FR2697642A1 - Méthode de fabrication de réseaux de diffraction de Bragg. - Google Patents

Méthode de fabrication de réseaux de diffraction de Bragg. Download PDF

Info

Publication number
FR2697642A1
FR2697642A1 FR9313093A FR9313093A FR2697642A1 FR 2697642 A1 FR2697642 A1 FR 2697642A1 FR 9313093 A FR9313093 A FR 9313093A FR 9313093 A FR9313093 A FR 9313093A FR 2697642 A1 FR2697642 A1 FR 2697642A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
mask
diffraction grating
light
light beam
diffraction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
FR9313093A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2697642B1 (fr
Inventor
Kenneth O Hill
Francois C Malo Berna Bilodeau
Derwyn C Johnson
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canada Minister of Natural Resources
Original Assignee
Canada Minister of Natural Resources
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=25515984&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FR2697642(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Canada Minister of Natural Resources filed Critical Canada Minister of Natural Resources
Publication of FR2697642A1 publication Critical patent/FR2697642A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of FR2697642B1 publication Critical patent/FR2697642B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70283Mask effects on the imaging process
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02133Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
    • G02B6/02138Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/14Mode converters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/7035Proximity or contact printers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/0208Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
    • G02B6/02085Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response characterised by the grating profile, e.g. chirped, apodised, tilted, helical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/90Methods

Abstract

La présente invention concerne une méthode de fabrication de réseaux de diffraction de Bragg. Elle consiste dans un milieu optique à disposer un masque de réseaux de diffraction de phase en verre de silice parallèlement tout près d'un milieu optique photosensible et à appliquer à travers le masque un faisceau de lumière collimatée au milieu.

Description

La présente invention concerne des milieux optiques, tels que des fibres
optiques, et, plus particulièrement, une méthode pour y
fabriquer des réseaux de diffraction de Bragg.
Certains guides d'ondes à fibre optique présentent la propriété de photosensibilité qui fournit un moyen pratique de photoinduire des changements permanents d'indice de réfraction dans le coeur de ces fibres optiques La photosensivité n'est pas limitée aux structures à fibres; on l'a aussi détecté dans plusieurs types de structures de verre planaire, y compris par exemple des dispositifs de guides d'ondes de silice sur silicium et de silice à ions implantés. La fabrication de dispositifs à guides d'ondes, tels que les réseaux de diffraction de Bragg réfléchissant intra-mode, les réseaux de diffraction convertisseur de mode, et on a obtenu des rotateurs à oscillation L'approche générale pour faire ces dispositifs consiste à photoinduire un réseau de diffraction d'indice de réfraction dans le coeur photosensible du guide d'ondes optiques Le réseau de diffraction consiste en une modulation périodique de l'indice de réfraction du coeur le long de la longueur du guide d'ondes La période de la perturbation est choisie pour ponter la désadaptation (constante de propagation) entre les deux modes (normalement liés) que le réseau de diffraction est prévu de coupler A la longueur d'onde de résonance de la structure, on peut avoir entre les modes couplés un échange de puissance efficace et
adapté en phase.
Il y a deux méthodes de base utilisées pour photoinduire des réseaux de diffraction dans des guides d'ondes à fibre optique photosensible: soit par inscription interne, soit par inscription externe On utilise habituellement pour l'inscription interne un procédé holographique dans lequel les modes à coupler sont lancés comme des modes liés cohérents du guide d'ondes et peuvent permettre de modifier par un procédé d'absorption de deux photons l'indice de
réfraction du coeur du guide d'ondes (c'est-à-dire formant l'holo-
gramme) Le lancement suivant d'un mode "reconstruit" l'autre La
longueur d'onde d'activation pour inscrire les réseaux de dif-
fraction à l'intérieur de verre à haute teneur en silice, dopée au germanium, est dans la bande visible (par exemple aux longueurs d'onde d'un laser à l'ion argon de 514,5 et de 488,0 nm) avec de
l'énergie correspondant à deux photons dans la bande des ultravio-
lets L'inscription externe utilise de la lumière UV directement (pour une fibre à haute teneur en silice, dopée au germanium, de la lumière UV accordé sur ou au voisinage de la bande d'absorption de vacance d'oxygène, à 240 nm) incidente par le côté sur le guide d'ondes optique On peut faire l'inscription externe point par point pour des réseaux de diffraction convertisseurs de mode ou en
utilisant l'interférence holographique de deux faisceaux UV cohé-
rents pour des rétroréflecteurs de Bragg.
Les réseaux de diffraction d'indice ont été les premiers inscrits dans des fibres optiques en utilisant une technique décrite
par K O Hill et al et publiée dans le brevet américain 4 474 427.
Le procédé requiert le lancement dans le coeur d'un toron de fibres, dopé au Ge de la lumière ayant une longueur d'onde dans la région visible La lumière est réfléchie par l'extrémité de la fibre La lumière se propageant vers l'avant interfère avec la lumière se propageant vers l'arrière pour former un motif d'ondes stationnaires dont la période correspond à la moitié de la longueur d'onde de la lumière d'inscription Par effet photosensible dans la fibre, un réseau de diffraction d'indice de réfraction de cette période est inscrit dans le coeur de la fibre Avec cette technique, on ne peut fabriquer que des réseaux de diffraction avec de la lumière réfléchie ayant des longueurs d'onde proches de la lumière d'inscription. Un perfectionnement à cette technique d'insription d'un réseau de diffraction a été décrit par Glee et ai dans le brevet américain 4 807 950 Dans ce procédé, les réseaux de diffraction sont produits dans la fibre en l'illuminant de côté avec une radiation UV cohérente qui a une longueur d'onde de 245 nm En utilisant une technique à deux faisceaux, on établit un motif d'interférence le long de la longueur de la fibre La période du motif est commandée en contrôlant l'angle entre les faisceaux qui interfèrent Ainsi, on peut inscrire des réseaux de diffraction d'indice dans la fibre qui réfléchiront de la lumière à de nombreuses longueurs d'onde plus grandes. Un autre perfectionnement aux méthodes ci-dessus mentionnées pour inscrire des réseaux de diffraction dans des fibres optiques est la technique d'inscription point à point, qui est décrite dans le brevet américain 5 104 209 Dans ce brevet, est décrite une technique point à point d'inscription de réseau de diffraction dans des fibres, dans laquelle chaque distorsion d'indice dans le réseau de diffraction est photoinduite individuellement à travers un masque à fente. Les principaux inconvénients des techniques de fabrication des réseaux de diffraction décrites dans le premier brevet font que l'on ne peut faire que des réseaux de diffraction ayant une période semblable à celle d'une demi longueur d'onde de la lumière d'inscription Le deuxième brevet décrit une méthode d'inscription de réseau de diffraction ayant un pas différent Cependant la technique nécessite une source laser UV ayant un haut degré de cohérence spatiale et temporelle Ces sources laser sont des lasers de recherche qui sont chers et ont de faibles efficacités d'inscription, et ne conviennent pas pour une utilisation dans un environnement de fabrication De plus, la technique ne donne pas une souplesse complète dans l'inscription de réflecteurs de Bragg
apodisés ou de réflecteurs de Bragg pépiés.
La méthode d'inscription point par point est une technique efficace pour l'inscription de réseau de diffraction à période peu précise dont on a besoin dans des convertisseurs spatiaux et de mode de polarisation Cependant, cette technique n'est pas pratique pour l'inscription de réseau de diffraction de Bragg Dans le cas de réseau de diffraction de Bragg, l'inscription de chaque distorsion d'indice néccessite individuellement une grande précision dans la translation de la fibre optique devant la fente Un inconvénient plus sérieux est la manière séquentielle de l'inscription des
distorsions d'indice qui forment le réseau de diffraction de Bragg.
Ce procédé d'inscription a besoin d'un très long temps d'exposition pour fabriquer un seul concertisseur de Bragg Le brevet américain n O 5 104 209 propose de surmonter ce problème en utilisant des
masques de fente pour permettre l'inscription de plusieurs distor-
sions d'indice en une seule opération.
Dans la présente invention, le réseau de diffraction d'indice est imprimé dans le coeur de la fibre optique en utilisant un masque de réseau de diffraction de phase de verre de silice spécialement prévu La masque de phase est maintenu très près de la fibre optique L'irradiation laser du masque de phase par de la lumière UV à l'incidence normale imprime (photoinduit) dans le coeur de la
fibre optique le motif d'interférence créé par le masque de phase.
La présente invention améliore la technique d'inscription point par point en utilisant un nouveau masque de fente pour imprimer les réseaux de diffraction de Bragg dans les fibres optiques et les
guides d'onde planaire La méthode est une technique non holographi-
que pour l'inscription de rétroréflecteurs de Bragg et est particulièrement applicable à une fibre optique photosensible, mais la méthode s'applique aussi aux structures de guides d'onde planaires. Suivant un exemple de réalisation de l'invention, une méthode de fabrication de réseau de diffraction de Bragg dans un milieu optique consiste à disposer un masque de réseau de diffraction de phase en verre de silice parallèlement tout près d'un milieu optique photosensible et à appliquer un faisceau de lumière collimatée au
milieu à travers le masque.
Suivant un autre exemple de réalisation, on utilise un masque à fente de réseau de diffraction de phase pour moduler spatialement la phase d'un faisceau UV (par exemple, provenant d'un laser excimer) avec un pas l a" 3 g, o O\Bags est la longueur d'onde de résonance ?r Effective-' désirée pour couplage rétro-réflecteur, intra-mode dans la fibre et
Il Effective est l'indice efficace des modes couplés à Uroj 3.
Suivant un autre exemple de réalisation, un masque de réseau de diffraction consiste en une tranche de verre de silice qui a des ondulations parallèles à sa surface formant un motif de relief de surface.
L'invention sera mieux comprise en se référant à la description
détaillée ci-dessous, en relation avec les dessins suivants, dans lesquels: la Fig 1 est un schéma d'un appareil photolithographique pour photoimprimer un réseau de diffraction de Bragg d'indice de réfraction dans un guide d'ondes de fibre optique photosensible, les Figs 2, 3, 4 et 5 illustrent des schémas supplémentaires d'un appareil photolithographique pour photoimprimer un réseau de diffraction de Bragg dans une fibre optique, et la Fig 6 est un graphique d'une réponse spectrale d'un réseau de diffraction de Bragg fabriqué avec une source laser UV et
utilisant la photolithographie de masque de phase.
Un masque à fente de réseau de diffraction de phase 1 est utilisé dans un appareil photolithographique et est placé en contact ou très près d'une fibre optique 3, avec ses striations de réseau de diffraction 5 (montrées dans la vue agrandie 6 du masque) dirigées perpendiculairement ou presque perpendiculairement à l'axe de la fibre Un faisceau de lumière UV 7 provenant d'un laser approprié, un laser excimer Kr F ( 249 nm) dans un prototype qui a marché, passe à travers le masque 1 par lequel il est spatialement modulé en phase et diffracté pour former un motif d'interférence 9 A latéralement (pas de réseau de diffraction de Bragg) et le long de la direction 9 B du faisceau laser incident (pas de Talbot) comme le montre la vue
agrandie 11 du coeur de la fibre.
De préférence, le masque à fentes consiste en une structure dimensionnelle de relief de surface, comme montré en 6, fabriqué dans un transparent plat en silice fondue de grande qualité à la radiation laser excimer Kr F La forme du motif périodique en relief de surface du masque de phase approche, de préférence, une onde carrée, vue de profil comme le montre la Fig 6 L'amplitude du motif périodique à relief de surface est choisie pour moduler des
7 + 2)tnradians (n= 0, 1, 2, 3,) la phase du faisceau lumineux UV.
Dans un prototype de masque de phase qui a bien marché pour un faisceau laser excimer Kr F, l'amplitude A du motif à relief de surface est donnée par 47 Vr(sitce -1) A = Jr, o X est la longueur d'onde de la lumière utilisée pour l'inscription (photo-induction) d'une modification d'indice dans le milieu optique et N s est l'indice de réfraction de la silice utilisée dans la fabrication du masque Ce choix d'amplitude de réseau de diffraction à relief de surface entraîne un motif de diffraction de réseau de diffraction pour la longueur d'onde prévue qui annule le faisceau (passant) diffracté d'ordre zéro En pratique, le faisceau 13 d'ordre zéro a
été supprimé à moins de 5 % de la lumière diffractée par le masque.
Les faisceaux principaux 15, qui excitent le masque, sont les ordres divergents plus un ou moins un, dont chacun contenait pratiquement
plus de 35 % de la lumière diffractée.
Les distorsions du masque n'ont pas besoin d'être formées sur une onde carrée Par exemple, les masques de réseau de diffraction de phase à relief de surface annulée d'ordre zéro comportant des distorsions de forme sinusoïdale seraient également utiles dans les
applications de l'invention.
Pour fabriquer des réseaux de diffraction de Bragg d'une longueur supérieure au masque de phase, on peut utiliser un procédé d'arrêt et de répétition Dans ce procédé, le masque (ou la fibre) est translaté exactement d'une distance qui correspond à la longueur
de motif de franges telle que les réseaux de diffraction photoimpri-
més suivants réfléchissent en phase avec le réseau de diffraction
photoimprimé auparavant.
Il faut noter que la période principale du motif de diffraction de Bragg est indépendante de la longueur d'onde Donc, en principe, on peut inscrire un réseau de diffraction de Bragg avec une source collimatée à bande large, tant que le coeur du guide d'ondes n'est pas situé trop loin du masque de phase pendant l'inscription et la largeur du spectre combiné de la source et de la bande photosensible de la matière du guide d'ondes n'est pas plus grande que la largeur
de bande d'annulation pour le faisceau diffracté d'ordre zéro.
Pour la photoimpression de réflecteurs de Bragg, le placement préféré des striations du réseau de diffraction de phase est perpendiculaire à l'axe de la fibre Des réseaux de diffraction d'indice inclinés peuvent être photoimprimés en faisant faire aux striations du réseau de diffraction de phase un angle avec l'axe de la fibre Ces structures de réseau de diffraction d'indice sont utiles pour coupler de la lumière guidée par le coeur hors de la
fibre et dans l'espace libre.
Il faut noter que l'exemple préféré de réalisation comporte des striations du réseau de diffraction de phase à relief de surface en face de la fibre Cette disposition n'est pas nécessaire pour le réseau de diffraction de phase pour qu'il module en phase le faisceau UV Une disposition avec les striations faisant face en
s'écartant des fonctions de la fibre marche aussi.
Des réseaux de diffraction dans lesquels la modulation de phase est produite par une modulation d'indice de réfraction plutôt que par une modulation du relief de surface fonctionnent aussi Par
7 2697642
exemple, les striations 5 du masque montrées dans l'agrandissement 6 de la Fig 1 peuvent être remplies de matériau en verre ayant un indice de réfraction différent de celui des régions environnantes,
produisant des indices de réfraction alternés.
Afin de tester les performances de l'appareil photolithographi- que, on a décrit la photoimpression d'un réseau de diffraction de Bragg de réfraction, on a choisi deux fibres optiques connues pour être très photosensibles La première a été une fibre à polarisation maintenue de type D standard de la société Andrew Corporation, optimisée pour 1300 nm (coupure = 960 nm, longueur de battement LB = 1,02 cm à 1292 nm, An coeur/gaine = 0,031 et dimension de coeur elliptique 1,5 x 3 micomètres) mais qui néanmoins présente une perte suffisamment faible à la longueur d'onde de résonance de Bragg à 1531 nm que l'on utilise dans les expérimentations Cette fibre a un coeur qui est fortement dopé avec du germanium par rapport à une fibre de télécommunication standard; les fibres dopées au germanium sont généralement photosensibles En particulier, on a rapporté que la fibre de type D d'Andrew était fortement photosensible (on a mesuré des modifications d'indice de réfraction photoinduites non saturées de l'ordre de 6 xl O), un attribut lié à sa concentration en dopant au germanium relativement élevé La seconde fibre a été obtenue de la société AT&T Bell Laboratories et avait une formule spéciale pour être fortement photosensible Les expériences ont confirmé que la fibre de AT&T était plus photosensible que la fibre
de type D dans les conditions qui prévalaient dans les expériences.
La source UV que l'on a utilisée dans les expériences était un laser excimer Kr F lumonics non modifié fonctionnant à 249 nm ayant une section de faisceau de 0,7 x 2 cm, une durée d'impulsion de 12 nsec et un taux de répétition d'impulsions de 50 Hz La densité d'énergie non focalisée par impulsion était de 100 m J par cm 2 Un tel laser produit un faisceau de faible cohérence quand aucune précaution n'est prise soit pour verrouiller l'injection, soit pour filtrer spatialement le faisceau La seule optimisation entreprise dans la préparation pour l'inscription d'un réseau de diffraction de Bragg fut de placer le réseau de diffraction de masque de phase avec ses striations parallèles à la dimension longitudinale de la section du faisceau car on a déterminé expérimentalement que la cohérence spatiale est meilleure pour cette disposition que pour un placement perpendiculaire. L'inscription réussie avec des faisceaux à faible cohérence fut un test important de réalisation de la présente méthode de photoinduction de réseau de diffraction de Bragg photolithographi- que Un avantage de la photolithographie de réseau de diffraction de Bragg tient à ce qu'elle offre un moyen de fabrication de plusieurs dispositifs en parallèle, qu'elle permet l'utilisation de sources laser industrielles, éprouvées et de forte fluence, et qu'elle
simplifie les procédures d'alignement en fabrication.
Le réseau de diffraction de phase utilisé dans la méthode prototype réussie fut un dispositif à relief de surface fabriqué sur un plat de silice fondue de grande qualité optique La période du réseau de diffraction fut approximativement 1060 nm avec un faisceau diffracté d'ordre zéro de 249 nm annulé de moins de 5 % et de 37 % de lumière transmise dans chacun des faisceaux diffractés de plus un et moins un Le réseau de diffraction mesurait 1 mm La période du réseau de diffraction de Bragg photoinduit avec le plat fut de 530 nm avec pour résultat une longueur d'onde estimée de résonance de Bragg dans un guide d'ondes de silice fondue de grande qualité (indice de réfraction = 1,46) de 530 x 2 x 1,46 = 1549 nm On a
observé expérimentalement un résonance à 1531 nm.
Le niveau de fluence par impulsion utilisé pour l'exposition du réseau de diffraction de Bragg fut augmenté de 100 à 200 m J/cm par focalisation modérée du faisceau laser excimer, en utilisant une lentille cylindrique alignée avec l'axe du cylindre parallèle à la fibre Les temps d'exposition pratiques sont de quelques minutes avec des niveaux de fluence de 1 joule/cm par impulsion et des taux d'impulsions de 50 ppc La réflectivité du réseau de diffraction de
Bragg photoinduit augmente rapidement au début du procédé d'exposi-
tion, puis sature ensuite à une valeur en rapport avec le niveau de la fluence incidente par impulsion Un niveau de fluence plus élevé par impulsion augmente, dans quelques limites, la réflectivité saturée du réseau de diffraction de Bragg résultant Cependant, au-dessus d'un certain niveau de fluence, on obtient un pic de
réflectivité et une photoexposition suivante entraîne une réflecti-
9 2697642
vité réduite et, en même temps, la forme de la réponse en longueurs d'ondes du réseau de diffraction de Bragg change de manière significative en développant, par exemple, un creux pour la longueur
d'onde centrale de la réponse.
Il faut noter qu'une lentille ou des lentilles peuvent être utilisées pour augmenter le niveau de fluence Par exemple, un
exemple de réalisation est montré à la Fig 2.
Une source de lumière 19 est focalisée par une lentille cylindrique 19 vers le coeur 23 d'une fibre optique 25, à travers un masque à fente de réseau de diffraction de phase 27 dont la face 29 contient les striations du réseau de diffraction faisant face à la fibre. Dans un autre exemple de réalisation de l'invention montré à la Fig 3, un filtre d'amplitude spatial 37 est placé devant le masque de phase 27 Le filtre 37 modifie le profil d'intensité 39 du faisceau UV de manière qu'il varie le long de la longueur du réseau de diffraction de phase de façon prédéterminée Le profil 39 indique, par exemple, un faisceau UV avec un profil d'intensité gaussien L'illumination du réseau de diffraction de phase avec le
faisceau UV 19 entraîne comme avant un motif d'interférence.
L'enveloppe des franges d'interférence a cependant le même profil d'intensité le long de la longueur de la fibre comme le profil d'intensité du faisceau UV Les régions de grande intensité entraînent une modification d'indice de réfraction photoinduite plus grande que les régions de faible intensité Ainsi, on peut former un réseau de diffraction d'indice dans une fibre dont la densité de couplage varie d'une façon prédéterminée le long de la longueur de
la fibre.
Dans un autre exemple de réalisation de l'invention montré à la Fig 4, on utilise un réseau de diffraction de phase 41 dans lequel la période du réseau de diffraction varie le long de la longueur du réseau de diffraction de façon prédéterminée pour former un réseau de diffraction "chirpé" L'irradiation du réseau de diffraction de phase "chirpé" par de la lumière UV 19 photoimprime un réseau de diffraction d'indice (réflecteur) dans le coeur de fibre 23 qui est aussi "chirpé" La réponse spectrale du réflecteur de Bragg "chirpé" est plus large que celle d'un réflecteur de Bragg résonnant à une 1.0
seule longueur d'onde.
L'utilisation simultanée des deux exemples de réalisation des Figs 3 et 4 module spatialement la phase et l'amplitude du faisceau UV permettant la commande indépendante respectivement de la fréquence de résonance et de la force de résonance le long de la longueur du réflecteur de Bragg Cette possibilité permet la synthèse de caractéristiques de réponse spectrale utiles, telle
qu'un réflecteur de Bragg apodisé.
La Fig 5 montre un exemple de réalisation de l'invention dans lequel la lentille est placée entre le masque 27 et le filtre optique 25 Un bloqueur opaque 33 est placé entre le masque et la lentille pour bloquer le faisceau de lumière d'ordre zéro 35 Des bloqueurs de faisceau opaques 36 sont aussi placés entre le masque et la lentille pour bloquer la lumière diffractée dans des faisceaux d'ordre supérieur au premier ordre Les ordres plus un et moins un
de la lumière passent à travers la lentille.
L'avantage de cet exemple de réalisation est que seuls les faisceaux diffractés de premier ordre sont utilisés pour former les
franges d'inférence et on obtient des franges fortement contrastées.
Un autre avantage est qu'on peut utiliser la lentille pour réduire la dimension de l'image du motif de franges Ainsi, des lentilles qui produisent différentes réductions d'image photoimprimeront des réseaux de diffraction de Bragg ayant différentes fréquences de résonance à partir du même réseau de diffraction de phase Le pas du réseau de diffraction de phase peut également être plus long, libérant ainsi la difficulté de fabrication du réseau de diffraction de phase Finalement, la lentille procure un moyen pour augmenter
les niveaux de fluence sur le coeur optique irradié.
La Fig 6 montre un graphe 17 de réponse spectrale d'un réseau de diffraction de Bragg photoimprimé à travers le masque de phase décrit cidessus, dans l'exemple de réalisation de la Fig 1 dans la fibre de type D de la société Andrew Corp Le laser excimer Kr F à 249 nm a irradié la fibre pendant 20 minutes avec des impulsions de m J/cm 2 à 50 pps On a obtenu un pic de réflectivité de 16 % dans un réseau de diffraction estimé être long de 0,95 mm environ, ce qui est calculé en supposant un réseau de diffraction uniforme dans la fibre et en utilisant la largeur spectrale de 0,85 nm de la réponse, le pas de 530 nm du réseau de diffraction de Bragg et la longueur d'onde de résonance de Bragg de 1531 nm Les bandes latérales dans la réponse spectrale sont nettement visibles, ce qui suggère que le réseau de diffraction est pratiquement uniforme le long de toute sa longueur Avec les données de réflectivité du réseau de diffraction, on a calculé (dans la limite du mode fortement lié) que l'amplitude pour la modulation d'indice de réfraction était de 2,2 x 10 Cette valeur se compare favorablement avec la modification moyenne d'indice de réfraction qu'on a déterminé être de 6 x 10 du décalage dans la résonance du réseau de diffraction de Bragg pendant la photoexposition, et la connaissance de la dispersion d'indice effectif à 1531 nm Idéalement, on espère que la profondeur apparente de modulation est égale ou supérieure au changement moyen d'indice quand on expose des fibres à des motifs de diffraction du réseau de diffraction avec contraste maximal Le rapport de modification profondeur sur indice moyen est influencé par les facteurs intrinsèques suivants: non linéarités dans la réponse photosensible de la fibre, annulation moins que parfaite du faisceau d'ordre zéro, présence de faisceaux diffractés d'ordre supérieur en aval du masque, et faible cohérence de la source laser Il est également influencé par l'alignement fibre/masque pendant la fabrication: la réflectivité du réseau de diffraction de Bragg photoinduit sera réduite si le réseau de diffraction est oblique par rapport à l'axe de la fibre La faible réflectivité provenant de l'oblicité se traduit par une profondeur apparente réduite de la modulation de l'indice de réfraction L'oblicité n'affecte pas l'augmentation de l'indice moyen de réfraction causé par la photoexposition. Une réponse spectrale du réseau de diffraction de Bragg semblable à celle de la Fig 6 a été observée pour un réseau de diffraction de Bragg inscrit dans des conditions semblables mais en utilisant la fibre spéciale d'AT&T Dans ce cas, la réflectivité
atteignait au pic 25 %.
Si on la compare à d'autres méthodes de fabrication du réseau
de diffraction de Bragg, la technique d'impression photolithogra-
phique à traves un masque de phase, décrite dans les présentes, offre beaucoup de souplesse pour modifier le pas et la force du coefficient de couplage du réseau de diffraction de Bragg K(z), en fonction de la distance z le long de l'axe du guide d'ondes Des variations intrinsèques de pas peuvent être inscrites dans le masque de phase pendant sa fabrication, par exemple sous la commande d'un calculateur; un masque d'amplitude spécial peut être utilisé aussi pour grader la force du coefficient de couplage L'utilisation simultanée de ces deux techniques pour moduler spatialement la phase et l'amplitude du faisceau UV d'inscription permet une commande indépendante, d'une part, de la fréquence de résonance et, d'autre part, de la force de la résonance le long du réseau de diffraction de Bragg du guide d'ondes inscrit avec le masque, rendant possible
la synthèse des quelques réponses spectrales utiles.
On a trouvé que les masques de réseau de diffraction de phase à relief de surface utilisés toléraient des niveaux de fluence par impulsion de 1 JI cm, sans dommage Comme le quartz fondu comporte un seuil de dommage par impulsion d'environ 5 J/cm 2 sous irradiation laser excimer Kr F, on pense vraisemblable que ces masques de phase
peuvent tolérer des niveaux de fluence même plus élevés.
En utilisant un niveau de fluence par impulsion de 1 J/cm, on a photoimprimé un réseau de diffraction de Bragg avec une réflectivité de 30 % dans une fibre D d'Andrew, après une exposition
de 5 minutes à 50 Hz.
La présente invention procure ainsi une méthode simple de fabrication de réseau de diffraction de Bragg de grande qualité dans des guides d'ondes optiques photosensibles, en utilisant des lasers
à faible cohérence qui conviennent dans des environnements indus-
triels La combinaison du masque de phase photoimprimant avec une inscription à impulsion unique de réseau de diffraction de Bragg dans la fibre peut offrir d'avoir des dispositifs de grande
performance à bas prix.

Claims (13)

REVENDICATIONS
1 Méthode de fabrication de réseau de diffraction de Bragg, caractérisée en ce qu'elle consiste dans un milieu optique à disposer un masque de réseau de diffraction de phase en verre de silice parallèlement tout près d'un milieu optique photosensible et à appliquer à travers le masque un faisceau de lumière collimatée au milieu. 2 Méthode selon la revendication 1, caractérisée en ce que le masque a un motif de relief de surface choisi pour moduler par des radians TU+ 27 ln la phase du faisceau lumineux, en ce que 4 T (à silice 1) A = + 2 7 rn o A est l'amplitude du motif à relief de surface, n= 0,1,2,3, Xest la longueur d'onde de la lumière utilisée pour l'inscription (photoinduction) d'une modification d'indice dans le milieu optique et N s i l'indice de réfraction de la silice utilisée dans le masque X.
3 Méthode selon la revendication 2, coupe le motif à relief de surface est une 4 Méthode selon la revendication 2, coupe le motif à relief de surface est une Méthode selon la revendication 1, faisceau lumineux est un faisceau lumineux 6 Méthode selon la revendication 5,
faisceau lumineux est un faisceau laser.
7 Méthode selon la revendication 1,
milieu optique est une fibre optique.
caractérisée en ce qu'en
onde rectangulaire.
caractérisée en ce qu'en
onde sinusoïdale.
caractérisée en ce que le ultraviolet. caractérisée en ce que le caractérisée en ce que le 8 Méthode selon la revendication 7, caractérisée en ce que les striations du masque de réseau de diffraction sont orientées à la
perpendiculaire ou presque à l'axe de la fibre.
9 Méthode selon la revendication 7, caractérisée en ce que les striations du masque de réseau de diffraction font un angle avec
l'axe de la fibre.
Méthode selon la revendication 1 ou 8, caractérisée en ce que le faisceau lumineux est fourni par un laser excimer Kr F. 11 Méthode selon la revendication 10, caractérisée en ce que le masque a un motif à relief de surface choisi pour moduler par des radians 7 l+ 2 Un n= 0,1,2, 3, le réseau du faisceau lumineux, en ce que ( silice) A_ 7 + 2)Tn n= 0, 1,2,3 o A est l'amplitude du motif à relief de surface, X est la longueur d'onde de la lumière et N sili est l'indice de réfraction de la silice utilisée pour la fabrication du masque à X. 12 Méthode selon la revendication 11, caractérisée en ce qu'en
section le motif à relief de surface est une onde rectangulaire.
13 Méthode selon la revendication 12, caractérisée en ce qu'une grande dimension de la coupe du faisceau lumineux est
parallèle aux striations du masque de réseau de diffraction.
14 Méthode selon la revendication 7 ou 8, caractérisée en ce
que les striations sont "chirpées".
Méthode selon la revendication 8, caractérisée en ce que le masque de réseau contient des variations soit de pas d'ondulation,
soit de l'amplitude soit les deux.
16 Méthode selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'on place une lentille à réfraction entre le masque et le milieu optique
pour appliquer le faisceau lumineux.
17 Méthode selon la revendication 16, caractérisée en ce qu'on place un moyen bloqueur opaque du faisceau lumineux d'ordre zéro entre le masque et la lentille pour appliquer le faisceau lumineux 18 Méthode selon la revendication 16, caractérisée en ce qu'on place un moyen bloqueur opaque des faisceaux lumineux d'ordre zéro et second entre le masque et la lentille pour appliquer le faisceau
lumineux.
19 Méthode selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'elle comprend encore un filtre de lumière d'amplitude spatiale pour former le profil du faisceau passant à travers le réseau de diffraction. 20 Méthode selon la revendication 19, caractérisée en ce que le filtre est revêtu sur une face du masque en opposition à une face
comprenant le réseau de diffraction.
21 Méthode selon la revendication 2, caractérisée en ce que l'on déplace encore de manière répétée un des masques et le milieu par rapport à l'autre d'une distance correspondant au motif des franges et en ce qu'on applique ledit faisceau de lumière collimaté à travers le masque audit milieu de telle manière sur les réseaux de différents photoimprimées qui en résultent, se réfléchissent en phase
avec les réseaux de diffraction photoimprimée auparavant.
22 Masque de diffraction obtenu selon la méthode selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend une tranche de verre de silice ayant des ondulations parallèles à une surface
formant un motif à relief de surface.
23 Diffraction selon la revendication 22, caractérisée en ce qu'elle comprend encore un filtre à lumière d'amplitude spatiale enduit sur une surface de tranche sur le côté opposé à la surface
portant ledit relief.
24 Diffraction selon la revendication 23, caractérisée en ce que les ondulations sont remplies d'une matière transparente ayant un
indice de réfraction différent de celui du verre de silice.
Diffraction selon la revendication 24, caractérisée en ce
que la matière transparente comprend du verre.
FR9313093A 1992-10-29 1993-10-28 Methode de fabrication de reseaux de diffraction de bragg. Expired - Lifetime FR2697642B1 (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/969,774 US5367588A (en) 1992-10-29 1992-10-29 Method of fabricating Bragg gratings using a silica glass phase grating mask and mask used by same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2697642A1 true FR2697642A1 (fr) 1994-05-06
FR2697642B1 FR2697642B1 (fr) 1995-09-01

Family

ID=25515984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR9313093A Expired - Lifetime FR2697642B1 (fr) 1992-10-29 1993-10-28 Methode de fabrication de reseaux de diffraction de bragg.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5367588A (fr)
JP (1) JP2929569B2 (fr)
CA (1) CA2087511C (fr)
DE (1) DE4337103C2 (fr)
FR (1) FR2697642B1 (fr)
GB (1) GB2272075B (fr)

Families Citing this family (207)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5104209A (en) * 1991-02-19 1992-04-14 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Communications Method of creating an index grating in an optical fiber and a mode converter using the index grating
DE69333369T2 (de) * 1992-05-01 2004-10-07 Sumitomo Electric Industries Verfahren zur Identifikation einer optischen Leitung
US5478371A (en) * 1992-05-05 1995-12-26 At&T Corp. Method for producing photoinduced bragg gratings by irradiating a hydrogenated glass body in a heated state
SE470454B (sv) * 1992-08-26 1994-04-11 Ericsson Telefon Ab L M Optisk filteranordning
US5737125A (en) * 1992-10-27 1998-04-07 Olympus Optical Co., Ltd. Diffractive optical element and optical system including the same
US5363239A (en) * 1992-12-23 1994-11-08 At&T Bell Laboratories Method for forming spatially-varying distributed Bragg reflectors in optical media
EP0635736A1 (fr) * 1993-07-19 1995-01-25 AT&T Corp. Procédé pour former, dans des milieux optiques des perturbations d'indice de refraction avec biréfringence reduite
DE4325323C1 (de) * 1993-07-28 1994-08-25 Siemens Ag Berührungsloses optisches Datenübertragungssystem
AUPM386794A0 (en) * 1994-02-14 1994-03-10 University Of Sydney, The Optical grating
GB2289771B (en) * 1994-05-26 1997-07-30 Northern Telecom Ltd Forming Bragg gratings in photosensitive waveguides
US5411566A (en) * 1994-06-08 1995-05-02 At&T Corp. Optical fiber spatial mode converter using periodic core deformation
US5500916A (en) * 1994-09-09 1996-03-19 At&T Corp. Method for making Bragg reflectors for waveguides
GB2295689B (en) * 1994-12-03 1998-04-22 Northern Telecom Ltd Bragg reflection gratings in optical fibres
FR2728356B1 (fr) * 1994-12-15 1997-01-31 Alcatel Fibres Optiques Dispositif d'impression d'un reseau de bragg dans une fibre optique
GB9501672D0 (en) * 1995-01-27 1995-03-15 Univ Southampton Dispersion compensation in optical fibre transmission
US5625723A (en) * 1995-02-28 1997-04-29 Lucent Technologies Inc. Method for reducing birefringence in optical gratings
US6314220B1 (en) 1995-03-13 2001-11-06 Templex Technology, Inc. Segmented complex fiber gratings
JPH08338918A (ja) * 1995-04-12 1996-12-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置
US5604829A (en) * 1995-04-17 1997-02-18 Hughes Aircraft Company Optical waveguide with diffraction grating and method of forming the same
GB9509874D0 (en) * 1995-05-16 1995-07-12 Univ Southampton Optical waveguide grating
GB9509932D0 (en) * 1995-05-17 1995-07-12 Northern Telecom Ltd Bragg gratings in waveguides
GB2302599B (en) * 1995-06-20 1998-08-26 Northern Telecom Ltd Forming Bragg gratings in photosensitive optical waveguides
US5903690A (en) * 1996-07-05 1999-05-11 D-Star Technologies, Inc. Method for changing the refraction index in germanium silicate glass
US5652819A (en) * 1995-08-09 1997-07-29 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method for tuning fiber optic couplers and multiplexers
US6236782B1 (en) 1995-08-29 2001-05-22 Arroyo Optics, Inc. Grating assisted coupler devices
WO1997008574A1 (fr) * 1995-08-29 1997-03-06 Arroyo Optics, Inc. Dispositifs de couplage optiques rendus selectifs pour la longueur d'onde, grace a un reseau
US5875272A (en) * 1995-10-27 1999-02-23 Arroyo Optics, Inc. Wavelength selective optical devices
US5706079A (en) * 1995-09-29 1998-01-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Ultra-high sensitivity transducer with chirped bragg grating relector
JP3497298B2 (ja) * 1995-10-23 2004-02-16 株式会社フジクラ 光ファイバフィルタ
US5748814A (en) * 1995-11-16 1998-05-05 Institut National D'optique Method for spatially controlling the period and amplitude of Bragg filters
US5903689A (en) * 1995-11-16 1999-05-11 Institut National D'optique Method for spatially controlling the period and amplitude of BRAGG filters
FR2742881B1 (fr) 1995-12-26 1998-02-06 Alsthom Cge Alcatel Procede et systeme d'inscription point par point d'un reseau de bragg dans une fibre optique
EP0875013B1 (fr) * 1996-01-16 2005-08-10 BRITISH TELECOMMUNICATIONS public limited company Procede et dispositif d'enregistrement d'un diagramme d'indices de refraction sur un support optique
US5668901A (en) * 1996-02-14 1997-09-16 Corning Incorporated Low reflectivity fiber bragg grating with rectangular reflection function
SE517466C2 (sv) * 1996-02-19 2002-06-11 Hitachi Cable Optisk anordning utformad med ett gitter, inkopplings/ avtappningsfilter som använder denna samt sätt att tillverka densamma
US5848207A (en) * 1996-08-29 1998-12-08 Hitachi Cable, Ltd. Optical device formed with grating therein, add/drop filter using same, and method of fabricating same
US5862273A (en) * 1996-02-23 1999-01-19 Kaiser Optical Systems, Inc. Fiber optic probe with integral optical filtering
US5764829A (en) * 1996-02-26 1998-06-09 Lucent Technologies Inc. Optical signal shaping device for complex spectral shaping applications
DE69722694T2 (de) * 1996-03-18 2003-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Belichtungsapparat
TW358167B (en) * 1996-03-25 1999-05-11 Corning Inc Method of forming a grating in an optical waveguide
US5863449A (en) * 1996-03-29 1999-01-26 The Whitaker Corporation Method for forming optical interferometer
CA2202308C (fr) * 1996-04-19 2001-05-08 Michihiro Nakai Reseau de diffraction d'un guide d'onde optique et methode de production
US5682398A (en) * 1996-05-03 1997-10-28 Eastman Kodak Company Frequency conversion laser devices
US5761226A (en) * 1996-05-29 1998-06-02 Eastman Kodak Company Frequency conversion laser devices
WO1998007064A1 (fr) 1996-08-12 1998-02-19 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Element grille de diffraction, selection des longueurs d'ondes lumimeuses au moyen de cet element, et systeme de transmission de signaux optiques
GB2316760A (en) 1996-08-23 1998-03-04 Univ Southampton Fabricating optical waveguide gratings
US5754718A (en) * 1996-08-26 1998-05-19 Jds Fitel Inc. Hybrid optical filtering circuit
US6169830B1 (en) 1996-08-26 2001-01-02 Arroyo Optics, Inc. Methods of fabricating grating assisted coupler devices
US5717799A (en) * 1996-10-10 1998-02-10 Northern Telecom Limited Optical waveguide filters
US5718738A (en) * 1996-11-04 1998-02-17 Lucent Technologies Inc. Method for making continuously chirped fiber bragg gratings
DE19647789A1 (de) * 1996-11-19 1998-05-20 Alsthom Cge Alcatel Planarer optischer Wellenleiter, Planarer optischer Wellenleiter mit Bragg-Gitter und Herstellungsverfahren hierfür
US5945261A (en) * 1996-11-19 1999-08-31 Northern Telecom Limited Creation of Bragg reflective gratings in waveguides
AU729612B2 (en) * 1996-11-19 2001-02-08 Alcatel Optical waveguide with Bragg grating
DE19648403C1 (de) * 1996-11-22 1998-04-02 Thomas Dr Ing Nagel Sensor zur Erfassung von Druck- und/oder Zugkräften
KR100206176B1 (ko) 1996-12-03 1999-07-01 윤종용 광감쇠기및그제조방법
US5745617A (en) * 1996-12-30 1998-04-28 D-Star Technologies, Llc Near-ultra-violet formation of refractive-index grating using reflective phase mask
AU5811198A (en) * 1996-12-30 1998-07-31 D-Star Technologies, Llc Near-ultraviolet formation of refractive-index grating using phase mask
CA2197706A1 (fr) * 1997-02-14 1998-08-14 Peter Ehbets Methode de fabrication de masque de phase apodise
US6115526A (en) * 1997-03-27 2000-09-05 Brown University Research Foundation Ultra high numerical aperture high power optical fiber laser
DE19715807C1 (de) 1997-04-16 1999-01-28 Vitaly Dr Lissotschenko Vorrichtung zur Erzeugung von Gitterstrukturen in Lichtleitfasern
FR2764394B1 (fr) * 1997-06-10 1999-08-06 France Telecom Banc de photoinscription pour la realisation de reseaux de bragg
KR19990004127A (ko) * 1997-06-27 1999-01-15 윤종용 광섬유 브래그 격자 제작장치
US5953471A (en) * 1997-07-01 1999-09-14 Lucent Technologies, Inc. Optical communication system having short period reflective Bragg gratings
JP3526215B2 (ja) * 1997-07-03 2004-05-10 大日本印刷株式会社 光ファイバー加工用位相マスク及びその製造方法
US6174648B1 (en) * 1997-07-08 2001-01-16 Oki Electric Industry Co., Ltd. Optical filter fabrication method using fiber holder with spiral groove and phase mask with spiral diffraction grating
JPH1195033A (ja) * 1997-07-23 1999-04-09 Sumitomo Electric Ind Ltd 回折格子型帯域透過フィルタ及びその製造方法
JPH1184623A (ja) * 1997-09-03 1999-03-26 Dainippon Printing Co Ltd 光ファイバー加工用位相マスクの製造方法及びその光ファイバー加工用位相マスクを使用して作製されたブラッグ回折格子付き光ファイバー
JP3337403B2 (ja) 1997-09-19 2002-10-21 日本電信電話株式会社 周波数安定化レーザ
US20020028390A1 (en) 1997-09-22 2002-03-07 Mohammad A. Mazed Techniques for fabricating and packaging multi-wavelength semiconductor laser array devices (chips) and their applications in system architectures
GB9722550D0 (en) * 1997-10-24 1997-12-24 Univ Southampton Fabrication of optical waveguide gratings
US6183918B1 (en) 1997-11-12 2001-02-06 Oki Electric Industry Co., Ltd. Alignment method and system for use in manufacturing an optical filter
JP3401420B2 (ja) * 1997-11-12 2003-04-28 沖電気工業株式会社 光フィルタの位置合わせ装置および光フィルタの位置合わせ方法
JP3401419B2 (ja) * 1997-11-12 2003-04-28 沖電気工業株式会社 光フィルタの位置合わせ装置および光フィルタの位置合わせ方法
US5995697A (en) * 1997-11-19 1999-11-30 Northern Telecom Limited Partially coated grating optical fibre, method of producing same and fibre telecommunications system
US5955221A (en) * 1997-11-21 1999-09-21 The Regents Of The University Of California Method and apparatus for fabrication of high gradient insulators with parallel surface conductors spaced less than one millimeter apart
CA2657509C (fr) * 1998-01-22 2012-01-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Masque de phase destine a la fabrication d'un reseau de diffraction et procede de fabrication
US6058231A (en) * 1998-02-13 2000-05-02 3M Innovative Properties Company Boron-doped optical fiber
US6023545A (en) * 1998-02-20 2000-02-08 Alliedsignal Inc. Fabrication of difraction gratings for optical signal devices and optical signal devices containing the same
US6130973A (en) * 1998-03-26 2000-10-10 Institut National D'optique Method and apparatus for spectrally designing all-fiber filters
JP3869121B2 (ja) * 1998-06-26 2007-01-17 古河電気工業株式会社 ファイバグレーティングの形成方法
WO2000002068A1 (fr) * 1998-07-01 2000-01-13 Corning Incorporated Apodisation de filtres optiques formes dans des milieux photosensibles
US6694075B1 (en) 1998-07-01 2004-02-17 Corning Incorporated Apodization of optical filters with multiple exposures of photosensitive media
US6522797B1 (en) 1998-09-01 2003-02-18 Input/Output, Inc. Seismic optical acoustic recursive sensor system
BR9914872A (pt) * 1998-10-30 2001-07-03 Corning Inc Sintonização de comprimento de onda de grade foto-induzida
US7065298B1 (en) 1998-11-17 2006-06-20 Intel Corporation Code-based optical networks, methods, and apparatus
US6298184B1 (en) * 1998-12-04 2001-10-02 Cidra Corporation Method and apparatus for forming a tube-encased bragg grating
CA2259350A1 (fr) 1999-01-20 2000-07-20 Hamid Hatami-Hanza Procede pour mesurer le volume des dispositifs a fibres optiques a gamme d'accord etendue
JP2000249819A (ja) * 1999-02-26 2000-09-14 Mitsubishi Electric Corp グレーティング製造方法及びグレーティング製造装置
US6146713A (en) 1999-03-25 2000-11-14 Acme Grating Ventures, Llc Optical transmission systems and apparatuses including Bragg gratings and methods of making
RU2156485C1 (ru) * 1999-05-19 2000-09-20 Научный центр волоконной оптики при Институте общей физики РАН Фоточувствительный волоконный световод и фотоиндуцированная структура
CA2272008A1 (fr) 1999-05-11 2000-11-11 Francois Trepanier Dispositif et methode d'enregistrement de franges d'interference dans un support photosensible
US6542690B1 (en) * 2000-05-08 2003-04-01 Corning Incorporated Chalcogenide doping of oxide glasses
KR100334799B1 (ko) * 1999-07-07 2002-05-02 윤종용 광섬유격자 제작 장치 및 방법
DE60002330D1 (de) * 1999-07-09 2003-05-28 Wavefront Sciences Inc Shack-hartmann wellenfrontsensor mit einem höheren als durch die linsenanordnung vorgegebenen räumlichem auflösungsvermögen
AU767482B2 (en) * 1999-07-15 2003-11-13 University Of Sydney, The Method of writing grating structures
AUPQ165599A0 (en) * 1999-07-15 1999-08-05 University Of Sydney, The Optical processing method and apparatus and products thereof
US6317528B1 (en) 1999-08-23 2001-11-13 Corning Incorporated Temperature compensated integrated planar bragg grating, and method of formation
US6344298B1 (en) 1999-08-26 2002-02-05 Sabeus Photonics, Inc. Circumferentially varying mask and fabrication of fiber gratings using a mask
US6313771B1 (en) 1999-11-17 2001-11-06 Templex Technology, Inc. Codes, methods, and apparatus for optical encoding and decoding
JP3856609B2 (ja) 1999-12-09 2006-12-13 沖電気工業株式会社 光導波路素子の製造方法
AU1872901A (en) * 1999-12-15 2001-06-25 University Of Southampton Interferometer apparatus and method
KR100318903B1 (ko) * 2000-01-14 2001-12-29 윤종용 장주기 광섬유 격자
DE10004384C2 (de) 2000-02-02 2003-04-03 Daimler Chrysler Ag Anordnung und Verfahren zur Erfassung von Dehnungen und Temperaturen und deren Veränderungen einer auf einem Träger, insbesondere einem aus Metall, Kunststoff oder Keramik bestehenden Träger, applizierten Deckschicht
AUPQ542400A0 (en) * 2000-02-03 2000-02-24 University Of Sydney, The Method of inducing changes in a photosensitive material
US6493486B1 (en) 2000-02-17 2002-12-10 Finisar Corporation Thermal compensated compact bragg grating filter
DE10031412C2 (de) * 2000-04-18 2002-11-28 Advanced Optics Solutions Gmbh Optische Sensoranordnung zur Dehnungs- und Stauchungsmessung
TW569041B (en) * 2000-05-18 2004-01-01 Sumitomo Electric Industries Reflection-grid optical waveguide-path type and its production method
US6819833B1 (en) * 2000-06-29 2004-11-16 Avanex Corporation In-fiber continuously chirped gain flattening filters and method
US6731839B2 (en) 2000-07-31 2004-05-04 Corning Incorporated Bulk internal Bragg gratings and optical devices
US6828262B2 (en) 2000-07-31 2004-12-07 Corning Incorporated UV photosensitive melted glasses
US6510264B2 (en) 2000-07-31 2003-01-21 Corning Incorporated Bulk internal bragg gratings and optical devices
US6632759B2 (en) 2000-07-31 2003-10-14 Corning Incorporated UV photosensitive melted germano-silicate glasses
JP2002090556A (ja) * 2000-09-20 2002-03-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 光導波路型回折格子素子、光導波路型回折格子素子製造方法、合分波モジュールおよび光伝送システム
WO2002079829A1 (fr) * 2001-03-30 2002-10-10 Optical Power Systems Fibre a ame annulaire
JP2003057469A (ja) * 2001-04-11 2003-02-26 Makoto Fujimaki 光導波路グレーティング、その形成方法、およびその形成用マスク
FI20010778A (fi) * 2001-04-12 2002-10-13 Nokia Corp Optinen kytkentäjärjestely
KR100417157B1 (ko) * 2001-05-10 2004-02-05 한국과학기술연구원 광 부호 분할 다중화 방식에 사용하기 위한 광섬유 격자부호화기와 그 제조방법 및 장치
US6911659B1 (en) 2001-05-29 2005-06-28 Avanex Corporation Method and apparatus for fabricating and trimming optical fiber bragg grating devices
JP3754634B2 (ja) * 2001-06-27 2006-03-15 独立行政法人科学技術振興機構 光ファイバーグレーティングの作製方法及び作製装置、光ファイバーグレーティング
NO314677B1 (no) * 2001-06-29 2003-04-28 Optoplan As FBG produksjonssystem
CA2354321A1 (fr) * 2001-07-26 2003-01-26 Viamode Photonics Inc. Appareil permettant d'ecrire des informations dans ou sur un support photosensible
US6701044B2 (en) 2001-08-10 2004-03-02 Lightwave Electronics Solid state laser generating UV radiation for writing fiber bragg gratings
US6637571B2 (en) * 2001-08-31 2003-10-28 Reell Precision Manufacturing Corporation Input engaging clutch
EP1293810A1 (fr) * 2001-09-12 2003-03-19 Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) Procédé de fabrication d'un guide d'onde optique dans un verre de tellurite
US6904200B2 (en) 2001-09-14 2005-06-07 Fibera, Inc. Multidimensional optical gratings
US6842544B2 (en) * 2001-09-14 2005-01-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for apodizing a planar waveguide grating
US6807339B1 (en) 2001-09-14 2004-10-19 Fibera, Inc. Wavelength division multiplexing and de-multiplexing system
US6718092B2 (en) 2001-09-14 2004-04-06 Fibera, Inc. Frequency detection, tuning and stabilization system
US6748138B2 (en) * 2001-09-14 2004-06-08 Fibera, Inc. Optical grating fabrication
CA2358659A1 (fr) 2001-10-09 2003-04-09 Yves Painchaud Technique d'ecriture de reseaux de bragg par controle des franges
US6987909B1 (en) 2001-11-30 2006-01-17 Corvis Corporation Optical systems and athermalized optical component apparatuses and methods for use therein
US6643066B2 (en) 2001-12-13 2003-11-04 Institut National D'optique Tunable phase mask assembly
US20030121289A1 (en) * 2002-01-02 2003-07-03 Benda John A. Long period fiber Bragg gratings written with alternate side IR laser illumination
US6654521B2 (en) * 2002-01-23 2003-11-25 Teraxion Inc. Diffraction compensation of FBG phase masks for multi-channel sampling applications
US6621960B2 (en) 2002-01-24 2003-09-16 Oplink Communications, Inc. Method of fabricating multiple superimposed fiber Bragg gratings
US20030161568A1 (en) * 2002-02-28 2003-08-28 El-Refaei Hatem H. Apparatus and method for Polarization Mode Dispersion Compensation (PMDC) and Chromatic Dispersion Compensation (CDC)
US6751387B2 (en) * 2002-03-05 2004-06-15 Institut National D'optique Microporous glass waveguides doped with selected materials
DE10210007A1 (de) * 2002-03-07 2003-10-02 Dornier Medtech Gmbh Laserapplikator
US20120019884A1 (en) * 2003-03-17 2012-01-26 Pd-Ld, Inc. Bragg Grating Elements For Optical Devices
US6724956B2 (en) 2002-04-03 2004-04-20 Fitel Usa Corporation Method and apparatus for providing dispersion compensation
US6873762B1 (en) * 2002-04-08 2005-03-29 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Fabrication of fiber optic grating apparatus and method
CA2385118A1 (fr) * 2002-05-07 2003-11-07 Teraxion Inc Methode de fabrication de masques de phase comprenant un profil d'apodisation base sur le dephasage
US6904202B1 (en) * 2002-07-31 2005-06-07 Intel Corporation Writing waveguides with an arbitrary Bragg wavelength
US7508608B2 (en) 2004-11-17 2009-03-24 Illumina, Inc. Lithographically fabricated holographic optical identification element
US7872804B2 (en) 2002-08-20 2011-01-18 Illumina, Inc. Encoded particle having a grating with variations in the refractive index
US7923260B2 (en) 2002-08-20 2011-04-12 Illumina, Inc. Method of reading encoded particles
AU2003265583C1 (en) 2002-08-20 2009-05-21 Cyvera Corporation Diffraction grating-based optical identification element
US7900836B2 (en) 2002-08-20 2011-03-08 Illumina, Inc. Optical reader system for substrates having an optically readable code
US7164533B2 (en) 2003-01-22 2007-01-16 Cyvera Corporation Hybrid random bead/chip based microarray
US7901630B2 (en) 2002-08-20 2011-03-08 Illumina, Inc. Diffraction grating-based encoded microparticle assay stick
US7441703B2 (en) 2002-08-20 2008-10-28 Illumina, Inc. Optical reader for diffraction grating-based encoded optical identification elements
US6707976B1 (en) 2002-09-04 2004-03-16 Fitel Usa Corporation Inverse dispersion compensating fiber
US7310463B2 (en) * 2002-09-09 2007-12-18 Kyocera Corporation Optical structural body, its manufacturing method and optical element
AU2003267192A1 (en) 2002-09-12 2004-04-30 Cyvera Corporation Method and apparatus for aligning elongated microbeads in order to interrogate the same
US20100255603A9 (en) 2002-09-12 2010-10-07 Putnam Martin A Method and apparatus for aligning microbeads in order to interrogate the same
EP1540592A1 (fr) 2002-09-12 2005-06-15 Cyvera Corporation Procede et appareil d'etiquetage utilisant des elements d'identification optique codes a reseau de diffraction
US7092160B2 (en) * 2002-09-12 2006-08-15 Illumina, Inc. Method of manufacturing of diffraction grating-based optical identification element
CA2499046A1 (fr) 2002-09-12 2004-03-25 Cyvera Corporation Microparticules codees sur la base d'un reseau de diffraction pour experimentations multiplexees
US8081792B2 (en) 2003-08-20 2011-12-20 Illumina, Inc. Fourier scattering methods for encoding microbeads and methods and apparatus for reading the same
JP2004240324A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Oki Electric Ind Co Ltd 光ファイバグレーティングの製造方法
CA2436499C (fr) * 2003-03-21 2012-04-17 Her Majesty In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Industry Reseau de bragg et methode de production d'un reseau de bragg au moyen d'un laser ultra rapide
US7515792B2 (en) * 2003-03-21 2009-04-07 Her Majesty The Queen In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada Method of increasing photosensitivity of glasses to ultrafast infrared laser radiation using hydrogen or deuterium
US7689087B2 (en) * 2003-03-21 2010-03-30 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada Method of changing the birefringence of an optical waveguide by laser modification of the cladding
US7031571B2 (en) 2003-03-21 2006-04-18 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry Through The Communications Research Centre Canada Bragg grating and method of producing a Bragg grating using an ultrafast laser
CA2426935A1 (fr) * 2003-04-25 2004-10-25 Teraxion Inc Methode d'amelioration des performances optiques de reseaux de bragg
US20050123838A1 (en) * 2003-12-08 2005-06-09 Chung-Hsing Chang Clear field annular type phase shifting mask
US7277604B2 (en) * 2003-12-12 2007-10-02 Lxsix Photonics Inc. Method and apparatus for inducing an index of refraction change on a substrate sensitive to electromagnetic radiation
AT413891B (de) * 2003-12-29 2006-07-15 Austria Tech & System Tech Leiterplattenelement mit wenigstens einem licht-wellenleiter sowie verfahren zur herstellung eines solchen leiterplattenelements
US20050150256A1 (en) * 2004-01-14 2005-07-14 Kai-Ping Chuang Fabrication of complex fiber grating structures by use of sequential writing with polarization control
US6963432B2 (en) * 2004-01-14 2005-11-08 National Chiao Tung University Fabrication of true apodized fiber Bragg grating using a new two-beam interferometer with polarization control
ITTO20040018A1 (it) * 2004-01-16 2004-04-16 Fiat Ricerche Dispositivo emettitore di luce
US7433123B2 (en) 2004-02-19 2008-10-07 Illumina, Inc. Optical identification element having non-waveguide photosensitive substrate with diffraction grating therein
WO2006020363A2 (fr) 2004-07-21 2006-02-23 Illumina, Inc. Procede et dispositif de suivi de produits medicamenteux au moyen d'elements d'identification optique codes
US7602952B2 (en) 2004-11-16 2009-10-13 Illumina, Inc. Scanner having spatial light modulator
US7604173B2 (en) 2004-11-16 2009-10-20 Illumina, Inc. Holographically encoded elements for microarray and other tagging labeling applications, and method and apparatus for making and reading the same
US20080090158A1 (en) * 2005-03-08 2008-04-17 Teraxion Inc. Method for designing an index profile suitable for encoding into a phase mask for manufacturing a complex optical grating
US7352931B1 (en) 2005-03-08 2008-04-01 Teraxion Inc. Method and phase mask for manufacturing a multi-channel optical grating
US7257301B2 (en) * 2005-03-31 2007-08-14 Baker Hughes Incorporated Optical fiber
KR100639038B1 (ko) * 2005-05-18 2006-10-30 전남대학교산학협력단 브래그 격자 형성 장치 및 이에 이용되는 반사 유닛
CN100422838C (zh) * 2005-09-08 2008-10-01 中国计量学院 用于光纤拉曼放大器增益平坦的啁啾布拉格光纤光栅滤波器
US7623624B2 (en) 2005-11-22 2009-11-24 Illumina, Inc. Method and apparatus for labeling using optical identification elements characterized by X-ray diffraction
US7483615B2 (en) * 2006-02-27 2009-01-27 Her Majesty The Queen In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada Method of changing the refractive index in a region of a core of a photonic crystal fiber using a laser
US7830575B2 (en) 2006-04-10 2010-11-09 Illumina, Inc. Optical scanner with improved scan time
CA2548029A1 (fr) * 2006-05-23 2007-11-23 Itf Laboratories Inc. Methode et systeme pour l'inscription de reseau de bragg de fibres ayant un spectre apodise sur des fibres optiques
US8077747B2 (en) * 2006-09-27 2011-12-13 The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Phosphate glass based optical device and method
JP2010505135A (ja) * 2006-09-28 2010-02-18 ユニヴェルシテ・ラヴァル 低フォノンエネルギーガラス媒体に永久的に回折格子を書き込むシステムおよび方法
US8035083B1 (en) * 2007-04-07 2011-10-11 Microtech Instruments, Inc. Terahertz tunable sources, spectrometers, and imaging systems
US20090016686A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-15 Nufern Optical fiber gratings for handling increased power levels and methods of making
TW200918977A (en) * 2007-10-26 2009-05-01 Univ Nat Chiao Tung Method to modulate refractivity of the optic fiber grating
EP2136227B1 (fr) 2008-06-18 2015-08-19 National Research Council of Canada Capteur à fibre comprenant un réseau stable aux hautes températures et son procédé de fabrication
US8272236B2 (en) 2008-06-18 2012-09-25 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada High temperature stable fiber grating sensor and method for producing same
US8828624B2 (en) * 2009-08-03 2014-09-09 Ipg Photonics Corporation Method and device for fabricating volume Bragg gratings
EP2555027B1 (fr) * 2010-03-30 2017-01-18 Fujikura Ltd. Procédé de fabrication de réseau de fibres optiques, réseau de fibres optiques et laser à fibres
CA2740372C (fr) 2010-06-01 2019-07-02 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry Through The Communications Research Centre Canada Procede et systeme pour la mesure d'un parametre dans un milieu a temperature elevee au moyen d'un capteur optique
DE102012104900B4 (de) * 2011-06-06 2020-08-13 Seereal Technologies S.A. Verfahren und Vorrichtung zur schichtweisen Erzeugung dünner Volumengitterstapel, Strahlvereiniger für ein holografisches Display sowie Solarmodul und Hologrammbauteil
DE112012004726A5 (de) 2011-11-10 2014-07-31 Institut Für Photonische Technologien E.V. Optische Faser zum gefilterten Sammeln von Licht, insbesondere von Raman-Streustrahlung und Verfahren zu ihrer Herstellung
US10156680B2 (en) 2014-07-11 2018-12-18 National Research Council Of Canada Forming an optical grating with an apparatus providing an adjustable interference pattern
US10141709B2 (en) 2015-02-19 2018-11-27 B. G. Negev Technologies And Applications Ltd., At Ben-Gurion University Transient Bragg gratings in optical waveguides and their applications
DE102015216342B3 (de) * 2015-08-26 2016-12-22 Laser-Laboratorium Göttingen e.V. Technik zur Herstellung periodischer Strukturen
US9791696B2 (en) 2015-11-10 2017-10-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide gratings to improve intensity distributions
US10359627B2 (en) 2015-11-10 2019-07-23 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide coatings or substrates to improve intensity distributions having adjacent planar optical component separate from an input, output, or intermediate coupler
US9915825B2 (en) 2015-11-10 2018-03-13 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguides with embedded components to improve intensity distributions
EP3417247B1 (fr) 2016-02-16 2020-12-30 National Research Council of Canada Capteur à réseau de bragg sur fibre stable à haute température et à faible perte d'insertion, et procédé de fabrication de ce capteur
US10725290B2 (en) * 2016-04-29 2020-07-28 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Device components formed of geometric structures
EP3290971B1 (fr) 2016-09-02 2024-04-10 National Research Council of Canada Système automatisé pour l'inscription et la fabrication d'un réseau de bragg sur fibre trans-gaine
CA3054245A1 (fr) * 2017-02-21 2018-08-30 Fisens Gmbh Appareil pour applications optiques, systeme de spectrometre et procede de production d'un appareil pour applications optiques
US20220196508A1 (en) 2019-02-22 2022-06-23 National Research Council Of Canada Apparatus, method and system for detecting presence of a fluid

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0195724A2 (fr) * 1985-03-20 1986-09-24 Fujitsu Limited Masque de modulation spatiale de phase, procédé de fabrication et procédé pour la formation de réseaux de diffraction diphasés
EP0221560A2 (fr) * 1985-11-06 1987-05-13 AT&T Corp. Elément de couplage pour fibre optique monomode et système de transmission comprenant un tel élément
EP0503472A2 (fr) * 1991-03-05 1992-09-16 Hitachi, Ltd. Appareil et méthode d'exposition
EP0505102A1 (fr) * 1991-03-22 1992-09-23 AT&T Corp. Fabrication de dispositifs submicroniques
EP0606726A2 (fr) * 1993-01-14 1994-07-20 AT&T Corp. Méthode de fabrication d'un réseau de Bragg dans un milieu optique

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4930054A (fr) * 1972-07-19 1974-03-18
US4241109A (en) * 1979-04-30 1980-12-23 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Technique for altering the profile of grating relief patterns
GB8420182D0 (en) * 1984-08-08 1984-09-12 Pa Consulting Services Diffraction gratings
DE191063T1 (de) * 1984-08-13 1987-01-15 United Technologies Corp., Hartford, Conn., Us Verfahren zum einlagern optischer gitter in faseroptik.
JPH079483B2 (ja) * 1985-10-22 1995-02-01 株式会社クラレ 形態屈折率双変調型位相格子
DE3689606T2 (de) * 1985-10-22 1994-05-19 Kuraray Co Herstellungsverfahren für Phasengitter vom zusammengesetzten Muster-Refraktionstyp.
US4842969A (en) * 1986-12-06 1989-06-27 Kuraray Company, Ltd. Transmittance modulation photomask, process for producing the same, and process for producing diffraction gratings using the same
US5058977A (en) * 1987-01-20 1991-10-22 Hewlett-Packard Company Broadband tunable in-line filter for fiber optics
US4947413A (en) * 1988-07-26 1990-08-07 At&T Bell Laboratories Resolution doubling lithography technique
JPH0258284A (ja) * 1988-08-24 1990-02-27 Nec Corp 回折格子の製造方法
JPH02188729A (ja) * 1989-01-17 1990-07-24 Sharp Corp 光学素子の回析格子製造方法
US5042897A (en) * 1989-12-26 1991-08-27 United Technologies Corporation Optical waveguide embedded light redirecting Bragg grating arrangement
US5042898A (en) * 1989-12-26 1991-08-27 United Technologies Corporation Incorporated Bragg filter temperature compensated optical waveguide device
US5066133A (en) * 1990-10-18 1991-11-19 United Technologies Corporation Extended length embedded Bragg grating manufacturing method and arrangement
US5104209A (en) * 1991-02-19 1992-04-14 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Communications Method of creating an index grating in an optical fiber and a mode converter using the index grating
FR2674642B1 (fr) * 1991-03-25 1993-12-03 Gaz De France Fibre optique a reseau de bragg interne variable et ses applications.
US5175647A (en) * 1991-06-26 1992-12-29 Eastman Kodak Company Optical device
US5271024A (en) * 1992-07-27 1993-12-14 General Instrument Corporation Optical fiber amplifier and laser with flattened gain slope

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0195724A2 (fr) * 1985-03-20 1986-09-24 Fujitsu Limited Masque de modulation spatiale de phase, procédé de fabrication et procédé pour la formation de réseaux de diffraction diphasés
EP0221560A2 (fr) * 1985-11-06 1987-05-13 AT&T Corp. Elément de couplage pour fibre optique monomode et système de transmission comprenant un tel élément
EP0503472A2 (fr) * 1991-03-05 1992-09-16 Hitachi, Ltd. Appareil et méthode d'exposition
EP0505102A1 (fr) * 1991-03-22 1992-09-23 AT&T Corp. Fabrication de dispositifs submicroniques
EP0606726A2 (fr) * 1993-01-14 1994-07-20 AT&T Corp. Méthode de fabrication d'un réseau de Bragg dans un milieu optique

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HILL ET AL., APPLIED PHYSICS LETTERS., vol. 62, no. 10, 8 March 1993 (1993-03-08), NEW YORK US, pages 1035 - 1037 *
KENNY K. H. TOH ET AL., PROC OF THE SPIE, vol. 1496, 1990, BELLINGHAM,US, pages 27 - 53 *
YEN ET AL., MICROELECTRONIC ENGINEERING, vol. 11, no. 1/4, April 1990 (1990-04-01), AMSTERDAM NL, pages 201 - 205 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE4337103C2 (de) 2001-12-13
GB2272075B (en) 1996-04-03
GB9321774D0 (en) 1993-12-15
CA2087511A1 (fr) 1994-04-30
JPH07140311A (ja) 1995-06-02
GB2272075A (en) 1994-05-04
FR2697642B1 (fr) 1995-09-01
US5367588A (en) 1994-11-22
CA2087511C (fr) 2000-06-06
JP2929569B2 (ja) 1999-08-03
DE4337103A1 (de) 1994-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2697642A1 (fr) Méthode de fabrication de réseaux de diffraction de Bragg.
EP0960347B1 (fr) Masque de phase presentant une efficacite de diffraction variable dans l'espace
USRE39865E1 (en) Method of fabricating Bragg gratings using a silica glass phase grating mask and mask used by same
EP1460459B1 (fr) Méthode de fabrication d'un réseau de Bragg utilisant un laser ultra-rapide
US7031571B2 (en) Bragg grating and method of producing a Bragg grating using an ultrafast laser
EP0694172B1 (fr) Procede de fabriquer un reseau de diffraction de bragg dans un guide d'ondes optique
KR100425568B1 (ko) 광회절격자
Grobnic et al. Fiber Bragg gratings with suppressed cladding modes made in SMF-28 with a femtosecond IR laser and a phase mask
US5604829A (en) Optical waveguide with diffraction grating and method of forming the same
EP1462831B1 (fr) Réseau de Bragg et méthode de fabrication d'un réseau de Bragg utilisant un laser ultra-rapide
JPH10239537A (ja) 導波管にブラッグ反射格子を作成する方法
JPH06235808A (ja) 光媒体にブラッグ回折格子を形成する方法
JPH1152299A (ja) 高出力レーザビーム用空間フィルタ
KR100334799B1 (ko) 광섬유격자 제작 장치 및 방법
US5953471A (en) Optical communication system having short period reflective Bragg gratings
KR19980703386A (ko) 로이드의 거울(Lloyd’s Mirror)을 이용한 감광성격자의 형성방법
JP2004240324A (ja) 光ファイバグレーティングの製造方法
EP1078288B1 (fr) Procede d'inscription de reseaux de bragg
CA2461368C (fr) Reseau de bragg et methode permettant de produire un reseau de bragg au moyen d'un laser ultra-rapide
JP2004170476A (ja) ファイバ・ブラッグ・グレーティングの形成方法
CA2281787C (fr) Masque de phase presentant une efficacite de diffraction variable dans l'espace
CA2281039C (fr) Dispositif optique innovateur pour l'imagerie holographique des elements diffractifs complexes contenus dans les substances
JP2001141943A (ja) グレーティングの形成方法
FR2768819A1 (fr) Reseaux de bragg de grande longueur
JPH1062636A (ja) ブラッグ回折格子の形成方法