JP2000249819A - グレーティング製造方法及びグレーティング製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の集積化されたグレーティングを安価に
かつ容易に作製することができるグレーティング製造方
法と製造装置を提供する。 【解決手段】 コア部を有し該コアに沿って光を伝送さ
せる光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてな
るグレーティングを形成する方法であって、１つの光源
から出射された光ビームを複数の光ビームに分割する光
分割ステップと、分割された複数の光ビームをそれぞ
れ、コア上の互いに異なる所定の位置にそれぞれ対応す
る干渉縞が形成されるように回折させる回折ステップと
を含み、各干渉縞の強度分布にそれぞれ対応した屈折率
領域を形成することにより、分割された各光ビームにそ
れぞれ対応するグレーティングを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信分野、特に
波長分割多重伝送及び周波数分割多重伝送において重要
な部品である光合分波器、ＡＤＭ(Ａｄｄ Ｄｒｏｐ
Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ ｆｉｌｔｅｒ）、光フィル
タ等の光デバイスのグレーティング製造方法及び製造装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】複数の情報を単一の光ファイバで効率良
く伝送するシステムとして、波長分割多重技術がある。
波長分割多重化技術は、光領域における新しい多重化方
式で、複数の信号をそれぞれ波長の異なる光信号に割り
当て(分割)、それらを多重して１本の光ファイバにより
双方向に伝送するものである。送信側では、波長の異な
る光源からの光信号を光合分波器により結合させ、受信
側では光合分波器により各波長の光信号に分波し、これ
を受光素子により電気信号に変換する。波長分割多重伝
送は、１．大容量情報の伝送、２.デジタルとアナログ
など異種信号の同時伝送が可能、３．単一ファイバでの
双方向伝送が可能、等の利点があり、将来の大容量通信
技術として期待されている。

【０００３】波長分割多重光伝送におけるキーデバイス
は、光フイルタであり、光フィルタとして誘電体多層膜
のような波長選択性を有する素子や回折格子のような波
長分散性を有する素子が検討されていた。しかし、誘電
体多層膜や回折格子は、波長遮断性が悪く、高密度に多
くの波長を多重する事は難しい。例えば、「光通信要
覧」(ｐ.５７３―ｐ.５８３)によれば、誘電体多層膜を
使用した光フィルタの特性は、挿入損失:２〜５ｄＢ、
波長間隔:３０〜１００ｎｍ、クロストーク減衰量:２０
〜４０ｄＢである。従って、実用的な半導体レーザの波
長範囲である１５２０ｎｍから１５８０ｎｍにおいて
は、２〜３波程度の波長多重しかできない。また、回折
格子を使用した光フィルタの特性も、挿入損失:２〜４
ｄＢ、波長間隔:２０〜３０ｎｍ、クロストーク減衰量:
２０〜２５ｄＢであり、１５５０ｎｍ帯では２〜４波程
度の波長多重しかできない。そのため、１５５０ｎｍ帯
で８〜１６波の波長を多重する高密度波長分割多重にお
いて、狭帯域で波長間隔が狭く、クロストーク減衰量が
大きい光フィルタの開発を必要としている。

【０００４】近年、光ファイバにエキシマレーザ光を照
射するとコアの屈折率が大きくなる光誘起屈折率変化現
象が発見され、これを利用して光ファイバにブラッググ
レーティングを形成し、狭帯域反射フィルタ、分散補償
フィルタ、光フィルタ、応力・温度センサ、等多くの応
用が検討された。また、電子情報通信学会技術研究報告
ＯＰＥ９４-５、ｐ.２５や雑誌:ＯＰＴＯＮＩＣＳのＶ
ｏｌ １、ｐ.１３５(１９９５年)に、ファイバレーザ、
ファイバセンサなどが詳述されている。また、光フイル
タヘの応用として、図１４に、３ｄＢのファイバカプラ
のポート３とポート４に等価なブラッググレーティング
を持ったマイケルソン干渉計をした従来例の狭帯域透過
フィルタを示す。(ＯＰＴＯＮＩＣＳ、Ｖｏｌ １、ｐ.
１３５、１９９５年)

【０００５】また、石英導波路を使用した光フィルタも
報告されている。図１５にマッハツエンダー干渉計の２
個の３ｄＢカプラ間に等価なグレーティングを形成し波
長選択性を持った従来例の石英導波路型光フィルタを示
す。(ＯＰＴＯＮＩＣＳ、Ｖｏｌ １、ｐ.１３５、１９
９５年やｏｐｔｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒ、Ｖｏｌ.１８、Ｎ
０.１ ２,ｐ.９５３、１９９３年やＩＥＥＥ Ｐｈｏｔ
ｏｎｉｃｓ ＴｅｃｈｎｏＬ Ｌｅｔｔ.、ＶＯｌ ５、Ｎ
ｏ.２、ｐ.１９１、１９９３年)

【０００６】石英導波路型光フィルタは、石英基板もし
くはシリコン基板上に、光が閉じこめられる屈折率の高
いコア層とコア層を取り囲む屈折率が低いクラッド層で
構成される。石英導波路は、半導体技術を利用して作製
するため、量産品や波長多重数の多い複雑な光フィルタ
の製造に適している。しかし、エキシマレーザのコヒー
レンシーの悪さから大面積で均一なビーム強度分布を得
ることは難しく、集積化したグレーティング作製は困難
であった。

【０００７】従来例１．導波路を作製する一般的な方法
は、火炎堆積法で、図１８にその模式図を示す。図１８
において、３０２はキャリアガス導入口、３０６は流量
調節器、３０５は原料容器、３０８は水素ガス導入口、
３０７は水素バーナー、３０３はターンテーブル、３０
１は基板である。この方法は、アルゴンガスをキャリア
ガスとしてＳｉＣｌ₄、ＢＣｌ₃、ＰＣ₁３、ＧｅＣｌ₄、
などの出発原料を水素バーナー３０７ヘ輸送し、火炎中
にて加水分解して微粉末状のＢ、Ｐを含むＳｉＯ₂を作
製し、これを基板へ吹き忖けて堆積するものである。光
導波路膜の厚み方向の屈折率分布は、ガラスの組成制御
によって形成される。すなわち、火炎堆積の当初はＢ、
Ｐを含むＳｉＯ₂のみを吹き付け、下部ラッド層を形成
し、その後屈折率に応じてＧｅを約１０％前後ドープし
てコア層を形成する。ただし、ＳｉＯ₂の微粒子膜堆積
後、１０００から１２００℃の温度で透明化のための熱
処理を行う必要がある。透明化処理後、スパッタ法や蒸
着法により、コア膜上に金属クロム膜を形成し、写真製
版法により、所望の導波路パターンを金属クロム膜で作
製する。その後、ＲＩＥ(反応性イオンエッチング)法に
よりコア膜をエッチングして、金属クロム膜で覆われて
いないコア膜を取り除く。その後、再びＢ、Ｐを含みＧ
ｅを含まないＳｉＯ₂組成で、火炎堆積法により微粒子
を堆積し、高温熱処理して上部クラッド層を形成して導
波路を作製する。作製した膜の屈折率は、クラッドが
１．４５８５、コアが１．４６８５であり、コアとクラ
ッドの屈折率差は、０．７５％であった。導波路を作製
する際のコアサイズは、この屈折率に関係し０．７５％
の場合では、６μｍＸ６μｍの正方形がシングルモード
光の伝搬するコアサイズであった。このプロセスで作製
した石英系光導波路の基本特性は、論文ＮＴＴ、Ｒ＆Ｄ
（ｖｏｌ．４０、Ｎｏ。２、ｐ．１９９）によると伝搬
損失０．１ｄＢ／ｃｍ、比屈折率差０．７５％、許容曲
げ半径５ｍｍとなっている。この構成の石英系光導波路
は、光通信で使用される石英の光ファイバと同じ石英系
材料であり、コアの大きさも光ファイバと近いため、導
波路自体の損失や導波路と光ファイバとの接続損失など
を極めて小さくできる利点を持っている。

【０００８】こうして作製したＧｅを含む導波路コアに
強い紫外光（エキシマレーザ、ＫｒＦ：波長２４８ｎ
ｍ）を照射すると、レーザ光が当った部分の屈折率が上
昇する。上昇後の屈折率は、１．４６９２であった。こ
れは、光誘起屈折率変化として、カナダのＫ．Ｏ．Ｈｉ
ｌｌにより発見され、強い光エネルギーにより作製され
たカラーセンタで屈折率が変化する現象である。図１６
に、従来例における代表的なグレーティング作製の模式
図を示す。この方法のグレーティング作製は、石英ガラ
ス製の位相マスク１５９を導波路上に置き、位相マスク
１５９を介してエキシマレーザ光１６１を照射する。位
相マスク１５９は、図１６（ｂ）に示すように、表面に
レリーフ状の回折格子が一定間隔で形成され、レリーフ
の溝を導波路に対して直角方向になるように導波路上に
置く。エキシマレーザは、位相マスク１５９で回折し
て、導波路上に−１次、０次、１次の回折パターンを形
成し、この回折パターンが形成された導波路コア１６０
ｂの屈折率が高い方へ変化する。ここで、図１６（ｂ）
は図１６（ａ）においてＢの符号を付して示す部分を拡
大して示すものであり、図１６（ｃ）は図１６（ａ）に
おいてＣの符号を付して示す部分を拡大して示すもので
ある。エキシマレーザ光の照射条件は、２００ｍＪ／ｃ
ｍ²／ｐｕｌｓｅのエネルギー密度で、周波数６０Ｈ
ｚ、照射時間３０分で行った。エキシマレーザ光は、位
相マスクの位相格子で回折し、導波路コアに−１次、０
次、＋１次の回折を生じる。この回折が生じた部分の屈
折率が変化する。グレーティングのブラッグ反射波長
は、(１)式で表される。

【０００９】

【数１】

【００１０】ここで、λＢは、ブラッグ波長、ｎは伝搬
モードに対する実効屈折率、Ｐはグレーティングピッチ
を表す。また、グレーティングの反射率は、（２）式で
表される。

【００１１】

【数２】

【００１２】ここで、Ｌはグレーティング長、Δｎは屈
折率の変調幅を表す。図１７に、従来例１により作製し
た代表的なグレーティングの反射スペクトルを示す。横
軸は、波長（ｎｍ）、縦軸は光強度（ｄＢ）を示す。ク
レーティングの長１ｍｍの時、得られたグレーティング
の反射特性は、ブラッグ波長：１５３０．８ｎｍ、反射
率８％であった。

【００１３】光誘起屈折率変化のメカニズムは、例え
ば、電子情報通信学会技術研究報告ＯＰＥ９４−５、
ｐ．２５にあるように、以下に説明される。Ｇｅを添加
したガラスの酸素欠陥として生じるＧｅ−Ｓｉ結合の吸
収帯が、Ｇｅ添加ガラス中に存在する。この結合が紫外
光のエネルギーで切断され、結合していた電子が解放さ
れる。この解放された電子が、再びＧｅ原子に捕獲され
て、新しい吸収帯（カラーセンタ）を形成し、吸収スペ
クトルが変化する。この吸収スペクトルの変化により、
クラマースクローニッヒの関係を通して屈折率変化が生
じる。また、Ｇｅ原子に捕獲された電子間では、双極子
モーメントが形成される。この双極子モーメントが光電
場の軸に沿って配向しガラス内に直流電場が形成される
ため、電気光学効果によっても屈折率変化が生じる。Ｇ
ｅを添加したコア導波路での光誘起屈折率変化は、この
吸収スペクトルの変化や電気光学効果によるものであ
る。従って、屈折率変化量は、ガラス材料中のＧｅの量
と酸素欠損量に依存する。大きな屈折率変化を得るため
には、高濃度のＧｅを添加する事、酸素欠損量を増やす
事と考えられる。

【００１４】従来例２ 従来法１の火炎堆積法により、Ｇｅを添加したコアを持
つ導波路を作製する。導波路は、従来例１とまったく同
じ方法で作製し、伝搬損失等の特性も同じである。その
後、グレーティングを形成する前に、１４０気圧の高圧
水素（Ｈ₂）ガス中で１週間程度、室温で処理を行い、
処理後直ちに、エキシマレーザ（波長１９８ｎｍ）を位
相マスクを介して照射した。高圧水素処理の目的は、水
素分子を導波路コア膜中に拡散させる事により、エキシ
マレーザのエネルギーで水素分子を解離させコア膜中の
Ｇｅ、Ｓｉ原子と新たなＧｅ−Ｈ、Ｇｅ−ＯＨ、Ｓｉ−
ＯＨやＳｉ−Ｈ結合などを作り、屈折率を変化させる事
である。この高圧水素処理により、光誘起屈折率変化
は、無処理に比べて１０倍以上大きくなる。しかし、Ｏ
Ｈ基の生成は、光通信で使用する１．５μｍ帯での吸収
につながるため、導波路の伝搬損失は増加する。 ２０
ｍｍ長の導波路に５ｍｍのグレーティングを高圧処理を
行って、作製した場合、約１〜３ｄＢの伝搬損失が増加
した。

【００１５】従来例３ 従来法１の火炎堆積法により、Ｇｅを添加したコアを持
つ導波路を作製する。導波路は、従来例１とまったく同
じ方法で作製し、伝搬損失等の特性も同じである。その
後、グレーテイングを形成する前に、１４０気圧の高圧
重水素ガス(Ｄ２)中で１週間程度、室温で処理を行い、
処理後直ちに、ＹＡＧレーザの第４高調波(波長２６６
ｎｍ)を位相マスクを介して照射した。高圧重水素処理
の目的は、重水素分子を導波路コア腹中に拡散させる事
により、エキシマレーザのエネルギーで重水素分子を解
離させコア膜中のＧｅ、Ｓｉ原子と新たなＧｅ−Ｄ、Ｇ
ｅ−ＯＤ、Ｓｉ−ＯＤやＳｉ−Ｄ結合などを作り、屈折
率を変化させる事である。この高圧水素処理により、光
誘起屈折率変化は、無処理に比べて１０倍以上大きくな
った。ＯＤ基の生成は、ＯＨ基の場合と吸収波長帯が異
なるため、光通信で使用する１．５μｍ帯での導波路の
伝搬損失は小さい。

【００１６】従来例４ 従来法１の火炎堆積法により、Ｇｅを添加したコアを持
つ導波路を作製する。導波路は、従来例１とまったく同
じ方法で作製し、伝搬損失等の特性も同じである。その
後、グレーテイングを形成する前に、水素ガスを毎分３
リットル流しながら、４００℃の温度での熱処理を１８
時間行った。この水素ガス中での高温熱処理は、水素分
子の導波路コア膜中への拡散を熱により加速して、処理
時間の短縮を目指したものである。この処理によって、
光誘起屈折率変化は約８倍程大きくなった。しかし、熱
処理による屈折率変化の制御は難しく、同じ屈折率を持
つデバイスを再現性良く作製するのは難しい。また、屈
折率変化の原理は、従来法２と同じく、水素分子を導波
路コア膜中に拡散させ、エキシマレーザのエネルギーで
水素分子を解離させ、コア膜中のＧｅ、Ｓｉ原子と新た
なＧｅ−Ｈ、Ｇｅ−ＯＨ、Ｓｉ−ＯＨやＳｉ−Ｈ結合な
どを作り、屈折率を変化させる事である。従って、導波
路の損失も大きい。 ２０ｍｍ長の導波路に５ｍｍのグ
レーティングを高温水素処理を行って、作製した場合、
約２〜４ｄＢの伝搬損失増加が発生した。また、処理温
度が高い場合、石英膜中の元素が還元され、導波路の特
性も変化する問題点もある。

【００１７】従来例５ 光ファイバを使用して、屈折率変調型グレーティングを
作製する。例えば、特開平９−３１１２３８「光導波路
型回折格子の作成方法」に従来のファイバグレーティン
グ及び導波路グレーティングの製作方法が示されてい
る。図１９にその構成図を示す。図中、４０１は被加工
物であるファイバ、４０２は照射光束、４０３は露光マ
スクであり、４０４は光学系であり、マスク４０３上の
光分布をファイバ４０１に転写あるいは伝送する。照射
光束４０２を露光マスク４０３を透過させて格子状の強
度分布に変調し、光学系４０４として例えば縮小転写レ
ンズなどで被加工ファイバ４０１に転写照射を行う。フ
ァイバ４０１の、ＧｅＯ₂が添加されているコア部分の
うち照射光束に照明された部分のみが選択的に屈折率変
化を生じ、格子状の光強度分布に対応したグレーティン
グがファイバコアに形成される。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】従来のグレーティング
製造方法は、以上のように構成されていたので１つのグ
レーティングに対応した位相マスクを介して、素子上に
１種類のグレーティングしか形成することはできなかっ
た。また、エキシマレーザを使用する場合、エキシマレ
ーザは放電によりフッ素ガスとクリプトンガス中の分子
において電子が励起され基底状態に戻る際の発光を利用
するが、緩和時間が短いため固体レーザなどと比較し
て、光ビームのコヒーレンシーも悪く、強度分布も均一
ではない。そのため、従来法により光ファイバもしくは
導波路コアに大面積で所望のグレーティングパターンを
作製することは難しかった。

【００１９】また、グレーティングを形成する際、グレ
ーティングの屈折率変化とコアの屈折率変化によりファ
イバコアもしくは導波路コアの平均屈折率分布が形成さ
れる。グレーティングのブラッグ反射波長特性におい
て、サイドローブを低減するためには、グレーティング
の屈折率分布をガウス型分布などの分布にして共振を押
さえる必要がある。さらに、ファイバコアもしくは導波
路コアの平均屈折率分布においても、平均屈折率分布が
フラツトでないと短波長側もしくは長波長側のサイドロ
ーブもしくは帯域内リツプルなどが発生する。

【００２０】従来これらを解決するためには、光ビーム
を細く絞り位相マスクに対し走査して、照射時間を変化
させてグレーティングにガウス型屈折率分布を形成する
アポダイズ技術を用いていた。また、別のアポダイズ技
術として、位相マスクの溝深さをグレーティングの長手
方向（光の進行方向）に対して分布をつけて回折パター
ンの強度分布にガウス型屈折率分布を形成するアポダイ
ズ技術もある。

【００２１】さらに、ファイバコアもしくは導波路コア
の平均屈折率分布の平坦化のためには、グレーテイング
全体にグレーティングの屈折率分布を平坦化するように
ＤＣ屈折率分布を形成していた。しかし、これら従来法
では、アポダイズに時間がかかるといった問題点や２度
の光照射工程が必要であり煩雑であるという問題点があ
り、さらには走査によって正確なガウス分布を形成する
ことが困難であるという問題点があった。そのために、
製造コストを安価にすることができず、安価な光デバイ
スを提供することができないという問題点があった。

【００２２】そこで、本発明は大面積において均一なグ
レーティングを形成することができ、また複数のブラッ
グ波長を有する集積化したグレーティングを安価にかつ
容易に作製することができる光デバイスのグレーティン
グ製造方法と製造装置を提供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明に係る第１のグレーティング製造方法は、
コア部を有し該コアに沿って光を伝送させる光伝送路に
互いに異なる屈折率領域が並置されてなるグレーティン
グを形成する方法であって、１つの光源から出射された
光ビームを複数の光ビームに分割する光分割ステップ
と、上記分割された複数の光ビームをそれぞれ、上記コ
ア上の互いに異なる所定の位置にそれぞれ対応する干渉
縞が形成されるように回折させる回折ステップとを含
み、上記各干渉縞の強度分布にそれぞれ対応した屈折率
領域を形成することにより、上記分割された各光ビーム
にそれぞれ対応するグレーティングを形成することを特
徴とする。このようにすると、上記光伝送路のコア上に
上記複数の光ビームに対応した複数の干渉縞を一度に形
成することができる。ここで、本発明にいう光伝送路
は、光ファイバーや基板上に形成された導波路等のコア
を有する光伝送路を総称していう。

【００２４】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法では、光ビームのエネルギーを効率的に使用す
るために、上記光分割ステップと上記回折ステップとの
間に分割された光ビームを集光するステップを含むこと
が好ましい。

【００２５】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法では、上記光分割ステップにおいて上記分割さ
れた光ビームがそれぞれ、該光ビームに対応して形成さ
れるグレーティングの長手方向を含む１つの面内におい
て所定の強度分布を有するように分割し、上記回折ステ
ップにおいて上記所定の強度分布に対応する強度分布を
有する干渉縞をコア上に形成することにより、上記分割
された光ビームの強度分布に対応した屈折率分布を有す
るグレーティングを形成するようにしてもよい。このよ
うにすると、上記光ビームが種々の強度分布を有するよ
うに分割することにより、種々の屈折率分布を有するグ
レーティングを形成することができる。

【００２６】さらに、本発明に係る第１のグレーティン
グ製造方法では、上記光分割ステップにおいて、上記屈
折率分布を有するグレーティングに照射することにより
該グレーティングの平均屈折率分布が平坦になるような
強度分布を有する光ビームを成形し、上記グレーティン
グに回折させることなく照射するようにしてもよい。こ
のようにすると、上記屈折率分布を有するグレーティン
グの平均屈折率分布を平坦にすることができ、該グレー
ティングの反射特性を良好にできる。

【００２７】またさらに、本発明に係る第１のグレーテ
ィング製造方法では、上記回折ステップにおいて、１又
は２以上の透過型回折格子を用いて回折させることがで
きる。

【００２８】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法では、上記透過型回折格子が、同一ピッチの溝
又はピッチの異なる溝を有するので構成することができ
る。

【００２９】また、本発明に係る第２のグレーティング
製造方法は、コア部を有し該コアに沿って光を伝送させ
る光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてなる
グレーティングを形成する方法であって、１つの光源か
ら出射された光ビームを、それぞれ互いに異なる波長の
複数の光を含む複数の光ビームに分割する光分割ステッ
プと、上記各光ビームを平行ビームとした後上記コア上
に集光することにより、上記コア上に上記分割された光
ビームに含まれる上記各光の波長に対応する強度分布を
有する干渉縞を形成することとを含み、上記各干渉縞の
強度分布にそれぞれ対応した屈折率領域を形成すること
を特徴とする。このようにすると、上記光伝送路のコア
上に上記複数の光ビームに対応した複数の干渉縞を一度
に形成することができる。

【００３０】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造装置は、コア部を有し該コアに沿って光を伝送させ
る光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてなる
グレーティングを形成する装置であって、１つの光源か
ら出射された光ビームを複数の光ビームに分割する光分
割部と、上記分割された複数の光ビームに対応して設け
られ、該複数の光ビームをそれぞれ上記コア上の互いに
異なる所定の位置に干渉縞が形成されるように回折させ
る透過型回折格子とを含み、上記各干渉縞の強度分布に
それぞれ対応した屈折率領域を形成することを特徴とす
る。このようにすると、上記光伝送路のコア上に上記複
数の光ビームに対応した複数の干渉縞を一度に形成する
ことができる。

【００３１】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造装置は、上記光ビームを効率的に使用するために、
上記光分割部と上記透過型回折格子との間に分割された
光ビームを集光するレンズを備えることが好ましい。

【００３２】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造装置において、上記光分割部は、上記分割された光
ビームがそれぞれ、該光ビームに対応して形成されるグ
レーティングの長手方向を含む１つの面内において所定
の強度分布を有するように分割し、上記透過型回折格子
が上記所定の強度分布に対応する強度分布を有する干渉
縞をコア上に形成するように構成され、上記分割された
光ビームの強度分布に対応した屈折率分布を有するグレ
ーティングを形成するようにすることができる。

【００３３】さらに、本発明に係る第１のグレーティン
グ製造装置において、上記光分割部はさらに、上記屈折
率分布を有するグレーティングに照射することにより該
グレーティングの平均屈折率分布が平坦になるような強
度分布を有する光ビームを成形し、該光ビームを上記グ
レーティングに直接照射するようにすることにより、上
記屈折率分布を有するグレーティングの平均屈折率分布
を平坦にするようにできる。

【００３４】またさらに、本発明に係るグレーティング
製造装置では、上記透過型回折格子が、同一ピッチの溝
又はピッチの異なる溝を有するもので構成することがで
きる。

【００３５】また、本発明に係るグレーティング製造装
置は、コア部を有し該コアに沿って光を伝送させる光伝
送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてなるグレー
ティングを形成する装置であって、１つの光源から出射
された光ビームを、それぞれ互いに異なる波長の複数の
光を含む複数の光ビームに分割する光分割部と、上記各
光ビームを平行ビームとする拡大光学レンズと、上記平
行ビームを上記コア上に集光することにより、上記コア
上に上記分割された光ビームに含まれる上記各光の波長
に対応する強度分布を有する干渉縞を形成する縮小光学
レンズとを含み、上記各干渉縞の強度分布にそれぞれ対
応した屈折率領域を形成することを特徴とする。このよ
うにすると、上記光伝送路のコア上に上記複数の光ビー
ムに対応した複数の干渉縞を一度に形成することができ
る。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
る実施の形態について説明する。 実施の形態１．図１（ａ）は、本発明に係る実施の形態
１の光デバイスのグレーティング製造装置の構成を模式
的に示す概略構成図である。実施の形態１のグレーティ
ング製造装置は、本発明に係る第１のグレーティング製
造方法を実施する装置であって、レーザー発振器１とホ
ログラム光学素子２と位相マスク３により構成され、以
下のようにして、例えばシリコン基板上に形成された導
波路４にグレーティングを形成する。ここで、位相マス
ク３には図１（ｂ）に示すように、導波路４に形成すべ
き複数のグレーティングにそれぞれ対応する複数の透過
型回折格子が形成され、それぞれ導波路４のコア上にグ
レーティングを形成するための干渉縞を形成する。ま
た、ホログラム光学素子２は、レーザー発振器から出力
されたレーザー光を位相マスク３に形成された各透過型
回折格子にレーザー光を照射するように複数のレーザー
光に分割するためのパターンが形成されてなり、レーザ
ー発振器１から出力されたレーザー光５を複数に分割し
て各透過型回折格子に分割されたレーザー光を照射す
る。

【００３７】グレーティングを形成する導波路として
は、例えば、コアにゲルマニウムが添加され、コアとク
ラッドの屈折率差は約０.７％であり、例えばコア径が
６ミクロン角であるＣＶＤ法により作製した石英系導波
路を用いることができる。また、グレーティングを形成
する導波路は、光照射により屈折率の変化が生じるコア
であれば、他の製法例えば火炎堆積法によって作製した
石英系導波路でも、また光ファイバであっても良い。

【００３８】以上のように構成された実施の形態１の光
デバイスのグレーティング製造装置において、レーザ発
振器１から出力されたレーザ光は、ホログラム光学素子
２によって複数の所定の方向に進むレーザビームに分割
され、位相マスク３の各透過型回折格子に照射される。
透過型回折格子に照射された光は、位相マスク３の各透
過型回折格子における各溝部分を透過し、透過した光は
導波路コア上に各透過型回折格子の溝の間隔に応じた間
隔を有する干渉縞を形成する。そして、導波路のコアに
おいて、照射された光の強度に対応して屈折率を変化さ
せることができるので、導波路コア上に形成された干渉
縞の間隔に対応した屈折率分布、すなわちグレーティン
グが形成される。

【００３９】ここで、光分割手段であるホログラム２に
よって分割できるレーザ光の数及び分割された各レーザ
光の出射方向は、ホログラム２に形成されるパターンに
より任意に設定することができ、位相マスク３上の任意
の位置にレーザービームスポットを照射することができ
る。また、位相マスク３において導波路４に形成すべき
複数のグレーティングにそれぞれ対応させて任意の位置
に複数の透過型回折格子を形成することができる。

【００４０】従って、本実施の形態１のグレーティング
製造装置によれば、１つのレーザー発振器１から出力さ
れた１つのレーザー光５を用いて、複数のグレーティン
グを所望の位置にかつ同時に形成することができるの
で、複数のブラッグ波長を有する集積化したグレーティ
ングを安価にかつ容易に作製することができる。また、
本実施の形態１のグレーティング製造装置は、１つのレ
ーザー発振器１から出力された１つのレーザー光５を分
割して、分割された複数の光ビームを用いて大面積の所
望のグレーティングパターンを作製することができるの
で、大面積において均一なグレーティングを所望の位置
に形成することができる。さらに、それぞれの照射スポ
ットを位相マスク３上の透過型回折格子である任意の開
口部分に選択的に配置することができ、マスクの遮蔽部
分を照射するエネルギーを減らすことができるので位相
マスク３においてロスとなるエネルギーをほとんどなく
すことができ、レーザー光のエネルギーを有効に利用し
てグレーティングを作製することができる。

【００４１】なお、上述のように、位相マスク３は溝が
形成された部分とされていない部分からなり、回折パタ
ーンが必要な部分のみ溝を形成したものである。その溝
の間隔は、対応するグレーティングのピッチに依存し、
従来技術において説明した式（１）の関係から求められ
る。しかしながら、本発明では、位相マスク３と導波路
４との間に、金属等の遮蔽物を設け、該遮蔽物にグレー
ティングを形成する部分のみに光が照射されるようにス
リットを形成し、レーザ光がグレーティングを形成する
部分のみに照射されるようにすることが好ましい。これ
によって、グレーティングを形成する部分以外の導波路
のコアの屈折率を変化させないようにでき、導波路特性
を劣化させないようにできる。

【００４２】次に、本実施の形態１に用いた位相マスク
３の例を図２に示す。図２(ａ)は、本発明における位相
マスク３の一例を示す構成図であり、ホログラム光学素
子２により分割された光ビーム位置に対応して透過型回
折格子が形成されている。図中の溝は、波長１５５０ｎ
ｍ、波長１５５２ｎｍ及び波長１５５４ｎｍに対応した
間隔で形成され、それぞれ、１０６７.５ｎｍ、１０６
８.９ｎｍ及び１０７０.２ｎｍとした。図２(ａ)におい
て、溝は対応するグレーティングの位置に幅０.５ｍ
ｍ、長さ１０ｍｍに形成した透過型回折格子を形成し
た。また、図２(ｂ)においては、別な例として、グレー
ティングに対応する光ビーム照射位置に幅２ｍｍ、長さ
２０ｍｍに形成した透過型回折格子を形成した。この場
合、ホログラム光学素子２と位相マスク３の間に金属な
どの遮蔽マスクを置き、グレーティングを形成すべき領
域以外の導波路コアに不要な光が照射されないようにす
ることが好ましい。例えば、方向性結合器のような光回
路部分に不要なグレーティングが形成されることを防ぐ
ためである。

【００４３】実施の形態２．以下、本発明に係る実施の
形態２の光デバイスのグレーティング製造装置について
説明する。図３は、本発明の光デバイスのグレーティン
グ製造装置の構成を示す概略図である。本実施の形態２
の光デバイスのグレーティング製造装置は、実施の形態
１の光デバイスのグレーティング製造装置においてさら
に、２つの光学レンズ５０ａ，５０ｂを設けた以外は、
実施の形態１と同様に構成される。尚、図３において、
実施の形態１と同様のものには、同様の符号を付して示
している。

【００４４】以上のように構成された実施の形態２の光
デバイスのグレーティング製造装置では、レーザ発振器
１を出た光は、ホログラム２によって多数の任意の方向
へ進むレーザビームに分割され、次に光学レンズ５０
ａ，５０ｂによって集光され、位相マスク３に照射され
る。

【００４５】以上のように構成された実施の形態２の光
デバイスのグレーティング製造装置は、実施の形態１と
同様の効果を有するとともに、２つの光学レンズ５０
ａ，５０ｂによって、光を集光して位相マスク３の所定
の位置（透過型回折格子が形成された位置）に分割した
レーザー光を照射するように構成しているので、位相マ
スク３の所定の位置に照射するレーザ光の強度を高くす
ることができ、より効率的にグレーティングを形成する
ことができる。

【００４６】実施の形態３．本実施の形態３は、実施の
形態１の光デバイスのグレーティング製造装置を用いた
新たなアポダイズ方法（グレーティング製造方法）を示
すものである。ここで、本発明においてアポダイズ方法
とは、グレーティングの屈折率を所定の形状に分布させ
る方法をいう。従来技術で説明したように、サイドロー
ブピークを低減するためには、グレーティングの屈折率
分布を、グレーティングの光の進行方向（長手方向）に
対してガウス分布やハイパブリックタンジェント分布な
どグレーティング内での共振を抑えることができる分布
にする必要がある。

【００４７】本実施の形態３の方法は、形成するグレー
ティングの屈折率分布に対応する強度分布を有するレー
ザビームを用いて、その強度分布に対応する屈折率分布
を有するグレーティングを形成している。例えば、エキ
シマレーザを使用した例で説明すると、エキシマレーザ
の光ビームの直交するＸ軸方向とＹ軸方向の強度分布
は、それぞれ図４に示すようにガウス分布と矩形分布で
ある。この強度分布のうち、ガウス分布をするＸ軸方向
を、形成すべきグレーティングの光の進行方向（長手方
向）に一致するように、実施の形態１の装置を用いて、
レーザ光を間隔が同じで溝深さも同じ単純な透過型回折
格子を有する位相マスク３を介して導波路に照射する
と、光ビームの強度分布（ガウス分布）に対応した強度
分布（ガウス分布）をする干渉縞が導波路（コア）上に
形成される。これによって、その干渉縞の強度に対応し
た屈折率分布を有するグレーティングを形成することが
できる。その結果、得られたグレーティングは、サイド
ローブピークの抑制された反射波長特性を有するものと
できる。

【００４８】本実施の形態３では、レーザ発振器１から
放射される光ビームの強度分布をそのまま利用したが、
本発明はこれに限らず、光学系により所望の強度分布に
成形し、その成形した強度分布をホログラム光学素子２
に入射させても同じ効果が得られる。また、成形する光
ビーム強度分布としては、スーパーガウシアンやハイパ
ブリックタンジェント、ハイパブジックサイン、三角関
数分布、指数関数分布など種々の分布が可能である。す
なわち、グレーティングの必要とされる反射特性に対応
した強度分布を選択して使用することができる。

【００４９】実施の形態４．実施の形態３では、レーザ
ビームの強度分布に対応させてグレーティングの屈折率
分布を制御して、得られるブラッグ反射波長特性におい
てサイドローブピークを抑制することができることを示
した。しかし、実施の形態３のアポダイズ方法では、図
６（ａ）に示すようにグレーティングを形成することが
できるが、そのグレーティングにおける導波路コアの平
均的な屈折率分布（平均屈折率分布）は、図６（ｂ）に
おいてＧ２の符号を付して示すように、フラットではな
い。そのため、帯域内リップルや短波長及び長波長側で
の不要なサイドバンドピークが発生する。実施の形態４
では、実施の形態１の装置を使用して、ホログラム光学
素子２によって入射ビーム強度分布を成形して、例え
ば、ガウス分布を有する光ビームとともに、導波路コア
の平均屈折率分布をフラットにするような強度分布を有
する光ビームを作製してグレーティング部分に照射する
方法を示す。

【００５０】本実施の形態４において、ホログラム光学
素子は、図５に示すように同一箇所のグレーティングに
たいし２つの箇所からレーザ光を照射するように構成す
る。すなわち、その１つの光ビームは、例えばガウス分
布する強度分布を有する光ビームＢ１であり、図５に示
すように、透過型回折格子を介して導波路のコア部に照
射され、コア部に図６（ｂ）に示すような屈折率分布を
形成する。ここで、図６（ｂ）において、Ｇ１の符号を
付して示す線は、グレーティングにおける各高屈折率領
域の屈折率の分布を表している。Ｇ２の符号を付して示
す線は、グレーティングにおける平均屈折率を表してい
る。

【００５１】もう１つの光ビームＢ２は、図６（ｂ）に
おける平均屈折率Ｇ２を平坦にする強度分布を有する光
ビームであって、図５に示すように透過型回折格子を通
過することなく直接コア部に照射される。ここで、光ビ
ームＢ２が単独で図５に示すように透過型回折格子を介
することなく、コア部に照射された場合は、図６（ｃ）
に示すような、屈折率分布をグレーティングの長手方向
に形成する。ここで、図６（ｃ）の屈折率分布Ｇ３は、
光ビームＢ１が形成する屈折率分布Ｇ１の平均屈折率分
布Ｇ２を丁度平坦にするような分布である。

【００５２】以上のように２つの光ビームＢ１，Ｂ２を
用いることにより、図６（ｄ）に示すように、平均屈折
率Ｇ５が平坦なグレーティングを形成することができ
る。尚、図６（ｄ）において、Ｇ４の符号を付して示す
線は、グレーティングにおける高屈折領域の屈折率の分
布を示し、Ｇ６の符号を付して示す線は、低屈折率領域
の屈折率の分布を示す。以上のようにして実施の形態４
の方法では、例えばガウス分布等の所望の屈折率分布を
有しかつ平均屈折率が平坦であるグレーティングを形成
することができる。以上の方法により形成された図６
（ｄ）に示す屈折率分布を有するグレーティングは、図
７（ｃ）に示すようなサイドバンドピークのない波長特
性を有するようにできる。

【００５３】以上の実施の形態４では、２つの光ビーム
Ｂ１，Ｂ２を用いたが、本発明はこれに限られず、２以
上の光ビームを用いてもよい。この場合、そのうちの幾
つかは途中の位相マスクで回折させ、残りは位相マスク
で回折させずに透過させて種々の屈折率分布を有するグ
レーティングを形成することができる。すなわち、位相
マスクに溝を形成した部分としていない部分を作り、回
折パターンが必要な部分のみ溝を形成するようにした。

【００５４】実施の形態５．実施の形態４では、ホログ
ラム光学素子２によって、例えば、ガウス分布を有する
光ビームと、導波路コアの平均屈折率分布をフラットに
するような強度分布を有する光ビームとを同時に導波路
に照射してグレーティングを作成したが、実施の形態５
では、例えば、ガウス分布を有する光ビームを導波路の
コアに照射してグレーティングを作製した後、導波路コ
ア上に作製されたグレーティングの平均屈折率分布をフ
ラットにするような強度分布を有する光ビームを作製さ
れたグレーティング上に照射してグレーティングの平均
屈折率分布を平坦化した。

【００５５】すなわち、本実施の形態５では、位相マス
クの一部に図７（ｄ）に示すアポダイズマスクを作製し
て、ホログラム光学素子から入射された光ビームをその
アポダイズマスクを介して導波路の所定の位置に照射す
ることにより干渉縞を形成する。ここで、図７（ｄ）に
示すアポダイズマスクにおいて光ビームは該アポダイズ
マスクの平坦な上面から照射する。これによって、図８
（ｂ）に示すような、グレーティングの低屈折率領域屈
折率がＧ１２に示す逆ガウス分布しかつ平均屈折率がＧ
１１に示す逆ガウス分布する屈折率分布を有するグレー
ティングが導波路のコア上に形成される。この図８
（ｂ）に示す屈折率分布を有するグレーティングは、図
７（ｂ）に示す通過帯域の高域側にサイドバンドピーク
を有する波長特性を示す。

【００５６】以上のようにアポダイズ処理（所定の屈折
率分布を有するグレーティングの作製）をした後、アポ
ダイズ処理に使用したホログラム光学素子と位相マスク
とを取り除き、導波路コアに形成されたグレーティング
の平均屈折率分布Ｇ１１をフラットにするような強度分
布を有する光ビームを成形するホログラム光学素子（以
下、ホログラム光学素子Ｂという。）を用いて、グレー
ティングの平均屈折率分布Ｇ１１をフラットにするよう
な強度分布を有する光ビームをグレーティング部分に照
射した。尚、図８に示す例では、ホログラム光学素子Ｂ
は図８（ｃ）に示す屈折率分布を導波路のコアに形成す
る強度分布を有する光ビームを成形するように構成され
る。これによって、図８（ｄ）に示すような平均屈折率
分布Ｇ１５が平坦でありかつ高屈折率領域の屈折率分布
Ｇ１４が例えばガウス分布するようなグレーティングを
形成することができる。これによって、図７（ｃ）に示
す波長特性、すなわち、サイドバンドピークの無い波長
特性を実現することができる。

【００５７】実施の形態６．図９は、本発明に係る実施
の形態６の構成を示す模式図である。本実施の形態６の
光デバイスのグレーティング製造装置は、図１に示した
実施の形態１の光デバイスのグレーティング製造装置に
おいて、位相マスク３に代えてホログラム光学素子２と
グレーティングを形成する導波路４との間に拡大系光学
レンズ５０及び縮小系光学レンズ６０ａ，６０ｂとを設
けたことを特徴とし、それ以外の点は実施の形態１と同
様に構成される。尚、図９において、レーザ発振器１は
実施の形態１と同様のものである。尚、本実施の形態６
の光デバイスのグレーティング製造装置は、本発明に係
る第２のグレーティング製造方法を実施する装置であ
る。

【００５８】以上のように構成された実施の形態６の装
置において、レーザ発振器１から出力された光は、ホロ
グラム光学素子２おいて幾つかの光ビームに分割され
る。尚、図９では、２つに分割したものを示している
が、本発明は２つに限定されるものではない。その際、
ホログラム光学素子２において分割したそれぞれの光ビ
ーム形状を間隔１０６７.５ｎｍ、１０６８.９ｎｍ及び
１０７０.２ｎｍ等の所定の間隔の波長の複数の光を含
む周期的なものとする。その後、分割された光はそれぞ
れ、拡大系光学レンズ５０により平行ビームとされ、縮
小系光学レンズ６０ａ，６０ｂにより導波路４又は光フ
ァイバ上の所定の位置に集光されて干渉縞が形成され
る。

【００５９】本実施の形態６の方法によれば、縮小系光
学レンズ６０ａ，６０ｂの位置を光軸方向に移動させる
ことにより、分割したそれぞれのビーム形状の光ビーム
が導波路上に形成する干渉縞の間隔を任意に調整するこ
とができる。これにより、レンズ６０ａ，６０ｂの位置
を種々変更することにより、各種の間隔を有するグレー
ティングを形成することができる。また、本実施の形態
６では、互いに独立して位置を調整することができる複
数の縮小系光学レンズを用いることにより、一度に複数
の箇所にそれぞれ異なる周期を有するグレーティングを
形成することができる。すなわち、本実施の形態６の方
法では、形成すべきグレーティングごとに位相マスクを
作製する必要がなく、製造コストを削減できる。

【００６０】

【実施例】実施例１．実施例１は、実施の形態１の製造
装置を用いて、図１４に示す光フィルタを形成した例で
ある。本実施例では、レーザ発振器１としては、クリプ
ロンとフッ素ガスが主体のエキシマレーザ等を使用し、
波長２４８ｎｍのレーザ光を用いて、照射条件を、１０
０ｍＪ／ｃｍ²／ｐｕｌｓｅで照射時間１０分とし、周
波数５０Ｈｚの条件に設定することにより作成した。な
お、レーザ発振器１から出力されるビームサイズは２０
ｍｍ×３０ｍｍに設定した。以上のようにして、図１４
に示すように、導波路コア上の複数の箇所にピッチの異
なるグレーティグ２０１，２０２を形成する事ができ
た。今回は、波長数を２とし２カ所づつの直線導波路に
同じ間隔のグレーティングを形成した。グレーティング
は全部で４カ所作製し、同じピッチのグレーティングが
対をなしている。ブラッグ波長は、１５５０ｎｍと１５
５２ｎｍとし、この時の帯域は約０.９ｎｍであった。
これにより、１５５０ｎｍと１５５２ｎｍで反射し、そ
れ以外の波長を通過させる３波長の合分波が可能な集積
化波長多重用光フィルタが得られた。この光フィルタの
サイズは、幅約４ｍｍ、長さ３５ｍｍ、厚さ１ｍｍであ
った。

【００６１】実施例２．実施例１と同様に石英系導波路
にピッチの異なるグレーティングを形成した。本実施例
２では図１５に示す集積化グレーティングを作製した例
を示している。実施例２では、ピッチの異なる波長数を
３とし２カ所づつの直線導波路に同じ間隔のグレーティ
ング２０１，２０２，２０３を形成した。グレーティン
グは全部で６カ所作製し、同じピッチのグレーティング
が対をなしている。ブラッグ波長は、１５５０ｎｍ、１
５５２ｎｍと１５５４ｎｍ、帯域はそれぞれ約０.９ｎ
ｍであつた。これにより、１５５０ｎｍ、１５５２ｎｍ
と１５５４ｎｍで反射し、それ以外の波長を通過させる
４波長の合分波が可能な集積化波長多重用光フィルタが
得られた。

【００６２】この光フィルタのサイズは、幅約６ｍｍ、
長さ４０ｍｍ、厚さ１ｍｍで、グレーティングを形成す
るエリアは、幅２ｍｍ、長さ３０ｍｍの範囲であった。
レーザ発振器からのビームサイズは２０ｍｍＸ３０ｍｍ
であり、今回のグレーティング照射エリアば、十分であ
った。しかし、集積化が進み、仮にグレーティング照射
がビームサイズよりも大きくなった場合は、光ビームの
コヒーレンシーを大きく劣化させない範囲でビームサイ
ズを大きくすることが必要であり、これは十分可能であ
る。その際、光ビームのコヒーレンシーを良くするため
に、光学レンズ、すなわち凹レンズと凸レンズを適当に
組み合わせて用いることが好ましい。

【００６３】実施例３．本実施例３は、実施の形態２の
光デバイスのグレーティング製造装置を用いて実施した
例である。本実施例３において、グレーティング形成用
に用いた試料は、火炎堆積法により作製した石英系導波
路であり、コアにはゲルマニウムを添加し、コアとクラ
ッドの屈折率差は約０.３％、コア径は約８ミクロン角
であった。グレーティング形成は、光照射により屈折率
の変化が生じるコアであれば、他の製法例えばＣＶＤ、
スパッタ法によって作製した石英系導波路でも、また光
ファイバでも良い。

【００６４】実施例３において、レーザ発振器１を出た
光は、ホログラム２によって多数の任意の方向へ進むレ
ーザビームに分割され、次に光学レンズ５０ａ，５０ｂ
によって集光され、位相マスク３に照射された。位相マ
スク３の表面には間隔の異なる複数の溝を形成し、各溝
部分（各透過型回折格子）を透過したレーザ光は導波路
のコア上に溝の間隔に応じた干渉縞間隔を形成した。
尚、本実施例３では、ＹＡＧレーザの第４高調波を使用
し、波長は２６６ｎｍとして、照射条件は、２００ｍＪ
／ｃｍ２で照射時間２０分で行った。レーザ発振器１か
ら出たビームサイズは数ｍｍ径であったため拡大光学系
により、３０ｍｍ径に大きくして使用した。ＹＡＧレー
ザは、コヒーレンシーが高いため光学系を用いて拡大、
縮小を行った後でも干渉を利用した位相マスクにより十
分干渉パターンを形成する事が可能であった。このよう
にして、導波路コア上の複数の箇所にピッチの異なるグ
レーティングを形成する事ができた。尚、グレーティン
グのパターンは、実施例１と同じパターンとした。

【００６５】また、本実施例３において、実施例１と同
様に、ホログラム光学素子２のパターンを変更すること
により、それぞれの照射スポットをマスク上にあいた任
意の位置に選択的に配置可能であり、さらに光学レンズ
により集光可能であることから、実施例１に比べさらに
エネルギー利用効率の高い高効率なグレーティング作製
が可能であった。

【００６６】実施例４．本実施例４は、実施の形態３の
アポダイズ方法の実施例である。本実施例４では、レー
ザビームとしてエキシマレーザを使用した。その光ビー
ムの直交する２軸方向での強度分布は、図３に示すよう
にガウス分布と矩形分布である。この強度分布のうち、
ガウス分布の光ビーム方向をグレーティングの光の進行
方向（長手方向）に合わせて、実施例１と同様にホログ
ラム光学素子、位相マスクを置きグレーティングを形成
した。その結果、位相マスクとして、間隔が同じで溝深
さも同じ単純マスクに照射しても、光ビームの強度分布
がグレーティングの長手方向に対しガウス分布であった
ため、グレーティングの屈折率分布としてガウス分布に
近いものが得られた。その結果、得られたブラッググレ
ーティングの反射波長特性としては、サイドローブピー
クの抑制されたものであった。

【００６７】実施例５．本実施例５は、実施の形態１の
グレーティング製造方法用いて作製した光デバイスの例
であって、一方向から来た波長多重光を２方向に分岐す
る光分岐回路を波長選択性結合器と方向性結合器を用い
て実現した例である。本実施例の構成を図１０に示す。
図１０において、１０は光分岐回路、２０ａ，２０ｂ，
２０ｃはそれぞれ光フィルタ、３１は方向性結合器とし
ての３ｄＢカプラ、２２ａ，２２ｂ，２２ｃは波長選択
性反射器としての本発明の導波路型グレーティング、２
３は屈折率調整部、２４ａ，２４ｂ，２４ｃは薄膜ヒー
ターを示す。また、２５ａは光フィルタ２０ａ，２０
ｂ，２０ｃの第１の端子である、３ｄＢカプラ２１の前
段の端子であり、２５ｂは光フィルタ２０ａ，２０ｂ，
２０ｃの第２の端子である、３ｄＢカプラ２１の前段の
端子であり、２６ａは光フィルタ２０ａ，２０ｂ，２０
ｃの第３の端子である、３ｄＢカプラ２１の後段の端子
であり、２６ｂは光フィルタ２０ａ，２０ｂ，２０ｃの
第４の端子である、３ｄＢカプラ２１の後段の端子であ
る。３つの光フィルタ２０ａ，２０ｂ，２０ｃの片方の
３ｄＢカプラが隣の光フィルタの３ｄＢカプラと接続さ
れ、それぞれの光フィルタはペルチエ素子３０にマウン
トされ温度が２５℃に保持される。

【００６８】光フィルタ２０ａの端子２６ａと光フィル
タ２０ｂの端子２６ｂとが、光フィルタ２０ｂの端子２
６ａと光フィルタ２０ｃの端子２６ｂが、さらに、光フ
ィルタ２０ｃの端子２６ａと光フィルタ２０ａの端子２
６ｂとが接続される。また、３つの光フィルタ２０ａ，
２０ｂ，２０ｃの３ｄＢカプラ２１の前段の端子２５
ａ，２５ｂは図１１に示すように光分岐回路３１への入
出力ファイバ２７ａ，５２７ｂ，２８ａ，２８ｂ，２９
ａ，２９ｂにそれぞれ接続される。光フィルタ２０ａ，
２０ｂ，２０ｃの導波路型グレーティング２２ａ，２２
ｂ，２２ｃのブラッグ中心波長は、すべてλ１である。
ファイバ２７ａから入力された波長λ１の光は、光フィ
ルタ２０ａの端子２５ａから入射し、光導波路型グレー
ティング２２ａで反射され端子２５ｂを経てファイバ２
９ｂから出力される。すなわち、ファイバ２７ａから、
ファイバ２９ｂへの経路設定は、入力される光信号の波
長λにより自動的にきまる。

【００６９】光フィルタ２０ａの端子２５ａから入射し
た波長λ１以外の波長の光信号は、光導波路型グレーテ
イング２２ａを透過して端子２６ｂに出力される。次い
で、光フィルタ２０ｃの端子２６ａに入射するが、ま
た、光導波路型グレーティング２２ｃを透過して端子２
５ｂを経て２８ｂに出力する。すなわち、波長λ１以外
の波長の光信号の経路は、ファイバ２７ａからファイバ
２８ｂに経路設定される。

【００７０】同様に、ファイバ２８ａから入力された波
長λ１の光信号は光フィルタ２０ｂで反射してファイバ
２７ｂに出力され、ファイバ２８ａから入力された波長
λ１以外の波長の光信号はファイバ２９ｂに出力され
る。さらに、ファイバ２９ａから入力された波長λ１の
光信号は光フィルタ２０ｃで反射してファイバ２８ｂに
出力し、ファイバ２９ａから入力された波長λ１以外の
波長の光信号はファイバ２７ｂに出力される。ファイバ
２７ａから入力された波長λ１の光信号のうち、光導波
路型グレーティング２２ａで反射しきれずに通過するわ
ずかな成分は、すべて光フィルタ２０ｃに向かう。そこ
で、その大部分は反射され光フィルタ２０ｂに向かう。
さらに、大部分が反射され再び光フィルタ２０ａに向か
う。実際は、導波路損により、消失しクロストークには
ならない。

【００７１】一方、ファイバ２７ａから入力された波長
λ１以外の波長の光信号のうち、端子２６ａに出力され
る光信号がわずかにあるが、これは、光フィルタ２０ｂ
の端子２５ｂへと向かう。前記端子２６ａに出力される
光信号の進行方向は光ファイバ２８ａの進行方向とは逆
になるため、他の信号のクロストークにはならない。従
って、クロストークの小さい光フィルタが構成できる。

【００７２】一般的に光源波長には、わずかな波長変動
があり、０．数ｎｍ程度の波長変動が発生する。この種
波長変動が生じると、本来３０ｄＢ以上の透過阻止量を
持っていた各グレーティングの阻止帯域から光源波長が
ずれるため、透過阻止量が１５ｄＢ程度に劣化した。そ
こで、光源の波長変動量を測定し、光導波路グレーティ
ングにある薄膜ヒーターの電流値を波長変動量に応じて
変化させ、マッハツェンダ型光導波路のコアの温度を変
化させ、グレーティングのブラッグ波長を変動した光源
波長に設定した。

【００７３】例えば、波長変動量が０．１ｎｍであった
場合、各光フィルタの２つの薄膜ヒーターに、それぞれ
１６ｍＡを通電した。前記２つの薄膜ヒーターでの波長
制御を正確に一致させないと、グレーティングで反射さ
れ出力される光信号の波長が広がり強度も劣化した。そ
こで、光フィルタからの出力光をモニターしつつ、前記
２つの薄膜ヒーターへの電流印加量を制御することによ
り、光源の波長変動に対応することができ、３０ｄＢ以
上の透過阻止量が得られた。その結果、クロストークが
小さい高密度波長多重光伝送システムが構築できた。

【００７４】本実施例５では、薄膜ヒーターを使用して
コアの温度を変化させたが、これに限定されるものでは
なく、導波路の温度を局所的に変化させることができる
装置であれば適用することができ、同様の効果が得られ
る。また、本実施例５では、１つのフィルタから分岐さ
れた光信号の波長λ１と他の光フィルタに挿入した光信
号の波長λ１は同一であるが、各光フィルタに別の波長
を挿入しても同様の効果が得られた。かかる場合、前記
他の光フィルタのブラッグ波長は波長λ１以外の波長に
設定する。

【００７５】以上のように、本発明に係る製造方法及び
装置によれば、１つの基板上に互いに反射波長のことな
る多くのグレーティングを含む光伝送システムの製造す
る場合に、多くのグレーティングを一度にかつ精度よく
形成することができるので、比較的大規模な光通信シス
テムを簡単にかつ安価にしかも信頼性高く製造すること
ができる。以上の実施例５では、波長多重光伝送システ
ムを例に説明したが、本発明は他の大規模な光通信シス
テムの製造に適用できることはいうまでもない。

【００７６】実施例６．本実施例６は、本発明に係る実
施の形態の製造方法及び製造装置を用いて光分岐回路を
作製した例を示すものである。本実施例６の光分岐回路
は、分岐波長と挿入波長が同じ場合、２つの光導波路型
グレーティングを３ｄＢカプラを介して縦列接続する事
によって、クロストークの発生を少なくするものであ
る。本実施例６の光分岐回路の構成を図１１に示す。図
１１において、１３９は光送信器（ＴＸ）、１４０は光
受信器（ＲＸ）、１２１ａ，１２１ｂ，１２１ｃ，１２
１ｄは３ｄＢカプラ、１２２ａ，１２２ｂは同一のブラ
ッグ波長λ２を有する導波路型グレーティング、１２３
ａ１，１２３ａ２，１２３ｂ１，１２３ｂ２は屈折率調
整部、１２４ａ，１２４ｂは薄膜ヒーターである。

【００７７】第１の光フィルタは、３ｄＢカプラ１２１
ａ，１２１ｂと、光導波路グレーティング１２２ａと、
屈折率調整部１２３ａ１，１２３ａ２と薄膜ヒーター１
２４ａとからなり、第２のフィルタは３ｄＢカプラ１２
１ｃ，１２１ｄと、光導波路グレーティング１２２ｂ
と、屈折率調整部１２３ｂ１，１２３ｂ２と薄膜ヒータ
ー１２４ｂとからなる。また、１３２は第１の光フィル
タの第１の端子である光伝送路入力端子であり、１３３
は第１のフィルタの第２の端子である分岐端子であり、
１２５ａは第２のフィルタの第２の端子である３ｄＢカ
プラ１２１ｃの前段の端子であり、１２５ｂは、第２の
光フィルタの第１の端子である３ｄＢカプラ１２１ｃの
前段の端子であり、１２６ａは第１のフィルタの第３の
端子である３ｄＢカプラ１２１ｂの後段の端子であり、
１２６ｂは、第１の光フィルタの第４の端子である３ｄ
Ｂカプラ１２１ｂの後段の端子であり、１３４は第２の
光フィルタの第４の端子である光伝送路入力端子であ
り、１３５は第２のフィルタの第３の端子である挿入端
子である。

【００７８】光導波路型グレーティング１２２ａのブラ
ッグ中心波長がλ２の場合、光伝送路入力端子１３２か
ら入射したＷＤＭ光のうち、λ２の光信号だけが導波路
型グレーティング１２２ａで反射され、３ｄＢカプラ１
２１ａの分岐端子１３３から取り出す事ができる。この
時、３ｄＢカプラ１２１ａから一方の光導波路型グレー
ティング１２２ａまでの光路長と、３ｄＢカプラ１２１
ａから他方の光導波路型グレーティング１２２ａまでの
光路長とが同じになるように屈折率調整部１２３ａ１を
設けた。波長λ２以外の波長の光信号は、光導波路型グ
レーテイング１２２ａを透過し、３ｄＢカプラ１２１ｂ
に到達するが、ここで、一方の光導波路型グレーティン
グ１２２ａを透過した光信号と他方の光導波路型グレー
ティング１２２ａを透過した光信号との位相差が逆相に
なるように屈折率調整部１２３ａ２を設ける。その結
果、波長λ２以外の波長の光は、すべて端子１２６ｂか
ら出力される。

【００７９】出力した波長λ２以外の波長の光信号は、
端子１２５ｂから３ｄＢカプラ１２１ｃを通して２つに
分岐される。屈折率調整部１２３ｂ１と１２３ｂ２によ
り、３ｄＢカプラ１２１ｃと１２１ｄの光路長が等しく
なるように調整してあるので、全ての光は光伝送路出力
端子１３４へ透過する。一方、挿入光は、挿入端子１３
７に接続した光送信器１３９から送信することで端子１
３３に出力される。動作は、光伝送路入力端子１３２か
ら入力した波長λ２の光信号が分岐端子１３３に出力し
たのと同じである。ここで、光導波路型グレーティング
１２２ｂの反射率が１００％でないため、透過した僅か
な光は３ｄＢカプラに到達するがほとんどの光は端子１
２５ａから出力される。

【００８０】一般的に光源波長には、わずかな波長変動
があり、０．数ｎｍ程度の波長変動が発生する。この種
の波長変動が生じると、本来３０ｄＢ以上の透過阻止量
を持っていた各グレーティングの阻止帯域から光源波長
がずれるため、透過阻止量が１５ｄＢ程度に劣化した。
そこで、光源の波長変動量を測定し、光導波路グレーテ
ィングにある薄膜ヒーターの電流値を波長変動量に応じ
て変化させ、マッハツェンダ型光導波路のグレーティン
グのブラッグ波長を波長変動した光源波長に設定した。

【００８１】例えば、波長変動量が０．１ｎｍであった
場合、各光フィルタの２つの薄膜ヒーターに、それぞれ
１６ｍＡを通電した。光フィルタの２つの薄膜ヒーター
での波長制御を正確に一致させないと、グレーティング
で反射され出力される光信号の波長が広がり強度も劣化
した。そこで、出力光をモニターしつつ、光フィルタの
２つの薄膜ヒーターへの電流印加量を制御することによ
り、光源の波長変動に対応することができ、３０ｄＢ以
上の透過阻止量が得られ、クロストークが小さい高密度
波長多重光伝送システムが構築できた。

【００８２】以上のように、２つの光導波路型グレーテ
ィングを３ｄＢカプラを介して縦列接続することで、光
分岐回路を構成するので挿入光と分岐光のクロストーク
を低減することができる。尚、本実施例６では、光フィ
ルタから分岐した光信号（ＷＤＭ光に含まれる光信号）
の波長λ２と挿入した光信号（挿入光に含まれる光信
号）の波長λ２は同一であるが、別の波長を挿入しても
同様の効果が得られた。かかる場合、第２の光フィルタ
のブラッグ波長は波長λ２以外の波長に設定する。

【００８３】以上のように、本発明に係る製造方法及び
装置によれば、多くのグレーティングを一度にかつ精度
よく形成することができるので、実施例５と同様に１つ
の基板上に互いに反射波長のことなる多くのグレーティ
ングを含む光伝送システムを簡単にかつ安価にしかも信
頼性高く製造することができた。

【００８４】実施例７．本実施例は、図１２に示す集積
化光フィルタであり、幅１０ｍｍ、長さ３０ｍｍのシリ
コン基板にグレーテイングピッチの異なる８個の光フィ
ルタ２１９ａ〜光フィルタ２１９ｈを作り込んだであ
る。それぞれの光フィルタは、導波路幅６μｍ、導波路
間隔は、２５０μｍ、コアとクラッドの屈折率差は０.
７％とした。作製は、図１３に示すプロセスに従った。
まず、光フィルタ２１９ａの形成部分に窓をもつ金属マ
スク４１０を置き、光照射して位相マスク３１０により
導波路に位相マスク３１０のピッチに応じた回折パター
ンをつくり、グレーティング周期１を有する光フィルタ
２１９ａを作製する。次に、光フィルタ２１９ｂの直線
部分に窓をもつように金属マスクを置き、光照射して位
相マスクにより導波路にマスクのピッチに応じた回折パ
ターンをつくり、グレーティング周期２を有する光フィ
ルタ２１９ｂを作製する。これを繰り返して、最後は、
光フィルタ２１９ｈの形成部分に窓をもつ金属マスク４
２０を置き、光照射して位相マスク３２０により導波路
に位相マスク３２０のピッチに応じた回折パターンをつ
くり、グレーティング周期８を有する光フィルタ２１９
ｈを作製する。

【００８５】以上のようにして、光フィルタ２１９ａか
ら２１９ｈまで、８種類のグレーティング周期を有する
光フィルタを作製した。次いでこれらの光フィルタを１
６芯のリボンファイバと接続した。表１に、これらの個
々の光フィルタの反射中心帯域及び反射波長の帯域幅を
示す。

【００８６】

【表１】

【００８７】狭帯域のＤＦＢレーザを波長多重する光フ
ィルタの中心波長に合わせてそれぞれ準備し波長多重す
る。その後、図１２に示すように、波長多重した光を２
２５ａから入射すると、光フィルタ２１９ａでは、中心
波長１５１０.３ｎｍ、１．５ｎｍの帯域で反射して、
端子２２６ａからこの波長に対応したレーザ光が出力さ
れた。これ以外の波長の光は、端子２２８ａから出力さ
れた。次に、端子２２６ａと端子２２５ｂとを接続する
と、中心波長１５２０.１ｎｍ、１．６ｎｍの帯域で反
射して、端子２２６ｂから中心波長に対応したレーザ光
が出力された。これ以外の波長光は端子２２８ｂから出
力された。以下同様に、端子を接続して、８個の光フィ
ルタを縦列に接続すると、それぞれの光フィルタの波長
特性に対応して波長分岐ができた。同様に、端子２２５
ａから中心波長１５１０.３ｎｍ、帯域１．０ｎｍのＤ
ＦＢレーザ光を入力したところ端子２２５ｂから合波さ
れて出力された。これより、８波の波長多重光の分岐挿
入を確認した。尚、本実施例７では、光フィルタから分
岐した波長λ１と挿入した波長λ１は、同一であるが、
別な波長を挿入しても同様の効果が得られた。本実施例
では、ファイバで接続したが、これを導波路で接続して
も同様の効果がある。この場合、ファイバの接続に比べ
接続部での損失が小さくできる。しかし、接続導波路の
曲線の曲率を小さくできないので、寸法はファイバ接続
に比べ同等か少し大きくなる。

【００８８】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る第１のグレーティング製造方法は、１つの光源から出
射された光ビームを複数の光ビームに分割する光分割ス
テップと、上記分割された複数の光ビームをそれぞれ、
上記コア上の互いに異なる所定の位置にそれぞれ対応す
る干渉縞が形成されるように回折させる回折ステップと
を含んでいるので、上記光伝送路のコア上に上記複数の
光ビームに対応した複数の干渉縞を一度に形成すること
ができ、互いに異なるブラッグ波長を有する複数の集積
化されたグレーティングを安価にかつ容易に作製するこ
とができる。また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法は、上述のように構成されているので、１つの
光源から出射された光ビームを分割して、分割された複
数の光ビームを用いて大面積の所望のグレーティングパ
ターンを作製することができるので、大面積において均
一なグレーティングを所望の位置に形成することができ
る。

【００８９】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法では、上記光分割ステップと上記回折ステップ
との間に分割された光ビームを集光するステップを含む
ことにより、光ビームのエネルギーを効率的に使用する
ことができるので、上記干渉縞における強度差を大きく
でき、短時間でグレーティングを形成することができ
る。

【００９０】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法では、上記光分割ステップにおいて上記分割さ
れた光ビームがそれぞれ、該光ビームに対応して形成さ
れるグレーティングの長手方向を含む１つの面内におい
て所定の強度分布を有するように分割し、上記回折ステ
ップにおいて上記所定の強度分布に対応する強度分布を
有する干渉縞をコア上に形成することにより、上記分割
された光ビームの強度分布に対応した屈折率分布を有す
るグレーティングを形成するようにできるので、上記光
ビームが種々の強度分布を有するように分割することに
より、種々の屈折率分布を有するグレーティングを形成
することができる。

【００９１】さらに、本発明に係る第１のグレーティン
グ製造方法では、上記光分割ステップにおいて、上記屈
折率分布を有するグレーティングに照射することにより
該グレーティングの平均屈折率分布が平坦になるような
強度分布を有する光ビームを成形し、上記グレーティン
グに回折させることなく照射するようにすることによ
り、上記屈折率分布を有するグレーティングの平均屈折
率分布を平坦にすることができ、該グレーティングの反
射特性を良好にできる。

【００９２】またさらに、本発明に係る第１のグレーテ
ィング製造方法は、上記回折ステップにおいて、１又は
２以上の透過型回折格子を用いることにより、容易にか
つ安価に使用できる。

【００９３】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造方法では、上記透過型回折格子が、同一ピッチの溝
又はピッチの異なる溝を有するもので構成することによ
り、より容易でかつ安価に使用することができる。

【００９４】また、本発明に係る第２のグレーティング
製造方法は、１つの光源から出射された光ビームを、そ
れぞれ互いに異なる波長の複数の光を含む複数の光ビー
ムに分割する光分割ステップと、上記各光ビームを平行
ビームとした後上記コア上に集光することにより、上記
コア上に上記分割された光ビームに含まれる上記各光の
波長に対応する強度分布を有する干渉縞を形成すること
とを含んでいるので、、上記光伝送路のコア上に上記複
数の光ビームに対応した複数の干渉縞を一度に形成する
ことができ、互いに異なるブラッグ波長を有する複数の
集積化されたグレーティングを安価にかつ容易に作製す
ることができる。

【００９５】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造装置は、１つの光源から出射された光ビームを複数
の光ビームに分割する光分割部と、上記分割された複数
の光ビームに対応して設けられ、該複数の光ビームをそ
れぞれ上記コア上の互いに異なる所定の位置に干渉縞が
形成されるように回折させる透過型回折格子とを含んで
いるので、上記光伝送路のコア上に上記複数の光ビーム
に対応した複数の干渉縞を一度に形成することができ、
互いに異なるブラッグ波長を有する複数の集積化された
グレーティングを安価にかつ容易に作製することができ
る。

【００９６】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造装置は、上記光分割部と上記透過型回折格子との間
に分割された光ビームを集光するレンズを備えることに
より、光ビームのエネルギーを効率的に使用することが
できるので、上記干渉縞における強度差を大きくでき、
短時間でグレーティングを形成することができる。

【００９７】また、本発明に係る第１のグレーティング
製造装置において、上記光分割部は、上記分割された光
ビームがそれぞれ、該光ビームに対応して形成されるグ
レーティングの長手方向を含む１つの面内において所定
の強度分布を有するように分割し、上記透過型回折格子
が上記所定の強度分布に対応する強度分布を有する干渉
縞をコア上に形成するように構成することにより、上記
分割された光ビームの強度分布に対応した屈折率分布を
有するグレーティングを形成するようにできるので、上
記光ビームが種々の強度分布を有するように分割するこ
とにより、種々の屈折率分布を有するグレーティングを
形成することができる。

【００９８】さらに、本発明に係る第１のグレーティン
グ製造装置において、上記光分割部はさらに、上記屈折
率分布を有するグレーティングに照射することにより該
グレーティングの平均屈折率分布が平坦になるような強
度分布を有する光ビームを成形し、該光ビームを上記グ
レーティングに直接照射するようにすることにより、上
記屈折率分布を有するグレーティングの平均屈折率分布
を平坦にすることができ、該グレーティングの反射特性
を良好にできる。

【００９９】またさらに、本発明に係るグレーティング
製造装置では、上記透過型回折格子が、同一ピッチの溝
又はピッチの異なる溝を有するもので構成することによ
り、より容易でかつ安価にグレーティングを製造するこ
とができる。

【０１００】また、本発明に係るグレーティング製造装
置は、１つの光源から出射された光ビームを、それぞれ
互いに異なる波長の複数の光を含む複数の光ビームに分
割する光分割部と、上記各光ビームを平行ビームとする
拡大光学レンズと、上記平行ビームを上記コア上に集光
することにより、上記コア上に上記分割された光ビーム
に含まれる上記各光の波長に対応する強度分布を有する
干渉縞を形成する縮小光学レンズとを含んでいるので、
上記光伝送路のコア上に上記複数の光ビームに対応した
複数の干渉縞を一度に形成することができ、互いに異な
るブラッグ波長を有する複数の集積化されたグレーティ
ングを安価にかつ容易に作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 （ａ）は本発明に係る実施の形態１のグレー
ティングの製造装置の概略構成図であり、（ｂ）は
（ａ）の位相マスク３の一部を拡大して示す断面図であ
る。

【図２】 (ａ)（ｂ）はそれぞれ、実施の形態１に用い
た位相マスク３の例を示す平面図である。

【図３】 本発明に係る実施の形態２のグレーティング
の製造装置の概略構成図である。

【図４】 本発明に係る実施の形態３のグレーティング
の製造方法を説明するための模式図である。

【図５】 本発明に係る実施の形態４のグレーティング
の製造方法を説明するための模式図である。

【図６】 本発明に係る実施の形態４のグレーティング
の製造方法の原理を説明するための図である。

【図７】 （ａ）（ｂ）は平均屈折率分布が平坦でない
グレーティングの反射特性を示すグラフであり、（ｃ）
は平均屈折率分布が平坦なグレーティングの反射特性を
示すグラフであり、（ｄ）は実施の形態５において使用
したアポダイズマスクの構成を模式的に示す図である。

【図８】 本発明に係る実施の形態５のグレーティング
の製造方法の原理を説明するための図である。

【図９】 本発明に係る実施の形態６のグレーティング
の製造装置の概略構成図である。

【図１０】 本発明に係る実施例５の光分岐回路の構成
を示す平面図である。

【図１１】 本発明に係る実施例６の光分岐回路の構成
を示す平面図である。

【図１２】 本発明に係る実施例７の集積化光フィルタ
の構成を示す平面図である。

【図１３】 実施例７の集積化フィルタの作製方法を説
明するための図である。

【図１４】 一般的な光フィルタの構成を示す平面図で
ある。

【図１５】 図１４とは異なる一般的な光フィルタの構
成を示す平面図である。

【図１６】 従来の代表的なグレーティング作製方法を
示す図である。

【図１７】 従来例の反射グレーティングの反射スペク
トルを示すグラフである。

【図１８】 火炎堆積法の概略構成を示す模式図であ
る。

【図１９】 従来例５のグレーティング作製方法を示す
図である。

【符号の説明】

１ レーザ発振器、２ ホログラム光学素子、３，３１
０，３２０ 位相マスク、４ 導波路、１０ 光分岐回
路、２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２１９ａ，２１９ｈ 光
フィルタ、２２ａ，２２ｂ，２２ｃ 波長選択性反射器
としての本発明の導波路型グレーティング、２３ 屈折
率調整部、３１ ３ｄＢカプラ、５０ 拡大系光学レン
ズ、５０ａ，５０ｂ 光学レンズ、６０ａ，６０ｂ 縮
小系光学レンズ、２０１，２０２，２０３ グレーティ
ング、Ｂ１，Ｂ２ 光ビーム。

フロントページの続き (72)発明者 竹谷 元 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 前川 武之 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 河野 裕之 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 高林 正和 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 内川 英興 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 2H047 KA04 KA12 KB04 LA03 LA19 PA30 QA04 RA00 TA00 TA43 TA44 2H049 AA02 AA34 AA59 AA62 2H050 AB05X AD16

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 コア部を有し該コアに沿って光を伝送さ
   せる光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてな
   るグレーティングを形成する方法であって、 １つの光源から出射された光ビームを複数の光ビームに
   分割する光分割ステップと、 上記分割された複数の光ビームをそれぞれ、上記コア上
   の互いに異なる所定の位置にそれぞれ対応する干渉縞が
   形成されるように回折させる回折ステップとを含み、 上記各干渉縞の強度分布にそれぞれ対応した屈折率領域
   を形成することにより、上記分割された各光ビームにそ
   れぞれ対応するグレーティングを形成することを特徴と
   するグレーティング製造方法。
2. 【請求項２】 上記グレーティング製造方法はさらに、
   上記光分割ステップと上記回折ステップとの間に分割さ
   れた光ビームを集光するステップを含む請求項１記載の
   グレーティング製造方法。
3. 【請求項３】 上記光分割ステップにおいて上記分割さ
   れた光ビームがそれぞれ、該光ビームに対応して形成さ
   れるグレーティングの長手方向を含む１つの面内におい
   て所定の強度分布を有するように分割し、上記回折ステ
   ップにおいて上記所定の強度分布に対応する強度分布を
   有する干渉縞をコア上に形成することにより、上記分割
   された光ビームの強度分布に対応した屈折率分布を有す
   るグレーティングを形成する請求項１又は２記載のグレ
   ーティング製造方法。
4. 【請求項４】 上記光分割ステップにおいて、上記屈折
   率分布を有するグレーティングに照射することにより該
   グレーティングの平均屈折率分布が平坦になるような強
   度分布を有する光ビームを成形し、上記グレーティング
   に回折させることなく照射することにより、上記屈折率
   分布を有するグレーティングの平均屈折率分布を平坦に
   することを特徴とする請求項３記載のグレーティング製
   造方法。
5. 【請求項５】 上記回折ステップにおいて、１又は２以
   上の透過型回折格子を用いて回折させる請求項１〜４の
   うちのいずれか１項に記載のグレーティング製造方法。
6. 【請求項６】 上記透過型回折格子が、同一ピッチの溝
   又はピッチの異なる溝を有する請求項第１〜５のうちの
   いずれか１項に記載のグレーティング製造方法。
7. 【請求項７】 コア部を有し該コアに沿って光を伝送さ
   せる光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてな
   るグレーティングを形成する方法であって、 １つの光源から出射された光ビームを、それぞれ互いに
   異なる波長の複数の光を含む複数の光ビームに分割する
   光分割ステップと、 上記各光ビームを平行ビームとした後上記コア上に集光
   することにより、上記コア上に上記分割された光ビーム
   に含まれる上記各光の波長に対応する強度分布を有する
   干渉縞を形成することとを含み、 上記各干渉縞の強度分布にそれぞれ対応した屈折率領域
   を形成することを特徴とするグレーティング製造方法。
8. 【請求項８】 コア部を有し該コアに沿って光を伝送さ
   せる光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されてな
   るグレーティングを形成する装置であって、 １つの光源から出射された光ビームを複数の光ビームに
   分割する光分割部と、 上記分割された複数の光ビームに対応して設けられ、該
   複数の光ビームをそれぞれ上記コア上の互いに異なる所
   定の位置に干渉縞が形成されるように回折させる透過型
   回折格子とを含み、 上記各干渉縞の強度分布にそれぞれ対応した屈折率領域
   を形成することを特徴とするグレーティング製造装置。
9. 【請求項９】 上記グレーティング製造装置はさらに、
   上記光分割部と上記透過型回折格子との間に分割された
   光ビームを集光するレンズを備えた請求項８記載のグレ
   ーティング製造装置。
10. 【請求項１０】 上記光分割部は、上記分割された光ビ
    ームがそれぞれ、該光ビームに対応して形成されるグレ
    ーティングの長手方向を含む１つの面内において所定の
    強度分布を有するように分割し、上記透過型回折格子が
    上記所定の強度分布に対応する強度分布を有する干渉縞
    をコア上に形成するように構成され、上記分割された光
    ビームの強度分布に対応した屈折率分布を有するグレー
    ティングを形成する請求項８又は９記載のグレーティン
    グ製造装置。
11. 【請求項１１】 上記光分割部はさらに、上記屈折率分
    布を有するグレーティングに照射することにより該グレ
    ーティングの平均屈折率分布が平坦になるような強度分
    布を有する光ビームを成形し、該光ビームを上記グレー
    ティングに直接照射するようにすることにより、上記屈
    折率分布を有するグレーティングの平均屈折率分布を平
    坦にすることを特徴とする請求項１０記載のグレーティ
    ング製造装置。
12. 【請求項１２】 上記透過型回折格子が、同一ピッチの
    溝又はピッチの異なる溝を有してなる請求項第８〜１１
    のうちのいずれか１項に記載のグレーティング製造装
    置。
13. 【請求項１３】 コア部を有し該コアに沿って光を伝送
    させる光伝送路に互いに異なる屈折率領域が並置されて
    なるグレーティングを形成する装置であって、 １つの光源から出射された光ビームを、それぞれ互いに
    異なる波長の複数の光を含む複数の光ビームに分割する
    光分割部と、 上記各光ビームを平行ビームとする拡大光学レンズと、 上記平行ビームを上記コア上に集光することにより、上
    記コア上に上記分割された光ビームに含まれる上記各光
    の波長に対応する強度分布を有する干渉縞を形成する縮
    小光学レンズとを含み、 上記各干渉縞の強度分布にそれぞれ対応した屈折率領域
    を形成することを特徴とするグレーティング製造装置。