JP2000191464A - ヘアスプレイ組成物 - Google Patents
ヘアスプレイ組成物Info
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- JP2000191464A JP2000191464A JP10377198A JP37719898A JP2000191464A JP 2000191464 A JP2000191464 A JP 2000191464A JP 10377198 A JP10377198 A JP 10377198A JP 37719898 A JP37719898 A JP 37719898A JP 2000191464 A JP2000191464 A JP 2000191464A
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- alkyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 毛髪のまとまりが良く、毛髪上の皮膜の平滑
性が高くベタツキの少ないセット効率の高いヘアスプレ
イ組成物を提供する。 【解決手段】 ポリアスパラギン酸誘導体と整髪用アニ
オン性高分子を配合することを特徴として、整髪保持効
果に優れ、毛髪を自然に仕上げるヘアスプレイ組成物。
性が高くベタツキの少ないセット効率の高いヘアスプレ
イ組成物を提供する。 【解決手段】 ポリアスパラギン酸誘導体と整髪用アニ
オン性高分子を配合することを特徴として、整髪保持効
果に優れ、毛髪を自然に仕上げるヘアスプレイ組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は毛髪化粧料、さらに
詳しくは、毛髪のまとまりが良く、毛髪上の皮膜の平滑
性が高くベタツキの少ないセット効率の高いヘアスプレ
イ組成物に関する。
詳しくは、毛髪のまとまりが良く、毛髪上の皮膜の平滑
性が高くベタツキの少ないセット効率の高いヘアスプレ
イ組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ヘアスプレイ組成物には(1)
整髪保持効果が高いこと、(２)仕上がりが自然であり、
軽い感触であることといった２つの相反する性能が望ま
れており、その性能を満足させるために各種検討が行わ
れてきている。しかし、十分性能を満足させる技術は開
発されていない。
整髪保持効果が高いこと、(２)仕上がりが自然であり、
軽い感触であることといった２つの相反する性能が望ま
れており、その性能を満足させるために各種検討が行わ
れてきている。しかし、十分性能を満足させる技術は開
発されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような事情に鑑
み、整髪保持効果が強くかつ自然な仕上がりを与えるヘ
アスプレイ組成物を得るべく鋭利研究を重ねた結果、意
外にも、セット性を有する一般的なヘアスプレイ組成物
に使用されているアニオン性高分子とポリアスパラギン
酸誘導体を配合することで、整髪保持効果に優れ、毛髪
に自然な仕上がりを与えるヘアスプレイ組成物を提供す
るものである。
み、整髪保持効果が強くかつ自然な仕上がりを与えるヘ
アスプレイ組成物を得るべく鋭利研究を重ねた結果、意
外にも、セット性を有する一般的なヘアスプレイ組成物
に使用されているアニオン性高分子とポリアスパラギン
酸誘導体を配合することで、整髪保持効果に優れ、毛髪
に自然な仕上がりを与えるヘアスプレイ組成物を提供す
るものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上のよ
うな問題点を解決すべく鋭意検討し、整髪用アニオン性
高分子とポリアスパラギン酸誘導体を組合せることで、
整髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げることを見出
し、本発明を完成するに至った。
うな問題点を解決すべく鋭意検討し、整髪用アニオン性
高分子とポリアスパラギン酸誘導体を組合せることで、
整髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げることを見出
し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明に用いるポリアスパラギン
酸誘導体は、重量平均分子量５，０００〜５００，００
０の高分子であって、下式Ａに示すモノマー単位５〜９
５重量％、及び下式Ｂ（式Ｂ−１、式Ｂ−１あるいは式
Ｂ−３のいずれか）に示すモノマー単位５〜８０重量％
からなる。さらに、この範囲の構成比をもつ高分子のモ
ノマーの総量に対して、下式Ｃに示すモノマー及び／又
は下式Ｄに示すモノマーをそれぞれ３〜４０重量％含有
させてもよい。 式Ａ（以下、モノマーＡと称す。）：
酸誘導体は、重量平均分子量５，０００〜５００，００
０の高分子であって、下式Ａに示すモノマー単位５〜９
５重量％、及び下式Ｂ（式Ｂ−１、式Ｂ−１あるいは式
Ｂ−３のいずれか）に示すモノマー単位５〜８０重量％
からなる。さらに、この範囲の構成比をもつ高分子のモ
ノマーの総量に対して、下式Ｃに示すモノマー及び／又
は下式Ｄに示すモノマーをそれぞれ３〜４０重量％含有
させてもよい。 式Ａ（以下、モノマーＡと称す。）：
【０００６】
【化７】
【０００７】［式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子
又は炭素数１〜２４のアルキル基、アルキルエーテル
基。アルキルアルコ−ル基の何れかを示す。］ 式Ｂ（式Ｂ−１、Ｂ−２あるいは式Ｂ−３のいずれか）
（以下、モノマーＢと称す。）：
又は炭素数１〜２４のアルキル基、アルキルエーテル
基。アルキルアルコ−ル基の何れかを示す。］ 式Ｂ（式Ｂ−１、Ｂ−２あるいは式Ｂ−３のいずれか）
（以下、モノマーＢと称す。）：
【０００８】
【化８】
【０００９】
【化９】
【００１０】
【化１０】
【００１１】［式Ｂ中、Ｒ3は、それぞれ水素原子又は
炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ
8は炭素数１〜２４のアルキル基の何れかを示す。Ｘは
塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４の硫酸アルキル残基
を示す。］ 式Ｃ（以下、モノマーＣと称す。）：
炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ
8は炭素数１〜２４のアルキル基の何れかを示す。Ｘは
塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４の硫酸アルキル残基
を示す。］ 式Ｃ（以下、モノマーＣと称す。）：
【００１２】
【化１１】
【００１３】式Ｄ（以下、モノマーＤと称す。）：
【００１４】
【化１２】
【００１５】［式中、Ｒ9は、それぞれ水素原子又は炭
素数１〜６のアルキル基、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は炭素数１
〜２４のアルキル基の何れかを示す。］
素数１〜６のアルキル基、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は炭素数１
〜２４のアルキル基の何れかを示す。］
【００１６】又、本発明では、式Ａ 、式Ｂ −１、式Ｂ −
２、式Ｂ −３、式Ｄ で示されるモノマ−は、それぞれ下
式の式Ａ1、式Ｂ1−１、式Ｂ1−２、式Ｂ1−３、および
式Ｄ1で示されるものをも含むものとする。
２、式Ｂ −３、式Ｄ で示されるモノマ−は、それぞれ下
式の式Ａ1、式Ｂ1−１、式Ｂ1−２、式Ｂ1−３、および
式Ｄ1で示されるものをも含むものとする。
【００１７】
【化１３】
【００１８】
【化１４】
【００１９】
【化１５】
【００２０】
【化１６】
【００２１】
【化１７】
【００２２】これらポリアスパラギン酸誘導体は、欧州
特許０７６７１９１号に記載されている公知の製法によ
り得られたポリコハク酸イミドを出発物質として温度が
０℃〜１５０℃の溶媒中でイミド環を開化しジアミンや
両性構造を有するアミン類を結合させることにより製造
することができる。これらのポリアスパラギン酸誘導体
は一般的にはエタノール又はエタノール／水混合液など
に希釈されて使用される。
特許０７６７１９１号に記載されている公知の製法によ
り得られたポリコハク酸イミドを出発物質として温度が
０℃〜１５０℃の溶媒中でイミド環を開化しジアミンや
両性構造を有するアミン類を結合させることにより製造
することができる。これらのポリアスパラギン酸誘導体
は一般的にはエタノール又はエタノール／水混合液など
に希釈されて使用される。
【００２３】本発明に用いるポリアスパラギン酸誘導体
中のモノマーＡの比率は５〜９５重量％が好ましく、そ
の比率が５重量％に満たなければ、感触が硬くなりヘア
スプレイの使用感が損なわれ、９５重量％を超えると高
分子にベタツキ感が出てくる。また、モノマーＢの比率
は、５〜８０重量％が好ましく、その比率が５重量％に
満たなければ、高分子の洗い落ち性が悪くなり、また８
０重量％を超えるとセットの保持力が弱くなる。
中のモノマーＡの比率は５〜９５重量％が好ましく、そ
の比率が５重量％に満たなければ、感触が硬くなりヘア
スプレイの使用感が損なわれ、９５重量％を超えると高
分子にベタツキ感が出てくる。また、モノマーＢの比率
は、５〜８０重量％が好ましく、その比率が５重量％に
満たなければ、高分子の洗い落ち性が悪くなり、また８
０重量％を超えるとセットの保持力が弱くなる。
【００２４】さらに、本発明に用いるポリアスパラギン
酸誘導体では、モノマーＡ及びモノマーＢからなる構成
に、モノマーＣ及び／またはモノマーＤを構成モノマー
として加えることができる。
酸誘導体では、モノマーＡ及びモノマーＢからなる構成
に、モノマーＣ及び／またはモノマーＤを構成モノマー
として加えることができる。
【００２５】本発明では、これらポリアスパラギン酸誘
導体の１種または２種以上をヘアスプレイ組成物全量に
対して、固形分として０．１〜１０重量％配合でき、特
に０．５〜６重量％配合するのが好ましい。その配合量
が０．１重量％未満であると仕上がり感への自然な風合
いの付与効果が十分得られない。また、配合量が１０重
量％を超えるとべたつき感が強くなりすぎる。
導体の１種または２種以上をヘアスプレイ組成物全量に
対して、固形分として０．１〜１０重量％配合でき、特
に０．５〜６重量％配合するのが好ましい。その配合量
が０．１重量％未満であると仕上がり感への自然な風合
いの付与効果が十分得られない。また、配合量が１０重
量％を超えるとべたつき感が強くなりすぎる。
【００２６】本発明に用いるアニオン性高分子は特に限
定されるものではないが、好ましくは、 （１）アクリル酸及びメタクリル酸から選ばれる少なく
とも1種を基本とする単位で構成される重合体（例えば
互応化学製の「プラスサイズ」、大阪有機製の「アニセ
ット」、三菱化学製の「ダイヤホールド」がある） （２）酢酸ビニル及びクロトン酸を基本とする単位で構
成される重合体（例えばＮＳＣ製の「レジン２８−１３
１０」） （３）アクリル酸及びネオデカン酸ビニルを基本とする
単位で構成される重合体（例えばＮＳＣ製の「レジン２
８−２９３０」） （４）アクリル酸及びアルキルアクリルアミドを基本と
する単位で構成される重合体（例えばＮＳＣ製の「バー
サクリル」、ＢＡＳＦ製の「ウルトラホールド」） （５）メチルビニルエーテルマレイン酸を基本とする単
位で構成される重合体（例えばＩＳＰ製の「ガントレッ
ツ」） （６）アクリル酸及びビニルピロリドンを基本とする単
位で構成される重合体（例えばＢＡＳＦ製の「ルビフレ
ックス」）から選ばれるものであり、その配合量は、組
成物全量に基づいて０．５〜６重量％、好ましくは０．
５〜４重量％である。これらの高分子は、必要に応じて
アミノメチルプロパノ−ル、水酸化カリウムのようなア
ルカリ剤を用いて、任意の割合で中和してから使用する
のが好ましい。
定されるものではないが、好ましくは、 （１）アクリル酸及びメタクリル酸から選ばれる少なく
とも1種を基本とする単位で構成される重合体（例えば
互応化学製の「プラスサイズ」、大阪有機製の「アニセ
ット」、三菱化学製の「ダイヤホールド」がある） （２）酢酸ビニル及びクロトン酸を基本とする単位で構
成される重合体（例えばＮＳＣ製の「レジン２８−１３
１０」） （３）アクリル酸及びネオデカン酸ビニルを基本とする
単位で構成される重合体（例えばＮＳＣ製の「レジン２
８−２９３０」） （４）アクリル酸及びアルキルアクリルアミドを基本と
する単位で構成される重合体（例えばＮＳＣ製の「バー
サクリル」、ＢＡＳＦ製の「ウルトラホールド」） （５）メチルビニルエーテルマレイン酸を基本とする単
位で構成される重合体（例えばＩＳＰ製の「ガントレッ
ツ」） （６）アクリル酸及びビニルピロリドンを基本とする単
位で構成される重合体（例えばＢＡＳＦ製の「ルビフレ
ックス」）から選ばれるものであり、その配合量は、組
成物全量に基づいて０．５〜６重量％、好ましくは０．
５〜４重量％である。これらの高分子は、必要に応じて
アミノメチルプロパノ−ル、水酸化カリウムのようなア
ルカリ剤を用いて、任意の割合で中和してから使用する
のが好ましい。
【００２７】本発明のヘアスプレイ組成物における、噴
射剤としては液化石油ガス、ジメチルエーテルなどか
ら、１種又は２種以上を選んで用いることができ、その
配合原液と噴射剤の比率は、原液（重量％）／噴射剤
（重量％）で３０／７０〜８０／２０が好ましい。ま
た、噴射剤として窒素、炭酸ガスなどの圧縮ガスを用い
る場合のそれは９９／１〜９９．５／０．５が好まし
い。
射剤としては液化石油ガス、ジメチルエーテルなどか
ら、１種又は２種以上を選んで用いることができ、その
配合原液と噴射剤の比率は、原液（重量％）／噴射剤
（重量％）で３０／７０〜８０／２０が好ましい。ま
た、噴射剤として窒素、炭酸ガスなどの圧縮ガスを用い
る場合のそれは９９／１〜９９．５／０．５が好まし
い。
【００２８】本発明のヘアスプレイ組成物には、上記必
須成分の他に、その他の公知成分を効果を損なわない範
囲で添加することができる。例えば、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤界面活性剤があげられる。ノニオン性界
面活性剤として、ポリオキシエチレンセチルエーテル等
のポリオキシエチレンアルキルエーテル、モノオレイン
酸ポリオキシエチレングリコール等のポリオキシエチレ
ン脂肪酸エステル、モノラウリン酸ソルビタン、モノス
テアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、テトラオレ
イン酸ポリオキシエチレンソルビット、モノオレイン酸
グリセリン、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリ
セリン等の脂肪酸エステル、及びその他ポリオキシエチ
レン硬化ヒマシ油、ショ糖脂肪酸エステル、ヤシ油脂肪
酸ジエタノールアミド、アルキルジメチルアミンオキシ
ド、ジメチルシロキサン・メチル（ポリオキシエチレ
ン）シロキサン共重合体などが例示できる。アルキル４
級アンモニウム塩型カチオン性界面活性剤として、塩化
セチルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメ
チルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルア
ンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモウニム、
塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、臭化セチルトリ
メチルアンモニウム等が例示できる。
須成分の他に、その他の公知成分を効果を損なわない範
囲で添加することができる。例えば、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤界面活性剤があげられる。ノニオン性界
面活性剤として、ポリオキシエチレンセチルエーテル等
のポリオキシエチレンアルキルエーテル、モノオレイン
酸ポリオキシエチレングリコール等のポリオキシエチレ
ン脂肪酸エステル、モノラウリン酸ソルビタン、モノス
テアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、テトラオレ
イン酸ポリオキシエチレンソルビット、モノオレイン酸
グリセリン、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリ
セリン等の脂肪酸エステル、及びその他ポリオキシエチ
レン硬化ヒマシ油、ショ糖脂肪酸エステル、ヤシ油脂肪
酸ジエタノールアミド、アルキルジメチルアミンオキシ
ド、ジメチルシロキサン・メチル（ポリオキシエチレ
ン）シロキサン共重合体などが例示できる。アルキル４
級アンモニウム塩型カチオン性界面活性剤として、塩化
セチルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメ
チルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルア
ンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモウニム、
塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、臭化セチルトリ
メチルアンモニウム等が例示できる。
【００２９】アニオン性界面活性剤としてラウリル硫酸
トリエタノールアミン、セチル硫酸ナトリウム、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアル
キル硫酸塩。ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸
トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンココイルエ
ーテル硫酸トリエタノールアミン等のアルキルエーテル
硫酸塩。Ｎ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウ
ム、Ｎ−ミリストイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム、
Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム等のアシ
ルグルタミン酸塩。ラウロイルザルコシンナトリウム、
ラウロイルメチルタウリンナトリウム等のアシルアミノ
酸塩。ポリオキシエチレンココイルスルホコハク酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンステアリルアミドスルホコ
ハク酸トリエタノールアミン等のスルホコハク酸塩。ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンオレイルエー
テルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンステアリル
エーテルリン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリ
ン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム等
のアルキルエーテルリン酸塩、パルミチン酸ナトリウ
ム、ミリスチン酸ナトリウム等の脂肪酸塩等を用いるこ
とができる。
トリエタノールアミン、セチル硫酸ナトリウム、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアル
キル硫酸塩。ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸
トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンココイルエ
ーテル硫酸トリエタノールアミン等のアルキルエーテル
硫酸塩。Ｎ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウ
ム、Ｎ−ミリストイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム、
Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム等のアシ
ルグルタミン酸塩。ラウロイルザルコシンナトリウム、
ラウロイルメチルタウリンナトリウム等のアシルアミノ
酸塩。ポリオキシエチレンココイルスルホコハク酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンステアリルアミドスルホコ
ハク酸トリエタノールアミン等のスルホコハク酸塩。ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンオレイルエー
テルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンステアリル
エーテルリン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリ
ン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム等
のアルキルエーテルリン酸塩、パルミチン酸ナトリウ
ム、ミリスチン酸ナトリウム等の脂肪酸塩等を用いるこ
とができる。
【００３０】両性界面活性剤として、ラウリルジメチル
アミノ酢酸ベタイン等のＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、２−
アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチ
ルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミ
ノアルキレンアンモニウムベタイン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
アルキル−Ｎ−スルホアルキレンアンモニウムベタイ
ン、Ｎ，Ｎ−ジアルキル−Ｎ，Ｎ−ビス（ポリオキシエ
チレン硫酸）アンモニウムベタイン、アルキルアミドジ
メチルアミノ酢酸ベタイン等などが例示できる。
アミノ酢酸ベタイン等のＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、２−
アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチ
ルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミ
ノアルキレンアンモニウムベタイン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
アルキル−Ｎ−スルホアルキレンアンモニウムベタイ
ン、Ｎ，Ｎ−ジアルキル−Ｎ，Ｎ−ビス（ポリオキシエ
チレン硫酸）アンモニウムベタイン、アルキルアミドジ
メチルアミノ酢酸ベタイン等などが例示できる。
【００３１】また、ヘアスプレイ組成物用高分子として
アニオン性高分子以外の高分子、さらに、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリ
コール、グリセリン、ソルビトールなどの保湿剤、流動
パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン、
オレフィンオリゴマー等の炭化水素、セチルアルコー
ル、ステアリルアルコール等の高級アルコール、イソプ
ロピルミリステート、ステアリルステアレート、オレイ
ン酸オクチルドデシル、等のエステル、感触向上剤、生
薬等の薬剤、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カチオン化セ
ルロース等のセルロース誘導体、リン脂質、蛋白質、蛋
白分解物及び蛋白質誘導体、シリコン油及び高重合メチ
ルポリシロキサン、有機シリコーン樹脂及び変性シリコ
ーンなどのシリコン誘導体、ムコ多糖類、防腐剤、植物
抽出液、ｐＨ調製剤、香料等を必要に応じて配合できる
アニオン性高分子以外の高分子、さらに、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリ
コール、グリセリン、ソルビトールなどの保湿剤、流動
パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン、
オレフィンオリゴマー等の炭化水素、セチルアルコー
ル、ステアリルアルコール等の高級アルコール、イソプ
ロピルミリステート、ステアリルステアレート、オレイ
ン酸オクチルドデシル、等のエステル、感触向上剤、生
薬等の薬剤、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カチオン化セ
ルロース等のセルロース誘導体、リン脂質、蛋白質、蛋
白分解物及び蛋白質誘導体、シリコン油及び高重合メチ
ルポリシロキサン、有機シリコーン樹脂及び変性シリコ
ーンなどのシリコン誘導体、ムコ多糖類、防腐剤、植物
抽出液、ｐＨ調製剤、香料等を必要に応じて配合できる
【００３２】
【実施例】次に、実施例および比較例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明する。以下の実施例および比較例にお
いて、特にことわらない限り［％］は［重量％］を示
す。また、言うまでもなく本発明はこれら実施例に限ら
れるものではない。以下、下記に示すポリアスパラギン
酸誘導体を用いて検討、評価した。ポリアスパラギン酸
誘導体のモノマー構成比及び重量平均分子量を示す。
さらに詳しく説明する。以下の実施例および比較例にお
いて、特にことわらない限り［％］は［重量％］を示
す。また、言うまでもなく本発明はこれら実施例に限ら
れるものではない。以下、下記に示すポリアスパラギン
酸誘導体を用いて検討、評価した。ポリアスパラギン酸
誘導体のモノマー構成比及び重量平均分子量を示す。
【００３３】参考例１ 式Ａ：式中（ Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝（ＣＨ2）11ＣＨ3 ）、
５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）3、
Ｒ5,，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ2 ）、３０重量％ 式Ｃ：２０重量％ （重量平均分子量）５０，０００ ２０％エタノー
ル溶液である。
５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）3、
Ｒ5,，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ2 ）、３０重量％ 式Ｃ：２０重量％ （重量平均分子量）５０，０００ ２０％エタノー
ル溶液である。
【００３４】参考例２ （モノマー構成比） 式Ａ：式中（ Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）（Ｃ
Ｈ2）4ＣＨ3 ）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）4、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝（ＣＨ2）2 ）、３０重量％ 式Ｃ：２０重量％ （重量平均分子量）５０，０００
Ｈ2）4ＣＨ3 ）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）4、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝（ＣＨ2）2 ）、３０重量％ 式Ｃ：２０重量％ （重量平均分子量）５０，０００
【００３５】参考例３ （モノマー構成比） 式Ａ：式中（ Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝（ＣＨ2）11ＣＨ3 ）、
５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）2、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ2 ）、１０重量％ 式Ｄ：式中（ Ｒ9＝Ｈ、Ｒ10＝（ＣＨ2）2、Ｒ11，Ｒ
12＝（ＣＨ2）3ＣＨ3）、４０重量％ （重量平均分子量）６０，０００
５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）2、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ2 ）、１０重量％ 式Ｄ：式中（ Ｒ9＝Ｈ、Ｒ10＝（ＣＨ2）2、Ｒ11，Ｒ
12＝（ＣＨ2）3ＣＨ3）、４０重量％ （重量平均分子量）６０，０００
【００３６】参考例４ （モノマー構成比） 式Ａ：式中（ Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝（ＣＨ2）8ＣＨ＝ＣＨ
（ＣＨ2）7ＣＨ3 ）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）2、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ2 ）、４０重量％ 式Ｃ：１０重量％ （重量平均分子量）３５，０００
（ＣＨ2）7ＣＨ3 ）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−１）：式中（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）2、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ2 ）、４０重量％ 式Ｃ：１０重量％ （重量平均分子量）３５，０００
【００３７】参考例５ （モノマー構成比） 式Ａ：（ Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝（ＣＨ2）8ＯＣＨ2ＣＨ（Ｃ2
Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−３）：（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）3、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ2ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ3、Ｘ＝Ｃｌ ）、
５重量％ 式Ｃ：１０重量％ 式Ｄ：（ Ｒ9＝Ｈ、Ｒ10＝（ＣＨ2）3、Ｒ11，Ｒ12＝
（ＣＨ2）3ＣＨ3 ）、３５重量％ （重量平均分子量）１００，０００
Ｈ5）（ＣＨ2）3ＣＨ3）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−３）：（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）3、
Ｒ5，Ｒ6＝ＣＨ2ＣＨ3 、Ｒ7＝ＣＨ3、Ｘ＝Ｃｌ ）、
５重量％ 式Ｃ：１０重量％ 式Ｄ：（ Ｒ9＝Ｈ、Ｒ10＝（ＣＨ2）3、Ｒ11，Ｒ12＝
（ＣＨ2）3ＣＨ3 ）、３５重量％ （重量平均分子量）１００，０００
【００３８】参考例６ （モノマー構成比） 式Ａ：（ Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝（ＣＨ2）8ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ
2）7ＣＨ3 ）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−２）：（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）2、
Ｒ5、Ｒ6＝ＣＨ3、Ｒ7＝ＣＨ2、Ｒ8＝ＣＨ2ＣＨ3 ）、
４０重量％ 式Ｃ：１０重量％ （重量平均分子量）１０，０００
2）7ＣＨ3 ）、５０重量％ 式Ｂ（Ｂ−２）：（ Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝（ＣＨ2）2、
Ｒ5、Ｒ6＝ＣＨ3、Ｒ7＝ＣＨ2、Ｒ8＝ＣＨ2ＣＨ3 ）、
４０重量％ 式Ｃ：１０重量％ （重量平均分子量）１０，０００
【００３９】表１の実施例および比較例を調製して、以
下に示す方法で整髪保持効果をセット性持続効果として
示し、毛髪の自然性を評価した。評価方法を示す。 （１）セット性保持効果 専門パネル１０名により約２ｇの試料を毛髪に塗布し、
８時間後に次の基準でセット性を評価した。 評価基準 ◎：１０名全員が、セット性が強いと認めた。 ○：１０名中８名が、セット性が強いと認めた。 △：１０名中４〜７名が、セット性が強いと認めた。 ×：１０名中３名だけが、セット性が強いと認めた。
下に示す方法で整髪保持効果をセット性持続効果として
示し、毛髪の自然性を評価した。評価方法を示す。 （１）セット性保持効果 専門パネル１０名により約２ｇの試料を毛髪に塗布し、
８時間後に次の基準でセット性を評価した。 評価基準 ◎：１０名全員が、セット性が強いと認めた。 ○：１０名中８名が、セット性が強いと認めた。 △：１０名中４〜７名が、セット性が強いと認めた。 ×：１０名中３名だけが、セット性が強いと認めた。
【００４０】（２）毛髪の自然な仕上がり感 専門パネル１０名により約３ｇの試料を毛髪に塗布し、
次の基準で塗布乾燥後のごわつき感、すべり感を評価し
た。 評価基準 ◎：１０名全員が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 ○：１０名中８名が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 △：１０名中４〜７名が、ごわつきがなく、すべりありと認め た。 ×：１０名中３名以下が、ごわつきがなく、すべりありと認め た。
次の基準で塗布乾燥後のごわつき感、すべり感を評価し
た。 評価基準 ◎：１０名全員が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 ○：１０名中８名が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 △：１０名中４〜７名が、ごわつきがなく、すべりありと認め た。 ×：１０名中３名以下が、ごわつきがなく、すべりありと認め た。
【００４１】（４）総合評価 以下の基準により、総合評価した。
【００４２】
【表１】
【００４３】表１から明らかなように、本発明品では整
髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げるのに対して、
比較例では整髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げる
ものは得られなかった。
髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げるのに対して、
比較例では整髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げる
ものは得られなかった。
【００４４】
【発明の効果】本願発明によれば、ポリアスパラギン酸
誘導体とヘアスプレイ組成物用アニオン性高分子を含有
することを特徴とするヘアスプレイ組成物は、整髪保持
効果に優れ、毛髪に自然な仕上がり感を付与し、従来に
はなかった優れたヘアスプレイ組成物が提供できる。
誘導体とヘアスプレイ組成物用アニオン性高分子を含有
することを特徴とするヘアスプレイ組成物は、整髪保持
効果に優れ、毛髪に自然な仕上がり感を付与し、従来に
はなかった優れたヘアスプレイ組成物が提供できる。
Claims (3)
- 【請求項１】 (Ａ)下式Ａに示すモノマー単位５〜９５
重量％、及び下式Ｂ（式Ｂ−１、式Ｂ−２あるいは式Ｂ
−３のうちいずれか）に示すモノマー単位５〜８０重量
％からなる、重量平均分子量５，０００〜５００，００
０のポリアスパラギン酸誘導体と（Ｂ）とアニオン性高
分子から選ばれる少なくとも１種以上を配合することを
特徴とするヘアスプレイ組成物。 式Ａ： 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子又は炭素数１
〜２４のアルキル基、アルキルエーテル基、アルキルア
ルコ−ル基の何れかを示す。］ 式Ｂ（式Ｂ−１、Ｂ−２あるいはＢ−３のうちいずれ
か）： 【化２】 あるいは 【化３】 あるいは 【化４】 ［式Ｂ中、Ｒ3は、それぞれ水素原子又は炭素数１〜６
のアルキル基、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は炭素数１
〜２４のアルキル基の何れかを示す。Ｘは塩素、臭素、
ヨウ素、炭素数１〜４の硫酸アルキル残基を示す。］ - 【請求項２】 式Ａ、式Ｂ（式Ｂ−１、式Ｂ−２あるい
は式Ｂ−３）のモノマー単位の総量に対して、下式Ｃ及
び／又は下式Ｄに示すモノマー単位を３〜４０重量％含
有するポリアスパラギン酸誘導体を配合したことを特徴
とする請求項１に記載のヘアスプレイ組成物。 式Ｃ： 【化５】 式Ｄ： 【化６】 ［式中、Ｒ9は、それぞれ水素原子又は炭素数１〜６の
アルキル基、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は炭素数１〜２４のアル
キル基の何れかを示す。］ - 【請求項３】 アニオン性高分子が（１）アクリル酸及
びメタクリル酸から選ばれる少なくとも1種を基本とす
る単位で構成される重合体、（２）酢酸ビニル及びクロ
トン酸を基本とする単位で構成される重合体、（３）ア
クリル酸及びネオデカン酸ビニルを基本とする単位で構
成される重合体、（４）アクリル酸及びアルキルアクリ
ルアミドを基本とする単位で構成される重合体、（５）
メチルビニルエーテルマレイン酸を基本とする単位で構
成される重合体、（６）アクリル酸及びビニルピロリド
ンを基本とする単位で構成される重合体からなる群より
選ばれる請求項１、２の何れか１項に記載のヘアスプレ
イ組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10377198A JP2000191464A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | ヘアスプレイ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10377198A JP2000191464A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | ヘアスプレイ組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000191464A true JP2000191464A (ja) | 2000-07-11 |
Family
ID=18508422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10377198A Pending JP2000191464A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | ヘアスプレイ組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000191464A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005330216A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Arimino Kagaku Kk | 水性化粧料 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0977867A (ja) * | 1995-09-18 | 1997-03-25 | Ajinomoto Co Inc | ポリアスパラギン酸誘導体及びそれを含有する毛髪処理剤組成物 |
| JPH09124449A (ja) * | 1995-04-29 | 1997-05-13 | Kao Corp | 整髪用エアゾールスプレー製品 |
| JPH09143038A (ja) * | 1995-11-22 | 1997-06-03 | Osaka Ship Building Co Ltd | 整髪料 |
| JPH09208434A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 毛髪処理剤組成物 |
| JPH09255534A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-09-30 | Shiseido Co Ltd | 頭髪用化粧料およびその製造方法 |
| JPH1025344A (ja) * | 1995-10-05 | 1998-01-27 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 重合体、その製造方法、毛髪処理剤組成物及び香粧品組成物 |
| JPH1087439A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Mitsubishi Chem Corp | 毛髪化粧料組成物 |
-
1998
- 1998-12-29 JP JP10377198A patent/JP2000191464A/ja active Pending
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