JP2004063057A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004063057A
JP2004063057A JP2002365300A JP2002365300A JP2004063057A JP 2004063057 A JP2004063057 A JP 2004063057A JP 2002365300 A JP2002365300 A JP 2002365300A JP 2002365300 A JP2002365300 A JP 2002365300A JP 2004063057 A JP2004063057 A JP 2004063057A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
word line
general
down circuit
potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002365300A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4228683B2 (ja
Inventor
Masayuki Otsuka
大塚 雅之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP2002365300A priority Critical patent/JP4228683B2/ja
Priority to US10/421,862 priority patent/US6822921B2/en
Publication of JP2004063057A publication Critical patent/JP2004063057A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4228683B2 publication Critical patent/JP4228683B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48145Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48145Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • H01L2224/48147Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked with an intermediate bond, e.g. continuous wire daisy chain
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

【課題】ワード線とそれ以外の電位レベルを独立して調節を可能とした降圧回路を提供する。
【解決手段】半導体メモリを搭載した第1の半導体チップと、降圧回路を有する第2の半導体チップとをマルチチップパッケージに封止した半導体装置において、第1の半導体チップは一般用電源パッドとワード線専用電源パッドとを有し、降圧回路は、一般用電源パッドに第1の電位を供給し、ワード線専用電源パッドには第1の電位より高い第2の電位を供給する。
【選択図】   図1

Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は半導体装置に関するもので、特にマルチチップパッケージ(MCP)に封止されたリードオンリーメモリー(ROM)における降圧回路を有した半導体装置に関するものである。
【0002】
【特許文献1】
特開2001−357685号公報
【0003】
【従来の技術】
従来のMCPに封止されたROMは、上記特許文献1の図2に記載されるような汎用ROMチップの上に、ユーザ仕様にカスタマイズされた論理回路と降圧回路を備えたカスタムチップを搭載している。カスタムチップのチップサイズはMCP実装の制約を受けるため、実際の回路規模よりもチップサイズの方が大きくなり、空きスペースが多く存在する。
【0004】
【特許文献2】
特願2001−285372
【0005】
降圧回路は、この出願人による上記特許文献2の図4に記載されるものがあり、電源電圧より低い所望の内部電源電圧を作り出す回路である。降圧回路で作り出された内部電源電圧はボンディングワイヤを介して汎用ROMチップの電源として供給される。
【0006】
この内部電源電圧は、汎用ROMのワード線制御とともにDC電流成分であるメモリーセルのドレイン電圧供給回路やメモリーセル、センスアンプと共通に用いられることが多い。このような内部電源電圧の共用によって、内部電源電圧が低下してしまい、誤動作の原因になる場合がある。
【0007】
【特許文献3】
特開平11−176181号公報
【0008】
この問題を解決するために内部電源発生用の降圧回路を複数設け、それぞれ独立に内部電源を供給することが上記特許文献3に開示されている。ここで、独立した内部電源の電圧は同一である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上述の構成では、消費電流低減のため内部電源電圧の電位レベルを下げればアクセススピードが遅くなり、アクセススピードアップのため内部電源電圧の電位レベルを上げれば消費電流が増えてしまう課題がある。
そこで本発明は、汎用ROMチップにワード線専用の電源電極を設け、降圧回路をワード線専用のもの(以降、ワード線専用降圧回路と呼ぶ)と、ワード線を含まない降圧回路(以降、一般降圧回路と呼ぶ)とを設け、それぞれを独立した電位レベルに設定して、消費電流低減とアクセススピードとを両立する手段を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この発明の半導体装置では、半導体メモリを搭載した第1の半導体チップと、降圧回路を有する第2の半導体チップとをマルチチップパッケージに封止した半導体装置において、第1の半導体チップは一般用電源パッドとワード線専用電源パッドとを有し、降圧回路は、一般用電源パッドに第1の電位を供給し、ワード線専用電源パッドには第1の電位より高い第2の電位を供給する。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の第1の実施例を示す回路ブロック図である。汎用ROMチップ100は、ワード線制御用電源パッド102と、一般用電源パッド104とを有している。ワード線制御用電源パッド102は図示しないワード線駆動回路などのワード線制御回路に接続されている。ワード線制御用電源パッド102から供給される電源は、このワード線制御回路に供給される。一方、一般用電源パッド104は図示しないセンスアンプなどワード線制御回路以外の回路に接続されている。一般用電源パッド104で受け取った電源は、ワード線制御回路以外のすべての汎用ROMチップ100の回路に供給される。
汎用ROMチップ100の上に搭載されるカスタムチップ200には、ワード線制御用電源供給パッド202、一般用電源供給パッド204、ワード線制御用電源降圧回路206及び一般用電源降圧回路208が設けられている。ワード線制御用電源降圧回路206及び一般用電源降圧回路208には、図示しないトリミング回路が設けられており、電位レベルの調整が可能になっている。
【0012】
ワード線制御用電源供給パッド202は、カスタムチップ200内部においてワード線制御用電源降圧回路206に接続されるとともに、ボンディングワイヤ210によって汎用ROMチップ100のワード線制御用電源パッド102にも接続されている。ワード線制御用電源降圧回路206にて生成されたワード線制御用電源は、ワード線制御用電源供給パッド202、ワード線制御用電源パッド102介して、汎用ROMチップ100内のワード線制御回路に供給される。
また、一般用電源供給パッド204は、カスタムチップ200内部において一般用電源降圧回路208に接続されるとともに、ボンディングワイヤ212によって汎用ROMチップの一般用電源パッド104にも接続されている。一般用電源降圧回路208にて生成された一般用電源は、一般用電源供給パッド204、一般用電源パッド104介して、汎用ROMチップ100内のワード線制御回路以外のすべての回路に供給される。
ワード線制御用電源降圧回路206および一般用電源降圧回路208には、制御信号220が与えられる。この制御信号220は、アクティブ時“H”、スタンバイ時“L”となる信号である。
一般に、汎用ROMは低消費電力化が要求されており、3.3V程度の電源で駆動されている。この実施例においては更なる低消費電力化を求め、一般用電源は約2.6Vワード線制御用電源は一般用電源よりやや高い約2.8Vに設定されている。
【0013】
次に、図1を用いてこの発明の第1の実施例に係る降圧回路の動作を説明する。
一般用電源パッド104には、一般用電源降圧回路208からの電位(以下汎用電位という)が一般用電源供給パッド204およびボンディングワイヤ212を介して供給される。アクティブ状態では制御信号220は“H”であるため、一般用電源降圧回路208もアクティブ状態となる。したがって、一般用電源パッド104は汎用電位の電位変動に対し瞬時の応答が可能となる。一方、スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208もスタンバイ状態となり、低消費電力化がはかられる。
ワード線制御用電源パッド102には、ワード線制御用電源降圧回路206からの電位(制御電位という)がワード線制御用電源供給パッド202およびボンディングワイヤ210を介して供給される。アクティブ状態では制御信号220は“H”であるため、、ワード線制御用電源降圧回路206もアクティブ状態となる。したがって、ワード線制御用電源パッド102は制御電位の電位変動に対し瞬時の応答が可能となる。一方、スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、ワード線制御用電源降圧回路206もスタンバイ状態となり、低消費電力化がはかられる。
前述したように、一般用電源降圧回路208と、ワード線制御用電源降圧回路206は、トリミング回路が装備された電位レベルの調整が可能な降圧回路であるため、汎用電位及び制御電位のレベルは独立して設定出来る。
【0014】
以上説明したように、この発明の第1の実施例によれば、第1の半導体チップの電源パッドを二つに分け、制御電位は、通常の第1の半導体チップの電源電位またそれ以下に設定し汎用電位は制御電位よりも低い値に設定した。これにより、ワード線制御回路へ供給する電位レベルより低い電位レベルでその他の回路の動作が可能となる。
以上のことから、消費電流低減のために制御電位のレベルを下げればアクセススピードが遅くなるという問題は解決できる。また、ワード線制御回路以外の回路については、アクセススピードの問題とは関係なく低消費電力化が図れる。
【0015】
図2はこの発明の第2の実施例を示す回路ブロック図である。なお、図2において、図1と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
第2の実施例では、第1の実施例の回路に制御回路が付加された構成を有している。第1の実施例では、カスタムチップ200に設けられたワード線制御用電源降圧回路206は、一般用電源降圧回路208とともに制御信号220を受け取っていた。しかしながら第2の実施例においては、カスタムチップ300に設けられたワード線制御用電源降圧回路206は、第1の制御回路230を介して制御信号220を受け取ることになる。また、第1の実施例ではワード線制御用電源供給パッド202と一般用電源供給パッド204は電気的に独立して設けられていた。ところが、第2の実施例においては、ワード線制御用電源供給パッド202と一般用電源供給パッド204が第2の制御回路240を介して接続されている。
【0016】
第1の制御回路230は、第1および第2のトランスファゲート232、234を有している。第1のトランスファゲート232は、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aと接地間に接続されている。第2のトランスファゲート234は、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aに接続され、制御信号220がワード線制御用電源降圧回路206に入力されるのを制御している。第1および第2のトランスファゲート232、234は、相補信号によって制御されている。すなわち、第1のトランスファゲート232を構成するNMOSトランジスタ232Nと第2のトランスファゲート234を構成するPMOSトランジスタ234Pとには同一の信号(第1の信号250)が入力され、第1のトランスファゲート232を構成するPMOSトランジスタ232Pと第2のトランスファゲート234を構成するNMOSトランジスタ234Nとには第1の信号の相補信号252が入力される。
第2の制御回路240は、ワード線制御用電源供給パッド202と一般用電源供給パッド204との間に接続された第3のトランスファゲート242を有している。第3のトランスファゲートを構成するNMOSトランジスタ242Nは第1の信号250によって制御され、PMOSトランジスタ242Pは、相補信号252によって制御されている。なお、インバータ254は、第1の信号250から相補信号252を生成している。なお、第1の信号250は、“H”または“L”が選択可能な信号である。
【0017】
次に、図2を用いて本発明第2の実施例に係る降圧回路の動作を説明する。
第2の実施例においては、第1の信号250が“L”の時、一般用電源パッド104の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが制御電位となるように設定されている。また、第1の信号250が“H”の時、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルは汎用電位となる。このような設定についてさらに詳細に説明する。
【0018】
第1の信号250が“L”の時、インバータ254は“H”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232および第3のトランスファーゲート242はOFF状態、第2のトランスファゲート234はON状態になる。したがって、一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とは電気的に切り離されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aには、制御信号220が入力される。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにアクティブ状態になり、一般用電源パッド204の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが制御電位となる。なお、汎用ROMチップ100には、ボンディングワイヤ210、212を介してそれぞれ汎用電位および制御電位がワード線制御用電源パッド102と一般用電源パッド104とに与えられる。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。前述のように、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はトリミング回路が装備された電位レベルの調整が可能な降圧回路であるため、それぞれ汎用電位および制御電位の電位レベルを独立して設定出来る。
【0019】
一方、第1の信号250が“H”の時、インバータ254は“L”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232および第3のトランスファーゲート242はON状態、第2のトランスファゲート234はOFF状態になる。これにより一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とが電気的に接続されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aは第1のトランスファゲート232を介して設置されるため、ワード線制御用電源降圧回路206は“L”レベルの信号が入力された状態になる。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるが、第2のトランスファゲート234がOFF状態であるため、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源降圧回路208のみアクティブ状態になる。したがって、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが汎用電位となる。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。
【0020】
以上説明したように本発明の第2の実施例によれば、第1の実施例の効果に加えて、制御信号220を“L”に設定すれば、汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104の電位レベルが汎用電位、ワード線制御用電源パッド102の電位レベルが制御電位となり、それぞれ独立した電位レベルの設定が可能となる。これは消費電流低減のため汎用電位の電位レベルを下げればアクセススピードが遅くなり、アクセススピードアップのため汎用電位の電位レベルを上げれば消費電流が増えるという問題を解決することが可能となる。
また制御信号220の信号を“H”に設定すれば、汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104の電位レベルとワード線制御用電源パッド102の電位レベルは共に汎用電位となるように設定することが可能となる。
本発明の第2の実施例の降圧回路は、内部電源の設定を、汎用電位および制御電位の両者を使うモードと、汎用電位のみを使用するモードとを選択することが可能となる。このように選択肢を多くすることにより、製品の仕上りが設計段階の見積もりと大幅に違った時でも臨機応変に対応することが可能となり、短納期開発に有効となる。
【0021】
図3はこの発明の第3の実施例を示す回路ブロック図である。なお、図3において、図2と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
第3の実施例では、第2の実施例の回路に外部電源供給回路が付加され、制御回路が独立した信号によって制御される構成を有している。第2の実施例では、カスタムチップ300に設けられた第1の制御回路230と第2の制御回路240とは、同一の信号(第1の信号)250を受け取っていた。しかしながら第3の実施例においては、カスタムチップ400に設けられた第1の制御回路230は、第2の信号270およびインバー272によって反転された相補信号により制御されている。また、第3の実施例ではワード線制御用電源供給パッド202に外部電源供給回路260が接続されている。外部電源供給回路260は第3の信号280によって制御されるPMOSトランジスタ262を有している。なお、第2の信号270および第3の信号280は第1の信号250と同様に、“H”または“L”が選択可能な信号である。
【0022】
次に、図3を用いて本発明第3の実施例に係る降圧回路の動作を説明する。
第3の実施例においては、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“L”、第3の信号280が“H”の時、一般用電源パッド204の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが制御電位となるように設定されている。また、第1の信号250が“H”、第2の信号270が“H”、第3の信号280が“H”の時、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルは汎用電位となる。さらに、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“H”、第3の信号280が“L”の時、一般用電源パッド204の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが外部電源電位(VDD)となる。このような設定についてさらに詳細に説明する。
【0023】
まず、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“L”、第3の信号280が“H”の場合について説明する。第1および第2の信号250、270が“L”であるため、インバータ254および272は“H”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232および第3のトランスファーゲート242はOFF状態、第2のトランスファゲート234はON状態になる。これにより、一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とは電気的に切り離されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aには、制御信号220が入力される。なお、第3の信号280は“H”であるため、外部電源(図3で矢印で示されている)からワード線制御用電源供給パッド202に対して外部電源は供給されない。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにアクティブ状態になり、一般用電源パッド204の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが制御電位となる。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。なお、第3の実施例においては、スタンバイ状態においてワード線制御用電源降圧回路206はハイインピーダンス状態になるよう設定されている。
【0024】
つぎに、第1の信号250が“H”、第2の信号270が“H”、第3の信号280が“H”の場合について説明する。第1および第2の信号250、270が“H”であるため、インバータ254および272は“L”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232および第3のトランスファーゲート242はON状態、第2のトランスファゲート234はOFF状態になる。これにより一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とが電気的に接続されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aは第1のトランスファゲート232を介して設置されるため、ワード線制御用電源降圧回路206は“L”レベルの信号が入力された状態になる。なお、第3の信号280は“H”であるため、外部電源(図3で矢印で示されている)からワード線制御用電源供給パッド202に対して外部電源は供給されない。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるが、第2のトランスファゲート234がOFF状態であるため、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源降圧回路208のみアクティブ状態になる。したがって、一般用電源パッド104およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが汎用電位となる。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。
【0025】
最後に、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“H”、第3の信号280が“L”の場合について説明する。第1の信号250が“L”、第2の信号270が“H”であるため、インバータ254は“H”を、インバータ272は“L”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232はON状態、第2のトランスファゲート234および第3のトランスファーゲート242はOFF状態になる。これにより一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とが電気的に切り離されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aは第1のトランスファゲート232を介して設置されるため、ワード線制御用電源降圧回路206は“L”レベルの信号が入力された状態になる。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるが、第2のトランスファゲート234がOFF状態であるため、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源降圧回路208のみアクティブ状態になる。なお、第3の信号280は“L”であるため、外部電源供給回路260のトランジスタ262がON状態になり、外部電源供給回路260からワード線制御用電源供給パッド202に対して外部電源が供給される。したがって、一般用電源パッド104の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが外部電源電位となる。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。
【0026】
以上説明したように、本発明の第3の実施例によれば、第2の実施例で説明した2つのモードに加えて、汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104の電位レベルが汎用電位、ワード線制御用電源パッド102の電位レベルが外部電源電位となるモードの設定が可能となる。したがって、内部電源の設定を、汎用電位および制御電位の両者を使うモード、汎用電位のみを使用するモード、汎用電位と外部電源電位を使用するモードとを選択することが可能となる。このように選択肢を多くすることにより、製品の仕上りが設計段階の見積もりと大幅に違った時でも臨機応変に対応することが可能となり、短納期開発に有効となる。
【0027】
図4はこの発明の第4の実施例を示す回路ブロック図である。なお、図4において、図3と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
第4の実施例では、第3の実施例の回路の外部電源供給回路が削除され、カスタムチップに外部電源パッドが付加されている。第4の実施例では、カスタムチップ500に設けられた外部電源パッド290は外部電源292に接続されている。汎用ROMチップ100のワード線制御用電源供給パッド102は、カスタムチップ500のワード線制御用電源供給パッド202または外部電源パッド290にボンディングワイヤ210または214によって選択的に接続される。すなわち、ワイヤボンディングオプションによって、汎用ROMチップ100のワード線制御用電源供給が決まるのである。
【0028】
次に、図4を用いて本発明第4の実施例に係る降圧回路の動作を説明する。
第4の実施例においては、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“L”、ワード線制御用電源供給パッド202がボンディングワイヤ210によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されている時、一般用電源パッド204の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが制御電位となり、汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104とワード線制御用電源供給パッド102のそれぞれに汎用電位と制御電位が供給されるように設定されている。また、第1の信号250が“H”、第2の信号270が“H”、ワード線制御用電源供給パッド202がボンディングワイヤ210によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されている時、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルは汎用電位となるため、汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104とワード線制御用電源供給パッド102とには汎用電位が供給される。さらに、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“H”、外部電源パッド290がボンディングワイヤ214によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されている時、一般用電源パッド204およびそれに接続された汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104の電位レベルが汎用電位となり、汎用ROMチップ100のワード線制御用電源供給パッド102の電位レベルは外部電源電位(VDD)となる。このような設定についてさらに詳細に説明する。
【0029】
まず、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“L”、ワード線制御用電源供給パッド202がボンディングワイヤ210によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されている場合について説明する。第1および第2の信号250、270が“L”であるため、インバータ254および272は“H”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232および第3のトランスファーゲート242はOFF状態、第2のトランスファゲート234はON状態になる。これにより、一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とは電気的に切り離されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aには、制御信号220が入力される。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにアクティブ状態になり、一般用電源パッド204の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが制御電位となる。なお、ワード線制御用電源供給パッド202がボンディングワイヤ210によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されているため、汎用ROMチップ100のワード線制御用電源供給パッド102に対しても制御電位が供給される。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。なお、第3の実施例においては、スタンバイ状態においてワード線制御用電源降圧回路206はハイインピーダンス状態になるよう設定されている。
【0030】
つぎに、第1の信号250が“H”、第2の信号270が“H”、ワード線制御用電源供給パッド202がボンディングワイヤ210によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されている場合について説明する。第1および第2の信号250、270が“H”であるため、インバータ254および272は“L”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232および第3のトランスファーゲート242はON状態、第2のトランスファゲート234はOFF状態になる。これにより一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とが電気的に接続されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aは第1のトランスファゲート232を介して設置されるため、ワード線制御用電源降圧回路206は“L”レベルの信号が入力された状態になる。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるが、第2のトランスファゲート234がOFF状態であるため、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源降圧回路208のみアクティブ状態になる。したがって、一般用電源パッド104およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルが汎用電位となる。なお、ワード線制御用電源供給パッド202がボンディングワイヤ210によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されているため、汎用ROMチップ100のワード線制御用電源供給パッド102に対しても汎用電位が供給される。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド204およびワード線制御用電源供給パッド202の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。
【0031】
最後に、第1の信号250が“L”、第2の信号270が“H”、外部電源パッド290がボンディングワイヤ214によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されている場合について説明する。第1の信号250が“L”、第2の信号270が“H”であるため、インバータ254は“H”を、インバータ272は“L”を出力する。したがって、第1のトランスファゲート232はON状態、第2のトランスファゲート234および第3のトランスファーゲート242はOFF状態になる。これにより一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202とが電気的に切り離されるとともに、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aは第1のトランスファゲート232を介して設置されるため、ワード線制御用電源降圧回路206は“L”レベルの信号が入力された状態になる。アクティブ状態において制御信号220は“H”であるが、第2のトランスファゲート234がOFF状態であるため、ワード線制御用電源降圧回路206はスタンバイ状態になり、一般用電源降圧回路208のみアクティブ状態になる。なお、外部電源パッド290がボンディングワイヤ214によってワード線制御用電源供給パッド102に接続されているので、ワード線制御用電源供給パッド102には外部電源292から外部電源電位が供給される。したがって、汎用ROMチップ100の一般用電源パッド104の電位レベルが汎用電位となり、ワード線制御用電源供給パッド102の電位レベルが外部電源電位となる。スタンバイ状態では制御信号220は“L”であるため、一般用電源降圧回路208およびワード線制御用電源降圧回路206はともにスタンバイ状態になり、一般用電源パッド104およびワード線制御用電源供給パッド102の電位レベルはスタンバイ状態で設定された低電位となる。
【0032】
以上説明したように、この発明の第4の実施例によれば、第3の実施例で説明した3つのモードが、2つの制御信号とワイヤボンディングオプションによって設定が可能となる。
【0033】
上述した第1〜第4の実施例では、MCPに封止された汎用ROMチップに適用した例を説明したが、MCP以外のパッケージに適用することもできる。
第2の実施例では、一般用電源パッド204とワード線制御用電源供給パッド202との接続、ワード線制御用電源降圧回路206の制御入力端子206Aと制御信号220の入力ラインとの接続、または制御入力端子206Aとアースとの接続を第1の信号250によって制御されるトランスファゲートを有する制御回路230、240で制御した。しかしながが、制御回路230、240はトランスファゲート以外のスイッチング制御回路を有していてもよい。また、制御回路230、240による接続の制御は、それらの接続を直接配線で選択的に接続するというメタルオプションで制御することもできる。
第2の実施例の第1の信号250は“H”または“L”に設定可能な信号であるが、メタルオプションやフューズ、ボンディングオプションで“H”または“L”の設定を実現することもできる。
第3および第4の実施例では、上述した第2の実施例の応用例に加えて、外部電源とワード線制御用電源供給パッド202との接続をPMOSトランジスタ262で制御したが、他のスイッチング制御回路やメタルオプションで制御することもできる。
【0034】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、この発明によれば、汎用ROMチップの一般用電源パッドの電位レベルが汎用電位、ワード線制御用電源供給パッドの電位レベルが汎用電位よりも高い制御電位または外部電源電位となり、それぞれ独立して電位レベルの設定が可能となる。このため、ワード線制御回路以外の回路については、アクセススピードの問題とは関係なく低消費電力化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例を示す回路ブロック図
【図2】この発明の第2の実施例を示す回路ブロック図
【図3】この発明の第3の実施例を示す回路ブロック図
【図4】この発明の第4の実施例を示す回路ブロック図
【符号の説明】
100   汎用ROMチップ
200、300、400、500  カスタムチップ
104、204  一般用電源パッド
102、202  ワード線制御用電源供給パッド
206   ワード線制御用電源降圧回路
208   一般用電源降圧回路
210、212   ボンディングワイヤ
230、240、260  制御回路

Claims (8)

  1. 半導体メモリを搭載した第1の半導体チップと、降圧回路を有する第2の半導体チップとをマルチチップパッケージに封止した半導体装置において、
    前記第1の半導体チップは一般用電源パッドとワード線専用電源パッドとを有し、前記降圧回路は、前記一般用電源パッドに第1の電位を供給し、前記ワード線専用電源パッドには前記第1の電位より高い第2の電位を供給することを特徴とする半導体装置。
  2. 前記降圧回路は、前記第1の電位を供給する一般用電源降圧回路と、前記第2の電位を供給するワード線専用電源降圧回路とを有する請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記一般用電源降圧回路と前記ワード線専用電源降圧回路とは同一の制御信号によって制御される請求項2記載の半導体装置。
  4. 前記一般用電源降圧回路と前記ワード線専用電源降圧回路とは異なる制御信号によって制御される請求項2記載の半導体装置。
  5. 前記第2の半導体チップは制御回路を有し、
    該制御回路は第1の状態においては前記一般用電源降圧回路と前記ワード線専用電源降圧回路とを共に動作状態にし、かつ、前記一般用電源パッドと前記ワード線専用電源パッドとを電気的に切り離してそれぞれに前記第1および第2の電位を供給し、
    前記制御回路は第2の状態においては前記一般用電源降圧回路を動作状態に、前記ワード線専用電源降圧回路を非動作状態にして、かつ、前記一般用電源パッドと前記ワード線専用電源パッドとを電気的に接続してそれぞれに前記第1の電位を供給する請求項1記載の半導体装置。
  6. 前記制御回路はさらに第2の状態を有し、この第3の状態においては前記一般用電源降圧回路を動作状態に、前記ワード線専用電源降圧回路を非動作状態にして、かつ、前記一般用電源パッドと前記ワード線専用電源パッドとを電気的に切り離して、して前記一般用電源パッドに前記第1の電位を供給し、前記ワード線専用電源パッドには外部電源電位を供給する請求項5記載の半導体装置。
  7. 前記第2の半導体チップは、前記一般用電源降圧回路に接続される第1のパッドと、前記ワード線専用電源降圧回路に接続される第2のパッドとを有し、これら第1および第2のパッドがそれぞれ前記第1の半導体チップの一般用電源パッドとワード線専用電源パッドとに接続される請求項1記載の半導体装置。
  8. 前記第2の半導体チップは、さらに外部電源に接続される第3のパッドを有し、前記前記第1の半導体チップのワード線専用電源パッドは、前記第2または第3のパッドに選択的に接続される請求項7記載の半導体装置。
JP2002365300A 2002-06-04 2002-12-17 半導体装置 Expired - Fee Related JP4228683B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002365300A JP4228683B2 (ja) 2002-06-04 2002-12-17 半導体装置
US10/421,862 US6822921B2 (en) 2002-06-04 2003-04-24 Semiconductor device having semiconductor memory

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002162839 2002-06-04
JP2002365300A JP4228683B2 (ja) 2002-06-04 2002-12-17 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004063057A true JP2004063057A (ja) 2004-02-26
JP4228683B2 JP4228683B2 (ja) 2009-02-25

Family

ID=29586037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002365300A Expired - Fee Related JP4228683B2 (ja) 2002-06-04 2002-12-17 半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6822921B2 (ja)
JP (1) JP4228683B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011096296A (ja) * 2009-10-27 2011-05-12 Renesas Electronics Corp 半導体記憶装置
JP2012234591A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4969934B2 (ja) 2006-07-19 2012-07-04 株式会社東芝 半導体装置
KR101202429B1 (ko) * 2007-10-11 2012-11-16 삼성전자주식회사 저항체를 이용한 비휘발성 메모리 장치
JP2010176731A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ
US9515655B2 (en) * 2014-03-27 2016-12-06 Texas Instruments Incorporated Multiplexing voltages on functional input pin with pass device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5329168A (en) * 1991-12-27 1994-07-12 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit device equipped with substrate biasing system selectively powered from internal and external power sources
JP2768172B2 (ja) * 1992-09-30 1998-06-25 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
JP3510362B2 (ja) * 1995-01-10 2004-03-29 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
JPH11176181A (ja) 1997-12-08 1999-07-02 Mitsubishi Electric Corp 記憶装置
JP3607575B2 (ja) 2000-06-16 2005-01-05 沖電気工業株式会社 書込可能な読出専用メモリ
JP2002083942A (ja) * 2000-09-06 2002-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011096296A (ja) * 2009-10-27 2011-05-12 Renesas Electronics Corp 半導体記憶装置
US8526229B2 (en) 2009-10-27 2013-09-03 Renesas Electronics Corporation Semiconductor memory device
JP2012234591A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4228683B2 (ja) 2009-02-25
US6822921B2 (en) 2004-11-23
US20030223302A1 (en) 2003-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8253481B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
US6236194B1 (en) Constant voltage power supply with normal and standby modes
KR100292903B1 (ko) 레귤레이터내장반도체집적회로
TWI497276B (zh) 具省電功能之混合電壓非依電性記憶體積體電路
US20110068826A1 (en) Semiconductor integrated circuit device
US5986489A (en) Slew rate control circuit for an integrated circuit
KR100381489B1 (ko) 차지 펌프 회로
JP3138680B2 (ja) 出力バッファ制御回路
US20070075765A1 (en) Booster circuit
JP2008011446A (ja) 半導体集積回路
JP4228683B2 (ja) 半導体装置
JP4020680B2 (ja) 半導体集積回路
US6512698B2 (en) Semiconductor device
KR20050055390A (ko) 분리된 전원 링을 가지는 저전력 반도체 칩과 그 제조 및제어방법
JP3797474B2 (ja) 半導体集積回路およびそれを用いた半導体装置
JP2002152031A (ja) 入出力バッファ回路
JP3730003B2 (ja) 半導体装置
JP3604660B2 (ja) 内部給電電圧を備えた回路装置
JP2002112455A (ja) 電源補強回路
JPH11225060A (ja) 出力バッファ回路
US8179737B2 (en) Semiconductor memory apparatus
JPH08125124A (ja) 半導体集積回路
JP3179419B2 (ja) 昇圧回路装置
JP2003289103A (ja) 半導体装置と半導体実装装置
JPH09181260A (ja) 半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050825

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20060923

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060929

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20061013

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080716

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080812

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080929

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081111

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081124

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212

Year of fee payment: 4

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees