JP2000150171A - エレクトロルミネセンス素子 - Google Patents

エレクトロルミネセンス素子

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JP2000150171A JP11313849A JP31384999A JP2000150171A JP 2000150171 A JP2000150171 A JP 2000150171A JP 11313849 A JP11313849 A JP 11313849A JP 31384999 A JP31384999 A JP 31384999A JP 2000150171 A JP2000150171 A JP 2000150171A
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light emitting
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Rian-Sun Fun
リアン−スン フン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機ＥＬ素子において、正孔注入性を向上さ
せ且つ動作安定性を改良すること。 【解決手段】 ａ）透明材料又は不透明材料のいずれで
あってもよい電気絶縁材料から形成された基板、 ｂ）前記基板の上に搭載された導電性アノード、 ｃ）前記導電性アノードの上の、気体状フルオロカーボ
ンのＲＦプラズマ重合法により合成されたポリマー薄
膜、 ｄ）前記ポリマー薄膜の上に形成された有機系発光構造
体、及び ｅ）前記有機系発光構造体の上に形成されたカソード、 を含んでなるエレクトロルミネセンス素子。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機エレクトロルミ
ネセンス素子に関する。より詳細には、本発明は、アノ
ードの上に非導電性フルオロカーボン系ポリマー薄膜が
配置されている素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）素
子は、有機系発光構造体によって隔離され間隔を置かれ
た電極を含み、これらの電極間に印加される電位差に応
じて当該発光構造体が光を発する。有機ＥＬ素子の基本
態様は二層構造であり、一方の有機層が正孔を注入・輸
送するように選ばれ、そして他方の有機層が電子を注入
・輸送するように選ばれる。これら二つの層の界面が、
正孔−電子再結合及びその結果生じるエレクトロルミネ
センスのための有効部位を提供する。米国特許第４，３
５６，４２９号、同第４，５３９，５０７号、同第４，
７２０，４３２号、同第４，８８５，２１１号、同第
４，９５０，９５０号、同第５，０４７，６８７号、同
第５，０５９，８６１号、同第５，０６１，５６９号、
同第５，０７３，４４６号、同第５，１４１，６７１
号、同第５，１５０，００６号及び同第５，１５１，６
２９号に具体例が記載されている。
【０００３】この簡単な構造を三層構造に変更すること
ができる。この場合、正孔輸送層と電子輸送層との間
に、主として正孔−電子再結合及びその結果生じるエレ
クトロルミネセンスのための部位として機能する別の新
たな発光層を設ける。本態様では、個々の有機層の機能
は区別されるため、個別に最適化することができる。例
えば、発光層又は再結合層を、高い発光効率と共に所望
のＥＬ色が得られるように選定することができる。同様
に、電子輸送層及び正孔輸送層を、主としてキャリヤ輸
送特性について最適化することができる。
【０００４】有機ＥＬ素子の動作電圧が低仕事関数カソ
ード及び高仕事関数アノードの使用により顕著に低下し
得ることは周知である。好適なカソードは、Tangらの米
国特許第４，８８５，２１１号及びVanSlykeらの米国特
許第５，０５９，０６２号に記載されているように、
４．０ｅＶ未満の仕事関数を有する金属と４．０ｅＶよ
りも高い仕事関数を有する金属とを組み合わせて構築し
たものである。また、Hungらの米国特許第５，６７７，
５７２号には、有機ＥＬ素子の電子注入性を向上させる
ためにＬｉＦ／Ａｌ系二重層を使用することが記載され
ている。
【０００５】有機ＥＬ素子では、アノードを一般にイン
ジウム錫酸化物（ＩＴＯ）から形成するが、その理由
は、ＩＴＯが透明であり、導電性が良好であり、そして
仕事関数が高いからである。しかしながら、裸のＩＴＯ
表面上で成長させた発光構造体は、一般に電流−電圧特
性が不十分となり、動作安定性も低くなる。これらの問
題を軽減する方法として、ＩＴＯと有機発光構造体の間
に中間層を導入する方法がある。例えば、VanSlykeら
は、ＣｕＰｃ安定化正孔注入接点を含む多層構造体を用
いて形成された有機素子の安定性が高いことを例証して
いる。「安定性を改良した有機エレクトロルミネセンス
素子(Organic electroluminescent deviceswith improv
ed stability)」(S.A. VanSlyke, C.H. Chen 及び C.W.
Tang, Applied Physics Letters, Vol. 69, 2160, 199
6) を参照のこと。しかしながら、ＩＴＯと正孔輸送層
の間にＣｕＰｃ層を挿入すると、ＣｕＰｃと正孔輸送層
ＮＰＢの間の界面に存在する正孔注入遮断層のために駆
動電圧が実質的に上昇してしまう。
【０００６】一般に、有機薄膜はスピン塗布法又は熱蒸
発法によって形成される。最近では、当該薄膜を、有機
物蒸気にグロー放電を当てることによっても製造できる
ことがわかった。プラズマ内で架橋ポリマーが生成する
ので、この方法を通常「プラズマ重合法」と呼んでい
る。プラズマ重合法の特徴は、傷が極めて少ない超薄膜
が形成されることである。スピン塗布法や真空蒸着法に
比べ、プラズマ重合法では、整合性に優れ、耐久性が高
く、しかも密着性が良好な薄層が得られる。
【０００７】一般に、高周波（ＲＦ）でのプラズマ重合
によって調製された有機薄膜は、絶縁性を示し導電性の
極めて低い誘電体となる。プラズマ重合されたテトラフ
ルオロエチレンの場合、Vollman 及びPoll(H. Yasudaの
Plasma Polymerization 参照) は、１０-17 〜１０-18
（Ω−ｃｍ）-1の範囲にある直流導電率を報告してい
る。 Hetzler及びKay (H. YasudaのPlasma Polymerizat
ion 参照) は、１０-3〜１０5 Ｈｚで測定した交流導電
率として１０-15 〜１０-10 （Ω−ｃｍ）-1を報告して
いる。しかしながら、非常に低い周波数では、導電率は
直流値の水準である１０-17 （Ω−ｃｍ）-1で安定し、
このことはVollman 及びPollのデータとよく一致する。
導電率が低いので、当該材料は一般には誘電体又は腐食
防止用コーティングとして用いられる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、有機
ＥＬ素子において、正孔注入性を向上させ且つ動作安定
性を改良することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、気体状フ
ルオロカーボンの高周波（ＲＦ）プラズマ重合法により
調製されたポリマー薄膜をアノードの上に付着させた素
子によって達成される。まったく意外なことに、本発明
において、このようなポリマー薄膜をアノード上で使用
した有機ＥＬ素子が、その低い導電率にもかかわらず、
正孔注入性の向上及び素子動作安定性の改良を示すこと
が認められた。
【００１０】
【発明の実施の形態】図面は当然概略的なものである。
個々の層の厚さは非常に薄く、しかも各種要素間の厚さ
の差が極めて大きいので、一定の割合で図示することや
都合のよい比率で拡大縮小することができないからであ
る。本発明の有機エレクトロルミネセンス素子を説明す
る前に、従来の有機エレクトロルミネセンス素子の二つ
の構成について説明する。図１を参照する。有機エレク
トロルミネセンス素子１００は基板１０２を有し、その
上にアノード１０４が配置されている。有機発光構造体
１１０がアノード１０４とカソード１０８の間に形成さ
れている。有機発光構造体１１０は、順に、有機正孔輸
送層１１２、有機発光層１１４及び有機電子輸送層１１
６を含む。アノード１０４とカソード１０８の間にカソ
ードに対してアノードが電気的に正極となるように電位
差を印加すると、カソードが電子を電子輸送層１１６に
注入し、そして電子は電子輸送層１１６及び発光層１１
４を横断する。同時に、アノード１０４から正孔が正孔
輸送層１１２に注入される。正孔は層１１２を移動し、
そして最終的に正孔輸送層１１２と発光層１１４との界
面付近で電子と再結合する。移動している電子がその伝
導帯から価電子帯に落ちて正孔を充満する時、エネルギ
ーが光として放出され、これが光透過性アノード１０４
及び基板１０２を通して観察者に向けて発せられる。
【００１１】図２に、別の従来技術の有機エレクトロル
ミネセンス素子２００を示す。ここでは、ＩＴＯアノー
ド２０４と正孔輸送層２１２との間にＣｕＰｃ層が挿入
されている。有機発光構造体２１０、並びにその有機層
２１２、２１４及び２１６は、図１の各要素１１０、１
１２、１１４及び１１６に相当する。したがって、それ
らの構成及び機能についてさらに説明する必要はない。
【００１２】図３に、本発明により形成された有機エレ
クトロルミネセンス素子３００を例示する。ここでは、
有機エレクトロルミネセンス素子３００は基板３０２を
有し、その上にアノード３０４が配置されている。アノ
ード３０４とカソード３０８の間に有機発光構造体３１
０が形成される。有機発光構造体３１０は、順に、有機
正孔輸送層３１２、有機発光層３１４及び有機電子輸送
層３１６を含む。この構造体は、図１及び図２の従来技
術とは区別される。ここでは、ＩＴＯアノード３０４と
正孔輸送層３１２の間にポリマー薄膜３０６が挿入され
ている。このポリマー薄膜は、気体状フルオロカーボン
をＲＦプラズマ内でプラズマ重合することによって調製
される。
【００１３】基板３０２は、電気絶縁性であり且つ光透
過性であっても不透明であってもよい。ＥＬ発光を基板
を通して観察する場合には光透過性であることが望まれ
る。ＥＬ発光を上部電極を通して観察する場合には、基
板の透過性は問題にはならないので、不透明な半導体や
セラミックのウェハのような適当な任意の基板を使用す
ることができる。もちろん、このような素子構成の場合
には光透過性の上部電極を設けることが必要である。
【００１４】アノード３０４は導電性且つ透過性の層で
形成される。ＥＬ発光を基板を通して観察する場合には
アノード３０４の光透過性が望まれる。ＥＬ発光を上部
電極を通して観察する用途の場合には、層３０４の透過
性は問題にはならないので、仕事関数が４．１ｅＶより
も高い金属又は金属化合物のような適当な任意の材料を
使用することができる。当該金属には金、イリジウム、
モリブデン、パラジウム及び白金が含まれる。当該導電
性且つ透過性の層は、金属の酸化物、窒化物（例、窒化
ガリウム）、セレン化物（例、セレン化亜鉛）及び硫化
物（例、硫化亜鉛）からなる群より選ぶことができる。
好適な金属酸化物としてインジウム錫酸化物、アルミニ
ウム又はインジウムをドープした酸化亜鉛、酸化錫、マ
グネシウムインジウム酸化物、ニッケルタングステン酸
化物及びカドミウム錫酸化物が挙げられる。
【００１５】導電性アノード形成後、導電性アノード３
０４の上にポリマー薄膜３０６を形成する。このポリマ
ー薄膜が本発明の必須構成部分である。当該フルオロカ
ーボンポリマーはテフロン（商標）のようなポリマーで
あって、実質的に炭素とフッ素から形成される。当該ポ
リマーは、水素及び／又は少量の窒素、酸素、等の不純
物をも含有し得る。ポリマー薄膜の厚さは、下部の導電
層の上を完全に被覆するように選定され、そしてその導
電率の低さは素子性能に何ら悪影響を及ぼすことがな
い。当該厚さの有効な範囲は０．２ｎｍ〜３ｎｍ、好ま
しくは０．４ｎｍ〜１ｎｍである。
【００１６】上記導電層の表面を前もって処理すること
によりオーバーコートされるフルオロカーボン薄膜に対
する密着性を改良することができる。処理のタイプには
スパッタリング処理、コロナ処理、ＵＶ照射処理又は酸
素プラズマ処理がある。フルオロカーボン薄膜は、反応
器においてフッ素対炭素の比率を２に近づけて気体状フ
ルオロカーボンをプラズマ重合することによって調製す
ることができる。当該気体は、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ4 Ｆ10、Ｃ
ＨＦ3 、Ｃ2 Ｆ4 及びＣ4 Ｆ8 からなる群より選ぶこと
ができる。プラズマの発生は、反応器に適当なパワーレ
ベルでＲＦ入力シグナルを印加することによって行われ
る。ほとんどの場合、周波数を１３．６ＭＨｚとするこ
とが好ましい。
【００１７】重合は２０℃〜８０℃で実施する。実際の
温度は、出力及び蒸着時間のような操作パラメーターに
大きく依存する。得られたポリマー薄膜をさらに処理し
てその特性を改良又は変更することができる。例えば、
ポリマー薄膜に、各種周囲条件下でアニール処理を施す
こと、或いはイオン注入のような別の輻射線処理又は追
加の酸素、窒素もしくは水素プラズマ処理を施すことが
できる。
【００１８】以下、発光構造体の組成を、素子構造体３
００を参照しながら説明する。有機ＥＬ素子の正孔輸送
層は少なくとも一種の正孔輸送性芳香族第三アミンを含
有する。当該芳香族第三アミンは、その少なくとも一つ
が芳香族環の員である炭素原子にのみ結合されている三
価窒素原子を少なくとも一つ含有する化合物であると解
される。態様の一つとして、当該芳香族第三アミンはア
リールアミン、例えば、モノアリールアミン、ジアリー
ルアミン、トリアリールアミン、又は高分子量アリール
アミンであることができる。モノマー性トリアリールア
ミンの例が Klupfelらの米国特許第３，１８０，７３０
号に記載されている。その他、ビニル基で置換された及
び／又は少なくとも１個の活性水素含有基を含む適当な
トリアリールアミンが、Brantleyらの米国特許第３，５
６７，４５０号及び同第３，６５８，５２０号に記載さ
れている。
【００１９】有機ＥＬ素子の発光層は発光体又は蛍光体
を含んでなり、この領域において電子−正孔対が再結合
する結果としてエレクトロルミネセンスが発生する。最
も単純な構成は、当該発光層が単一成分、すなわち蛍光
効率の高い高純度材料からなる構成である。周知の材料
は、優れた緑色のエレクトロルミネセンスを発生するト
リス（８−キノリナト）アルミニウム（Ａｌｑ）であ
る。ルミネセンス層の好適な態様は、蛍光色素の一又は
二以上の成分をドープしたホスト材料からなる多成分系
材料を含むものである。この方法を採用すると、高効率
ＥＬ素子を構築することができる。同時に、共通のホス
ト材料において発光波長の異なる複数の蛍光色素を使用
することによって、ＥＬ素子の色調を整えることができ
る。このドーパントの概要については、Tangらの米国特
許第４，７６９，２９２号に、ホスト材料としてＡｌｑ
を用いるＥＬ素子に関してかなり詳細に記載されてい
る。
【００２０】本発明の有機ＥＬ素子の電子輸送層を形成
するために使用する好適な材料は、金属キレート化オキ
シノイド化合物であって、オキシン（一般に８−キノリ
ノール又は８−ヒドロキシキノリンとも呼ばれる）自体
のキレートを含む。このような化合物は、高レベルの性
能を示すと同時に、薄膜の製作が容易である。
【００２１】有機ＥＬ素子は、カルシウムやリチウムの
ような仕事関数が４．０ｅＶよりも低い任意の金属で構
築されたカソードを使用することができる。低仕事関数
金属に高仕事関数金属を合金化することによりカソード
を形成することもできる。Hungらの米国特許第５，６７
７，５７２号に記載されているように、ＬｉＦ／Ａｌの
二層構造を採用することにより電子注入性が向上する。
【００２２】気体状フルオロカーボンのプラズマ重合法
により調製された絶縁性ポリマーは、他のエレクトロル
ミネセンス素子における用途を有する可能性がある。潜
在的用途の一つとして、このような薄膜をポリマー発光
ダイオードに使用することがある。
【００２３】
【実施例】以下、本発明の理解を深めるために実施例を
提供する。フルオロカーボンポリマーの調製 平行板反応器においてＣＨＦ3 を約４６．７Ｐａ（３５
０ｍＴ）、２００Ｗでプラズマ重合した。整合ネットワ
ークを介して１３．６ＭＨｚで入力用電力を反応器の二
つの電極に印加した。インジウム錫酸化物を被覆したガ
ラス基板の上に厚さ約３０ｎｍのフルオロカーボンポリ
マー薄膜が付着し、これをＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）
で分析した。このポリマー薄膜からＣ−ＣＦ、ＣＦ、Ｃ
Ｆ2 及びＣＦ3 に対応するピークがいくつか観察され
た。素子に使用するため、厚さ０．２ｎｍ〜３ｎｍの非
常に薄いポリマー薄膜を使用した。
【００２４】簡略化のため、材料及びそれから形成され
た層を以下のように略記する。 ＩＴＯ：インジウム錫酸化物（アノード） ＣｕＰｃ：銅フタロシアニン（カソード緩衝層；及びア
ノードの上に配置された正孔注入層） ＮＰＢ：４，４’−ビス−〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ
−フェニルアミノ〕ビ−フェニル（正孔輸送層） Ａｌｑ：トリス（８−キノリノラト−Ｎ１，０８）−ア
ルミニウム（電子輸送層；ここでは発光層と電子輸送層
との複合機能を担う） ＭｇＡｇ：体積比率１０：１のマグネシウム：銀（カソ
ード）
【００２５】例１ 従来技術の有機発光構造体を以下のように構築した。 ａ）ＩＴＯ被覆ガラスの光透過性アノードを市販の洗剤
で超音波洗浄し、脱イオン水でリンスし、トルエン蒸気
で脱脂し、そして酸素プラズマで３分間処理した。 ｂ）ＩＴＯ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ６０ｎｍのＮ
ＰＢ正孔輸送層を蒸着した。 ｃ）ＮＰＢ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ７５ｎｍのＡ
ｌｑ電子輸送性発光層を蒸着した。 ｄ）Ａｌｑ層の上に二つのソース（ＭｇとＡｇ）からの
共蒸発法で厚さ２００ｎｍのＭｇＡｇ層を蒸着した。
【００２６】例２ 従来技術の有機発光構造体を以下のように構築した。 ａ）ＩＴＯ被覆ガラスの光透過性アノードを市販の洗剤
で超音波洗浄し、脱イオン水でリンスし、トルエン蒸気
で脱脂し、そして酸素プラズマで３分間処理した。 ｂ）ＩＴＯ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ１５ｎｍのＣ
ｕＰｃ層を蒸着した。 ｃ）ＣｕＰｃ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ６０ｎｍの
ＮＰＢ正孔輸送層を蒸着した。 ｄ）ＮＰＢ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ７５ｎｍのＡ
ｌｑ電子輸送性発光層を蒸着した。 ｅ）Ａｌｑ層の上に二つのソース（ＭｇとＡｇ）からの
共蒸発法で厚さ２００ｎｍのＭｇＡｇ層を蒸着した。
【００２７】例３ 有機発光構造体を以下のように構築した。 ａ）ＩＴＯ被覆ガラスの光透過性アノードを市販の洗剤
で超音波洗浄し、脱イオン水でリンスし、トルエン蒸気
で脱脂し、そして酸素プラズマで３分間処理した。 ｂ）ＩＴＯ層の上に気体状ＣＨＦ3 を１３．６ＭＨｚの
プラズマにおいてプラズマ重合することにより厚さ３０
ｎｍのポリマー薄膜を蒸着した。 ｃ）ポリマー薄膜の上に常用の熱蒸着法で厚さ６０ｎｍ
のＮＰＢ正孔輸送層を蒸着した。 ｄ）ＮＰＢ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ７５ｎｍのＡ
ｌｑ電子輸送性発光層を蒸着した。 ｅ）Ａｌｑ層の上に二つのソース（ＭｇとＡｇ）からの
共蒸発法で厚さ２００ｎｍのＭｇＡｇ層を蒸着した。
【００２８】例４ 本発明による有機発光構造体を以下のように構築した。 ａ）ＩＴＯ被覆ガラスの光透過性アノードを市販の洗剤
で超音波洗浄し、脱イオン水でリンスし、トルエン蒸気
で脱脂し、そして酸素プラズマで３分間処理した。 ｂ）ＩＴＯ層の上に気体状ＣＨＦ3 をＲＦプラズマにお
いてプラズマ重合することにより厚さ０．５〜１．０ｎ
ｍのポリマー薄膜を蒸着した。 ｃ）ポリマー薄膜の上に常用の熱蒸着法で厚さ６０ｎｍ
のＮＰＢ正孔輸送層を蒸着した。 ｄ）ＮＰＢ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ７５ｎｍのＡ
ｌｑ電子輸送性発光層を蒸着した。 ｅ）Ａｌｑ層の上に二つのソース（ＭｇとＡｇ）からの
共蒸発法で厚さ２００ｎｍのＭｇＡｇ層を蒸着した。
【００２９】例５ ＩＴＯ処理を除き例１と同様にして、本発明による有機
発光構造体を以下のように構築した。 ａ）ＩＴＯ被覆ガラスの光透過性アノードを市販の洗剤
で超音波洗浄し、脱イオン水でリンスし、そしてトルエ
ン蒸気で脱脂した。 ｂ）ＩＴＯアノードの上に常用の熱蒸発法で厚さ６０ｎ
ｍのＮＰＢ正孔輸送層を蒸着した。 ｃ）ＮＰＢ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ７５ｎｍのＡ
ｌｑ電子輸送性発光層を蒸着した。 ｄ）Ａｌｑ層の上に二つのソース（ＭｇとＡｇ）からの
共蒸発法で厚さ２００ｎｍのＭｇＡｇ層を蒸着した。
【００３０】例６ ＩＴＯ処理を除き例４と同様にして、本発明による有機
発光構造体を以下のように構築した。 ａ）ＩＴＯ被覆ガラスの光透過性アノードを市販の洗剤
で超音波洗浄し、脱イオン水でリンスし、そしてトルエ
ン蒸気で脱脂した。 ｂ）ＩＴＯ層の上に気体状ＣＨＦ3 を１３．６ＭＨｚの
プラズマにおいてプラズマ重合することにより厚さ０．
５〜１．０ｎｍのポリマー薄膜を蒸着した。 ｃ）ポリマー薄膜の上に常用の熱蒸発法で厚さ６０ｎｍ
のＮＰＢ正孔輸送層を蒸着した。 ｄ）ＮＰＢ層の上に常用の熱蒸着法で厚さ７５ｎｍのＡ
ｌｑ電子輸送性発光層を蒸着した。 ｅ）Ａｌｑ層の上に二つのソース（ＭｇとＡｇ）からの
共蒸発法で厚さ２００ｎｍのＭｇＡｇ層を蒸着した。
【００３１】各素子を、そのアノードとカソードの間に
駆動電圧を印加することにより試験した。電流−駆動電
圧の関係を測定して図４及び図５に示した。ＥＬ出力と
駆動電圧の関係を測定して図６に示した。素子の動作安
定性を測定して図７に示した。図４では、例３に記載し
た素子の電流密度を駆動電圧の関数としてプロットし
た。駆動電圧を２０Ｖまで上昇させた場合でも、プロッ
トには電流がまったく認められなかった。このため、気
体状フルオロカーボンのＲＦプラズマにおけるプラズマ
重合により得られたポリマー薄膜は、導電性の極めて低
い絶縁性であるとの結論に達した。
【００３２】図５では、例１、２及び４に記載した素子
の電流密度を駆動電圧の関数としてプロットした。図面
からわかるように、ＩＴＯアノードと正孔輸送層ＮＰＢ
との間に厚さ０．５〜１ｎｍのプラズマポリマー薄膜を
挟み込むと、例１及び例２の素子の場合よりも、素子の
Ｉ−Ｖ曲線の立ち上がりが速く且つ駆動電圧が低くな
る。図６では、例１、２及び４に記載した素子のＥＬ出
力を電流密度の関数としてプロットした。図面からわか
るように、例４の素子から求められる量子効率は例１の
素子のものに匹敵する。
【００３３】図７は、例１、４、５及び６の素子につい
て測定した動作安定性をプロットしたものである。どの
素子も２０ｍＡ／ｃｍ2 の一定電流で試験し、ＥＬ出力
をモニターした。厚さ０．５〜１ｎｍのポリマー薄膜を
含む例４及び例６の素子は、例１及び例５の素子よりも
優れた動作安定性を示した。その上、例５の素子につい
てはＥＬ出力が０．２時間後に１５％も低下し、動作安
定性が非常に低いが、例６の素子の場合には１００時間
の動作後であってもＥＬ出力はわずか１％しか低下しな
かった。例１の素子のＥＬ出力はその初期値の８５％に
まで低下したが、例４の素子ではそのような低下はほと
んど検出できない。これらの結果は、ＩＴＯ上のプラズ
マ重合フルオロカーボン超薄膜によって、顕著に素子安
定性が改良され且つＩＴＯ処理が軽減され得ることをい
ずれも示している。本発明を特定の好ましい具体的態様
を特に参照しながら詳説したが、本発明の精神及び範囲
内において変更が可能であることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】発光構造体をＩＴＯアノードの上に蒸着した有
機エレクトロルミネセンス素子（従来技術）の概略図で
ある。
【図２】発光構造体をＩＴＯアノードの上に蒸着し、発
光構造体とＩＴＯアノードの間にＣｕＰｃ層を挟み込ん
だ有機エレクトロルミネセンス素子（従来技術）の概略
図である。
【図３】発光構造体をＩＴＯアノードの上に蒸着し、発
光構造体とＩＴＯアノードの間にフルオロカーボンポリ
マー薄膜を挟み込んだ有機エレクトロルミネセンス素子
（本発明）の概略図である。
【図４】厚さ３０ｎｍのポリマー薄膜を使用した図３に
記載の有機ＥＬ素子の電流−電圧の関係を示すグラフで
ある。
【図５】厚さ０．５〜１ｎｍのポリマー薄膜を使用した
図１、２及び３に記載の有機ＥＬ素子の電流−電圧の関
係を示すグラフである。
【図６】厚さ０．５〜１ｎｍのポリマー薄膜を使用した
図１、２及び３に記載の有機ＥＬ素子のＥＬ出力−電流
の関係を示すグラフである。
【図７】厚さ０．５〜１ｎｍのポリマー薄膜を使用した
図１、２及び３に記載の有機ＥＬ素子の動作時間を関数
にしたＥＬ出力を示すグラフである。素子の処理は、Ｉ
ＴＯ処理を除いて図６の場合と同等である。
【符号の説明】
１００…有機エレクトロルミネセンス素子 １０２…基板 １０４…アノード １０８…カソード １１０…有機発光構造体 １１２…正孔輸送層 １１４…発光層 １１６…電子輸送層 ２００…有機エレクトロルミネセンス素子 ２０２…基板 ２０４…アノード ２０６…ＣｕＰｃ層 ２０８…カソード ２１０…有機発光構造体 ２１２…正孔輸送層 ２１４…発光層 ２１６…電子輸送層 ３００…有機エレクトロルミネセンス素子 ３０２…基板 ３０４…アノード ３０６…プラズマポリマー薄膜 ３０８…カソード ３１０…有機発光構造体 ３１２…正孔輸送層 ３１４…発光層 ３１６…電子輸送層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ａ）透明材料又は不透明材料のいずれで
    あってもよい電気絶縁材料から形成された基板、 ｂ）前記基板の上に搭載された導電性アノード、 ｃ）前記導電性アノードの上の、気体状フルオロカーボ
    ンのＲＦプラズマ重合法により合成されたポリマー薄
    膜、 ｄ）前記ポリマー薄膜の上に形成された有機系発光構造
    体、及び ｅ）前記有機系発光構造体の上に形成されたカソード、
    を含んでなるエレクトロルミネセンス素子。
  2. 【請求項２】 前記有機系発光構造体が、 （１）前記ポリマー薄膜の上に形成された有機正孔輸送
    層、 （２）前記有機正孔輸送層の上に形成された有機発光
    層、及び （３）前記有機発光層の上に形成された有機電子輸送
    層、を含む、請求項１に記載のエレクトロルミネセンス
    素子。
  3. 【請求項３】 前記有機正孔輸送層が、正孔輸送性芳香
    族第三アミン分子を含む材料から形成された、請求項２
    に記載のエレクトロルミネセンス素子。
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