づく製品欠陥を生じにくい。 （２）一般的に、釉薬成分として亜鉛が含有されている
場合には、亜鉛成分は焼成時に気化して窯内に亜鉛華と
して付着し、焼成窯を汚染する。しかし、第二の釉薬層
としてほとんどガラス相からなる釉薬層を設けた場合に
は、第一の釉薬層で気化した亜鉛が、第二の釉薬層中を
外向拡散することにより通過しないと、窯内雰囲気に蒸
発されない。従って、一層のみの場合と同一の膜厚にな
るように二層にした場合には、一層の場合と比較して亜
鉛華による窯の汚染が抑制される。さらに、亜鉛が表面
に組成傾斜を有しながら集中されるので、抗菌性が長期
にわたり発揮されるようになる。 上記（１）、（２）に加えて、最表層のみでなく、釉薬
層全体をかかる構成にすることにより、長期にわたり菌
の温床になったり、汚物の付着点になったりするクラッ
クが生成しにくくなるので、それに伴う陶器の汚れを抑
制することができる。

【００１７】本発明では、陶器素地上に第一の釉薬層が
形成されており、さらにその上に第二の釉薬層が形成さ
れている陶器であって、前記第二の釉薬層は実質的にガ
ラス成分のみからなり、ガラス成分以外の成分として
は、微量成分として、粒径１０μｍ未満のシリカ粒子、
顔料粒子、抗菌剤のうちの１種以上のみであることを特
徴とする陶器を提供する。陶器素地上に第一の釉薬層を
形成し、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
ようにすることにより、以下の効果が発揮される。 （１）第二の釉薬層を薄くできる。そのため、第二の釉
薬層が軟化しすぎた場合にも、昇温時における粘土の化
学反応等に伴い陶器素地内に生成した気体が、焼結時の
収縮に伴い外部に放出される際に釉薬内に気泡として残
留してしまうことに基づく製品欠陥を生じにくい。 （２）一般的に、釉薬成分として亜鉛が含有されている
場合には、亜鉛成分は焼成時に気化して窯内に亜鉛華と
して付着し、焼成窯を汚染する。しかし、第二の釉薬層
としてほとんどガラス相からなる釉薬層を設けた場合に
は、第一の釉薬層で気化した亜鉛が、第二の釉薬層中を
外向拡散することにより通過しないと、窯内雰囲気に蒸
発されない。従って、一層のみの場合と同一の膜厚にな
るように二層にした場合には、一層の場合と比較して亜
鉛華による窯の汚染が抑制される。さらに、亜鉛が表面
に組成傾斜を有しながら集中されるので、抗菌性が長期
にわたり発揮されるようになる。 上記（１）、（２）に加えて、かかる構成にすることに
より、釉薬層に粒径１０μｍ以上のシリカ粒子が残存し
ないので、降温時に生じるガラス相とシリカ粒子との界
面の残留応力の大きさが小さいので、クラックが生成し
にくくなる。菌の温床になったり、汚物の付着点になっ
たりするクラックが生成しにくくなるので、それに伴う
陶器の汚れを抑制することができる。

【００１８】請求項９乃至１６に記載の陶器の好ましい
態様においては、前記第一の釉薬層には着色顔料が含有
されているようにする。第一の釉薬層に着色顔料を含有
させることにより、第二の釉薬層に凹凸を形成しやすい
顔料成分を添加しなくても、陶器に意匠性をもたせるこ
とが可能となるので好ましい。

【００１９】請求項１０、１１、１２、１４、１５、１
６、１７いずれか１項に記載の陶器の好ましい態様にお
いては、前記第二の釉薬層は透明であるようにする。第
二の釉薬層を透明にする、すなわち、顔料粒子を含有し
ないようにすることにより、表面に凹凸が形成されにく
くなるので、汚れが固着しにくくなる。

【００２０】請求項１乃至１８に記載の陶器の好ましい
態様においては、前記釉薬層または前記第二の釉薬層の
表面の表面粗さＲａが触針式表面粗さ測定装置（ＪＩＳ
−Ｂ０６５１）により、０．０７μｍ未満であるように
する。表面粗さＲａを０．０７μｍ未満にすることによ
り、汚れが固着しにくくなる。尚、ここで、請求項１乃
至８に記載の陶器の好ましい態様においては、上記表面
粗さを容易に達成しつつ意匠性を持たせるために、顔料
にジルコン粒子等の粒子状の顔料ではなく、着色性のガ
ラス成分からなる顔料を用いるようにしてもよい。

【００２１】請求項１乃至１６に記載の陶器の好ましい
態様においては、前記釉薬層または前記第二の釉薬層の
表面には抗菌剤が添加されているようにする。ここで、
抗菌剤とは、銀、銅、亜鉛及びその化合物等が好適に利
用できる。銀の場合は、釉薬に対して、好ましくは０．
０１重量％以上１０重量％以下、より好ましくは０．１
重量％以上１重量％以下にするのがよい。

【００２２】請求項１乃至２０に記載の陶器の好ましい
態様においては、前記陶器は、陶器成形素地に釉薬を被
覆後、１１００〜１３００℃、好ましくは１１００〜１
２５０℃、より好ましくは１１００〜１２００℃で焼成
するようにする。上記温度で焼成することにより、既存
の衛生陶器製造用のトンネル窯を使用できるので、衛生
陶器メーカーにおいては、膨大な設備投資をしないです
む。

【００２３】請求項１乃至２３に記載の陶器の好ましい
態様においては、小便器、大便器等の便器として使用す
る。便器は常に尿がかけられる環境で使用され、尿は便
器に存在する細菌の有する酵素ウレアーゼによりアンモ
ニアに分解される。すなわち、便器は常にアンモニア性
アルカリ環境に晒されているのであり、シリカ粒子が残
存していると、シリカ粒子周囲のクラックの拡大やシリ
カ粒子が欠落する腐食反応が生じうる環境で使用され
る。従って、従来技術に対し、本発明の効果がより顕著
に発現する。

【００２４】請求項１乃至２３に記載の陶器の好ましい
態様においては、洗面器として使用する。洗面器はアル
カリ性を呈する石鹸水がかけられる環境で使用されるの
で、シリカ粒子が残存していると、シリカ粒子周囲のク
ラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応が生じう
る。従って、従来技術に対し、本発明の効果がより顕著
に発現する。

【００２５】請求項２４乃至２８に記載の陶器の好まし
い態様においては、前記釉薬層又は前記第二の釉薬層
は、前記陶器の一部に被覆されているようにする。例え
ば、便器においては尿が流れる部分であるボール面、小
便器の目皿、サナ等にのみ前記釉薬層又は前記第二の釉
薬層を被覆するようにし、便器底面以外の他の部分には
通常の釉薬を施釉するようにすればより経済的である
（便器底面は施釉しない）。また、洗面器の場合には、
手洗いの際に石鹸水がかかる部分、すなわち、ボール面
やその他の上面部にのみ前記釉薬層又は前記第二の釉薬
層を被覆するようにし、他の部分には通常の釉薬を施釉
するようにすればより経済的である。

【００２６】本発明においては、フリット釉を準備する
工程、前記フリット釉を陶器成形素地に適用することに
より釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３
００℃以下、好ましくは１２５０℃以下、より好ましく
は１２００℃以下の温度で焼成する工程、を含むことを
特徴とする陶器の製造方法を提供する。フリット釉を使
用することにより、釉薬の成分は基本的にガラス成分の
みとなるので、表面にシリカ粒子が残存しなくなり、降
温時にガラス相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生
することに伴うクラックの発生やアルカリ環境下使用時
のシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落
する腐食反応が起こらなくなる。その結果、菌の温床に
なったり、汚物の付着点になったりする凹部が生成しな
くなり、衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。ここで、
フリット釉は、ケイ砂、長石、石灰、粘土、顔料等から
なる通常の釉薬原料を１４００℃以上の高温で溶融する
ことにより得ることができる。

【００２７】本発明においては、９０％粒径が２０μｍ
以下、好ましくは１０μｍ以下の粒子含有釉薬を準備す
る工程、前記釉薬を陶器成形素地に適用することにより
釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００
℃以下、好ましくは１２５０℃以下、より好ましくは１
２００℃以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴
とする陶器の製造方法を提供する。９０％粒径が２０μ
ｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の粒子含有釉薬を使用
することにより、従来と比較して焼成温度（１１００〜
１３００度）においてシリカ粒子がよりガラス化される
ので、降温時にガラス相とシリカ粒子との界面に残留応
力が発生することに伴うクラックの発生やアルカリ環境
下使用時のシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒
子が欠落する腐食反応が緩和される。その結果、菌の温
床になったり、汚物の付着点になったりする凹部が少な
くなり、衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。ここで、
９０％粒径が２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の
粒子含有釉薬は、通常の釉薬原料をボールミルやビーズ
ミルにより粉砕することにより得ることができる。

【００２８】本発明においては、５０％粒径が５μｍ以
下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記釉薬を陶器成形
素地に適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、
前記釉薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２５０
℃以下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼成す
る工程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を提供
する。５０％粒径が５μｍ以下の粒子含有釉薬を使用す
ることにより、従来と比較して焼成温度（１１００〜１
３００度）においてシリカ粒子がよりガラス化されるの
で、降温時にガラス相とシリカ粒子との界面に残留応力
が発生することに伴うクラックの発生やアルカリ環境下
使用時のシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子
が欠落する腐食反応が緩和される。その結果、菌の温床
になったり、汚物の付着点になったりする凹部が少なく
なり、衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。ここで、５
０％粒径が５μｍ以下の粒子含有釉薬は、例えば、通常
の釉薬原料をボールミルやビーズミルにより粉砕するこ
とにより得ることができる。

【００２９】本発明においては、９０％粒径が１５μｍ
以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは６μｍ
以下のシリカ粒子を準備する工程、前記シリカ粒子とシ
リカ粒子を含まない釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を
調製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用す
ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
を特徴とする陶器の製造方法を提供する。９０％粒径が
１５μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましく
は６μｍ以下のシリカ粒子を使用することにより、従来
と比較して焼成温度（１１００〜１３００度）において
シリカ粒子がよりガラス化されるので、降温時にガラス
相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生することに伴
うクラックの発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒子
周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応
が緩和される。その結果、菌の温床になったり、汚物の
付着点になったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や洗
面器が汚れにくくなる。ここで、９０％粒径が１５μｍ
以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは６μｍ
以下のシリカ粒子は、例えば、天然のケイ砂や市販の長
石原料をボールミルやビーズミルにより粉砕することに
より得ることができる。

【００３０】本発明においては、５０％粒径が５μｍ以
下のシリカ粒子を準備する工程、前記シリカ粒子とシリ
カ粒子を含まない釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調
製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用する
ことにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物
を１３００度以下、好ましくは１２５０℃以下、より好
ましくは１２００℃以下の温度で焼成する工程、を含む
ことを特徴とする陶器の製造方法を提供する。５０％粒
径が５μｍ以下のシリカ粒子を使用することにより、従
来と比較して焼成温度（１１００〜１３００度）におい
てシリカ粒子がよりガラス化されるので、降温時にガラ
ス相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生することに
伴うクラックの発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒
子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反
応が緩和される。その結果、菌の温床になったり、汚物
の付着点になったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や
洗面器が汚れにくくなる。ここで、５０％粒径が５μｍ
以下のシリカ粒子は、例えば、天然のケイ砂や市販の長
石原料をボールミルやビーズミルにより粉砕することに
より得ることができる。

【００３１】本発明においては、フリット釉を準備する
工程、前記フリット釉と粒子含有釉薬を混合して被覆用
釉薬を調製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に
適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉
薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２５０℃以
下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼成する工
程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を提供す
る。粒子含有釉薬にフリット釉を混合することにより、
従来と比較して焼成温度（１１００〜１３００度）にお
いてシリカ粒子がより少なくなるので、降温時にガラス
相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生することに伴
うクラックの発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒子
周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応
が緩和される。その結果、菌の温床になったり、汚物の
付着点になったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や洗
面器が汚れにくくなる。ここで、フリット釉は、ケイ
砂、長石、石灰、粘土、顔料等からなる通常の釉薬原料
を１４００度以上の高温で溶融することにより得ること
ができる。

【００３２】本発明においては、フリット釉を準備する
工程、９０％粒径が２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ
以下、より好ましくは６μｍ以下の粒子含有釉薬を準備
する工程、前記フリット釉と前記粒子含有釉薬を混合し
て被覆用釉薬を調製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成
形素地に適用することにより釉薬被覆物を形成する工
程、前記釉薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２
５０℃以下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼
成する工程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を
提供する。粒子含有釉薬にフリット釉を混合することに
より、従来と比較して焼成温度（１１００〜１３００
度）においてシリカ粒子がより少なくなり、かつ、粒子
含有釉薬として９０％粒径が２０μｍ以下、好ましくは
１０μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下のものを使用
することにより従来と比較して焼成温度（１１００〜１
３００度）においてシリカ粒子がよりガラス化されるの
で、降温時にガラス相とシリカ粒子との界面に残留応力
が発生することに伴うクラックの発生やアルカリ環境下
使用時のシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子
が欠落する腐食反応が緩和される。その結果、菌の温床
になったり、汚物の付着点になったりする凹部が少なく
なり、衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。ここで、フ
リット釉は、ケイ砂、長石、石灰、粘土、顔料等からな
る通常の釉薬原料を１４００度以上の高温で溶融するこ
とにより得ることができる。また、９０％粒径が２０μ
ｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは６μ
ｍ以下のシリカ粒子は、例えば、天然のケイ砂や市販の
長石原料をボールミルやビーズミルにより粉砕すること
により得ることができる。

【００３３】本発明においては、フリット釉を準備する
工程、５０％粒径が５μｍ以下の粒子含有釉薬を準備す
る工程、前記フリット釉と前記粒子含有釉薬を混合して
被覆用釉薬を調製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形
素地に適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、
前記釉薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２５０
℃以下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼成す
る工程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を提供
する。粒子含有釉薬にフリット釉を混合することによ
り、従来と比較して焼成温度（１１００〜１３００度）
においてシリカ粒子がより少なくなり、かつ、粒子含有
釉薬として５０％粒径が５μｍ以下のものを使用するこ
とにより従来と比較して焼成温度（１１００〜１３００
度）においてシリカ粒子がよりガラス化されるので、降
温時にガラス相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生
することに伴うクラックの発生やアルカリ環境下使用時
のシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落
する腐食反応が緩和される。その結果、菌の温床になっ
たり、汚物の付着点になったりする凹部が少なくなり、
衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。ここで、フリット
釉は、ケイ砂、長石、石灰、粘土等からなる通常の釉薬
原料を１４００度以上の高温で溶融することにより得る
ことができる。また、５０％粒径が５μｍ以下のシリカ
粒子は、例えば、天然のケイ砂や市販の長石をボールミ
ルやビーズミルにより粉砕することにより得ることがで
きる。

【００３４】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、フリット釉を準備する工
程、前記フリット釉を前記第一の釉薬上に適用すること
により釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１
３００度以下、好ましくは１２５０℃以下、より好まし
くは１２００℃以下の温度で焼成する工程、を含むこと
を特徴とする陶器の製造方法を提供する。陶器成形素地
に着色性の第一の釉薬を適用する工程を行うことによ
り、下地を形成する第一の釉薬層に着色顔料を含有させ
ることになり、最表層を形成する第二の釉薬層に凹凸を
形成しやすい顔料成分を添加しなくても、陶器に意匠性
をもたせることが可能となる。さらに、最表層を形成す
る釉薬としてフリット釉を使用することにより、最表層
を形成する釉薬の成分は基本的にガラス成分のみとなる
ので、表面にシリカ粒子が残存しなくなり、降温時にガ
ラス相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生すること
に伴うクラックの発生やアルカリ環境下使用時のシリカ
粒子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食
反応が起こらなくなる。その結果、菌の温床になった
り、汚物の付着点になったりする凹部が生成しなくな
り、衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。ここで、フリ
ット釉は、ケイ砂、長石、石灰、粘土等からなる通常の
釉薬原料を１４００度以上の高温で溶融することにより
得ることができる。

【００３５】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、９０％粒径が２０μｍ以
下、好ましくは１０μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する
工程、前記粒子含有釉薬を前記第一の釉薬上に適用する
ことにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物
を１３００度以下、好ましくは１２５０℃以下、より好
ましくは１２００℃以下の温度で焼成する工程、を含む
ことを特徴とする陶器の製造方法を提供する。陶器成形
素地に着色性の第一の釉薬を適用する工程を行うことに
より、下地を形成する第一の釉薬層に着色顔料を含有さ
せることになり、最表層を形成する第二の釉薬層に凹凸
を形成しやすい顔料成分を添加しなくても、陶器に意匠
性をもたせることが可能となる。さらに、最表層を形成
する釉薬として９０％粒径が２０μｍ以下、好ましくは
１０μｍ以下の粒子含有釉薬を使用することにより、従
来と比較して焼成温度（１１００〜１３００度）におい
てシリカ粒子がよりガラス化されるので、降温時にガラ
ス相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生することに
伴うクラックの発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒
子周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反
応が緩和される。その結果、菌の温床になったり、汚物
の付着点になったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や
洗面器が汚れにくくなる。ここで、９０％粒径が２０μ
ｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の粒子含有釉薬は、通
常の釉薬原料をボールミルやビーズミルにより粉砕する
ことにより得ることができる。

【００３６】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、５０％粒径が５μｍ以下
の粒子含有釉薬を準備する工程、前記粒子含有釉薬を前
記第一の釉薬上に適用することにより釉薬被覆物を形成
する工程、前記釉薬被覆物を１３００度以下、好ましく
は１２５０℃以下、より好ましくは１２００℃以下の温
度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶器の製造
方法を提供する。陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
適用する工程を行うことにより、下地を形成する第一の
釉薬層に着色顔料を含有させることになり、最表層を形
成する第二の釉薬層に凹凸を形成しやすい顔料成分を添
加しなくても、陶器に意匠性をもたせることが可能とな
る。さらに、最表層を形成する釉薬として５０％粒径が
５μｍ以下の粒子含有釉薬を使用することにより、従来
と比較して焼成温度（１１００〜１３００度）において
シリカ粒子がよりガラス化されるので、降温時にガラス
相とシリカ粒子との界面に残留応力が発生することに伴
うクラックの発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒子
周囲のクラックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応
が緩和される。その結果、菌の温床になったり、汚物の
付着点になったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や洗
面器が汚れにくくなる。ここで、５０％粒径が５μｍ以
下の粒子含有釉薬は、通常の釉薬原料をボールミルやビ
ーズミルにより粉砕することにより得ることができる。

【００３７】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、９０％粒径が１５μｍ以
下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは６μｍ以
下のシリカ粒子を準備する工程、前記シリカ粒子とシリ
カ粒子を含まない釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調
製する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用
することにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被
覆物を１３００度以下、好ましくは１２５０℃以下、よ
り好ましくは１２００℃以下の温度で焼成する工程、を
含むことを特徴とする陶器の製造方法を提供する。陶器
成形素地に着色性の第一の釉薬を適用する工程を行うこ
とにより、下地を形成する第一の釉薬層に着色顔料を含
有させることになり、最表層を形成する第二の釉薬層に
凹凸を形成しやすい顔料成分を添加しなくても、陶器に
意匠性をもたせることが可能となる。さらに、最表層を
形成する釉薬として９０％粒径が１５μｍ以下、好まし
くは１０μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下のシリカ
粒子を使用することにより、従来と比較して焼成温度
（１１００〜１３００度）においてシリカ粒子がよりガ
ラス化されるので、降温時にガラス相とシリカ粒子との
界面に残留応力が発生することに伴うクラックの発生や
アルカリ環境下使用時のシリカ粒子周囲のクラックの拡
大やシリカ粒子が欠落する腐食反応が緩和される。その
結果、菌の温床になったり、汚物の付着点になったりす
る凹部が少なくなり、衛生陶器や洗面器が汚れにくくな
る。ここで、９０％粒径が１５μｍ以下、好ましくは１
０μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下のシリカ粒子
は、例えば、天然のケイ砂や市販の長石原料をボールミ
ルやビーズミルにより粉砕することにより得ることがで
きる。

【００３８】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、５０％粒径が５μｍ以下
のシリカ粒子を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ
粒子を含まない釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製
する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用す
ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
物を１３００度以下、好ましくは１２５０℃以下、より
好ましくは１２００℃以下の温度で焼成する工程、を含
むことを特徴とする陶器の製造方法を提供する。陶器成
形素地に着色性の第一の釉薬を適用する工程を行うこと
により、下地を形成する第一の釉薬層に着色顔料を含有
させることになり、最表層を形成する第二の釉薬層に凹
凸を形成しやすい顔料成分を添加しなくても、陶器に意
匠性をもたせることが可能となる。さらに、最表層を形
成する釉薬として５０％粒径が５μｍ以下のシリカ粒子
を使用することにより、従来と比較して焼成温度（１１
００〜１３００度）においてシリカ粒子がよりガラス化
されるので、降温時にガラス相とシリカ粒子との界面に
残留応力が発生することに伴うクラックの発生やアルカ
リ環境下使用時のシリカ粒子周囲のクラックの拡大やシ
リカ粒子が欠落する腐食反応が緩和される。その結果、
菌の温床になったり、汚物の付着点になったりする凹部
が少なくなり、衛生陶器や洗面器が汚れにくくなる。こ
こで、５０％粒径が５μｍ以下のシリカ粒子は、例え
ば、天然のケイ砂や市販の長石原料をボールミルやビー
ズミルにより粉砕することにより得ることができる。

【００３９】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、フリット釉を準備する工
程、前記フリット釉と粒子含有釉薬を混合して被覆用釉
薬を調製する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上
に適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、前記
釉薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２５０℃以
下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼成する工
程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を提供す
る。陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を適用する工程
を行うことにより、下地を形成する第一の釉薬層に着色
顔料を含有させることになり、最表層を形成する第二の
釉薬層に凹凸を形成しやすい顔料成分を添加しなくて
も、陶器に意匠性をもたせることが可能となる。さら
に、最表層を形成する釉薬として、粒子含有釉薬にフリ
ット釉を混合したものを用いることにより、従来と比較
して焼成温度（１１００〜１３００度）においてシリカ
粒子がより少なくなるので、降温時にガラス相とシリカ
粒子との界面に残留応力が発生することに伴うクラック
の発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒子周囲のクラ
ックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応が緩和され
る。その結果、菌の温床になったり、汚物の付着点にな
ったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や洗面器が汚れ
にくくなる。ここで、フリット釉は、ケイ砂、長石、石
灰、粘土等からなる通常の釉薬原料を１４００度以上の
高温で溶融することにより得ることができる。

【００４０】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、フリット釉を準備する工
程、９０％粒径が２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以
下、より好ましくは６μｍ以下の粒子含有釉薬を準備す
る工程、前記フリット釉と前記粒子含有釉薬を混合して
被覆用釉薬を調製する工程、前記被覆用釉薬を前記第一
の釉薬上に適用することにより釉薬被覆物を形成する工
程、前記釉薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２
５０℃以下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼
成する工程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を
提供する。陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を適用す
る工程を行うことにより、下地を形成する第一の釉薬層
に着色顔料を含有させることになり、最表層を形成する
第二の釉薬層に凹凸を形成しやすい顔料成分を添加しな
くても、陶器に意匠性をもたせることが可能となる。さ
らに、最表層を形成する釉薬として、粒子含有釉薬にフ
リット釉を混合することにより、従来と比較して焼成温
度（１１００〜１３００度）においてシリカ粒子がより
少なくなり、かつ、粒子含有釉薬として９０％粒径が２
０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは
６μｍ以下のものを使用することにより従来と比較して
焼成温度（１１００〜１３００度）においてシリカ粒子
がよりガラス化されるので、降温時にガラス相とシリカ
粒子との界面に残留応力が発生することに伴うクラック
の発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒子周囲のクラ
ックの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応が緩和され
る。その結果、菌の温床になったり、汚物の付着点にな
ったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や洗面器が汚れ
にくくなる。ここで、フリット釉は、ケイ砂、長石、石
灰、粘土等からなる通常の釉薬原料を１４００度以上の
高温で溶融することにより得ることができる。また、９
０％粒径が２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、よ
り好ましくは６μｍ以下のシリカ粒子は、例えば、天然
のケイ砂や市販の長石原料をボールミルやビーズミルに
より粉砕することにより得ることができる。

【００４１】本発明においては、陶器成形素地に着色性
の第一の釉薬を適用する工程、フリット釉を準備する工
程、５０％粒径が５μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する
工程、前記フリット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被
覆用釉薬を調製する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の
釉薬上に適用することにより釉薬被覆物を形成する工
程、前記釉薬被覆物を１３００度以下、好ましくは１２
５０℃以下、より好ましくは１２００℃以下の温度で焼
成する工程、を含むことを特徴とする陶器の製造方法を
提供する。陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を適用す
る工程を行うことにより、下地を形成する第一の釉薬層
に着色顔料を含有させることになり、最表層を形成する
第二の釉薬層に凹凸を形成しやすい顔料成分を添加しな
くても、陶器に意匠性をもたせることが可能となる。さ
らに、最表層を形成する釉薬として、粒子含有釉薬にフ
リット釉を混合することにより、従来と比較して焼成温
度（１１００〜１３００度）においてシリカ粒子がより
少なくなり、かつ、粒子含有釉薬として５０％粒径が５
μｍ以下のものを使用することにより従来と比較して焼
成温度（１１００〜１３００度）においてシリカ粒子が
よりガラス化されるので、降温時にガラス相とシリカ粒
子との界面に残留応力が発生することに伴うクラックの
発生やアルカリ環境下使用時のシリカ粒子周囲のクラッ
クの拡大やシリカ粒子が欠落する腐食反応が緩和され
る。その結果、菌の温床になったり、汚物の付着点にな
ったりする凹部が少なくなり、衛生陶器や洗面器が汚れ
にくくなる。ここで、フリット釉は、ケイ砂、長石、石
灰、粘土等からなる通常の釉薬原料を１４００度以上の
高温で溶融することにより得ることができる。また、５
０％粒径が５μｍ以下のシリカ粒子は、例えば、天然の
ケイ砂や市販の長石原料をボールミルやビーズミルによ
り粉砕することにより得ることができる。

【００４２】

【実施例】（比較例１）

【００４３】

【表１】

【００４４】表１の組成から成る釉薬原料２ｋｇと水１
ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポット
中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕した。レー
ザー回折式粒度分布計（日機装、マイクロトラックレー
ザー式粒度計ＦＲＡ）を用いて、粉砕後に得られた釉薬
スラリーの粒径を測定したところ、１０μｍ以下が６５
％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μｍ、９０％平
均粒径（Ｄ９０）が２３．３μｍであった。これとは別
に、上記釉薬原料にＳｉＯ2源として混入したケイ砂
１．２ｋｇ，市販の長石原料０．８ｋｇを、水１ｋｇ及
び球石４ｋｇとともに、容積６リットルの陶器製ポット
の中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕したとこ
ろ、Ｄ５０は９．３μｍであった。このことから、上記
釉薬原料スラリー中のケイ砂および市販の長石原料もＤ
５０が１０μｍ前後に粉砕されていると推察される。次
に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した衛生陶
器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状試験片を
作製し、上記の如くして得られた釉薬を板状試験片にス
プレーコーティング法により塗布し、１１００〜１２０
０℃で焼成することにより試料を得た。得られた試料に
ついて、耐アルカリ試験及びその前後における釉薬表面
の電子顕微鏡観察並びに表面粗さ測定、汚れ付着試験を
行った。耐アルカリ試験は、５％水酸化ナトリウム水溶
液を用意し、上記サンプルの半分を水溶液中に浸漬し
て、全体を７０℃に加熱し２４時間放置することにより
行った。その後、水溶液からサンプルを取り出して流水
で洗浄し、耐アルカリ試験前後における釉薬表面を走査
型電子顕微鏡（ＳＥＭ；日立製作所、Ｓ−８００）によ
り観察した。耐アルカリ試験前の釉薬表面には多くのシ
リカ粒子が存在しているため凹部となっていた。さら
に、耐アルカリ試験後の釉薬表面は、前記シリカ粒子の
周囲にクラックが発生し、シリカ粒子ごと欠落して凹凸
が大きくなっていた。試料表面の表面粗さは、触針式表
面粗さ測定器（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）を用い、中心線表
面粗さＲａを測定した。その結果、耐アルカリ試験前の
表面粗さはＲａ＝０．１０μｍ、耐アルカリ試験後の表
面粗さはＲａ＝０．２５μｍであった。尿石付着試験
は、初めに、人間より採取した尿を蒸留水で２倍に希釈
し、この希釈尿約２リットルを上記板状サンプルと同一
の条件で作製した大便器のボール内に入れ、座面を密閉
して常温で一週間放置した。希釈直後及び大便器ボール
内で一週間放置した後の尿を２５℃においてｐＨ測定
（堀場製作所製ｐＨメーターＭ−１２使用）したとこ
ろ、それぞれ６．５、８．５であった。次に、ボール内
の希釈尿を捨て、約１２リットルの水道水（通常の便器
タンクによる洗浄水量に相当する）でボール内を流水洗
浄し、室温で乾燥させた。その後、ヘルステック製歯垢
染色ジェル「ＤＥＮＴＣＬＵＢ」の希釈溶液をボール内
にスプレーし、赤色の強弱で尿石付着量を評価した。こ
の歯垢染色ジェルを用いると、尿石付着の多い部分は強
く赤色に染まり、尿石の無い部分には色が着かない。そ
のため、目視により尿石付着量を評価することが可能で
ある。その結果、ボール内の希釈尿喫水部及び浸漬部が
強く赤色に染まり、大量の尿石が付着していることが分
かった。

【００４５】（比較例２）表１の組成から成る釉薬原料
２ｋｇと水１ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの
陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉
砕した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に
得られた釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１０μ
ｍ以下が６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μ
ｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が２３．３μｍであっ
た。これとは別に表１から乳濁剤であるＺｒＯ2と顔料
を除いた組成から成る釉薬原料２ｋｇと水１ｋｇ及び球
石４ｋｇを容積６リットルの陶器製ポットに入れ、ボー
ルミルにより約１８時間粉砕したところ、１０μｍ以下
が６３％、Ｄ５０が６．０μｍ、Ｄ９０が２５．４μｍ
の透明釉薬スラリーを得た。次に、ケイ砂、長石、粘土
等を原料として調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７
０×１５０ｍｍの板状試験片を作製し、上記の如くして
得られた釉薬スラリーを板状試験片にスプレーコーティ
ング法により塗布し、さらにその上に上記の如くして得
られた透明釉薬スラリーをスプレーコーティング法によ
り塗布し、１１００〜１２００℃で焼成することにより
試料を得た。得られた試料について、比較例１と同様の
評価を行った。耐アルカリ試験前の釉薬表面のＳＥＭ写
真を図１に、耐アルカリ試験後の釉薬表面のＳＥＭ写真
を図２に示す。図１から、耐アルカリ試験前の釉薬表面
には多くのシリカ粒子（濃暗部）が存在しているため凹
部となっていた。さらに、図２から、耐アルカリ試験後
の釉薬表面は、前記シリカ粒子の周囲にクラックが発生
し、シリカ粒子ごと欠落して凹凸が大きくなっていた。
表面粗さ測定結果は、耐アルカリ試験前がＲａ＝０．０
８μｍ、耐アルカリ試験後がＲａ＝０．１０μｍであっ
た。上記板状サンプルと同一の条件で作製した大便器を
用いて尿石付着試験を行い、ボール内に歯垢染色ジェル
の希釈溶液をスプレーしたところ、ボール内の希釈尿喫
水部及び浸漬部が強く赤色に染まり、大量の尿石が付着
していることが分かった。

【００４６】（実施例１）表１に示した組成から成る釉
薬基材を、電気炉を用いて１４００〜１５５０℃にて溶
融し、水中で急冷してガラスフリットを得た。これをス
タンプミルにて粉砕し、得られた粉末２５０ｇと水１７
０ｇ及び球石１ｋｇを容積２リットルの陶器製ポットに
入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕することにより
フリット釉薬スラリーを得た。次に、ケイ砂、長石、粘
土等を原料として調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、
７０×１５０ｍｍの板状試験片を作製し、上記の如くし
て得られた釉薬を板状試験片にスプレーコーティング法
により塗布し、１１００〜１２００℃で焼成することに
より試料を得た。得られた試料について、比較例１と同
様の評価を行った。耐アルカリ試験前の釉薬表面は非常
に平滑であり、シリカ粒子は全く存在しなかった。さら
に、耐アルカリ試験後の釉薬表面はＺｒＯ2の欠落は見
られるが凹凸は小さく、平滑であった。表面粗さ測定結
果は、耐アルカリ試験前がＲａ＝０．０２μｍ、耐アル
カリ試験後がＲａ＝０．０４μｍであった。上記板状サ
ンプルと同一の条件で作製した大便器を用いて尿石付着
試験を行い、ボール内に歯垢染色ジェルの希釈溶液をス
プレーしたところ、希釈尿喫水部及び浸漬部は薄く赤色
に染まったが、比較例１のサンプルと比較すると明らか
にその色が薄く、尿石付着量が少ないことが分かった。

【００４７】（実施例２）表１の組成から成る釉薬原料
２ｋｇと水１ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの
陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉
砕した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に
得られた釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１０μ
ｍ以下が６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μ
ｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が２３．３μｍであっ
た。これとは別に表１から乳濁剤であるＺｒＯ2と顔料
を除いた組成から成る釉薬基材を、電気炉を用いて１４
００〜１５５０℃にて溶融し、水中で急冷してガラスフ
リットを得た。これをスタンプミルにて粉砕し、得られ
た粉末２５０ｇと水１７０ｇ及び球石１ｋｇを容積２リ
ットルの陶器製ポットに入れ、ボールミルにより約１８
時間粉砕することにより透明フリット釉薬スラリーを得
た。次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した
衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状試
験片を作製し、上記の如くして得られた釉薬スラリーを
板状試験片にスプレーコーティング法により塗布し、さ
らにその上に透明フリット釉薬スラリーをスプレーコー
ティング法により塗布し、１１００〜１２００℃で焼成
することにより試料を得た。得られた試料について、比
較例１と同様の評価を行った。耐アルカリ試験前の釉薬
表面のＳＥＭ写真を図３に、耐アルカリ試験後の釉薬表
面のＳＥＭ写真を図４に示す。図３から、耐アルカリ試
験前の釉薬表面は非常に平滑であり、シリカ粒子は全く
存在しなかった。さらに、図４から、耐アルカリ試験後
の釉薬表面も試験前とほとんど変わらないため平滑であ
った。表面粗さ測定結果は、耐アルカリ試験前がＲａ＝
０．０２μｍ、耐アルカリ試験後がＲａ＝０．０３μｍ
であった。上記板状サンプルと同一の条件で作製した大
便器を用いて尿石付着試験を行い、ボール内に歯垢染色
ジェルの希釈溶液をスプレーしたところ、希釈尿喫水部
及び浸漬部は薄く赤色に染まったが、比較例２のサンプ
ルと比較すると明らかにその色が薄く、尿石付着量が少
ないことが分かった。

【００４８】（実施例３）表１の組成から成る釉薬原料
２ｋｇと水１ｋｇ及びアルミナボール４ｋｇを、容積６
リットルの陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約
３６時間粉砕した。レーザー回折式粒度分布計を用い
て、粉砕後に得られた釉薬スラリーの粒径を測定したと
ころ、１０μｍ以下が９０％、５０％平均粒径（Ｄ５
０）が３．３μｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が９．９
μｍであった。次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料とし
て調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍ
ｍの板状試験片を作製し、上記の如くして得られた釉薬
を板状試験片にスプレーコーティング法により塗布し、
１１００〜１２００℃で焼成することにより試料を得
た。得られた試料について、比較例１と同様の評価を行
った。耐アルカリ試験前の釉薬表面は、比較例１と比べ
てシリカ粒子が少なく小さため、１０μｍ以上のシリカ
粒子は全くなく、非常に平滑であった。そのため、耐ア
ルカリ試験後の釉薬表面はクラックの発生した部分は非
常に少なく、平滑であった。表面粗さ測定結果は、耐ア
ルカリ試験前がＲａ＝０．０３μｍ、耐アルカリ試験後
がＲａ＝０．１０μｍであった。上記板状サンプルと同
一の条件で作製した大便器を用いて尿石付着試験を行
い、ボール内に歯垢染色ジェルの希釈溶液をスプレーし
たところ、希釈尿喫水部及び浸漬部は薄く赤色に染まっ
たが、比較例１のサンプルと比較すると明らかにその色
が薄く、尿石付着量が少ないことが分かった。

【００４９】（実施例４）表１の組成から成る釉薬原料
２ｋｇと水１ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの
陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉
砕した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に
得られた釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１０μ
ｍ以下が６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μ
ｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が２３．３μｍであっ
た。これとは別に表１から乳濁剤であるＺｒＯ2と顔料
を除いた組成から成る釉薬基材２ｋｇと水１ｋｇ及びア
ルミナボール４ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポット
中に入れ、ボールミルにより約６０時間粉砕したとこ
ろ、１０μｍ以下が１００％、Ｄ５０が１．７μｍ、Ｄ
９０が３．８μｍの微粉砕透明釉薬スラリーを得た。次
に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した衛生陶
器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状試験片を
作製し、上記の如くして得られた釉薬スラリーを板状試
験片にスプレーコーティング法により塗布し、さらにそ
の上に微粉砕透明釉薬スラリーをスプレーコーティング
法により塗布し、１１００〜１２００℃で焼成すること
により試料を得た。得られた試料について、比較例１と
同様の評価を行った。耐アルカリ試験前の釉薬表面は非
常に平滑であり、シリカ粒子は全く見あたらなかった。
さらに、耐アルカリ試験後の釉薬表面は試験前とほとん
ど変わらないほど平滑であった。表面粗さ測定結果は、
耐アルカリ試験前がＲａ＝０．０３μｍ、耐アルカリ試
験後がＲａ＝０．０４μｍであった。上記板状サンプル
と同一の条件で作製した大便器を用いて尿石付着試験を
行い、ボール内に歯垢染色ジェルの希釈溶液をスプレー
したところ、希釈尿喫水部及び浸漬部は薄く赤色に染ま
ったが、比較例２のサンプルと比較すると明らかにその
色が薄く、尿石付着量が少ないことが分かった。

【００５０】（実施例５）表１からシリカ粒子の原料と
なるケイ砂，市販の長石原料を除いた組成から成る釉薬
原料２ｋｇと水１ｋｇ及びアルミナボール４ｋｇを、容
積６リットルの陶器製ポット中に入れ、ボールミルによ
り約１８時間粉砕した。レーザー回折式粒度分布計を用
いて、粉砕後に得られた釉薬スラリーの粒径を測定した
ところ、１０μｍ以下が９９％、５０％平均粒径（Ｄ５
０）が２．２μｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が５．１
μｍであった。これとは別に、ケイ砂４００ｇ，市販の
長石原料２００ｇと水３００ｇ及びアルミナボール１．
２ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポットの中に入れ、
ボールミルにより約４０時間粉砕したところ、１０μｍ
以下が９８％、Ｄ５０が２．４μｍ、Ｄ９０が５．５μ
ｍのシリカスラリーを得た。上記粒径に粉砕した釉薬ス
ラリーとシリカスラリーを重量比４：６の割合で混合し
て、１０μｍ以下が９９％、Ｄ５０が２．３μｍ、Ｄ９
０が５．３μｍの混合釉薬を得た。次に、ケイ砂、長
石、粘土等を原料として調製した衛生陶器素地泥漿を用
いて、７０×１５０ｍｍの板状試験片を作製し、上記の
如くして得られた混合釉薬を板状試験片にスプレーコー
ティング法により塗布し、１１００〜１２００℃で焼成
することにより試料を得た。得られた試料について、比
較例１と同様の評価を行った。耐アルカリ試験前の釉薬
表面は非常に平滑であり、１０μｍより大きなシリカ粒
子は全く見あたらなかった。さらに耐アルカリ試験後の
釉薬表面はクラックの発生した１０μｍ以下のシリカ粒
子がわずかに存在するだけであるため、試験前とほとん
ど変わらないほど平滑であった。表面粗さ測定結果は、
耐アルカリ試験前がＲａ＝０．０４μｍ、耐アルカリ試
験後がＲａ＝０．１１μｍであった。上記板状サンプル
と同一の条件で作製した大便器を用いて尿石付着試験を
行い、ボール内に歯垢染色ジェルの希釈溶液をスプレー
したところ、希釈尿喫水部及び浸漬部は薄く赤色に染ま
ったが、比較例１のサンプルと比較すると明らかにその
色が薄く、尿石付着量が少ないことが分かった。

【００５１】（実施例６）表１の組成から成る釉薬原料
２ｋｇと水１ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの
陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉
砕した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に
得られた釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１０μ
ｍ以下が６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μ
ｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が２３．３μｍであっ
た。これとは別に、表１から乳濁剤であるＺｒＯ2と顔
料およびシリカ粒子の原料となるケイ砂と市販の長石原
料を除いた組成から成る釉薬基材２ｋｇと水１ｋｇ及び
アルミナボール４ｋｇを容積６リットルの陶器製ポット
中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕したとこ
ろ、１０μｍ以下が９７％、Ｄ５０が２．３μｍ、Ｄ９
０が５．０μｍの透明釉薬スラリーを得た。さらに、こ
れとは別に、ケイ砂４００ｇ，長石２００ｇと水３００
ｇ及びアルミナボール１．２ｋｇを、容積６リットルの
陶器製ポットの中に入れ、ボールミルにより約４０時間
粉砕したところ、１０μｍ以下が９８％、Ｄ５０が２．
４μｍ、Ｄ９０が５．５μｍのシリカスラリーを得た。
上記粒径に粉砕した透明釉薬スラリーとシリカスラリー
を重量比４：６の割合で混合して、１０μｍ以下が９８
％、Ｄ５０が２．４μｍ、Ｄ９０が５．３μｍの透明混
合釉薬スラリーを得た。次に、ケイ砂、長石、粘土等を
原料として調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×
１５０ｍｍの板状試験片を作製し、上記の如くして得ら
れた釉薬スラリーを板状試験片にスプレーコーティング
法により塗布し、さらにその上に透明混合釉薬スラリー
をスプレーコーティング法により塗布し、１１００〜１
２００℃で焼成することにより試料を得た。得られた試
料について、比較例１と同様の評価を行った。耐アルカ
リ試験前の釉薬表面は非常に平滑であり、１０μｍより
大きなシリカ粒子は全く見あたらなかった。さらに耐ア
ルカリ試験後の釉薬表面はクラックの発生した１０μｍ
以下のシリカ粒子がわずかに存在するだけであるため、
試験前とほとんど変わらないほど平滑であった。表面粗
さ測定結果は、耐アルカリ試験前がＲａ＝０．０４μ
ｍ、耐アルカリ試験後がＲａ＝０．０５μｍであった。
上記板状サンプルと同一の条件で作製した大便器を用い
て尿石付着試験を行い、ボール内に歯垢染色ジェルの希
釈溶液をスプレーしたところ、希釈尿喫水部及び浸漬部
は薄く赤色に染まったが、比較例２のサンプルと比較す
ると明らかにその色が薄く、尿石付着量が少ないことが
分かった。

【００５２】（実施例７）表１に示した組成から成る釉
薬原料を、電気炉を用いて１４００〜１５５０℃にて溶
融し、水中で急冷してガラスフリットを得た。これをス
タンプミルにて粉砕し、得られた粉末２５０ｇと水１７
０ｇ及び球石１ｋｇを容積２リットルの陶器製ポットに
入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕することによ
り、フリット釉薬スラリーを得た。これとは別に、表１
の組成から成る釉薬原料２ｋｇと水１ｋｇ及びアルミナ
ボール４ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポット中に入
れ、ボールミルにより約３６時間粉砕したところ、１０
μｍ以下が９０％、Ｄ５０が３．３μｍ、Ｄ９０が９．
９μｍの微粉砕釉薬スラリーを得た。上記粒径に粉砕し
たフリット釉薬スラリーと微粉砕釉薬スラリーを重量比
８：２の割合で混合して、１０μｍ以下が７６％、Ｄ５
０が４．０μｍ、Ｄ９０が１５．９μｍの混合釉薬を得
た。次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した
衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状試
験片を作製し、上記の如くして得られた混合釉薬を板状
試験片にスプレーコーティング法により塗布し、１１０
０〜１２００℃で焼成することにより試料を得た。得ら
れた試料について、比較例１と同様の評価を行った。耐
アルカリ試験前の釉薬表面は非常に平滑であり、１０μ
ｍより大きなシリカ粒子は全くなかった。また、比較例
１に比べてシリカ粒子の数も少なく、小さいことから、
耐アルカリ試験後の釉薬表面はシリカ粒子の周囲に発生
したクラックも少なく、試験前とほとんど変わらないほ
ど平滑であった。表面粗さ測定結果は、耐アルカリ試験
前がＲａ＝０．０５μｍ、耐アルカリ試験後がＲａ＝
０．１０μｍであった。上記板状サンプルと同一の条件
で作製した大便器を用いて尿石付着試験を行い、ボール
内に歯垢染色ジェルの希釈溶液をスプレーしたところ、
希釈尿喫水部及び浸漬部は薄く赤色に染まったが、比較
例１のサンプルと比較すると明らかにその色が薄く、尿
石付着量が少ないことが分かった。

【００５３】（実施例８）表１の組成から成る釉薬原料
２ｋｇと水１ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの
陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉
砕した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に
得られた釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１０μ
ｍ以下が６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μ
ｍ、９０％平均粒径（Ｄ９０）が２３．３μｍであっ
た。これとは別に表１から乳濁剤であるＺｒＯ2と顔料
を除いた組成から成る釉薬原料を、電気炉を用いて１４
００〜１５５０℃にて溶融し、水中で急冷してガラスフ
リットを得た。これをスタンプミルにて粉砕し、得られ
た粉末１．６ｋｇと表１から乳濁剤であるＺｒＯ2と顔
料を除いた組成から成る釉薬基材０．４ｋｇと水１ｋｇ
及び球石４ｋｇを容積６リットルの陶器製ポットに入
れ、ボールミルにより約３６時間粉砕することにより透
明混合釉薬スラリーを得た。次に、ケイ砂、長石、粘土
等を原料として調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７
０×１５０ｍｍの板状試験片を作製し、上記の如くして
得られた釉薬スラリーを板状試験片にスプレーコーティ
ング法により塗布し、さらにその上に透明混合釉薬スラ
リーをスプレーコーティング法により塗布し、１１００
〜１２００℃で焼成することにより試料を得た。得られ
た試料について、比較例１と同様の評価を行った。耐ア
ルカリ試験前の釉薬表面は非常に平滑であり、１０μｍ
より大きなシリカ粒子は全くなかった。また、比較例２
に比べてシリカ粒子の数も少なく、小さいことから、耐
アルカリ試験後の釉薬表面はシリカ粒子の周囲に発生し
たクラックも少なく、試験前とほとんど変わらないほど
平滑であった。表面粗さ測定結果は、耐アルカリ試験前
がＲａ＝０．０４μｍ、耐アルカリ試験後がＲａ＝０．
０６μｍであった。上記板状サンプルと同一の条件で作
製した大便器を用いて尿石付着試験を行い、ボール内に
歯垢染色ジェルの希釈溶液をスプレーしたところ、希釈
尿喫水部及び浸漬部は薄く赤色に染まったが、比較例２
のサンプルと比較すると明らかにその色が薄く、尿石付
着量が少ないことが分かった。

【００５４】

【発明の効果】本発明によれば、汚れが付着しにくい陶
器が提供可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の衛生陶器（比較例２）における、耐アル
カリ試験前の釉薬表面の走査型電子顕微鏡（日立製作
所、Ｓ−８００）による反射電子像。

【図２】従来の衛生陶器（比較例２）における、耐アル
カリ試験後の釉薬表面の走査型電子顕微鏡（日立製作
所、Ｓ−８００）による反射電子像。

【図３】本発明に係わる衛生陶器（実施例２）におけ
る、耐アルカリ試験前の釉薬表面の走査型電子顕微鏡
（日立製作所、Ｓ−８００）による反射電子像。

【図４】本発明に係わる衛生陶器（実施例２）におけ
る、耐アルカリ試験後の釉薬表面の走査型電子顕微鏡
（日立製作所、Ｓ−８００）による反射電子像。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｅ０３Ｄ 11/02 Ｅ０３Ｄ 11/02 Ｚ (72)発明者 林 浩一 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 石橋 弘孝 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 一木 智康 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 Ｆターム(参考） 2D039 AA01 AA04 4G062 AA08 AA09 AA15 BB01 CC01 DA06 DB03 DB04 DC01 DD01 DE03 DF01 EA01 EB02 EB03 EC03 ED02 ED03 EE03 EE04 EF01 EG01 FA01 FB01 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH12 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 NN40 PP01 PP02 PP12

Claims (56)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的にガラス成
   分と顔料のみからなることを特徴とする陶器。
2. 【請求項２】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的にガラス成
   分のみからなることを特徴とする陶器。
3. 【請求項３】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層の最表層には粒径１０μｍ以
   上のシリカ粒子が存在しないことを特徴とする陶器。
4. 【請求項４】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的にガラス成
   分のみからなり、ガラス成分以外の成分としては、微量
   成分として、粒径１０μｍ未満のシリカ粒子、顔料粒
   子、抗菌剤のうちの１種以上のみであることを特徴とす
   る陶器。
5. 【請求項５】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層は実質的にガラス成分と顔料
   のみからなることを特徴とする陶器。
6. 【請求項６】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層は実質的にガラス成分のみか
   らなることを特徴とする陶器。
7. 【請求項７】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層には粒径１０μｍ以上のシリ
   カ粒子が存在しないことを特徴とする陶器。
8. 【請求項８】 陶器素地表面に釉薬層が形成されている
   陶器において、前記釉薬層は実質的にガラス成分のみか
   らなり、ガラス成分以外の成分としては、微量成分とし
   て、粒径１０μｍ未満のシリカ粒子、顔料粒子、抗菌剤
   のうちの１種以上のみであることを特徴とする陶器。
9. 【請求項９】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成されて
   おり、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている陶
   器であって、前記第二の釉薬層の最表層は実質的にガラ
   ス成分と顔料のみからなることを特徴とする陶器。
10. 【請求項１０】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層の最表層は実質的にガ
    ラス成分のみからなることを特徴とする陶器。
11. 【請求項１１】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層の最表層には粒径１０
    μｍ以上のシリカ粒子が存在しないことを特徴とする陶
    器。
12. 【請求項１２】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層の最表層は実質的にガ
    ラス成分のみからなり、ガラス成分以外の成分として
    は、微量成分として、粒径１０μｍ未満のシリカ粒子、
    顔料粒子、抗菌剤のうちの１種以上のみであることを特
    徴とする陶器。
13. 【請求項１３】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層は実質的にガラス成分
    と顔料のみからなることを特徴とする陶器。
14. 【請求項１４】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層は実質的にガラス成分
    のみからなることを特徴とする陶器。
15. 【請求項１５】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層には粒径１０μｍ以上
    のシリカ粒子が存在しないことを特徴とする陶器。
16. 【請求項１６】 陶器素地上に第一の釉薬層が形成され
    ており、さらにその上に第二の釉薬層が形成されている
    陶器であって、前記第二の釉薬層は実質的にガラス成分
    のみからなり、ガラス成分以外の成分としては、微量成
    分として、粒径１０μｍ未満のシリカ粒子、顔料粒子、
    抗菌剤のうちの１種以上のみであることを特徴とする陶
    器。
17. 【請求項１７】 前記第一の釉薬層には着色顔料が含有
    されていることを特徴とする請求項９乃至１６に記載の
    陶器。
18. 【請求項１８】 前記第二の釉薬層は透明であることを
    特徴とする請求項１０、１１、１２、１４、１５、１
    ６、１７いずれか１項に記載の陶器。
19. 【請求項１９】 前記釉薬層または前記第二の釉薬層の
    表面の表面粗さＲａが触針式表面粗さ測定装置（ＪＩＳ
    −Ｂ０６５１）により、０．０７μｍ未満であることを
    特徴とする請求項１乃至１８に記載の陶器。
20. 【請求項２０】 前記釉薬層または前記第二の釉薬層に
    は、抗菌剤が添加されていることを特徴とする請求項１
    乃至１９に記載の陶器。
21. 【請求項２１】 前記陶器は、陶器成形素地に釉薬を被
    覆後、１１００〜１３００℃で焼成することにより作製
    しうることを特徴とする請求項１乃至２０に記載の陶
    器。
22. 【請求項２２】 前記陶器は、陶器成形素地に釉薬を被
    覆後、１１００〜１２５０℃で焼成することにより作製
    しうることを特徴とする請求項１乃至２０に記載の陶
    器。
23. 【請求項２３】 前記陶器は、陶器成形素地に釉薬を被
    覆後、１１００〜１２００℃で焼成することにより作製
    しうることを特徴とする請求項１乃至２０に記載の陶
    器。
24. 【請求項２４】 前記陶器は、衛生陶器であることを特
    徴とする請求項１乃至２３に記載の陶器。
25. 【請求項２５】 前記陶器は、便器であることを特徴と
    する請求項１乃至２３に記載の陶器。
26. 【請求項２６】 前記陶器は、洗面器であることを特徴
    とする請求項１乃至２３に記載の陶器。
27. 【請求項２７】 前記陶器は、大便器であることを特徴
    とする請求項１乃至２３に記載の陶器。
28. 【請求項２８】 前記陶器は、小便器であることを特徴
    とする請求項１乃至２３に記載の陶器。
29. 【請求項２９】 前記釉薬層又は前記第二の釉薬層は、
    前記陶器の一部に被覆されていることを特徴とする請求
    項２４乃至２８に記載の陶器。
30. 【請求項３０】 前記釉薬層又は前記第二の釉薬層は、
    少なくともボール面に被覆されていることを特徴とする
    請求項２４乃至２８に記載の陶器。
31. 【請求項３１】 フリット釉を準備する工程、前記フリ
    ット釉を陶器成形素地に適用することにより釉薬被覆物
    を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度以下の温
    度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶器の製造
    方法。
32. 【請求項３２】 ９０％粒径が２０μｍ以下の粒子含有
    釉薬を準備する工程、前記釉薬を陶器成形素地に適用す
    ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
    物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
    を特徴とする陶器の製造方法。
33. 【請求項３３】 ９０％粒径が１０μｍ以下の粒子含有
    釉薬を準備する工程、前記釉薬を陶器成形素地に適用す
    ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
    物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
    を特徴とする陶器の製造方法。
34. 【請求項３４】 ５０％粒径が５μｍ以下の粒子含有釉
    薬を準備する工程、前記釉薬を陶器成形素地に適用する
    ことにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物
    を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むことを
    特徴とする陶器の製造方法。
35. 【請求項３５】 ９０％粒径が１５μｍ以下のシリカ粒
    子を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含ま
    ない釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、
    前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用することにより釉
    薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度
    以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶
    器の製造方法。
36. 【請求項３６】 ９０％粒径が１０μｍ以下のシリカ粒
    子を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含ま
    ない釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、
    前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用することにより釉
    薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度
    以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶
    器の製造方法。
37. 【請求項３７】 ９０％粒径が６μｍ以下のシリカ粒子
    を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含まな
    い釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、前
    記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用することにより釉薬
    被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度以
    下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶器
    の製造方法。
38. 【請求項３８】 ５０％粒径が５μｍ以下のシリカ粒子
    を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含まな
    い釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、前
    記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用することにより釉薬
    被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度以
    下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶器
    の製造方法。
39. 【請求項３９】 フリット釉を準備する工程、前記フリ
    ット釉と粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調製する
    工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用することに
    より釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３
    ００度以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴と
    する陶器の製造方法。
40. 【請求項４０】 フリット釉を準備する工程、９０％粒
    径が２０μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記
    フリット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を
    調製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用す
    ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
    物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
    を特徴とする陶器の製造方法。
41. 【請求項４１】 フリット釉を準備する工程、９０％粒
    径が１０μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記
    フリット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を
    調製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用す
    ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
    物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
    を特徴とする陶器の製造方法。
42. 【請求項４２】 フリット釉を準備する工程、９０％粒
    径が６μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記フ
    リット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調
    製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用する
    ことにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物
    を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むことを
    特徴とする陶器の製造方法。
43. 【請求項４３】 フリット釉を準備する工程、５０％粒
    径が５μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記フ
    リット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調
    製する工程、前記被覆用釉薬を陶器成形素地に適用する
    ことにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物
    を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むことを
    特徴とする陶器の製造方法。
44. 【請求項４４】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、フリット釉を準備する工程、前記フリッ
    ト釉を前記第一の釉薬上に適用することにより釉薬被覆
    物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度以下の
    温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶器の製
    造方法。
45. 【請求項４５】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、９０％粒径が２０μｍ以下の粒子含有釉
    薬を準備する工程、前記粒子含有釉薬を前記第一の釉薬
    上に適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、前
    記釉薬被覆物を１３００度以下の温度で焼成する工程、
    を含むことを特徴とする陶器の製造方法。
46. 【請求項４６】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、９０％粒径が１０μｍ以下の粒子含有釉
    薬を準備する工程、前記粒子含有釉薬を前記第一の釉薬
    上に適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、前
    記釉薬被覆物を１３００度以下の温度で焼成する工程、
    を含むことを特徴とする陶器の製造方法。
47. 【請求項４７】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、５０％粒径が５μｍ以下の粒子含有釉薬
    を準備する工程、前記粒子含有釉薬を前記第一の釉薬上
    に適用することにより釉薬被覆物を形成する工程、前記
    釉薬被覆物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を
    含むことを特徴とする陶器の製造方法。
48. 【請求項４８】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、９０％粒径が１５μｍ以下のシリカ粒子
    を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含まな
    い釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、前
    記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用することにより
    釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００
    度以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする
    陶器の製造方法。
49. 【請求項４９】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、９０％粒径が１０μｍ以下のシリカ粒子
    を準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含まな
    い釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、前
    記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用することにより
    釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００
    度以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする
    陶器の製造方法。
50. 【請求項５０】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、９０％粒径が６μｍ以下のシリカ粒子を
    準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含まない
    釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、前記
    被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用することにより釉
    薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度
    以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶
    器の製造方法。
51. 【請求項５１】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、５０％粒径が５μｍ以下のシリカ粒子を
    準備する工程、前記シリカ粒子とシリカ粒子を含まない
    釉薬原料とを混合して被覆用釉薬を調製する工程、前記
    被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用することにより釉
    薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１３００度
    以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴とする陶
    器の製造方法。
52. 【請求項５２】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、フリット釉を準備する工程、前記フリッ
    ト釉と粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調製する工
    程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用すること
    により釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆物を１
    ３００度以下の温度で焼成する工程、を含むことを特徴
    とする陶器の製造方法。
53. 【請求項５３】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、フリット釉を準備する工程、９０％粒径
    が２０μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記フ
    リット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調
    製する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用
    することにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被
    覆物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこ
    とを特徴とする陶器の製造方法。
54. 【請求項５４】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、フリット釉を準備する工程、９０％粒径
    が１０μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記フ
    リット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調
    製する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用
    することにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被
    覆物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこ
    とを特徴とする陶器の製造方法。
55. 【請求項５５】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、フリット釉を準備する工程、９０％粒径
    が６μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記フリ
    ット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調製
    する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用す
    ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
    物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
    を特徴とする陶器の製造方法。
56. 【請求項５６】 陶器成形素地に着色性の第一の釉薬を
    適用する工程、フリット釉を準備する工程、５０％粒径
    が５μｍ以下の粒子含有釉薬を準備する工程、前記フリ
    ット釉と前記粒子含有釉薬を混合して被覆用釉薬を調製
    する工程、前記被覆用釉薬を前記第一の釉薬上に適用す
    ることにより釉薬被覆物を形成する工程、前記釉薬被覆
    物を１３００度以下の温度で焼成する工程、を含むこと
    を特徴とする陶器の製造方法。