JP2000134079A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2000134079A
JP2000134079A JP10303655A JP30365598A JP2000134079A JP 2000134079 A JP2000134079 A JP 2000134079A JP 10303655 A JP10303655 A JP 10303655A JP 30365598 A JP30365598 A JP 30365598A JP 2000134079 A JP2000134079 A JP 2000134079A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体集積回路において電源端子から離れた
位置にある回路に対しても電圧降下の少ない電源電圧を
供給することができる電源供給技術を提供する。 【解決手段】 電源配線(21,22)の途中に適当な
間隔をおいて複数の定電圧電源回路(SAd,SAs)
を接続して、これらの定電圧電源回路から半導体チップ
内部の各回路(LG)に対して間接的に電源の供給を行
なうようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路技
術さらには半導体チップ上の各回路への電源電圧の供給
方式に適用して有効な技術に関し、例えばMOS集積回
路に利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路においては、半導体チッ
プ上の各回路への電源電圧を供給するため電源配線が設
けられるが、この電源配線の有するインピーダンスによ
って電源端子から遠く離れるに従い電圧が僅かに低下す
ることが知られている。従来、半導体集積回路において
はこのような電源効果を防止するため、電源配線を太く
したり、多層化したり、1つの半導体チップに複数の電
源端子を設けて電源端子から最も遠い回路までの距離を
短くするなどの対策が行なわれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
半導体集積回路は電源電圧の低電圧化が進められてお
り、2.5Vや1.5Vのような低い電源電圧で動作す
る半導体集積回路も開発されている。そのため、電源配
線における電圧降下量が例えば0.2Vであった場合、
従来の5Vの電源電圧の半導体集積回路では4%程度の
変動にすぎないが、上記のような低電源電圧の半導体集
積回路においては、電圧降下により変動の割合は電源電
圧レベルの約1割近くにも達することとなる。このよう
に、電源電圧の低電圧化に伴って電源配線における許容
電圧降下量はますます厳しくなってきている。
【0004】しかも、論理LSI(大規模集積回路)で
は、電源端子に近いため電圧降下の比較的少ない半導体
チップ周縁の回路の遅延時間と、電源端子から遠いため
電圧降下の比較的大きな半導体チップ中央の回路の遅延
時間とが大きく異なってしまう。そして、LSI全体の
動作速度は遅延時間の大きい回路に規制されるため、電
源降下量が大きなLSIではその動作周波数を高くする
ことが困難になるという問題点がある。
【0005】しかるに、上記多層化による電源配線の低
インピーダンス化にしても、例えば5層配線で4層目と
5層目をすべて電源配線に使用したとしても半導体チッ
プ中央の回路の電源降下を充分に抑えることができない
ほどであり、配線の低インピーダンス化による電源降下
抑制技術は限界に近づいている。
【0006】この発明の目的は、半導体集積回路におい
て電源端子から離れた位置にある回路に対しても電圧降
下の少ない電源電圧を供給することができる電源供給技
術を提供することにある。
【0007】この発明の他の目的は、高周波動作が可能
な論理LSIを提供することにある。
【0008】この発明の前記ならびにそのほかの目的と
新規な特徴については、本明細書の記述および添付図面
から明らかになるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。
【0010】すなわち、電源配線の途中に適当な間隔を
おいて複数の定電圧電源回路を接続して、これらの定電
圧電源回路から半導体チップ内部の各回路に対して間接
的に電源の供給を行なうようにしたものである。
【0011】上記した手段によれば、各回路に対して電
圧降下のある電源配線からではなく定電圧電源回路から
間接的に電源の供給を行なうため、半導体チップ上のす
べての回路に対して電源降下の影響のない均一な電源電
圧を与えることができ、これによって、電源端子に近い
回路の遅延時間も電源端子から遠い回路の遅延時間もほ
ぼ同一にすることができるため、半導体集積回路全体の
動作周波数を高めることができるようになる。
【0012】また、定電圧電源回路はMOSFETから
なる差動増幅回路で構成し、その出力電圧を規定する参
照側電圧を電源端子より与えられる電源電圧よりも低い
電位とし、内部の回路にはこの低い電位に合うように生
成された電源電圧を供給するように構成する。これによ
って、各定電圧電源回路に与える参照電圧を供給する配
線は電流が流れないためレベル落ちすることがなく、半
導体チップ全域の回路に対してほぼ均一な電源電圧を供
給することができる。
【0013】なお、上記の場合、電源配線の途中に接続
する定電圧電源回路は、電源端子から遠いほどその配設
間隔を小さくするのが望ましい。すなわち、電源端子か
ら離れるほど定電圧電源回路の密度が高くなるように配
置する。これにより、電源端子から遠い定電圧電源回路
ほど電源端子に近い定電圧電源回路よりも負担が小さく
なるため、電源配線の電圧が半導体チップ中心に向かっ
て電圧降下しても、半導体チップ全域の回路に対してほ
ぼ均一な電源電圧を供給することができる。
【0014】さらに、電源端子は半導体チップの各辺に
少なくとも1つ設け、上記電源配線には複数の電源端子
から電源電圧を供給するようにする。これにより、半導
体チップ上のどの回路についても電源端子からの距離を
比較的短くすることができ、電源配線の電圧降下量を小
さくすることができる。
【0015】また、電源配線は網状とし、この電源配線
網に対して複数の電源端子より電源電圧を供給するとと
もに、電源配線網に接続された定電圧電源回路を介して
各回路に電源電圧を与えるようにする。これにより、各
定電圧電源回路に対して供給される電源電圧をより均一
にすることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を図
面に基づいて説明する。
【0017】図1は、本発明に係る電源供給方式を適用
した半導体集積回路の概略構成を示したものである。図
1において、11は1.8Vのような高電位側の電源電
圧VDDを外部から与えるための電源端子、12は−0.
3Vのような低電位側の電源電圧VSSを外部から与える
ための電源端子、13は上記電源電圧VDDの電位よりも
若干低い1.5Vのような電位に設定された第1の参照
電圧Vrefdを印加する基準電圧端子、14は上記電源電
圧VSSの電位よりも若干高い0Vのような電位に設定さ
れた第2の参照電圧Vrefsを印加する基準電圧端子であ
る。
【0018】また、21は上記電源端子11からの電源
電圧VDDを半導体チップ内部に供給する電源配線、22
は上記電源端子12からの電源電圧VSSを半導体チップ
内部に供給する電源配線、rは電源配線21,22の寄
生抵抗、23は上記基準電圧端子13に印加された参照
電圧Vrefdを半導体チップ内部に供給する電圧供給線、
24は上記基準電圧端子14に印加された参照電圧Vre
fsを半導体チップ内部に供給する電圧供給線である。
【0019】この実施例では、上記電源配線21,22
に適当な間隔で定電圧電源回路SAd,SAsがそれぞ
れ接続されている。そして、上記各定電圧電源回路SA
d,SAsに対して上記電圧供給線23,24を介して
参照電圧Vrefd,Vrefsが供給され、各定電圧電源回路
SAd,SAsはそれぞれ電源電圧VDDおよびVSSを電
源電圧として動作して、参照電圧Vrefd,Vrefsに等し
い電圧VDD’およびVSS’を出力する。これらの定電圧
電源回路SAd,SAsより出力された電源電圧VDD’
およびVSS’が、本来の半導体集積回路を構成する論理
ゲートのような各回路LGに供給されるように構成され
ている。
【0020】図2には、上記電源供給方式を適用した半
導体集積回路における外部供給電源電圧VDDおよびVSS
と定電圧電源回路SAd,SAsで生成された電圧VD
D’およびVSS’との関係が示されている。同図に示す
ように、外部供給電源電圧VDDおよびVSSは半導体チッ
プの中心部に向かうほど電圧降下で減少および増加する
が、定電圧電源回路SAd,SAsで生成された電圧V
DD’およびVSS’は半導体チップの周縁部から中心部に
渡ってほぼ一定となる。これによって、半導体チップ上
のすべての論理ゲート回路LGに対して電源降下の影響
のない均一な電源電圧を与えることができる。
【0021】なお、上記実施例では、各定電圧電源回路
に対して与える参照電圧Vrefd,Vrefsを半導体チップ
の外部から与えるように構成したが、半導体チップ内部
に基準電圧発生回路などを設けて内部で形成するように
しても良い。これによって、ユーザーは電源電圧VDDお
よびVSSのみ形成すれば良いので、ユーザーの負担が軽
減される。
【0022】図3および図4には、上記定電圧電源回路
SAdおよびSAsの具体的な回路の一例が示されてい
る。
【0023】図3に示すように、定電圧電源回路SAd
は、MOSFET Q1〜Q5からなる差動増幅段と、
直列形態のMOSFET Q6,Q7からなる出力段と
から構成されている。ソース共通接続されたMOSFE
T Q2のゲートには電圧供給線23を介して供給され
る参照電圧Vrefdが印加されている。MOSFETQ3
とQ4はカレントミラー接続されてアクティブ負荷とし
て機能する。
【0024】上記MOSFET Q5,Q7のゲート端
子には電源電圧VDDが印加され、定電流源として動作す
る。MOSFET Q2のドレインに出力段のMOSF
ETQ6のゲート端子が接続され、Q6とQ7の接続ノ
ード(出力ノード)の電位が差動増幅段の他方の差動M
OSFET Q1のゲート端子にフィードバックされて
いる。これによって、この実施例の定電圧電源回路SA
dは、出力段の出力ノードの電圧を参照電圧Vrefdと一
致させるように動作して、参照電圧Vrefdと等しい電位
の電源電圧VDD’を出力する。
【0025】定電圧電源回路SAsは、図4に示すよう
に、MOSFET Q1’〜Q5’からなる差動増幅段
と、直列形態のMOSFET Q6’,Q7’からなる
出力段とから構成されており、図3の回路とはp−MO
Sとn−MOSの関係が逆になっているだけで回路構成
はほぼ同じである。ソース共通接続されたMOSFET
Q2’のゲートには電圧供給線24を介して供給され
る参照電圧Vrefsが印加され、出力段のMOSFET
Q6’とQ7’の接続ノード(出力ノード)の電位が差
動増幅段の他方の差動MOSFET Q1’のゲートに
フィードバックされている。これによって、この実施例
の定電圧電源回路SAsは、出力段の出力ノードの電圧
を参照電圧Vrefsと一致させるように動作して、参照電
圧Vrefsと等しい電位の電源電圧VSS’を出力する。
【0026】図5には、上記電源配線21(もしくは2
2)の途中に接続される定電圧電源回路SAd(SA
s)のレイアウトの一例が示されている。同図に示すよ
うに、定電圧電源回路SAd(SAs)は半導体チップ
10の中心部すなわち電源端子から遠いほどその配設間
隔を小さくなるように配置されている。すなわち、電源
端子11(12)から離れるほど定電圧電源回路SAd
(SAs)の密度が高くなるように配置されている。
【0027】これにより、電源端子から遠い定電圧電源
回路ほど電源端子に近い定電圧電源回路よりも負担が小
さくなるため、図2に示すように電源電圧VDDおよびV
SSが半導体チップ中心に向かって電圧降下しても、半導
体チップ全域の論理ゲート回路に対してほぼ均一な電源
電圧を供給することができる。
【0028】図6には、本発明をゲートアレイに適用し
た場合における電源配線21および22のレイアウトの
一例が示されている。特に制限されないが、この実施例
では、上記電源配線21,22は例えば5層目および4
層目の配線層によって、それぞれ図6に示すように網状
に形成されている。そして、各定電圧電源回路SAd,
SAsはこの網状の電源配線21,22を介して電源電
圧VDDおよびVSSの供給を受けるように構成されてい
る。
【0029】また、電源端子11および12は半導体チ
ップ10の各辺の中央にそれぞれ1つずつ設けられ、上
記網状の電源配線21および22は4個の電源端子11
および12から電源電圧VDDおよびVSSの供給を受ける
ように構成されている。これによって、半導体チップ上
のどの論理ゲート回路と電源端子までとの距離を比較し
てもその差が比較的小さくなる。
【0030】図6において、CLは半導体チップ上にマ
トリックス状に配置され、配線の設計によりインバータ
やNANDゲート、NORゲートなど任意の論理ゲート
回路を構成可能なCMOS基本セルで、これらの基本セ
ル上に上記電源配線21,22が配設されている。そし
て、各基本セル内および基本セル間を接続する信号線は
1層目〜3層目の配線を使用して形成されるように設計
される。なお、特に制限されないが、上記各定電圧電源
回路SAd,SAsも基本セルCLを用いて構成され
る。
【0031】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上
記実施例では、網状の電源配線より各定電圧電源回路に
電源電圧が供給されるように構成したが、網状の電源は
緯線に限定されず、例えばツリー状に形成された電源配
線により各定電圧電源回路に電源電圧を供給するように
構成してもよい。
【0032】また、各定電圧電源回路に電源電圧を供給
する電源配線のみならず、各定電圧電源回路SAd,S
Asから論理ゲート回路に電源電圧VDD’およびVSS’
を供給する電源配線(図1の配線25や26)も網状に
構成、つまり各定電圧電源回路SAd,SAsに対応し
てそれぞれ局所的な電源配線網を設けてその電源配線網
を介して電源電圧VDD’およびVSS’を論理ゲート回路
LGに供給するように構成してもよい。
【0033】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるゲート
アレイに適用した場合について説明したが、この発明は
それに限定されるものでなく、半導体集積回路一般に広
く利用することができる。
【0034】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。
【0035】すなわち、本発明によれば、半導体集積回
路において電源端子から離れた位置にある回路に対して
も電圧降下の少ない電源電圧を供給することができるよ
うになり、その結果半導体チップ周縁部の回路の遅延時
間と半導体チップ中央部の回路の遅延時間に差がなくな
り、高周波動作が可能な論理LSIを実現することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電源供給方式を適用した論理集積
回路の概略構成を示す回路構成図。
【図2】本発明に係る電源供給方式を適用した半導体集
積回路における外部供給電源電圧VDDおよびVSSと定電
圧電源回路SAd,SAsで生成された電圧VDD’およ
びVSS’との関係を示す説明図。
【図3】定電圧電源回路SAdの具体例を示す回路図。
【図4】定電圧電源回路SAsの具体例を示す回路図。
【図5】定電圧電源回路SAd(SAs)のレイアウト
の一例を示す平面説明図。
【図6】本発明をゲートアレイに適用した場合における
電源配線のレイアウトの一例を示す平面説明図。
【符号の説明】
10 半導体チップ 11,12 電源端子 13,14 基準電圧供給端子 21,22 電源配線 23,24 基準電圧供給線 SAd,SAs 定電圧電源回路 LG 論理ゲート回路 CL 基本セル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F038 BB04 CA03 CA07 EZ20 5F064 DD13 DD14 DD36 EE16 EE42 EE52 5J056 AA00 BB40 CC03 DD13 DD28 FF06 HH03 KK02

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部電源端子から延設された電源配線の
    途中に適当な間隔をおいて複数の定電圧電源回路が接続
    され、これらの定電圧電源回路から半導体チップ内部の
    各回路に対して間接的に電源の供給が行なわれるように
    構成されてなることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 上記定電圧電源回路は、MOSFETか
    らなる差動増幅段と出力段とから構成され、その出力電
    圧を規定する参照側電圧が上記電源端子より与えられる
    電源電圧よりも低い電位とされ、内部の回路にはこの低
    い電位に合うように生成された電源電圧が供給されるよ
    うに構成されてなることを特徴とする請求項1に記載の
    半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 上記電源配線の途中に接続された定電圧
    電源回路は、電源端子から遠いほどその配設間隔を小さ
    くされていることを特徴とする請求項1または2に記載
    の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 上記電源端子は半導体チップの各辺に少
    なくとも1つ設けられ、上記電源配線は複数の電源端子
    から電源電圧が供給されるように構成されていることを
    特徴とする請求項1、2または3に記載の半導体集積回
    路。
  5. 【請求項5】 上記電源配線は網状に形成され、この電
    源配線網に対して複数の電源端子が接続されていること
    を特徴とする請求項4に記載の半導体集積回路。
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JP2019129533A (ja) * 2018-01-19 2019-08-01 株式会社ソシオネクスト 半導体集積回路

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