JP2000208794A - 薄膜太陽電池等のパタ―ン状薄膜層のレ―ザパタ―ニング方法および装置 - Google Patents

薄膜太陽電池等のパタ―ン状薄膜層のレ―ザパタ―ニング方法および装置

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JP2000208794A
JP2000208794A JP11011045A JP1104599A JP2000208794A JP 2000208794 A JP2000208794 A JP 2000208794A JP 11011045 A JP11011045 A JP 11011045A JP 1104599 A JP1104599 A JP 1104599A JP 2000208794 A JP2000208794 A JP 2000208794A
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film solar
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清雄 ▲斎▼藤
Kiyoo Saito
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Fuji Electric Co Ltd
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ加工重複部の光電変換層の低抵抗化の
問題,加工部周辺の盛り上がりの問題,レーザ加工によ
る下地層や裏面層のダメージの問題などを解消し、高品
質にして高効率の薄膜太陽電池等のパターン状薄膜層の
レーザパターニング方法および装置を提供する。 【解決手段】 前記方法は、比較的幅狭でかつ細長い所
定幅・所定長さの短冊状を有する1ショットのレーザパ
ルス加工工程を含むこととする。上記方法を実施する装
置は、レーザパルス発生源3と、複数台の発振器2と、
ホモジナイザ5と、X−Yステージ6と、制御コンピュ
ータ7とを備え、複数台のレーザ発振器から同時に出射
したレーザ光線を前記ホモジナイザ5に導入してレーザ
出力分布を所定幅・所定長さの短冊状に整形し、レーザ
光線の出射タイミングを、前記X−Yステージに載置さ
れた加工対象物に応じて制御するようにしてなるものと
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、薄膜太陽電池,
薄膜トランジスタ,薄膜発光素子,電子写真感光ドラム
などのパターン状薄膜層、特に薄膜太陽電池のレーザパ
ターニング方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、環境保護の立場から、クリーンな
エネルギーの研究開発が進められている。中でも、太陽
電池はその資源(太陽光)が無限であること、無公害で
あることから注目を集めている。
【0003】薄膜太陽電池は、薄型で軽量、製造コスト
の安さ、大面積化が容易であることなどから、今後の太
陽電池の主流となると考えられる。
【0004】従来の薄膜太陽電池はガラス基板を用いて
いたが、軽量化、施工性、量産性においてプラスチック
フィルムおよび金属フィルムを用いたフレキシブルタイ
プの太陽電池の研究開発がすすめられている。このフレ
キシブル性を生かし、ロールツーロール方式の製造方法
により大量生産が可能となった。
【0005】上記の薄膜太陽電池は、フレキシブルな電
気絶縁性フィルム基板上に第1電極、薄膜半導体層から
なる光電変換層および第2電極が積層されてなる光電変
換素子(またはセル)が複数形成されている。ある光電
変換素子の第1電極と隣接する光電変換素子の第2電極
を電気的に接続することを繰り返すことにより、最初の
光電変換素子の第1電極と最後の光電変換素子の第2電
極とに必要な電圧を出力させることができる。例えば、
インバータにより交流化し商用電力源として交流100
Vを得るためには、薄膜太陽電池の出力電圧は100V
以上が望ましく、実際には数10個以上の素子が直列接
続される。
【0006】このような光電変換素子とその直列接続
は、電極層と光電変換層の成膜と各層のパターニングお
よびそれらの組み合わせ手順により形成される。少数の
光電変換素子を直列接続した薄膜太陽電池により従来技
術を説明する(特願平9−37207号参照)。
【0007】図5は、上記特許出願明細書に記載された
薄膜太陽電池の一例を示し、(a)は平面図、(b)は
(a)における線ABCDおよびBQCに沿っての断面
図であり、(c)は(a)におけるEE断面図を示す。
【0008】電気絶縁性でフレキシブルな樹脂からなる
長尺のフィルム基板上に、順次、第1電極層、光電変換
層、第2電極層が積層され、フィルム基板の反対側(裏
面)には第3電極層、第4電極層が積層され、裏面電極
が形成されている。光電変換層は例えばアモルファスシ
リコンのpin接合である。フィルム基板用材料として
は、ポリイミドのフィルムが用いられている。
【0009】製造工程の概要につき以下に説明する。
【0010】先ず、フィルム基板にパンチを用いて、接
続孔h1を開け、基板の片側(表側とする)に第1電極
層として、スパッタにより銀を成膜し、これと反対の面
(裏側とする)には、第3電極層として、同じく銀電極
を成膜する。接続孔h1の内壁で第1電極層と第3電極
層とは重なり、導通する。
【0011】成膜後、表側では、第1電極層を所定の形
状にレーザ加工して、下電極l1〜l6をパターニング
する。下電極l1〜l6の隣接部は一本の分離線g2
を、二列の直列接続の光電変換素子間および周縁導電部
fとの分離のためには二本の分離線g2を形成し、下電
極l1〜l6は分離線により囲まれるようにする。再度
パンチを用いて、集電孔h2を開けた後、表側に、光電
変換層pとしてa-Si層をプラズマCVDにより成膜す
る。マスクを用いて幅W2の成膜とし、レーザ加工によ
り二列素子の間だけに第1電極層と同じ分離線を形成す
る。
【0012】さらに第2電極層として表側にITO層
(透明電極層)を成膜する。但し、二つの素子列の間と
これに平行な基板の両側端部にはマスクを掛け接続孔h
1には成膜しないようにし、素子部のみに成膜する。次
いで裏面全面に第4電極層として銀電極を成膜する。第
4電極の成膜により、集電孔h2の内壁で第2電極と第
4電極とが重なり、導通する。表側では、レーザ加工に
より下電極と同じパターンの分離線を入れ、個別の第2
電極u1〜u6を形成し、裏側では第3電極と第4電極
とを同時にレーザ加工し、接続電極e12〜e56、お
よび電力取り出し電極o1,o2を個別化し、基板の周
縁部では表側の分離線g3と重なるように分離線g2を
形成し、隣接電極間には一本の分離線を形成する。
【0013】全ての薄膜太陽電池素子を一括して囲う周
縁、および二列の直列接続太陽電池素子の隣接する境界
には(周縁導電部fの内側)分離線g3がある。分離線
g3の中にはどの層も無い。裏側では、全ての電極を一
括して囲う周縁、および二列の直列接続電極の隣接する
境界には(周縁導電部fの内側)分離線g2がある。分
離線g2の中にはどの層も無い。
【0014】こうして、電力取り出し電極o1−集電孔
h2−上電極u1、光電変換層、下電極l1−接続孔h
1−接続電極e12−上電極u2、光電変換層、下電極
l2−接続電極e23−・・・−上電極u6、光電変換
層、下電極l6−接続孔h1−電力取出し電極o2の順
の光電変換素子の直列接続が完成する。
【0015】なお、前述の説明においては、各分離線は
2本づつ設けた例について説明したが、説明の便宜上、
以下の説明では、分離線は一本として説明する。また、
第3電極層と第4電極層は、説明の便宜上、併せて一層
の接続電極として説明する。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これまでの
薄膜太陽電池のレーザパターニングにおいては、1000パ
ルス/秒以上の高いレーザ発振周波数と高速XーYステ
ージを用いた、繰り返しパルスによるパルス重ね合わせ
方式のレーザ加工が一般的であった。
【0017】しかし、繰り返しパルスを用いた線状加工
では、レーザ波長の光を吸収する基板や薄膜が加工対象
物の下地に存在すると下地層が、重複パルスにより損傷
する問題があった。
【0018】例えば、薄膜太陽電池ユニットの分離加工
では、光電変換層上の透明電極層を分離加工する際に、
1ショットのレーザパルスで露出した光電変換層に再度
レーザパルスを照射するため、パルス重複部の光電変換
層が低抵抗化する。その後、透明電極除去部及びその延
長部の光電変換層及び金属電極層を除去すると、除去端
部の光電変換層が低抵抗化し、この加工端部とパルス重
複部の光電変換層低抵抗化部を介して、透明電極と金属
電極間に漏れ電流が発生するといった問題があった。
【0019】また、繰り返しパルスを用いた線状加工で
は、加工に際しレーザパルスを重ねる必要があるため、
レーザパルスの重複部と1パルス加工部とでは、加工状
態が異なってしまう。そのため、レーザ波長の光が透過
する基板の両面に薄膜を形成する薄膜太陽電池では、こ
のパルス重複部の基板背面の薄膜が損傷する事を防ぐた
めに、レーザ加工出力を精度良くコントロールしたり、
基板上に保護層を設けたりする工夫が必要であった。
【0020】さらに、加工対象物の膜厚が厚いと、パル
スレーザ加工時に加工周辺が盛り上がり、この盛り上が
った膜を除去するには、加工対象物を除去するよりも高
いレーザ出力が必要となってしまう問題があった。レー
ザ出力を高くすると、上記したように、下地層や基板背
面の薄膜が損傷するので、電極膜厚を制限することとな
り、最終的には、ユニットセル幅等の薄膜太陽電池パタ
ーンに影響を与えていた。
【0021】前述の従来技術の説明においては、絶縁性
の表面を有する基板上の一方の面に金属電極である下電
極,光電変換層,及び透明電極である上電極を順次重ね
て薄膜太陽電池層を形成し、他方の面に接続電極を形成
する薄膜太陽電池の例について説明したが、基板の一方
の面上にのみ、金属電極層,光電変換層および透明電極
層を順次重ねて形成するタイプの薄膜太陽電池において
も、パルス重ね合わせ方式のレーザ加工を採用する場合
には、前記と同様の問題があった。
【0022】さらに、薄膜太陽電池以外の、例えば薄膜
トランジスタ,薄膜発光素子,電子写真感光ドラムなど
の機能デバイスにおいても、同様の問題があった。
【0023】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、本発明の課題は、従来のパル
ス重ね合わせ方式の加工で問題となっていたレーザ加工
重複部の光電変換層の低抵抗化の問題,加工部周辺の盛
り上がりの問題,レーザ加工による下地層や裏面層のダ
メージの問題などを解消し、高品質にして高効率の薄膜
太陽電池等のパターン状薄膜層のレーザパターニング方
法および装置を提供することにある。
【0024】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
め、請求項1の発明は、電気絶縁性を有する基板の一方
の面上に、金属電極層,光電変換層および透明電極層を
順次重ねて形成し、かつ所定のパターンをレーザにより
形成してなる薄膜太陽電池のレーザパターニング方法に
おいて、最上層の透明電極層のパターンは、比較的幅狭
でかつ細長い所定幅・所定長さの短冊状を有する1ショ
ットのレーザパルス加工により形成し、透明電極層の下
層の光電変換層および金属電極層は、パルス重ね合わせ
方式のレーザパルス加工あるいは前記1ショットのレー
ザパルス加工により形成することとする。
【0025】光電変換層上の透明電極層の分離加工につ
いては、1つのユニット内の透明電極層を1ショットの
レーザパルスで分離するので、パルスの重複部が無く、
下地の光電変換層の低抵抗化を最小限にできる。
【0026】その後に、透明電極加工領域及びその延長
線上の光電変換層と金属電極層を同時にレーザ加工する
ことにより、透明電極と金属電極間の漏れ電流の発生を
最小限にしながら薄膜太陽電池を分離できる。
【0027】このときの、光電変換層と金属電極層のレ
ーザパターニングも、加工品質としては、1ショットの
レーザパルスで除去した方が望ましいが、基板の片面だ
けに薄膜を形成する太陽電池であり、且つ、下地の基板
ダメージを考慮する必要が無場合には、従来のパルス重
ね合わせ加工でも良い。それは、従来のパルス重ね合わ
せ加工の方が、1ショットでの加工領域が狭いので、パ
ルスエネルギーが低い発振器が利用できるためである。
【0028】請求項2の発明では、絶縁性の表面を有す
る基板上の一方の面に金属電極である下電極,光電変換
層,及び透明電極である上電極を順次重ねて薄膜太陽電
池層を形成し、他方の面に接続電極を形成し、この接続
電極と前記下電極ならびに接続電極と前記上電極とを基
板に開けた接続孔を介して接続することにより、隣接す
る薄膜太陽電池ユニットの下電極と上電極とを接続し、
電気的に直列接続を行う直列接続型薄膜太陽電池のレー
ザパターニング方法において、以下の4つの工程を含む
こととする。 レーザスポットが細長い短冊状を有し、その長辺が少
なくとも薄膜太陽電池の1ユニットの上電極の長さを有
する1ショットのレーザパルスで、上電極の一部を除去
することにより、上電極を複数のユニットに分割加工す
る工程。 の工程よりも短辺の長さが短く、長辺の長さが1ユ
ニットの下電極の幅より長い、細長い短冊状を有するレ
ーザスポットを、上電極を除去した領域内及びその延長
部に照射し、光電変換層及び下電極を1ショットのレー
ザパルスで短冊状に除去することにより、薄膜太陽電池
を複数のユニットに分割加工する工程。 レーザスポットが細長い短冊状を有し、その長辺が少
なくとも1ユニットの接続電極の幅よりも長い、1ショ
ットのレーザパルスで、接続電極を短冊状に除去するこ
とにより、接続電極を複数のユニットに分割加工する工
程。 直列接続型薄膜太陽電池相互及び直列接続型薄膜太陽
電池と外部を分離する、下電極と接続電極の分離を、パ
ルス重ね合わせ方式のレーザパルス加工あるいは前記1
ショットのレーザパルス加工により行う工程。
【0029】電気絶縁性基板の両面に薄膜を形成する薄
膜太陽電池においては、前述のように細長い短冊状を有
する1ショットのレーザパルス加工を採用することによ
り、請求項1の発明の効果以外に、裏側に形成された薄
膜のダメージを防止する効果が得られる。
【0030】請求項3の発明は、請求項1または2に記
載の方法において、透明電極層のパターンまたは透明電
極である上電極の1ショットレーザパルス加工を、波長
400nm以下の紫外域波長のレーザ光により行うこと
とするもので、レーザパルス波長を変えることにより、
さらに、高品質な薄膜の分離加工が可能となる。
【0031】例えば、上記した透明電極層に酸化インジ
ウム(ITO)を用いた場合には、光電変換層を加工し
ている可視域のレーザよりも、400nm以下の波長を有
するレーザ光で加工した方が、高品質な上部電極uの選
択除去が容易であり、光電変換層と金属電極層を除去す
るには、可視域波長を有する高出力レーザが適してい
る。
【0032】また前記の発明は、薄膜太陽電池以外の、
例えば薄膜トランジスタ,薄膜発光素子,電子写真感光
ドラムなどの機能デバイスに対しても適用が可能であ
り、請求項4の発明では、機能デバイスの所要構成に応
じて、電気絶縁性を有する基板上に、金属電極層,光電
変換層,発光層,透明電極層,保護層などのいずれか複
数の所定の層を形成し、かつ所定のパターンをレーザに
より形成してなるパターン状薄膜層のレーザパターニン
グ方法において、所定幅・所定長さの短冊状を有する1
ショットのレーザパルス加工により、前記複数の層の上
層のパターンを形成することとする。
【0033】さらに、請求項5の発明は、前記所定幅・
所定長さの短冊状を有する1ショットのレーザパルス加
工を実施するために必要な、レーザパターニング装置に
関わり、パルス発生源と、複数台のレーザ発振器と、ホ
モジナイザと、X−Yステージと、制御コンピュータと
を備え、前記複数台のレーザ発振器から同時に出射した
レーザ光線を、前記ホモジナイザに導入してレーザ出力
分布を所定幅・所定長さの短冊状に整形し、レーザ光線
の出射タイミングを、前記X−Yステージに載置された
加工対象物に応じて制御するようにしてなるものとす
る。
【0034】
【発明の実施の形態】図面に基づき、本発明の実施の形
態について以下に述べる。
【0035】本発明は、所定幅・所定長さの短冊状を有
する1ショットのレーザパルス加工を行うことを骨子と
しているので、まず、請求項5に関わる装置の実施例に
ついて述べる。図1は、本発明のレーザパターニング装
置を概念的に示す。
【0036】本発明の装置は、複数台のレーザ発振器2
を1つのレーザパルス発生源3を用いて同時発振させ、
発振器2から出射したレーザ光線をホモジナイザ5に導
入してレーザ出力分布を所定幅・所定長さの短冊状に整
形したレーザビーム4を得る。このレーザパルス発生源
3は、XーYステージ6を制御する制御コンピュータ7
により制御されており、XーYステージ6が加工位置に
移動した後に、レーザパルスを出射するように制御して
いる。
【0037】次に、薄膜太陽電池を対象としたレーザパ
ターニング方法について述べる。
【0038】図2は、請求項1の発明の実施の形態を説
明するために、薄膜太陽電池を一部概念的に示して、そ
の製造工程の一例を(a)〜(e)で示した図である。
(a)は、基板の状態、(b)は、薄膜太陽電池形成後
の状態、(c)は、透明電極の集電極としてのグリット
電極形成後の状態、(d)は、透明電極層分離加工後の
状態、(e)は、薄膜太陽電池分離加工後の状態を示
す。各工程の図の左側は、平面図を示し、右側は、各平
面図におけるX−X矢視断面図を示す。
【0039】まず、金属基板上に絶縁層をコーティング
し、絶縁表面を有する基板1を形成し(a工程)、その
上に、第1電極層である銀等の高反射金属からなる金属
電極層をスパッタ法により形成し、a−Si層から成る
光電変換層をプラズマCVD法で、光入射側の第2電極
層である透明電極層をスパッタ法を用いて順次形成する
(b工程)。このとき、各層は、マスクを用いてパター
ン形成されている。
【0040】その上に、透明電極の集電極として、グリ
ット電極gdをスパッタ形成し(c工程)、最後に第1
電極層/光電変換層/第2電極層から成る薄膜太陽電池層
をレーザにより電気的に分割し、複数個の薄膜太陽電池
を形成する。
【0041】この薄膜太陽電池層の分割は、2段階に行
われている。第1段階は、所定幅・所定長さの短冊状に
整形した1ショットのレーザパルスで、上電極uを形成
する工程であり、下地の光電変換層を融させずに透明電
極層を分離する(d工程)。この透明電極層の選択除去
には、可視域の波長を有するYAG:SHGレーザより
も紫外域の波長を有するYAG:THGレーザの方が良
い。それは、ITO等の透明電極層は、紫外域の波長で
の吸収係数が大きいため、YAG:THGレーザを用い
ると透明電極層を直接加工できるためである。
【0042】第2段階は、光電変換層及び下電極lを形
成する工程であり、透明電極分離部及びその延長部の光
電変換層及び金属電極層を線状に分離する(e工程)。
【0043】この光電変換層と金属電極層のパターニン
グは、下地ダメージが問題とならない場合は、従来のパ
ルス重ね合わせ加工を選択した方が良い。それは、第1
段階の透明電極層のパターニングは、透明電極層の厚さ
が0.1μm以下であることから、レーザスポットが大
きな線状スポットを用いた1ショット加工を適用して
も、レーザパルスエネルギーの比較的小さなYAG:S
HGレーザやYAG:THGレーザを用いることができ
るが、光電変換層と金属電極層は、1.0μm程度の厚
さになるため、パルスエネルギーの高いエキシマレーザ
を用いるか、本発明でもある複数の発振器を同時に発振
させる加工が必要となってしまうためである。
【0044】本発明を用いることにより、透明電極層の
レーザパターニング時に発生するパルス重複部の光電変
換層の低抵抗化を無くし、薄膜太陽電池の分離加工をリ
ーク電流の発生を抑えながら行えるようになった。
【0045】図3ならびに図4は、請求項2および3の
発明の実施の形態を説明するために、図2と同様に、薄
膜太陽電池を一部概念的に示してその製造工程の一例を
示した図である。図3は、本発明の薄膜太陽電池側(表
側)の製造工程を示し、(a)は、透明電極層分離工程
を、(b)は、光電変換層及び第1電極層分離工程を、
(c)は、薄膜太陽電池相互及び薄膜太陽電池と電池セ
ル外部との分離工程を示す。図4は、裏側の接続電極側
の製造工程を示し、(a)は、第4電極層形成後の状態
を、(b)は、第3電極層および第4電極層(接続電
極)分離工程を、(c)は、薄膜太陽電池相互及び薄膜
太陽電池と電池セル外部との分離工程を示す。
【0046】まず、高分子基板1にパンチを用いて接続
孔h1を形成し、基板の両面に第1電極層及び第3電極
層として、銀等の高反射金属からなる金属電極層及び接
続電極層をスパッタ法により形成し、その後に集電孔h
2を開けた。
【0047】そして、a−Si層から成る光電変換層を
プラズマCVD法で、光入射側の第2電極層である透明
電極層をスパッタ法を用いて順次形成した。
【0048】また、第3電極層上には、第4電極層であ
るニッケルからなる接続電極層を同じくスパッタ法を用
いて形成した。このとき、各層は、マスクを用いてパタ
ーン形成されている。
【0049】最後に金属電極層/光電変換層/透明電極層
から成る薄膜太陽電池層及びその反対側の第3電極層と
第4電極層からなる接続電極層をレーザ加工分離するこ
とにより、複数個の直列接続型薄膜太陽電池を形成し
た。
【0050】この薄膜太陽電池層の分割は、2段階に行
われている。第1段階は、所定幅・所定長さの短冊状に
整形した1ショットのレーザパルスで、上電極uを形成
する工程であり、下地の光電変換層を融さずに透明電極
層を分離した(図3a)。
【0051】この透明電極層の選択除去には、可視域の
波長を有するYAG:SHGレーザよりも紫外域の波長
を有するYAG:THGレーザの方が良い。それは、I
TO等の透明電極層は、紫外域の波長での吸収係数が大
きいため、YAG:THGレーザを用いると透明電極層
を直接加工できるためである。
【0052】第2段階は、光電変換層及び下電極lを形
成する工程であり、透明電極分離部及びその延長部の光
電変換層及び金属電極層を所定幅・所定長さの短冊状に
分離した(図3b)。この分離は、短冊状に整形した1
ショットのレーザパルスで行っており、これにより、レ
ーザパルス重ね合わせ時のパルス重複部による接続電極
層のダメージを低減している。
【0053】しかし、光電変換層と金属電極層を同時に
加工するには、大きなパルスエネルギーが必要となり、
従来は、高価なエキシマレーザを使うしかなかった。そ
こで、本発明では、YAG:SHGレーザを使用し、複
数台のレーザ発振器を同時発振させることにより、大き
なレーザパルスエネルギーを得る装置(図1)を発明
し、加工に適用した。
【0054】また、接続電極eを形成するために、接続
電極層のユニットを短冊状に整形した1ショットのレー
ザパルスで加工した(図4b)。この加工も光電変換層
と金属電極層の加工と同様に行った。これにより、従来
問題であったパルス重複部での、薄膜太陽電池層のダメ
ージを低減できた。
【0055】そして、最後に、両面の薄膜太陽電池相互
及び薄膜太陽電池とセル外部との分離を、パルス重ね合
わせ加工を用いて行った(図3cおよび図4c)。これ
は、薄膜太陽電池相互及び薄膜太陽電池とセル外部との
分離では、裏側薄膜のダメージを問題としないこと、レ
ーザ加工部周辺の盛り上がり部をも加工できる大出力が
必要なことからパルス加工領域の小さいパルス重ね合わ
せ加工の方が、パルスエネルギーの小さな発振器で済む
からである。
【0056】また、短冊状のスポットでの加工は、同軸
方向の加工は問題無いが、90度の回転を要する加工につ
いては、光学系を回転させなければならない等複雑な光
学系の機構が必要となってしまうためである。
【0057】なお、前記薄膜太陽電池相互及び薄膜太陽
電池とセル外部との分離パルス重ね合わせ加工は、薄膜
太陽電池をユニットに分割する際の従来のパルス重ね合
わせ加工よりも、高いレーザ出力で加工することによ
り、加工時の盛り上がりや加工残査をなくすことができ
る。
【0058】本発明を用いることにより、直列接続型薄
膜太陽電池において、リーク電流の発生を防止すること
ができ、また、金属電極層加工時の接続電極層ダメージ
及び接続電極層加工時の薄膜太陽電池層ダメージを低減
することができた。
【0059】
【発明の効果】請求項1ないし4の発明によれば、いず
れも、所定幅・所定長さの短冊状を有する1ショットの
レーザパルス加工を含む薄膜太陽電池等のパターン状薄
膜層のレーザパターニング方法を採用したので、従来の
パルス重ね合わせ方式の加工で問題となっていたレーザ
加工重複部の光電変換層の低抵抗化の問題,加工部周辺
の盛り上がりの問題,レーザ加工による下地層や裏面層
のダメージの問題などを解消し、高品質にして高効率の
薄膜太陽電池等のパターン状薄膜層のレーザパターニン
グ方法を提供できる効果がある。また、請求項5のレー
ザパターニング装置の発明によれば、前記レーザパター
ニング方法に好適な装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザパターニング装置を概念的に示
す図である。
【図2】請求項1に関する薄膜太陽電池の製造工程の一
例を示す図である。
【図3】請求項2に関する薄膜太陽電池の表面の製造工
程の一例を示す図である。
【図4】請求項2に関する薄膜太陽電池の裏面の製造工
程の一例を示す図である。
【図5】薄膜太陽電池の構成および製造方法の一例を示
す図である。
【符号の説明】
1:電気絶縁性を有する基板、2:発振器、3:レーザ
パルス発生源、4:レーザビーム、5:ホモジナイザ、
6:X−Yステージ、7:制御コンピュータ、u:上電
極、e:接続電極、h1:接続孔、h2:集電孔。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気絶縁性を有する基板の一方の面上
    に、金属電極層,光電変換層および透明電極層を順次重
    ねて形成し、かつ所定のパターンをレーザにより形成し
    てなる薄膜太陽電池のレーザパターニング方法におい
    て、最上層の透明電極層のパターンは、比較的幅狭でか
    つ細長い所定幅・所定長さの短冊状を有する1ショット
    のレーザパルス加工により形成し、透明電極層の下層の
    光電変換層および金属電極層は、パルス重ね合わせ方式
    のレーザパルス加工あるいは前記1ショットのレーザパ
    ルス加工により形成することを特徴とする薄膜太陽電池
    のレーザパターニング方法
  2. 【請求項2】 絶縁性の表面を有する基板上の一方の面
    に金属電極である下電極,光電変換層,及び透明電極で
    ある上電極を順次重ねて薄膜太陽電池層を形成し、他方
    の面に接続電極を形成し、この接続電極と前記下電極な
    らびに接続電極と前記上電極とを基板に開けた接続孔を
    介して接続することにより、隣接する薄膜太陽電池ユニ
    ットの下電極と上電極とを接続し、電気的に直列接続を
    行う直列接続型薄膜太陽電池のレーザパターニング方法
    において、以下の4つの工程を含むことを特徴とする薄
    膜太陽電池のレーザパターニング方法。 レーザスポットが細長い短冊状を有し、その長辺が少
    なくとも薄膜太陽電池の1ユニットの上電極の長さを有
    する1ショットのレーザパルスで、上電極の一部を除去
    することにより、上電極を複数のユニットに分割加工す
    る工程。 の工程よりも短辺の長さが短く、長辺の長さが1ユ
    ニットの下電極の幅より長い、細長い短冊状を有するレ
    ーザスポットを、上電極を除去した領域内及びその延長
    部に照射し、光電変換層及び下電極を1ショットのレー
    ザパルスで短冊状に除去することにより、薄膜太陽電池
    を複数のユニットに分割加工する工程。 レーザスポットが細長い短冊状を有し、その長辺が少
    なくとも1ユニットの接続電極の幅よりも長い、1ショ
    ットのレーザパルスで、接続電極を短冊状に除去するこ
    とにより、接続電極を複数のユニットに分割加工する工
    程。 直列接続型薄膜太陽電池相互及び直列接続型薄膜太陽
    電池と外部を分離する、下電極と接続電極の分離を、パ
    ルス重ね合わせ方式のレーザパルス加工あるいは前記1
    ショットのレーザパルス加工により行う工程。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の方法におい
    て、透明電極層のパターンまたは透明電極である上電極
    の1ショットレーザパルス加工を、波長400nm以下
    の紫外域波長のレーザ光により行うことを特徴とする薄
    膜太陽電池のレーザパターニング方法。
  4. 【請求項4】 薄膜太陽電池,薄膜トランジスタ,薄膜
    発光素子,電子写真感光ドラムなどの機能デバイスの所
    要構成に応じて、電気絶縁性を有する基板上に、金属電
    極層,光電変換層,発光層,透明電極層,保護層などの
    いずれか複数の所定の層を形成し、かつ所定のパターン
    をレーザにより形成してなるパターン状薄膜層のレーザ
    パターニング方法において、所定幅・所定長さの短冊状
    を有する1ショットのレーザパルス加工により、前記複
    数の層の上層のパターンを形成することを特徴とするパ
    ターン状薄膜層のレーザパターニング方法。
  5. 【請求項5】 パルス発生源と、複数台のレーザ発振器
    と、ホモジナイザと、X−Yステージと、制御コンピュ
    ータとを備え、前記複数台のレーザ発振器から同時に出
    射したレーザ光線を、前記ホモジナイザに導入してレー
    ザ出力分布を所定幅・所定長さの短冊状に整形し、レー
    ザ光線の出射タイミングを、前記X−Yステージに載置
    された加工対象物に応じて制御するようにしてなること
    を特徴とする薄膜太陽電池等のパターン状薄膜層のレー
    ザパターニング装置。
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