JP2000128672A

JP2000128672A - 陶磁器及びその製造方法

Info

Publication number: JP2000128672A
Application number: JP18165199A
Authority: JP
Inventors: Mitsuyoshi Machida; 町田　　光義; Masami Ando; 正美安藤; Masaaki Ito; 正昭伊藤; Tomoyasu Ichiki; 智康一木; Koichi Hayashi; 浩一林; Atsushi Kitamura; 厚北村; Toshihiro Aoshima; 利裕青島; Hirotaka Ishibashi; 弘孝石橋
Original assignee: Toto Ltd
Current assignee: Toto Ltd
Priority date: 1998-06-30
Filing date: 1999-06-28
Publication date: 2000-05-09

Abstract

(57)【要約】【課題】従来にない優れた表面光沢を有する陶磁器の
提供。【解決手段】表面に釉薬層を形成した陶磁器であっ
て、前記表面のクルトシスＲｋｕが２．７０未満である
ことを特徴とする陶磁器。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大便器、小便器、
便器のサナ、便器タンクなどの衛生陶器、洗面台の洗面
器、タイル、食器、陶板等の陶磁器全般に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の陶磁器では、例えば衛生陶器の場
合、レーザー回折法による粒度分布測定での５０％粒径
（Ｄ５０）が５μｍ程度の釉薬原料を塗布して焼成して
いたため、表面のクルトシスがＲｋｕで２．７０以上で
あり、それ未満のものはなかった。そのために表面光沢
の度合が一定値以上にできなかった。

【０００３】

【発明の解決すべき課題】本発明の目的は、従来にない
優れた表面光沢を有する陶磁器を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、表面に釉薬層を形成した陶磁器であって、
前記表面のクルトシスＲｋｕが２．７０未満であること
を特徴とする陶磁器を提供する。陶磁器表面に従来にな
い平面性を持たせることにより、光が乱反射されにくく
なり、その結果、従来にない優れた表面光沢を有するよ
うになる。

【０００５】陶磁器表面の釉薬層を拡大して見た場合、
大小さまざまな形の凹凸が存在する。ここで、鋭くとが
った凹凸が多く存在する（Ｒｋｕが大きい）釉薬層表面
と、丸みを帯びた凹凸が多く存在する（Ｒｋｕが小さ
い）釉薬層表面に、同じ方向から光を照射したと仮定す
る。

【０００６】この時、鋭くとがった凹凸部では光を反射
するときの方向が大きく変わってしまうため、乱反射に
より反射光の強度が減衰する。一方、丸みを帯びた凹凸
部の場合は、前者と比較すると乱反射が少なく、反射光
の強度が弱まらず、高い光沢度を有する。

【０００７】

【発明の実施の形態】図１に、本発明の陶磁器の具体的
な構成例を示す。本発明の陶磁器は陶磁器基材１上に釉
薬層２が形成されており、釉薬層２の表面３のクルトシ
スＲｋｕが２．７０未満、好ましくは２．６０以下、よ
り好ましくは２．５０以下になるようにする。ここで、
表面のクルトシスＲｋｕは、触針法に基づく表面粗さ測
定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）による測定により得られ
る自乗平均平方根粗さＲｑから、計算することにより求
めることができる。

【０００８】自乗平均平方根粗さＲｑは、粗さ曲線から
その中心線の方向に測定長さｌの部分を抜き取り、この
抜取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸とし、
粗さ曲線ｙ＝ｆ（ｘ）で表したとき、次の数１式によっ
て求められる。

【０００９】

【数１】

【００１０】クルトシス（とがり）Ｒｋｕは、振幅分布
曲線の鋭角性を定量的に表すパラメータで、次の数２式
により求められる。

【００１１】

【数２】

【００１２】本発明の適用可能な陶磁器は、以下のもの
に限定されるものではないが、例えば、小便器、大便
器、便器のサナなどの衛生陶器、洗面台の洗面器、タイ
ル、食器、陶板等に利用できる．

【００１３】本発明の陶磁器を作製する１つの方法は、
釉薬原料を５０％粒径（Ｄ５０）１．５μｍ以下まで粉
砕して微粒釉薬原料を作製する工程、前記微粒釉薬原料
を陶磁器基材の成形素地に適用する工程、焼成する工
程、を経て行う方法である。Ｄ５０が１．５μｍ以下の
微粒釉薬原料は、釉薬原料をボールミル等により粉砕し
て作製する。ここで、釉薬原料のＤ５０は、レーザー回
折式粒度分布測定装置等により測定することができる。
また、陶磁器基材の成形素地に適用する方法は、スプレ
ーコーティング、ディップコーティング、スピンコーテ
ィング、ロールコーティング等の一般的な方法が利用で
きる。焼成温度は成形素地を予め焼結させておくか否か
により異なる。成形素地を予め焼結させておかない場合
は、成形素地が焼結し、かつ釉薬が軟化する１０００℃
以上の温度で焼成する。成形素地を予め焼結させておく
場合は、釉薬が軟化可能である４００℃以上の温度で焼
成する。

【００１４】本発明の陶磁器を作製する他の方法は、ガ
ラス化されたフリット状の釉薬原料を準備する工程、前
記フリット状の釉薬原料を陶磁器基材の成形素地に適用
する工程、焼成する工程、を経て行う方法である。ガラ
ス化されたフリット状の釉薬原料は、釉薬原料粉体を１
３００度以上の高温で溶融させることにより得ることが
できる。また、陶磁器基材の成形素地に適用する方法
は、スプレーコーティング、ディップコーティング、ス
ピンコーティング、ロールコーティング等の一般的な方
法が利用できる。焼成温度は成形素地を予め焼結させて
おくか否かにより異なる。成形素地を予め焼結させてお
かない場合は、成形素地が焼結し、かつ釉薬が軟化する
１０００℃以上の温度で焼成する。成形素地を予め焼結
させておく場合は、釉薬が軟化可能である４００℃以上
の温度で焼成する。

【００１５】本発明の陶磁器を作製する他の方法は、上
記フリット状の釉薬原料と上記釉薬原料粉体の混合物を
準備する工程、前記混合物を陶磁器基材の成形素地に適
用する工程、焼成する工程、を経て行う。上記フリット
状の釉薬原料は、釉薬原料粉体を１３００度以上の高温
で溶融させることにより得ることができる。上記釉薬原
料粉体の粒径は、なるべく微細な方がよく、Ｄ５０で６
μｍ以下、好ましくは４μｍ以下、さらに好ましくは
１．５μｍ以下にするのがよい。微細である程、焼成後
の表面のクルトシスＲｋｕが小さくなり、表面の光沢度
が増加する。

【００１６】釉薬層中に、釉薬以外の添加物を添加する
ことにより付加機能を持たせるようにしてもよい。例え
ば、銀、銅、亜鉛又はその化合物、固溶体等の抗菌金属
や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化第二鉄、三酸化
タングステン、チタン酸ストロンチウム、三酸化二ビス
マス等の光触媒を添加すると、抗菌効果が発揮される。
また、上記光触媒の存在により、親水性が助長される、
光還元性を有する等の効果も得られる。

【００１７】

【実施例】（比較例１）

【００１８】

【表１】

【００１９】表１の組成から成る釉薬基材２ｋｇと水１
ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポット
中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕した。レー
ザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に得られた釉薬
スラリーの粒径を測定したところ、１０μｍ以下が６５
％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が６．２μｍであった。
次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した衛生
陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状試験片
を作製し、上記の如くして得られた釉薬スラリーを板状
試験片にスプレーコーティング法により塗布し、１１０
０〜１２００℃で焼成することにより試料を得た。な
お、得られた試料の釉薬色は、パステルアイボリー（＃
ＳＣ１）である。

【００２０】得られた試料について、表面粗さ測定、光
沢度測定を行い、表面特性を評価した。試料表面のクル
トシスは、触針式表面粗さ測定器（ＪＩＳ−Ｂ０６５
１）を用い、表面うねりＲｋｕを測定した。その結果、
Ｒｋｕ＝３．０４であった。また、光沢度は鏡面光沢度
測定法（ＪＩＳ−Ｚ８７４１）に従い、６０度鏡面光沢
度Ｇｓ（６０゜）を測定した。その結果、Ｇｓ（６０
゜）＝９５．０であった。

【００２１】（比較例２）Ｉ社製洋風大便器、色：アイボリー。比較例１と同様に評価したところ、表面のクルトシス測
定結果は、Ｒｋｕ=２．７０であった。光沢度測定結果
は、Ｇｓ（６０゜）＝９８．０であった。

【００２２】（実施例１）表１に示した組成から成る釉
薬基材６００ｇと水４００ｇ及びアルミナボール１ｋｇ
を、容積２リットルの陶器製ポット中に入れ、ボールミ
ルにより約６５時間粉砕した。レーザー回折式粒度分布
計を用いて、粉砕後に得られた釉薬スラリーの粒径を測
定したところ、１０μｍ以下が９８％、５０％平均粒径
（Ｄ５０）が１．２μｍであった。

【００２３】次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として
調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍ
の板状試験片を作製し、上記の如くして得られた釉薬を
板状試験片にスプレーコーティング法により塗布し、１
１００〜１２００℃で焼成することにより試料を得た。
なお、得られた試料の釉薬色は、パステルアイボリー
（＃ＳＣ１）である。

【００２４】得られた試料について、比較例１及び２と
同様に評価したところ、表面のクルトシス測定結果は、
Ｒｋｕ=２．００であった。光沢度測定結果は、Ｇｓ
（６０゜）＝１０２．０であった。

【００２５】（実施例２）表１に示した組成から成る釉
薬基材を、電気炉を用いて１３００〜１４５０℃にて溶
融し、水中で急冷してガラスフリットを得た。これを、
スタンプミルにより粉砕し、得られた粉末６００ｇと水
４００ｇ及びアルミナボール１ｋｇを、容積２リットル
の陶器製ポット中に入れ、ボールミルにより約１８時間
粉砕した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後
に得られたフリット釉スラリーの粒径を測定したとこ
ろ、１０μｍ以下が６８％、５０％平均粒径（Ｄ５０）
が６．０μｍであった。

【００２６】次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として
調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍ
の板状試験片を作製し、上記の如くして得られたフリッ
ト釉を板状試験片にスプレーコーティング法により塗布
し、１１００〜１２００℃で焼成することにより試料を
得た。なお、得られた試料の釉薬色は、パステルアイボ
リー（＃ＳＣ１）である。

【００２７】得られた試料について、比較例１、２及び
実施例１と同様に評価したところ、表面のクルトシス測
定結果は、Ｒｋｕ＝１．９０であった。光沢度測定結果
は、Ｇｓ（６０゜）＝１０６．０であった。

【００２８】（実施例３）前記実施例２で作製したフリ
ット釉（Ｄ５０＝１２μｍ）スラリー７０重量部と上記
実施例１で作製した微粒化釉薬（Ｄ５０＝１．２μｍ）
スラリー３０重量部を混合した。レーザー回折式粒度分
布計を用いて、この混合釉薬スラリーの粒径を測定した
ところ、１０μｍ以下が５７％、５０％平均粒径（Ｄ５
０）が６．３μｍであった。

【００２９】次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として
調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍ
の板状試験片を作製し、上記の如くして得られた釉薬ス
ラリーを板状試験片にスプレーコーティング法により塗
布し、１１００〜１２００℃で焼成することにより試料
を得た。なお、得られた試料の釉薬色は、パステルアイ
ボリー（＃ＳＣ１）である。

【００３０】得られた試料について、比較例１、２及び
実施例１と同様に評価したところ、表面のクルトシス測
定結果は、Ｒｋｕ＝２．４５であった。光沢度測定結果
は、Ｇｓ（６０゜）＝１００．０であった。

【００３１】評価結果をまとめて図２に示す。図２か
ら、表面のクルトシスＲｋｕの値が小さくなるとともに
光沢度Ｇｓ（６０゜）の値が大きくなっており、負の相
関性が認められる。さらに、Ｒｋｕの値を２．７０未満
とすることによってＧｓ（６０゜）が１００以上の、従
来にはない高い光沢度を有する釉薬層表面を得ることが
出来る。

【００３２】

【発明の効果】本発明によれば、従来にない優れた表面
光沢を有する陶磁器を提供可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る陶磁器の構成を示す図。

【図２】クルトシスＲｋｕと光沢度Ｇｓ（６０°）の関
係を示すグラフ。

【符号の説明】

１…陶磁器基材２…釉薬層３…表面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者一木智康福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内 (72)発明者林浩一福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内 (72)発明者北村厚福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内 (72)発明者青島利裕福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内 (72)発明者石橋弘孝福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に釉薬層を形成した陶磁器であっ
て、前記表面のクルトシスＲｋｕが２．７０未満である
ことを特徴とする陶磁器。
【請求項２】表面に釉薬層を形成した陶磁器であっ
て、前記表面のクルトシスＲｋｕが２．６０以下である
ことを特徴とする陶磁器。
【請求項３】表面に釉薬層を形成した陶磁器であっ
て、前記表面のクルトシスＲｋｕが２．５０以下である
ことを特徴とする陶磁器。
【請求項４】前記陶磁器は、衛生陶器であることを特
徴とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項５】前記陶磁器は、便器のサナであることを
特徴とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項６】前記陶磁器は、大便器であることを特徴
とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項７】前記陶磁器は、小便器であることを特徴
とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項８】前記陶磁器は、洗面台の洗面器であるこ
とを特徴とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項９】前記陶磁器は、食器であることを特徴と
する請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項１０】前記陶磁器は、タイルであることを特
徴とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項１１】前記陶磁器は、陶板であることを特徴
とする請求項１乃至３に記載の陶磁器。
【請求項１２】５０％粒径（Ｄ５０）１．５μｍ以下
の微粒釉薬原料を陶磁器基材の成形素地に適用する工
程、焼成する工程、を含む請求項１乃至１１の陶磁器の
製造方法。
【請求項１３】釉薬原料粉体を５０％粒径（Ｄ５０）
１．５μｍ以下まで粉砕して微粒釉薬原料を作製する工
程、前記微粒釉薬原料を陶磁器基材の成形素地に適用す
る工程、焼成する工程、を含む請求項１乃至１１の陶磁
器の製造方法。
【請求項１４】フリット釉を陶磁器基材の成形素地に
適用する工程、焼成する工程、を含む請求項１乃至１１
の陶磁器の製造方法。
【請求項１５】釉薬原料をガラス化してフリット釉を
準備する工程、前記フリット釉を陶磁器基材の成形素地
に適用する工程、焼成する工程、を含む請求項１乃至１
１の陶磁器の製造方法。
【請求項１６】フリット状の釉薬原料と前記釉薬原料
粉体の混合物を陶磁器基材の成形素地に適用する工程、
焼成する工程、を含む請求項１乃至１１の陶磁器の製造
方法。
【請求項１７】フリット状の釉薬原料と前記釉薬原料
粉体の混合物を準備する工程、前記混合物を陶磁器基材
の成形素地に適用する工程、焼成する工程、を含む請求
項１乃至１１の陶磁器の製造方法。