JP2000007596A - 1,4−シクロヘキサンジメタノールの製造方法 - Google Patents

1,4−シクロヘキサンジメタノールの製造方法

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JP2000007596A
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cyclohexanedimethanol
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carrier
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Yoshinori Hara
善則 原
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来2段の水素化工程を必要としていた1,
4−CHDMの製造法として1段の直接水素化法により
製造する方法を提供する。 【解決手段】 テレフタル酸を、少なくともルテニウム
及び錫を含む触媒成分を用いて液相中で水素化反応させ
ることを特徴とする1,4−シクロヘキサンジメタノー
ルの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、テレフタル酸を原
料に、直接水素化して、1,4−シクロヘキサンジメタ
ノール(以下、1,4−CHDMとする)を製造する方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】1,4−CHDMは、ポリエステル系塗
料やポリエステル系の合成繊維、合成樹脂として有用で
あり、特に耐熱性、耐候性、物理的強度等の優れた樹脂
や繊維製造として用いられる(特開平6−192146
号、特表平9−504025号)。従来、1,4−CH
DMを製造する方法としては、例えば、特表平8−51
0686号公報に記載されているように、ジメチルテレ
フタレートを核水素化して、シクロヘキサンジカルボン
酸ジメチルを生成させ、得られたエステルをCu−Zn
酸化物触媒の存在下に水素と反応させて1,4−CHD
Mを生成させる方法が知られている。このように核水素
化工程とカルボン酸エステル基の水添の2工程が必要で
あり工程が煩雑であつた。更には特に後段工程は比較的
厳しい反応条件を採用しなければならないという問題点
があった。
【0003】また、特開平7−165644には、マレ
イン酸等の脂肪族カルボン酸からRu/Sn触媒を用い
て1,4−BGを製造する方法が記載されている。しか
し、この特許には、本件のような芳香環を含むカルボン
酸は開示されておらず、カルボキシル基を水添するのみ
ならず、芳香環を核水添する反応についても、Ru/S
n触媒が使用できることについては何ら開示されていな
い。
【0004】更に、特開平6−228028には、テレ
フタル酸ジアルキルから1,4−CHDMを製造する
際、まず、テレフタル酸ジアルキルをRu/アルミナ触
媒などで核水添反応させ、次いで、エステル部位を水添
するためにRu/Sn触媒を使用する方法が開示されて
いる。この反応は2段で行ってもよく、また、両工程の
触媒を共存させて一緒に反応を行ってもよく、後者の場
合は、反応条件を2段階に分けて反応させることが開示
されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した特開平6−2
28028においては、テレフタル酸ジアルキルから
1,4−CHDMを製造する際には、たとえ核水添工程
とエステル部位の水添とを一段で行ったとしても、触媒
と反応条件は別々のものを使用しなければ1,4−CH
DMを製造することができない、ということが示唆され
ていると言える。即ち、従来法においては、1,4−C
HDMを製造する際には、2段の水素化工程が必要とさ
れており、更にプロセスを簡略化する方法が望まれてい
た。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述した
従来技術の課題を鋭意検討した結果、テレフタル酸を、
ルテニウム及び錫を含む触媒成分の存在下、液相中で水
素と反応させることにより一段工程で、且つ、高収率で
1,4−CHDMを製造することができることを見出し
た。即ち、本発明の要旨は、テレフタル酸を溶媒の存在
下、少なくともルテニウム及び錫を含む触媒成分を用い
て、液相中で水素化反応させることを特徴とする1,4
−シクロヘキサンジメタノールの製造方法に存する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明で1,4−CHDMの製造
に用いられる原料は、テレフタル酸である。本発明で用
いる触媒は、活性成分として少なくともルテニウム及び
錫を含むものである。これら両成分の作用により目的と
する1,4−CHDMが良好に得られるものである。更
に、本発明ではルテニウム及び錫に加えて白金を併用す
ると更に触媒活性が向上するので好ましい。これら活性
成分は通常、金属状態で使用される。本発明の触媒は担
体に担持して用いるのが好ましく、この担体としては、
例えば、炭素質担体、アルミナ、シリカ、けいそう土、
ジルコニア等の多孔質担体を用いることができるが、特
に炭素質担体、なかでも活性炭が特に好ましい。これら
担体は2種以上併用して用いても差し支えない。
【0008】担体への活性成分の担持は、浸漬法、イオ
ン交換法、含浸法など担持触媒の調製に常用されている
任意の方法で行うことができる。なかでも特に簡便なの
は、浸漬法である。浸漬法によるときは、担持する金属
成分の原料化合物を溶媒、例えば、水に溶解して金属化
合物の水溶液とし、この溶液に炭素質担体を浸漬して担
体に金属成分を担持させる。担体に各金属成分を担持さ
せる順序については特に制限はなく、全ての金属成分を
同時に担持しても、各成分を個別に担持してもよい。ま
た所望ならば各成分を複数回に分けて担持してもよい。
【0009】触媒調製に用いる各金属成分の原料化合物
としては、触媒の調製法にもよるが、通常は硝酸塩、硫
酸塩、塩酸塩などの鉱酸塩が用いられる。また、これら
以外にも酢酸塩などの有機酸塩、水酸化物、酸化物、更
には有機金属化合物や錯塩なども用いることができる
が、中でも塩酸塩を用いるのが特に好ましい。担体に金
属成分を担持したならば乾燥し、次いで所望により焼
成、還元して触媒とする。乾燥は通常は200℃以下の
温度で、減圧下に保持するか又は空気などの乾燥ガスを
流通させればよい。金属成分の担持を複数回に分けて行
う場合には、担持を行う毎に乾燥するのが好ましい。焼
成は通常100〜600℃の温度で、空気や窒素などを
通気しながら行えばよい。また還元は液相還元又は気相
還元のいずれで行ってもよい。通常は水素やメタノール
などを還元ガスとして、100〜600℃、好ましくは
200〜500℃で気相還元する。ルテニウム及び錫の
担持量は、通常、担体に対して、それぞれ金属として
0.5〜50重量%、好ましくは1〜20重量%であ
る。錫はルテニウムに対して、0.3〜10重量倍、更
には0.5〜5重量倍存在させるのが好ましい。また白
金はルテニウムに対して0.1〜5重量倍、特に0.2
〜0.8重量倍存在させるのが好ましい。白金を含む触
媒を調製する場合には、先ず担体にルテニウムと錫とを
担持させて乾燥、還元処理し、次いでこれに白金を担持
させるのが好ましい。
【0010】本発明では、上記のルテニウム及び錫を炭
素質担体に担持させた触媒を用いて、液相中でテレフタ
ル酸の水素化反応を行う。この水素化反応ではテレフタ
ル酸の一部又は全部を溶媒に溶解させる必要があるが、
ここで用いる溶媒としては、通常、水、メタノールやエ
タノールなどのアルコール類、テトラヒドロフランやジ
オキサンなどのエーテル類、ヘキサン、デカリンなどの
炭化水素類などが挙げられるが溶解性の観点から水性媒
体が好ましい。
【0011】水素化反応は通常、水素ガスの加圧下で、
且つテレフタル酸の溶解状態を考慮した条件下で実施さ
れるが、その条件としては、例えば、50〜350℃、
好ましくは100〜250℃の温度で0.1〜30MP
a、好ましくは1〜25MPaの圧力の下で行われる。
反応は連続、回分のいずれで行ってもよく、また反応型
式としては液相懸濁反応、固定床流通反応のいずれをも
採用することができる。
【0012】反応生成液からは必要に応じて、触媒成分
などを固液分離した後、蒸留など適宜の手段により1,
4ーCHDMを回収する。反応液中の未反応原料や反応
中間体、例えば1,4−CHDMと原料とのエステルな
どは、回収して反応原料として再使用することができ
る。
【0013】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。なお、特に表示がな
い限り、以下において「%」は「重量%」を示す。ま
た、1,4ーCHDMの収率はガスクロマトグラフィー
の分析値から算出した。
【0014】実施例1 触媒調製;活性炭(三菱化学社製 CX−2;粒径10
〜20メッシュ)を、50%硝酸水溶液で、95℃、3
時間加熱処理したのち濾過した。水で洗浄後、2mmH
gの減圧下、80℃で5時間乾燥した。得られた活性炭
の含水率は0.95%であった。5N−HCl水溶液
3.6mlに、RuCl3 ・3H2 Oを1.578g、
H2 PtCl6 ・6H2 Oを0.774g、SnCl2
・2H2 Oを0.95g加えて溶解した。この混合溶液
に上記の活性炭8.55gを加えた。エバポレーターに
て60℃、25mmHgの減圧下で溶媒を留去したの
ち、アルゴン流通下に150℃で2時間乾燥した。次い
で水素気流下、450℃で2時間還元し、6%Ru−
3.5%Pt−5%Sn/活性炭触媒を得た。
【0015】反応;200ml誘導撹拌式オートクレー
ブに、テレフタル酸10.1g、水40g及び上記の触
媒2gをアルゴン雰囲気下で仕込んだ。水素圧1MPa
下で230℃まで昇温し、230℃に達した時点で15
MPaになるように水素を圧入して反応を開始した。定
圧で4時間反応させたのち反応液を抜き出した。その結
果1,4−CHDMが28.3%の収率で生成してい
た。
【0016】
【発明の効果】本発明方法によれば従来不可能と考えら
れていた、テレフタル酸から1段の水素化工程で1,4
−CHDMを製造することができるため、工業的な利用
価値が高い。
フロントページの続き Fターム(参考) 4G069 AA03 BA08A BA08B BB02A BB02B BC22A BC22B BC70A BC70B BC75A BC75B CB02 CB70 DA05 EA01Y EB18Y 4H006 AA02 BA11 BA23 BA26 BA55 BB11 BB14 BB25 BB31 BC10 BC11 BC14 BE20 FC22 FE11 4H039 CA60 CB10 CB40

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 テレフタル酸を溶媒の存在下、少なくと
    もルテニウム及び錫を含む触媒成分を用いて、液相中で
    水素化反応させることを特徴とする1,4−シクロヘキ
    サンジメタノールの製造方法。
  2. 【請求項2】 触媒成分が担体に担持された担持触媒で
    ある請求項1に記載の1,4−シクロヘキサンジメタノ
    ールの製造方法。
  3. 【請求項3】 担体が炭素質担体である請求項1又は2
    に記載の1,4−シクロヘキサンジメタノールの製造方
    法。
  4. 【請求項4】 溶媒が水性媒体である請求項1〜3のい
    ずれかに記載の1,4−シクロヘキサンジメタノールの
    製造方法。
  5. 【請求項5】 触媒活性成分としてルテニウム、錫及び
    白金成分を担持した触媒を用いる請求項1〜4のいずれ
    かに記載の1,4−シクロヘキサンジメタノールの製造
    方法。
  6. 【請求項6】 反応を、水性媒体中で、温度50〜35
    0℃、圧力0.1〜30MPaの条件下で行う請求項1
    〜5のいずれかに記載の1,4−シクロヘキサンジメタ
    ノールの製造方法。
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