JP2000047199A

JP2000047199A - 転写フィルム及び拡散反射板の製造法

Info

Publication number: JP2000047199A
Application number: JP10216939A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Takane; 信明高根; Yasuo Tsuruoka; 恭生鶴岡; Takeshi Yoshida; 健吉田; Kazuyuki Funahata; 一行舟幡
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1998-07-31
Filing date: 1998-07-31
Publication date: 2000-02-18
Anticipated expiration: 2018-07-31
Also published as: JP3808212B2

Abstract

(57)【要約】【課題】良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散
反射板等の製造に使用される転写フィルムを提供する。【解決手段】ベースフィルム４にサンドブラスト処理
したポリエチレンテレフタレートを用い、このフィルム
上に薄膜層形成用溶液を塗布乾燥し薄膜層２を形成し、
カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆し
て転写フィルムを得た。この転写フィルムのカバーフィ
ルムを剥がしながら、薄膜層がガラス基板に接するよう
にラミネートし、ガラス基板、薄膜層、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が積層された
基板を得た。露光機で薄膜層が反応する光線を照射した
のち、この基板からＰＥＴフィルムを剥がすと、薄膜層
上にはサンドブラスト加工された凹凸が転写されてお
り、光の拡散性にすぐれた凹凸形状であった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、バックライトを必
要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる
太陽電池の拡散反射板の製造等に使用される転写フィル
ム及びその転写フィルムを使用すた拡散反射板の製造法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ティスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ
始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予
想されている。特に、外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要である
ために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点
で携帯用端末機器用途として注目されている。

【０００３】従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネ
マティック方式並びにスーパーツイステッドネマティッ
ク方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光
子により入射光の１／２が表示に利用されないことにな
り表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減
らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・
ホスト方式の表示モードが提案されている。

【０００４】反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用
して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度から
の入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光
の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上
の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御するこ
とが必要である。基板に感光性樹脂を塗布しフォトマス
クを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属薄膜を形
成して拡散反射板を形成する方法（特開平４−２４３２
２６号公報）が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記の方法では凹凸を
形成するために、各基板ごとにフォトマスクで露光し、
現像する工程があるため、工程が複雑であり、低コス
ト、高生産性とは言えなかった。またフォトマスクでは
現像、ポストベーク等の工程によって凹凸形状が変化し
やすく一定の反射特性を持つ拡散反射板を安定に生産す
ることが難しい。さらに反射特性を向上させる目的で、
凹凸の高さを複数もつ拡散反射板を得たい場合、前記の
方法では複数回の感光性樹脂の塗布、露光、現像が必要
であるため工程がより煩雑となる。本発明は、良好な反
射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散反射板等の製造に使
用される転写フィルムを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の転写フィルム
は、所定機能を賦与する形状面が形成された仮支持体
に、薄膜層が積層されており、前記薄膜層の前記仮支持
体に積層されていない面が被転写基板への接着面を構成
している。所定機能を賦与する形状面が光を拡散反射し
得る凹凸面であるようにして、拡散反射板の製造用の転
写フィルムとすることができる。この場合、光を拡散反
射し得る凹凸面と薄膜層の間に反射膜が積層された構成
とすることができる。仮支持体としては、所定機能を賦
与する形状面が形成されたベースフィルム又はベースフ
ィルムと所定機能を賦与する形状面が形成された下塗り
層よりなるものが使用される。

【０００７】所定機能を賦与する形状面が光を拡散反射
し得る凹凸面となるようにした転写フィルムを使用し、
転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面を基板の
表面に貼り合わせ、仮支持体を剥離して基板に薄膜層を
転写し、更に薄膜層に反射膜を形成することにより拡散
反射板を製造することができる。また、所定機能を賦与
する形状面が光を拡散反射し得る凹凸面となるように
し、光を拡散反射し得る凹凸面と薄膜層の間に反射膜を
積層した転写フィルムを使用し、転写フィルムの薄膜層
の被転写基板への接着面を基板の表面に貼り合わせ、仮
支持体を剥離して基板に薄膜層、反射膜を転写すること
により拡散反射板を製造することができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１、２は本発明の転写フィルム
の一例を示す断面図、図３、４は本発明の転写フィルム
を使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図、
図５は反射型ＬＣＤの断面図であり、図中１はガラス基
板、２は薄膜層、３は反射膜、４はベースフィルム、５
はカバーフィルム、１１はカラーフィルタ、１２はブラ
ックマトリクス、１３は透明電極、１４は平坦化膜、１
５は配向膜、１６は液晶層、１７はスペーサ、１８は位
相差フィルム、１９は偏光板を示す。

【０００９】表面が多数の微細な凹凸を有する状態に加
工処理されたベースフィルム、薄膜層、カバーフィルム
が順次積層された転写フィルムを用いて、カバーフィル
ムを剥がしながら基板に薄膜層が接するようにラミネー
トして基板上に薄膜層とベースフィルムを積層し、前記
ベースフィルムを剥離することで基板上に表面に多数の
微細な凹凸を有する薄膜層を形成できる。これに更に金
属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得ら
れる。また、あらかじめ薄膜層とベースフィルムの間に
反射膜を積層した転写フィルムを用いて、カバーフィル
ムを剥がしながら基板に薄膜層が接するようにラミネー
トし、基板上に薄膜層、反射膜、ベースフィルムを積層
し、前記ベースフィルムのみを剥離すると所望の拡散反
射板が得られる。

【００１０】転写フィルムの仮支持体としては、表面に
多数の微細な凹凸を有するベースフィルム又はベースフ
ィルムと表面に多数の微細な凹凸を有する下塗り層より
なることができる。ベースフィルムは、表面に多数の微
細な凹凸を有する状態に加工処理された原型を押し当て
ることによって製造されたものを用いることもできる。
また、ベースフィルムに、変形可能な下塗り層を設け、
この層に多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理され
た原型を押し当てる工程、下塗り層を硬化する工程によ
り形成したものが使用できる。またベースフィルムの表
面がサンドブラスト処理されたものを用いることもでき
る。

【００１１】本発明の多数の微細な凹凸を有する状態に
加工処理された仮支持体の作製方法の一例は、文献「続
・わかりやすい光ディスク（オプトロニクス社、平成２
年発行）」に示されている。すなわち、ガラス板上にフ
ォトレジストを塗布後、所定のマスクパターンを有する
フォトマスクを用いて露光し現像するか、またはレーザ
ーカッティングした後、パターン形成面に真空蒸着法や
スパッタリング法等により銀またはニッケル膜を形成
（導電化処理）し、ニッケルを電鋳により積層して、ガ
ラス板から剥離する工程によってファーザー原型を作製
することができる。このファザー原型に剥離処理を行い
再度ニッケル電鋳を行い、ファザー原型から剥離してマ
ザー原型を作製し、このマザー原型を使用して多数の微
細な凹凸を形成することができる。

【００１２】多数の微細な凹凸を有する仮支持体は、シ
ート状、平板またはロール状または曲面の一部等の基材
の表面に全面または必要な部分に多数の微細な凹凸が形
成されたものを用いることができ、加圧装置に貼り付け
たり、凹凸を形成する面と加圧装置との間に挟み込んで
用いてもよい。押し当てる工程で熱、光等を与えてもよ
い。

【００１３】多数の微細な凹凸を有する仮支持体の凹凸
の程度は、通常、薄膜層を硬化することで変形すること
を考慮し設計する必要がある。薄膜層の硬化による変形
率をａとすると、薄膜層の硬化後の形状として、凹部と
凸部の高さの差が０．１μｍ〜１５μｍ、さらには、
０．１μｍ〜５μｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１
５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、
さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのい
ずれか小さい方以下であることが好ましい。

【００１４】図６に本発明の拡散反射板の反射特性の測
定装置を示す。反射光線２１と入射光線２２のなす角度
をθとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法
線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれ
ば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。必要とされ
るθの範囲が−６０°〜６０°である場合、図７に示す
ような凹曲面で凹凸が形成されている拡散反射板は、図
８に示したように凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチ
Ｐの関係がＰ＝７×Ｈの関係式で示される直線付近であ
れば、反射特性に優れる拡散反射板が得られる。また、
θが−１５°〜１５°の場合は、Ｐ＝３０×Ｈの関係式
で示される直線付近であれば反射特性に優れる拡散反射
板が得られる。このことは、法線に対し拡散反射を６０
度の範囲の光源で得ようとし、さらに１５度の範囲でよ
り強く得ようとする場合、Ｐ＝７×Ｈの関係式とＰ＝３
０×Ｈの関係式で示される２つの直線付近の領域を複合
した形状にできればよいことを示す。むろん、前述の２
つの直線付近の範囲にすべての凹凸が含まれるとは限定
しない。なぜなら凹凸形状作製プロセス上複数の形状が
形成されることは当然であるからである。また、液晶層
のギャップ均一性や光の干渉の影響を考慮しなければな
らない。

【００１５】したがって、仮支持体の凹凸の程度は、凸
曲面で凹部と凸部の高さの差が０．１×ａμｍ〜１５×
ａμｍ、さらには、０．１×ａμｍ〜５×ａμｍ、凸部
のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッ
チのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０
μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下である
ことが好ましい。ａの値は、薄膜層の材質により異な
り、例えば、２であったり、１あるいは０．７であるこ
ともある。以上は図７に示すような凹曲面で拡散反射板
の凹凸を形成した場合の例であるが、図９に示すような
凹凸複合の曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合、法
線に対し６０度以内の光源からの拡散反射は、図１０に
示すような凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関
係がＰ＝３．５×Ｈの関係式で示される直線付近であれ
ば反射特性に優れる。凹凸形状は、面内に周期的に並ん
でいる必要はなく、不規則であってもよい。また反射型
ＬＣＤの場合、画素ピッチと異なる周期性が凹凸形状に
あるとモアレが発生するので、凹凸の周期性は、画素ピ
ッチと同じかまたは整数で割れる周期、あるいは不規則
な配列で凹凸が並んでいることが好ましい。

【００１６】また、凹凸の面形状は特に限定されない
が、複合平面だけでなく凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複
合の曲面、さらには球面や放物面に近似した凹曲面ある
いは凸曲面、凹凸複合の曲面であることが好ましい。な
ぜなら、曲面とすることで、より広範囲の光源位置から
の拡散反射光を期待できるからである。

【００１７】本発明のベースフィルムとしては、化学
的、熱的に安定であり、シートまたは板状に成形できる
ものを用いることができる。具体的には、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、
セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等
のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリエステル、あるいはア
ルミ、銅等の金属類等である。これらの中で特に好まし
いのは寸法安定性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートである。

【００１８】薄膜層としては変形可能な有機重合体を含
む組成物または無機化合物、金属を用いることができる
が、好ましくは支持体上に塗布しフィルム状に巻き取る
ことが可能な有機重合体組成物を用いる。またこの中に
必要に応じて、染料、有機顔料、無機顔料、粉体及びそ
の複合物を単独または混合して用いてもよい。薄膜層に
は感光性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物を用いること
もできる。これら薄膜層の誘電率、硬度、屈折率、分光
透過率は特に限定されない。

【００１９】そのようなものの中で、被転写基板に対す
る密着性が良好で、ベースフィルムからの剥離性がよい
ものを用いるのが好ましい。たとえばアクリル樹脂、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビ
ニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セ
ロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル等を
用いることができる。また感光性を有するものを用いる
ことができる。場合によっては基板の凹凸が必要な部分
だけを残し、不要な部分を除けるように、アルカリ等で
現像可能な感光性樹脂を用いることもできる。耐熱性、
耐溶剤性、形状安定性を向上させるために、凹凸形成後
に熱または光によって硬化可能な樹脂組成物を用いるこ
ともできる。さらに、カップリング剤、接着性付与剤を
添加することで基板との密着を向上させることもでき
る。接着を向上させる目的で基板または薄膜層の接着面
に接着性付与剤を塗布することも含まれる。

【００２０】アルカリで現像可能な樹脂としては、酸価
が２０〜３００、重量平均分子量が１，５００〜２０
０，０００の範囲に入っているものが好ましく、例えば
スチレン系単量体とマレイン酸との共重合体又はその誘
導体（以下、ＳＭ系重合体という）、アクリル酸又はメ
タクリル酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体と
スチレン系単量体、メチルメタクリレート、ｔ−ブチル
メタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等の
アルキルメタクリレート、同様のアルキル基を有するア
ルキルアクリレート等の単量体との共重合体が好まし
い。

【００２１】ＳＭ系共重合体は、スチレン、α−メチル
スチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−メチルス
チレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチ
ル−４ヒドロキシ−スチレン等のスチレン又はその誘導
体（スチレン系単量体）と無水マレイン酸、マレイン
酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノ−ｎ−プロピル、マレイン酸モノ−ｉｓｏ
−プロピル、マレイン酸−ｎ−ブチル、マレイン酸モノ
−ｉｓｏ−ブチル、マレイン酸モノ−ｔｅｒｔ−ブチル
等のマレイン酸誘導体を共重合させたもの（以下、共重
合体（Ｉ）という）がある。共重合体（Ｉ）には、メチ
ルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等のアル
キルメタクリレート等、前記した共重合体（Ｉ）を反応
性二重結合を有する化合物で、変性したものがある（共
重合体（ＩＩ））。

【００２２】上記共重合体（ＩＩ）は、共重合体（Ｉ）
中の酸無水物基又はカルボキシル基に不飽和アルコー
ル、例えばアリルアルコール、２−ブラン−１−２−オ
ールフルフリルアルコール、オレイルアルコール、シン
ナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロール
アクリアミド等の不飽和アルコール、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジル
エーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、イタコ
ン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等のオキシラ
ン環及び反応性二重結合をそれぞれ１個有するエポキシ
化合物と反応させることにより製造することができる。
この場合、アルカリ現像を行うために必要なカルボキシ
ル基が共重合体中に残っていることが必要である。ＳＭ
系重合体以外のカルボキシル基を有する重合体も、上記
と同様に反応性二重結合の付与は、感光度の点から好ま
しい。これらの共重合体の合成は特公昭４７−２５４７
０号公報、特公昭４８−８５６７９号公報、特公昭５１
−２１５７２号公報等に記載されている方法に準じて行
うことができる。薄膜層の膜厚は、凹凸を有する仮支持
体の凹凸の高低差より厚く形成すると凹凸形状を再現し
やすい。膜厚が等しいあるいは薄いと凹凸形状が変形す
る。また、凹凸を形成する場合後述する問題が発生する
場合がある。

【００２３】本発明の下塗り層としては、凹凸形成後は
薄膜層よりも硬いものが好ましい。例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと
酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレン
とビニルアルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビ
ニルとビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エス
テルのようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、
ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルのような
ビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エス
テル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような
（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セ
ルローズ誘導体等から選ばれた、少なくとも１種類以上
の有機高分子を用いることができる。凹凸形成後硬化さ
せるために必要に応じて光開始剤やエチレン性二重結合
を有するモノマ等を予め添加することができる。また感
光タイプをネガ型材を利用することで示したが、ポジ型
であっても問題はない。

【００２４】本発明の薄膜層や下塗り層の塗布方法とし
ては、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー
塗布、ホエラー塗布、ディップコータ塗布、カーテンフ
ローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコー
タ塗布、エアナイフコータ塗布等がある。仮支持体上等
に上記の方法で薄膜層または下塗り層組成物を塗布す
る。

【００２５】反射膜としては、反射したい波長領域によ
って材料を適切に選択すれば良く、例えば反射型ＬＣＤ
表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから８
００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニウ
ムや金、銀等、を真空蒸着法またはスパッタリング法等
によって形成する。また反射増加膜（光学概論２（辻内
順平、朝倉書店、１９７６年発行）に記載）を上記の方
法で積層してもよい。反射膜の厚みは、０．０１μｍ〜
５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だけフ
ォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパターン
形成してもよい。

【００２６】本発明の転写フィルムのカバーフィルムと
しては、化学的および熱的に安定で、薄膜層との剥離が
容易であるものが望ましい。具体的にはポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビ
ニルアルコール等の薄いシート状のもので表面の平滑性
が高いものが好ましい。剥離性を付与するために表面に
離型処理をしたものも含まれる。

【００２７】また、それぞれの転写フィルムの基板への
転写後の剥離面は、薄膜層とベースフィルムとの間、ま
た反射膜がある場合には反射膜とベースフィルムあるい
は反射膜と下塗り層の間となる。但し、目的によっては
下塗り層と反射膜があるフィルム構造の場合で、下塗り
層を基板に積層するため、下塗り層とベースフィルムの
間を剥離面に設定することが出来る。下塗り層を基板に
積層する目的として、反射膜を電極として用いる場合の
電気絶縁層としての機能を下塗り層に持たせる場合、あ
るいは反射膜凹凸の平坦化層としての役割を下塗り層に
持たせる場合、下塗り層に感光性樹脂を用いて、反射膜
のエッチングレジストとしての役割を持たせる場合、更
に下塗り層を着色し、反射膜の部分的な遮光層としての
役割を持たせる場合等がある。

【００２８】仮支持体上の薄膜層、反射膜を基板に転写
する方法としては、カバーフィルムを剥がし、基板上に
加熱圧着すること等がある。さらに密着性を必要とする
場合には基板を必要な薬液等で洗浄したり、基板に接着
付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を照射する等の方
法を用いてもよい。本発明の転写フィルムをラミネート
する装置としては基板を加熱、加圧可能なゴムロールと
ベースフィルムとの間に挟み、ロールを回転させて、転
写フィルムを基板に押し当てながら基板を送りだすロー
ルラミネータを用いることが好ましい。このようにして
基板表面に形成した薄膜層の膜厚は、０．１μｍ〜５０
μｍの範囲が好ましい。このとき凹凸形状の最大高低差
より薄膜層の膜厚が厚い方が凹凸形状を再現しやすい。
膜厚が等しいあるいは薄いと原型凸部で薄膜層を突き破
ってしまい、平面部が発生し拡散反射を効率よく得にく
くなる。

【００２９】この薄膜層にネガ型感光性樹脂を用いた場
合には、その形状の安定性を付与するために露光機によ
り露光を行い、感光部分を硬化させる。本発明に適用し
得る露光機としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。
この露光装置は画素及びＢＭ等のパターン形成用の平行
露光機でも良いが、本発明では予め形成された凹凸を硬
化させることで出来れば良く、このためには感光性樹脂
が硬化する露光量以上の光量を与えておけばよい。従っ
て、一般に基板洗浄装置として利用されているラインに
組み込める散乱光を用いるＵＶ照射装置を用いることが
出来る。これらの装置を用いることによって、フォトマ
スクを用いる手法に比べて安価に作製でき、フォトマス
クを用いる場合に比べ、露光量に対する裕度が大きい。
また感光タイプをネガ型材を利用することで示したが、
ポジ型であっても問題はない。露光は支持体を剥がす
前、または剥がした後に行う。基板への密着性、追従性
を向上させる目的で、ベースフィルムにクッション層を
設けてもよい。

【００３０】以上反射型ＬＣＤ表示装置で説明したが、
本発明の転写フィルムで製造された拡散反射板は外部光
線を拡散反射させることが必要なデバイスに用いること
が出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散
反射板がある。また本発明の転写フィルムは遮光板、装
飾板、スリガラス、投影スクリ−ンの白色板、光学フィ
ルタ、集光板、減光板等の製造に使用することができ
る。このように、本発明の転写フィルムはガラス板、合
成樹脂板、合成樹脂フィルム、金属板、金属箔いかなる
ものにも転写することができ、被転写基板面は、平面の
みならず曲面、立体面でも良い。

【００３１】

【実施例】実施例１図１により説明する。ベースフィルム４に厚さ５０μｍ
のサンドブラスト処理したポリエチレンテレフタレート
を用い、このフィルム上にコンマコータで６μｍの膜厚
となるように下記の薄膜層形成用溶液を塗布乾燥し薄膜
層２を形成し、カバーフィルム５としてポリエチレンフ
ィルムを被覆して図１に示すような転写フィルムを得
た。薄膜層形成用溶液：ポリマーとしてスチレン、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリ
シジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマー
Ａ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。部
は重量部（以下同じ）。（ポリマー）ポリマーＡ７０部（モノマー）ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部（光開始剤）イルガキュアー３６９（チバスペシャルティーケミカルズ）２．２部Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン２．２部（溶剤）プロピレングリコールモノメチルエーテル４９２部（重合禁止剤）ｐ−メトキシフェノール０．１部（界面活性剤）パーフルオロアルキルアルコキシレート０．０１部次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしなが
ら、薄膜層がガラス基板に接するようにラミネータ（ロ
ールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラン
ト社製）を用いて、基板温度１００℃、ロール温度１０
０℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分
でラミネートし、ガラス基板、薄膜層、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が積層された
基板を得た。露光機（大型マニュアル露光機、ＭＡＰ１
２００、大日本スクリーン社製）で薄膜層が反応する光
線を５００ｍＪ／平方ｃｍ照射したのち、この基板から
ＰＥＴフィルムを剥がすと、薄膜層上にはサンドブラス
ト加工された凹凸が転写されており、光の拡散性にすぐ
れた凹凸形状であった。耐熱性を得るために２４０℃、
２０分間オーブン（クリーンオーブンＣＳＯ−４０２、
楠本化成製）で熱硬化を行い、これにＡｌ薄膜をスパッ
タリング法により０．１μｍの厚みになるように反射膜
を積層した。こうして作製した拡散反射板の反射強度
（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性を図
１１に示す（方位角（φ）を一定とした場合）。入射角
度−６０°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、
反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができた。図
２に示すように、ベースフィルム４の凹凸面に予め反射
膜３を形成しておき、反射膜３上に薄膜層２を形成し、
カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆し
て転写フィルムを得ることもできる。この場合はベース
フィルム４を剥離することで拡散反射板を得ることがで
きる。

【００３２】実施例２図１３に示すように、ベースフィルム４に厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベ
ースフィルム４上に下記組成の感光性樹脂組成物を溶剤
（プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト）で溶解し、コンマコーターで１．５μｍの膜厚にな
るよう塗布乾燥し下塗り層６とした。感光性樹脂溶液（％は重量％）：アクリル酸ーブチルアクリレートービニルアセテート共重合樹脂３３％ブチルアクリレート（モノマー）５３％ビニルアセテート（モノマー）８％アクリル酸（モノマー）２％ヘキチンジオールアクレレート（モノマー）１％ベンゾインイソブチルエーテル（光開始剤）３％次に不規則なパターンを有するフォトマスクを介して、
ベースフィルム上の感光性樹脂層（下塗り層６）を不規
則なパターン（平均ピッチ１５μｍ）に感光させた。露
光機は大型マニュアル露光機（ＭＡＰ１２００、大日本
スクリーン社製）を用い、５００ｍＪ／平方ｃｍ照射し
た。現像液（炭酸ナトリウム水溶液０．５％）を用い、
１分間バットで現像することで、不規則な凹凸形状を感
光性樹脂層（下塗り層６）の表面に形成した。次に感光
性樹脂層（下塗り層６）上に実施例１と同様の薄膜層形
成用溶液をコンマコーターで６μｍの膜厚になるよう塗
布乾燥し薄膜層２を形成し、カバーフィルム５としてポ
リエチレンフィルムを被覆して図５に示すような転写フ
ィルムを得た。次に、この転写フィルムのカバーフィル
ムを剥がしながら、薄膜層２がガラス基板に接する様に
ラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化
成テクノプラント社製）を用いて基板温度２０℃、ロー
ル温度９０℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．
５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、感光
性樹脂層（下塗り層６）、ベースフィルム４が積層され
た基板を得た。露光機（大型マニュアル露光機、ＭＡＰ
１２００、大日本スクリーン社製）で薄膜層が反応する
光線を５００ｍＪ／平方ｃｍ照射したのち、次にベース
フィルム４、感光性樹脂層（下塗り層６）を剥離し、ガ
ラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。
次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、
真空蒸着法で、銀薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積
層し反射膜を形成した。これによって得られた拡散反射
板は、反射特性に優れ、反射型ＬＣＤ用拡散反射板とし
て使用可能であった。これによって得られた拡散反射板
の平均高低差は１．２μｍであった。

【００３３】実施例３ベースフィルムに厚さ１００μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルムを用い、このベースフィルム上に実施
例２と同様な光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで２０
μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。次に不規則なパタ
ーンを有するロール状の原盤を押しあて紫外線を照射し
光硬化性樹脂を硬化しロール原盤を分離し、不規則な凹
凸形状を光硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に形成し
た。次に光硬化性樹脂層（下塗り層）上に実施例１と同
様な薄膜層形成用溶液をコンマコーターで２μｍの膜厚
になるよう塗布乾燥し、カバーフィルムとしてポリエチ
レンフィルムを被覆して転写フィルムを得た。次に、こ
の転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜
層がガラス基板に接する様にラミネータ（ロールラミネ
ータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を
用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力
７ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、
ガラス基板上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、
ベースフィルムが積層された基板を得た。次に、光硬化
性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムを剥離し、ガラ
ス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次
に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、真
空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚にな
るよう積層し反射層を形成した。図１２には方位角
（φ）を一定とした場合の反射強度（標準白色板に対す
る相対強度）の入射角度依存性を示す。入射角度−６０
°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性
にすぐれた拡散反射板を得ることができることが分かっ
た。

【００３４】実施例４図１４に示すように、ベースフィルム４に厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベ
ースフィルム４上に光硬化性樹脂溶液をコンマコーター
で３μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。次に不規則な
パターンを有するロール状の原盤を押しあて紫外線を照
射し光硬化性樹脂を硬化しロール原盤を分離し、不規則
な凹凸形状を光硬化性樹脂層（下塗り層）６の表面に形
成した。次にこの不規則な凹凸形状を光硬化性樹脂層
（下塗り層）６の表面にスパッタ法でアルミニウム薄膜
を０．１μｍの膜厚になるよう積層し反射膜３を形成
し、さらにこのアルミニウム薄膜の反射膜３上に薄膜層
形成用溶液をコンマコーターで２μｍの膜厚になるよう
塗布乾燥し薄膜層２とした。薄膜層２上にカバーフィル
ム５としてポリエチレンフィルムを被覆して図１４に示
すような転写フィルムを得た。次に、図１５に示すよう
にこの転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、
薄膜層がガラス基板に接する様にラミネータ（ロールラ
ミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社
製）を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロー
ル圧力７ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネー
トし、ガラス基板上に薄膜層２、アルミニウム薄膜の反
射膜３、光硬化性樹脂層（下塗り層）６、ベースフィル
ム４が積層された基板を得た。次にベースフィルム４の
みを剥離し、不規則な凹凸形状の表面の層２、アルミニ
ウム薄膜の反射膜３、光硬化性樹脂層（下塗り層）６が
積層されたガラス基板を得た。次に、オーブンで２３０
℃、３０ｍｉｎの熱処理を行った。これによって得られ
た拡散反射板は、反射特性に優れ、反射型ＬＣＤ用拡散
反射板として使用可能であった。

【００３５】

【発明の効果】本発明の転写フィルムにより反射型液晶
表示装置等に使用される良好な反射特性を有する拡散反
射板を効率良く製造することができ、凹凸面をあらかじ
め適切に設定しておくことによって、拡散反射板の反射
特性を自由に制御でき、かつ再現性のよい反射特性が得
られる。このように、本発明の転写フィルムにより所定
機能をもつ表面形状を適宜の基板に容易に賦与すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図２】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図３】本発明の転写フィルムを使用して製造された
拡散反射板の一例を示す断面図。

【図４】本発明の転写フィルムを使用して製造された
拡散反射板の一例を示す断面図。

【図５】反射型ＬＣＤの断面図。

【図３】本発明の拡散反射板の製造に使用される転写
フィルムの断面図。

【図４】本発明の拡散反射板の製造に使用される転写
フィルムの断面図。

【図５】本発明の拡散反射板の製造に使用される転写
フィルムの断面図。

【図６】拡散反射板の反射特性の測定装置を示す斜視
図。

【図７】本発明の転写フィルムを使用して製造された
拡散反射板の一例を示す断面図。

【図８】図７に示す拡散反射板の正面と光源がなす角
度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示すグ
ラフ。

【図９】本発明の転写フィルムを使用して製造された
拡散反射板の一例を示す断面図。

【図１０】図９に示す拡散反射板の正面と光源がなす
角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示す
グラフ。

【図１１】実施例１の拡散反射板の反射特性の入射角
依存性を示図。

【図１２】実施例３の拡散反射板の反射特性の入射角
依存性を示図。

【図１３】本発明の転写フィルムの一例を示す断面
図。

【図１４】本発明の転写フィルムの一例の製造工程を
示す断面図。

【図１５】本発明の転写フィルムを使用た拡散反射板
の製造例を示す断面図。

【符号の説明】

１．ガラス基板２．薄膜層３．反射膜４．ベースフィルム５．カバーフィルム６．下塗り層１１．カラーフィルタ１２．ブラックマトリクス１３．透明電極１４．平坦化膜１５．配向膜１６．液晶層１７．スペーサ１８．位相差フィルム１９．偏光板２０．試料２１．反射光線２２．入射光線２３．輝度計

【手続補正書】

【提出日】平成１０年１０月２９日（１９９８．１０．
２９）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図２】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図５】反射型ＬＣＤの断面図。

【図６】拡散反射板の反射特性の測定装置を示す斜視
図。

【図１１】実施例１の拡散反射板の反射特性の入射角
依存性を示すグラフ。

【図１２】実施例３の拡散反射板の反射特性の入射角
依存性を示すグラフ。

【図１３】本発明の転写フィルムの一例を示す断面
図。

【図１５】本発明の転写フィルムを使用した拡散反射
板の製造例を示す断面図。

【符号の説明】１．ガラス基板２．薄膜層３．反射膜４．ベースフィルム５．カバーフィルム６．下塗り層１１．カラーフィルタ１２．ブラックマトリクス１３．透明電極１４．平坦化膜１５．配向膜１６．液晶層１７．スペーサ１８．位相差フィルム１９．偏光板２０．試料２１．反射光線２２．入射光線２３．輝度計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者吉田健茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式会社筑波開発研究所内 (72)発明者舟幡一行茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内Ｆターム(参考） 2H089 QA16 TA12 TA13 TA14 TA15 TA17 2H091 FA02X FA08X FA11X FA14Z FA35X FB04 FB08 FC02 FC10 FC18 FC23 LA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定機能を賦与する形状面が形成された
仮支持体に、薄膜層が積層されており、前記薄膜層の前
記仮支持体に積層されていない面が被転写基板への接着
面を構成する転写フィルム。
【請求項２】所定機能を賦与する形状面が、光を拡散
反射し得る凹凸面である請求項１記載の転写フィルム。
【請求項３】光を拡散反射し得る凹凸面と薄膜層の間
に反射膜が積層された請求項２記載の転写フィルム。
【請求項４】仮支持体が、所定機能を賦与する形状面
が形成されたベースフィルムである請求項１〜３各項記
載の転写フィルム。
【請求項５】仮支持体が、ベースフィルムと所定機能
を賦与する形状面が形成された下塗り層よりなる請求項
１〜３各項記載の転写フィルム。
【請求項６】基板の表面に請求項２記載の転写フィルム
の薄膜層の被転写基板への接着面を貼り合わせる工程、前記仮支持体を剥離して、前記基板に前記薄膜層を転写
する工程、前記薄膜層に反射膜を形成する工程を備える拡散反射板
の製造法。
【請求項７】基板の表面に請求項３記載の転写フィルム
の薄膜層の被転写基板への接着面を貼り合わせる工程、前記仮支持体を剥離して、前記基板に前記薄膜層、前記
反射膜を転写する工程を備える拡散反射板の製造法。