JPH10239537A - 導波管にブラッグ反射格子を作成する方法 - Google Patents

導波管にブラッグ反射格子を作成する方法

Info

Publication number
JPH10239537A
JPH10239537A JP9316940A JP31694097A JPH10239537A JP H10239537 A JPH10239537 A JP H10239537A JP 9316940 A JP9316940 A JP 9316940A JP 31694097 A JP31694097 A JP 31694097A JP H10239537 A JPH10239537 A JP H10239537A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
section
mask
grating
writing
written
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9316940A
Other languages
English (en)
Inventor
Howard Neil Rourke
ニール ローク ハワード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nortel Networks Ltd
Original Assignee
Northern Telecom Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Northern Telecom Ltd filed Critical Northern Telecom Ltd
Publication of JPH10239537A publication Critical patent/JPH10239537A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
    • G02B6/02085—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response characterised by the grating profile, e.g. chirped, apodised, tilted, helical
    • G02B6/02095—Long period gratings, i.e. transmission gratings coupling light between core and cladding modes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
    • G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02152—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating involving moving the fibre or a manufacturing element, stretching of the fibre

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、光ファイバに区画毎に書き込まれ
た長いブラッグ格子の隣接した区画間の位相不連続性を
回避する方法を提供する。 【解決手段】 本発明の方法は書込部の他に整列部を有
するマスクを使用する。各整列部は隣接マスクの書込部
の一部分の複製である。ブラッグ格子の書き込みは、関
連した吸収性格子を生成し、マスクの整列部及び既に書
き込まれた格子の部分を連続して通過する光の透過は、
マスクが正確に位置合わせされるまで移動されたときに
最大になる。マスク位置の精確な調整はこのマスクを用
いた書き込みが開始される前に上記条件を検出するため
行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスク、典型的に
は位相マスクを通過する照射、典型的には紫外線照射に
よって、或いは、ホログラフィー手段によって光導波
管、典型的には光ファイバ導波管にブラッグ反射格子を
作成する方法に関する。かかる反射格子の一つの応用
は、光伝送系における色分散等化である。かかる用途は
米国特許第４９５３９３９号明細書に記載されている。
【０００２】
【従来の技術】ブラッグ反射格子のある種の応用は、格
子を作成するための単一マスクを製造するのに都合がよ
い長さよりも長い格子間隔を必要とする。例えば、１メ
ートルの長さの領域にブラッグ格子を作成することが要
求される場合があるが、一方、約１００ミリメートルよ
りも遙かに長いマスクを電子ビーム式に製造するには著
しい困難が伴う。上記問題を解決するため提案された解
決法は、長い格子を端から端まで配置された連続した区
画でステップ状に作成することである。最初に作成され
るべき区画を除く各区画は、直前に作成された区画の端
から、若しくは、その端を少し超えた所から始まるよう
に作成される。各区画が波長分割多重化信号の単一チャ
ネルの全スペクトルを被うスペクトル帯域幅を有する波
長分割多重化（ＷＤＭ）環境用のため長い格子が設計さ
れるならば、格子の個々の区画の反射帯域が周波数多重
化信号の個々のチャネルを分離するスペクトルガード帯
域内に完全に収まるガード帯域によって空間的に分離さ
れるように、材料を配置することが可能である。上記の
状況下で、格子の隣接した区画の間の物理的分離は殆ど
重要な意味がない。
【０００３】これに対し、長い格子のスペクトル反射特
性の破壊が防止されるべきである場合、一方の区画のス
ペクトル特性は、他の区画のスペクトル特性がカットオ
フされるスペクトル内のポイントでカットオンするとい
う問題がある。これは、両方の区画が共通の波長で部分
的に反射することを意味する。有効な反射のポイントが
一致するならば問題はない。一方、反射部品が相互に長
手方向に離間しているならば、二つの反射部品はコヒー
レント的に干渉し、その結果として、合成された反射の
大きさは、干渉している部品間に存在する位相分離に著
しく依存する。R Kashyap 他による論文“Super-step-c
hirped fibre Bragg gratings ”，Electronics Letter
s(1986年 7月18日) ，第32巻，第15号，ページ1394-6
には、格子の隣接した区画が、互いに接触させられるこ
となく、導波管の短い介挿部によって隔離されるように
巧みに配置されることにより、光屈折効果を使用するこ
と、並びに、二つの介挿部品の位相分離が所望の値に移
されるようにあらゆる介挿部の有効光路長を削減するた
め紫外線光を使用することが可能になる。この手段によ
って、格子の隣接した区画の間の最適化されていない間
隔によって生するブラッグ格子全体のスペクトル反射特
性の急激な低下を平滑化することが可能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】区画を整列させる上記
の解決法は、隣接した区画の間に本質的に間隔を必要と
するので、特定の波長の光がブラッグ格子を含む導波管
の一端から反射ポイントまで伝搬され、同じ一端まで戻
るために要する時間、即ち、遅延時間が滑らかに変化す
る波長の関数ではなく、格子の隣接した区画の間の間隔
と同数の多数のステップ、若しくはより複雑な不連続性
を含む関数であり、上記不連続領域内の遅延は二つの隣
接した格子区画により反射された同一波長の成分間のフ
ァブリー・ペロ形共振効果による影響を受けることを欠
点とする。
【０００５】本発明は、一区画ずつ作成されるような光
導波ブラッグ反射格子の区画を整列する方法において、
隣接した区画を直接的に接触させる間隔が隣接した区画
の間に必要とされないことを特徴とする方法の提供を目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は、ブラッ
グ反射格子を形成するため協働する導波管内の屈折率
（実部）変化のフリンジパターンを作成するため利用さ
れる照射が、屈折率の実部を全面的には変化させるだけ
ではなく虚部を変化させる、即ち、付随した光吸収性フ
リンジパターンを生成するという事実に依拠する。本発
明の方法は、この事実を使用して、ブラッグ格子の特定
の区画を作成するため準備されたマスクを既に作成され
た格子の隣接した区画に対し整列させる方法を提供す
る。この目的のため、上記マスクには、既に作成された
隣接した格子区画の対応する隣接端部に有効に適合する
周期性を有するフリンジパターンを作成する重複部分が
設けられる。この重複部分はマスク整列の目的のためだ
けに使用され、マスクがブラッグ格子の対応した区画を
作成するため実際に使用されるときには照射されない。
上記の整列過程は、マスクの重複部分と既に作成された
隣接した格子区画の隣接端部との直列結合を通過する光
を投射する段階を含む。この光の波長は既に作成された
隣接した格子区画に在る光吸収性フリンジパターンによ
って異なって吸収されなければならないが、この光の強
度は重大なフリンジパターンの光屈折効果の妨害の危険
性を伴うことなく整列過程を完了させるため充分に低く
する必要がある。
【０００７】マスクが完全に位置合わせされていると
き、マスクの整列部分により作成されたフリンジの明る
い部分は、対応した既に作成されたブラッグ格子の区画
内に在る光吸収性フリンジパターンの最も吸収性の少な
い領域と厳密に整列させられるので、投射された光の透
過は最大になる。フリンジパターンが両方に対し同一の
均等なピッチを有するならば、マスク及び格子が互いに
厳密に位置合わせされた位置から徐々に動かされると共
に、透過は最大と最小との間で循環的に変調される。フ
リンジパターンが同一の均等なチャープ状ピッチを有す
るならば、完全な位置合わせと関連した原理的な最大値
と、完全な位置合わせからの距離が増加すると共に徐々
に減少する強度最大値とが存在する。
【０００８】典型的に、マスクは０次回折への電力打込
みを最小限に抑えるため設計された位相マスクであり、
この場合、透過は、別の次数、典型的に１次回折に打込
まれた光を集めるため光検出器が配置されることにより
監視される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の光ファイバ導波管にブラッグ反射格子を作成する方法
の好ましい実施例を説明する。図１を参照するに、格子
が作成されるべき単一モード光ファイバ１１の全長の一
部分は、格子のラインがファイバ軸の横方向、好ましく
は、ファイバ軸と直角に延在するように向きを定められ
た位相格子１０ａと殆ど接触させられるように支持部１
２及び１３の間で軽く張られる。２４４ｎｍの周波数２
倍紫外線光出力を与えるアルゴンイオンレーザ１４は、
その出力が、望遠鏡１５、アパーチャ１６、ミラー１７
及び円柱レンズ１８を介して位相格子１０ａに向けられ
る。ミラー１５はステップ駆動装置１９に取り付けら
れ、ミラー１５は、このステップ駆動装置１９を用い
て、ファイバ１１の軸方向に位相格子１０ａを横切る光
ビームを追跡するようにファイバ１１の軸方向に制御さ
れた方法で移動され得る。
【００１０】位相マスク１０ａは、シリカの薄板に作成
された位相コントラスト回折格子である。この目的のた
め、シリカ板は、下にあるシリカの反応イオンエッチン
グ用のマスクを形成するため、それ自体が電子ビームリ
ソグラフィーでパターン化されたクロムの層で被膜され
る。エッチの深さは、位相マスク上に法線方向から入射
する光の０次回折を抑止するよう選択される。レーザ
は、２４４ｎｍで約１００ｍＷのｃｗ出力を有し、その
中のおよそ半分は、ファイバ軸と整列された長軸に関し
て約３ｍｍ×１５０μｍを測定する実質的に矩形状ゾー
ン内の位相マスクに光学系によって集光される。この出
力は、D L Williams他による論文“Enhanced UV Photos
ensitivity in Boron Co-doped Germanosilicate Fibre
s ”、Electronics Letters 1993年 1月 7日、第29巻、
第 1号、45-47 ページに記載されたのと同じ方法で、ホ
ウ素及びゲルマニウムがドープされたコアを有する水素
化されていないファイバの軸方向に毎秒１００μｍで光
のビームを一回の横移動させて書き込むのに十分である
ことが分かった。
【００１１】上記の詳細な説明は、ブラッグ格子の第１
の区画がファイバ１１に作成され得る一つの方法を除い
て幾つかの異なる他の方法の特徴を表わし、ここまでの
説明で本発明の方法は従来技術とは区別されていない。
分散補償として用いるため単一モードファイバ１１の全
長に作成された長いブラッグ反射格子の具体的な例で
は、格子のピッチは均等ではないが、図２にライン２０
によって示されるように一端から他端まで単調にチャー
プされる。かかる格子を一つの区画ずつで作成するた
め、マスクの集合の中の異なる一つのマスクが各区画を
作成するため使用される。例示だけの目的のため、この
集合は図２に６個のマスク１０ａ乃至１０ｆの集合とし
て表わされている。上記６個のマスクの場合に、マスク
１０ａはａからｂまでの範囲にライン２０を作成するた
め使用され、マスク１０ｂはｂからｃまでの範囲にライ
ン２０を作成するため使用され、以下同様である。マス
ク１０ａは、ａからｂまでの範囲を被うが、他の各マス
ク１０ｂ乃至１０ｆは、前の範囲の一部の上まで延びる
範囲を被う。かくして、マスク１０ｂは、ファイバに書
き込む範囲であるｂからｃまでの範囲を被うと同時に、
マスク１０ａを用いて書き込まれるａからｂまでの範囲
の中のｂ’からｂまでの部分を被う。このｂ’からｂま
での部分、並びに、対応したｃ’からｃまでの部分、
ｄ’からｄまでの部分，ｅ’からｅまでの部分、及び、
ｆ’からｆまでの部分は、整列の目的のため使用され
る。
【００１２】理想的に言うと格子のチャープは単調かつ
滑らかであるが、位相マスクの集合を製造するため特定
の電子ビーム装置が用いられるならば、これは実際上問
題ではない。従って、ピッチが滑らかに変化させられる
代わりに、典型的に、ピッチが２００乃至３００ステッ
プの間でステップ状に変化させられる位相マスクが使用
され、滑らかにチャープする格子への近似が行われる。
各ステップの範囲内で各ピッチは一定であるが、一端か
ら他端までの位相マスク内のステップとステップとの間
で滑らかなピッチの推移がある。電子ビームの精度は、
あらゆる個別の位相マスクの構成要素ステップの間の割
出し問題を除去するのに充分である。
【００１３】例示の便宜のため、図２には梯形に配置さ
れたマスク１０ａ乃至１０ｆが示されるが、実際に各マ
スクがブラッグ格子の関連した区画を作成するため使用
されるとき、各マスクは、特にマスク１０ａとファイバ
１１との間の位置関係について図１を参照して説明した
のと同じようにファイバ１１と接近した間隔の関係にあ
る。
【００１４】各マスク１０ｂ乃至１０ｆは、マスク１０
ａによって先に被われた位置に設け、このマスクと予め
ファイバ１１に作成されたブラッグ格子との間に要求さ
れる整列を実現するため、ファイバ１１が軸方向に沿っ
て略要求された量ずつ割出される。推定だけに基づくな
らば、かかる割出しは典型的に約１乃至２μｍの精度を
達成し得るが、より高い精度が要求される。これは、以
下の相対位置の精確な調整による推定割出しによって実
現される。この精確な調整は、高精度移動台２１（図１
を参照のこと）、例えば、圧電性又は電歪性移動台を使
用し、移動台に各マスク又はファイバ支持部１２及び１
３を取り付けることにより実現される。例示の便宜のた
め、図１には、移動台に取り付けられたファイバ支持部
１２及び１３が示されている。
【００１５】以下、特に、マスク１０ｂのファイバ１１
に対する位置の精確な調整に関する図３乃至８を参照し
て、精確な調整が実現される方法を説明する。図４乃至
８は、図２のｂ’とｂとの間にあるファイバ１１の一部
分を示す図である。図３には、ファイバ１１の一部分
が、ドープされたコア１１ａと、ファイバ１１内にブラ
ッグ反射格子の区画を作成するため準備された位置にあ
るマスク１０ａの一部分ともに示される。図４は上記格
子の区画の実際の作成の説明図である。区画の作成は、
光屈折効果によって対応して屈折率が増加し、吸収率が
低下した容積部分をコア１１ａに生ずる光の強度スポッ
ト２３のフリンジパターンを形成するため、レーザ１４
からの強度紫外線光をマスク１０ａを介して当てること
により実現される。容積部分２４が示された図５には、
マスク１０ａを除去した後のファイバ１１が示されてい
る。図６は、マスク１０ｂがファイバに対し略正確な位
置に割出され、一方、ｂ’とｂとの間にあるマスク１０
ｂの領域の一部分が光のスポット２５のフリンジパター
ンを生成するためインタロゲーション照明で照射されて
いる状況を表わす。上記マスク１０ｂの領域は、ｂ’と
ｂとの間にある領域の正確な複製である。
【００１６】従って、ｂ’とｂとの間にある領域内で、
屈折率が増加し、吸収性が低下した容積部分２４の相対
配置は、マスク１０ａにより生成された強度スポット２
３のフリンジパターンの相対配置と正確に一致し、それ
自体は、また、マスク１０ｂにより生成されたスポット
２５のフリンジパターンが正確に一致させられる。上記
のステップ状に変化させられた位相マスクを用いる特定
の例では、ｂ’とｂとの間にある領域は上記ステップの
中の一つのステップにより構成される点が典型的かつ便
宜である。
【００１７】スポット２５のフリンジパターンを生成す
るためのインタロゲーション照明は、それ自体の重大な
光屈折効果の変化をファイバ１１上に全く生じさせない
波長及び強度からなる必要があり、他方で、インタロゲ
ーション照明は、その波長に対する吸収性が異なる波長
でなければならず、即ち、吸収性の低下した容積部分２
４によって示される吸収性が、コア１１ａの介挿領域に
よって示される吸収率とは著しく異なる波長でなければ
ならない。上記の特定のファイバ組成及び照明条件に対
し、上記の判定規準は、同じ波長（２４４ｎｍ）を使用
し、しかし、マスクにおける強度を約２０ｄＢ低下させ
ることにより適切に充たされる。文献によれば、異なる
ドーパント調製法が異なる吸収スペクトルの幅を与える
ことが示されている。ある種の調製法の場合に、ブラッ
グ格子を書き込むために使用される波長よりも非常に長
い波長をインタロゲーションの目的のため使用すること
が可能になり、これにより、インタロゲーションがそれ
自体の（望まれていない）書込効果を生ずる危険性を低
下させる。
【００１８】マスク１０ｂをファイバ１１に対し略要求
された位置に移す推定割出しにより、正確な位置をフリ
ンジ間隔の約半分だけ見失う場合に、インタロゲーショ
ンスポット２５は、図６に示すように並べられ、より吸
収性の高い領域が隣接した吸収性の低下した領域２４の
間に在る。正確な位置がフリンジ間隔の約４分の１ずつ
見失われる場合は、図７に示されるような状況によって
示され、インタロゲーションスポット２５は、吸収性が
低下された領域２４と半分だけ位置合わせされる。幸運
にも要求された位置合わせが厳密に得られるならば、イ
ンタロゲーションスポット２５は、図８に示されるごと
く、吸収性が低下した領域２４と完全に位置合わせされ
る。
【００１９】図８の状況の場合に、厳密に正しい位置関
係によってファイバを通過するインタロゲーション照明
の最大の透過が得られ、一方、図６の状況では、最小の
透過しか得られないことが分かる。圧電性移動台２１
は、従って、マスク１０ｂ及びファイバ１１の相対位置
を循環させ、同時に、上記の透過光の一部を遮断するよ
う配置された光検出器２２（図１を参照のこと）の出力
を監視するため作動される。マスク１０ｂは０次回折光
を抑制するよう設計されているので、光検出器２２は、
好ましくは、１次回折光を遮る位置に正しく置かれる。
圧電性移動台２１は、次に、光検出器２２の最大出力に
対応した位置にセットされ、この位置が維持される間
に、格子の第２の区画、ｂからｃまでの区画がファイバ
１１に作成される。上記のごとく、予めマスク１０ａを
用いて書き込まれた（作成された）ｂ’からｂまでの格
子の位置はマスク１０ｂを用いて上書きされないので、
マスク１０ｂの対応する部分自体は、ｂからｃまでの区
画の書き込み中にマスクされる必要がある。
【００２０】第３及び引き続くマスク（マスク１０ｃ及
びそれ以降のマスク）によって整列し書き込む過程は、
第２のマスク（マスク１０ｂ）による整列、書き込みに
関する上記の同じ過程の後に続く。各監視過程の間に、
位相ロックドループ検出システムが光検出器２２によっ
て遮られた光の部分を検出するため利用されるように、
レーザ１４と望遠鏡１５との間の光路に一時的にチョッ
パーブレード（図示しない）を設置することが好まし
い。
【００２１】上記の実施例の説明は、光ファイバ導波管
にチャープ状格子を書き込む方法に係わり、格子の各構
成区間（ａ乃至ｂ）から（ｆ乃至ｇ）を書き込むため異
なるマスク（１０ａ乃至１０ｆ）を使用することに関係
する。しかし、光ファイバ導波管の均等なピッチの格子
の区画内での書き込みのため、同じマスクが利用され得
ることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図１】ブラッグ反射格子を作成するため利用される装
置の概略図である。
【図２】格子の概略図である。
【図３】ブラック反射格子内にブラッグ反射格子の一部
分を作成する連続的な段階中におけるファイバの一部分
の断面図である。
【図４】ブラック反射格子内にブラッグ反射格子の一部
分を作成する連続的な段階中におけるファイバの一部分
の断面図である。
【図５】ブラック反射格子内にブラッグ反射格子の一部
分を作成する連続的な段階中におけるファイバの一部分
の断面図である。
【図６】ブラッグ反射格子の次の隣接した区画を作成す
るため利用されたマスクを整列するため使用される整列
過程の説明図である。
【図７】ブラッグ反射格子の次の隣接した区画を作成す
るため利用されたマスクを整列するため使用される整列
過程の説明図である。
【図８】ブラッグ反射格子の次の隣接した区画を作成す
るため利用されたマスクを整列するため使用される整列
過程の説明図である。
【符号の説明】
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ，１０ｆ
位相格子 １１ 単一モード光ファイバ １１ａ コア １２，１３ 支持部 １４ レーザ １５ 望遠鏡 １６ アパーチャ １７ ミラー １８ 円柱レンズ １９ ステップ駆動装置 ２０ 格子ピッチ ２１ 移動台 ２３，２５ スポット ２４ 容積部分

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 マスクを通過する照射により作成された
    連続した各区画に一つずつ格子が作成され、 最初に作成されるべき区画の後の各区画は、先に作成さ
    れた区画に対し隣接した関係で作成され、 各区画が作成される前に、区画を作成するため使用され
    るマスクの一部分と隣接した既に作成された区画の一部
    分との直列結合を通して光が投射され、 投射された光の透過を最適化するためマスクと格子の相
    対位置が調整され、 透過を最適化する相対位置が維持される間に上記区画が
    作成される段階からなる光導波管にブラッグ反射格子を
    作成する方法。
  2. 【請求項２】 光ファイバ導波管である光導波管への格
    子の作成に使用される請求項１記載の光導波管にブラッ
    グ反射格子を作成する方法。
  3. 【請求項３】 上記マスクは光位相格子マスクである請
    求項１記載の光導波管にブラッグ反射格子を作成する方
    法。
  4. 【請求項４】 請求項１記載の方法を用いて連続した区
    画に一つずつ作成されたブラッグ反射格子。
  5. 【請求項５】 区画の書き込みのため利用される関連し
    たマスクを有する連続した各区画に一つずつで光導波管
    にブラッグ反射格子を書き込む方法において、 最初に書き込まれる区画のため利用されるマスク以外の
    マスクは、書込部と整列部とを有し、 マスクの書込部は別のマスクの書込部の一部分の複製で
    あり、 最初に書き込まれる区画以外の各区画の書き込みの前
    に、書き込まれるべき区画のマスクは、そのマスクの整
    列部がブラッグ反射格子の関連した区画を書き込むため
    利用された書込部を複製するマスクの書込部の一部分に
    よって先に被われた位置と略一致するように、光導波管
    に対し相対的に配置され、 光導波管に対する相対位置の精確な調整は、書き込まれ
    るべき区画のマスクの整列部と、上記整列部を近似的に
    配置するため用いた既に書き込まれたブラッグ反射格子
    の部分との直列結合を通過し、既に書き込まれたブラッ
    グ反射格子の区画が差のある光吸収性を示すスペクトル
    内容を有するインタロゲーション光の透過を最大にする
    ため行われ、 精確な調整が行われたとき、光導波管に対するマスクの
    相対位置は、マスクがその関連したブラッグ反射格子の
    区画を書き込むため利用される期間中に維持されている
    光導波管にブラッグ反射格子を書き込む方法。
  6. 【請求項６】 光ファイバ導波管である光導波管への格
    子の書き込みに使用される請求項５記載の光導波管にブ
    ラッグ反射格子を書き込む方法。
  7. 【請求項７】 区画を書き込むため利用されるマスクは
    光位相格子マスクである請求項５記載の光導波管にブラ
    ッグ反射格子を書き込む方法。
  8. 【請求項８】 請求項５記載の方法を用いて連続した区
    画に一つずつで光導波管に書き込まれたブラッグ反射格
    子。
  9. 【請求項９】 区画の書き込みのため利用される関連し
    たマスクを有する連続した各区画に一つずつで光導波管
    にブラッグ反射格子を書き込む方法において、 最初に書き込まれる区画のため利用されるマスク以外の
    マスクは、書込部と整列部とを有し、 マスクの書込部は別のマスクの書込部の一部分の複製で
    あり、 最初に書き込まれる区画以外の各区画の書き込みの前
    に、書き込まれるべき区画のマスクは、２段階の工程を
    用いて、光導波管に既に書き込まれたブラッグ反射格子
    の区画と整列され、 上記２段階の工程は、 書き込まれるべき区画のマスクの整列部がブラッグ反射
    格子の関連した区画を書き込むため利用された書込部を
    複製するマスクの書込部の一部分によって先に被われた
    位置と略一致するように、書き込まれるべき区画のマス
    クを光導波管に対し相対的に配置する第１の段階と、 上記第１の段階の後に続き、書き込まれるべき区画のマ
    スクの整列部と、上記整列部を近似的に配置するため用
    いた既に書き込まれたブラッグ反射格子の部分との直列
    結合を通過し、既に書き込まれたブラッグ反射格子の区
    画が差のある光吸収性を示すスペクトル内容を有するイ
    ンタロゲーション光の透過を最大にするため光導波管に
    対する相対位置を精確に調整する第２の段階とからな
    る、光導波管にブラッグ反射格子を書き込む方法。
  10. 【請求項１０】 光ファイバ導波管である光導波管への
    格子の書き込みに使用される請求項９記載の光導波管に
    ブラッグ反射格子を書き込む方法。
  11. 【請求項１１】 区画を書き込むため利用されるマスク
    は光位相格子マスクである請求項９記載の光導波管にブ
    ラッグ反射格子を書き込む方法。
  12. 【請求項１２】 請求項９記載の方法を用いて連続した
    区画で１ステップ毎に光導波管に書き込まれたブラッグ
    反射格子。
JP9316940A 1996-11-19 1997-11-18 導波管にブラッグ反射格子を作成する方法 Pending JPH10239537A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US752699 1996-11-19
US08/752,699 US5837169A (en) 1996-11-19 1996-11-19 Creation of bragg reflactive gratings in waveguides

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10239537A true JPH10239537A (ja) 1998-09-11

Family

ID=25027412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9316940A Pending JPH10239537A (ja) 1996-11-19 1997-11-18 導波管にブラッグ反射格子を作成する方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5837169A (ja)
EP (1) EP0843186B1 (ja)
JP (1) JPH10239537A (ja)
CA (1) CA2219530C (ja)
DE (1) DE69709039T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017163505A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 株式会社フジクラ 光ファイバグレーティングの製造装置及び製造方法

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9509874D0 (en) * 1995-05-16 1995-07-12 Univ Southampton Optical waveguide grating
US5945261A (en) * 1996-11-19 1999-08-31 Northern Telecom Limited Creation of Bragg reflective gratings in waveguides
GB2329484A (en) * 1997-09-22 1999-03-24 Northern Telecom Ltd Writing Bragg reflection gratings in optical waveguides
US6728444B2 (en) 1997-10-02 2004-04-27 3M Innovative Properties Company Fabrication of chirped fiber bragg gratings of any desired bandwidth using frequency modulation
US6035083A (en) * 1997-10-02 2000-03-07 3M Innovative Company Method for writing arbitrary index perturbations in a wave-guiding structure
EP0974853B1 (en) * 1998-01-20 2006-09-13 Hiroyuki Hoshino Method for producing chirped in-fibre bragg grating
AUPP381698A0 (en) * 1998-05-29 1998-06-25 University Of Sydney, The Electro-, magneto- or acousto- optically controlled UV writing set up for bragg grating fabrication
AUPP425898A0 (en) 1998-06-22 1998-07-16 University Of Sydney, The An improved grating writing system
JP2002529762A (ja) * 1998-10-30 2002-09-10 コーニング インコーポレイテッド 光誘起回折格子の波長整調
CA2259350A1 (en) 1999-01-20 2000-07-20 Hamid Hatami-Hanza Method for volume production of optical grating devices with tuning capability
US6347171B1 (en) 1999-03-31 2002-02-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for forming a diffraction grating
US6438287B1 (en) 1999-06-23 2002-08-20 Nortel Networks Limited Dispersion compensation
US6275331B1 (en) 1999-06-30 2001-08-14 Nortel Networks Limited Optical amplifiers
JP2003510854A (ja) * 1999-09-29 2003-03-18 コーニング オーティーイー エッセピーアー ファイバー・レーザの製造方法
US6800401B2 (en) 2000-04-27 2004-10-05 Petersen Advanced Lithography, Inc. Method for phase shift mask design, fabrication, and use
US6832023B1 (en) * 2000-05-19 2004-12-14 Georgia Tech Research Corporation Optical fiber gratings with azimuthal refractive index perturbation, method of fabrication, and devices for tuning, attenuating, switching, and modulating optical signals
GB2365992B (en) 2000-08-14 2002-09-11 Univ Southampton Compound glass optical fibres
JP3754634B2 (ja) * 2001-06-27 2006-03-15 独立行政法人科学技術振興機構 光ファイバーグレーティングの作製方法及び作製装置、光ファイバーグレーティング
CA2354289A1 (en) * 2001-07-26 2003-01-26 Viamode Photonics Inc. Method and apparatus for aligning an optical fiber with a radiation source
US6803335B2 (en) 2001-08-03 2004-10-12 The University Of Southampton Gallium lanthanum sulfide glasses and optical waveguides and devices using such glasses
US6975794B2 (en) * 2002-03-15 2005-12-13 Intel Corporation Method and apparatus for fabricating a waveguide Bragg grating using pulsed light
US7298956B2 (en) * 2002-09-06 2007-11-20 The Johns Hopkins University Transitions in refractive index using electro-optic polymers
US20040173921A1 (en) * 2003-03-07 2004-09-09 Konica Minolta Holdings, Inc. Electron beam depicting method, production method of mother die, mother die, production method of metallic mold, metallic mold, optical element and electron beam depicting apparatus
JP4222141B2 (ja) * 2003-07-25 2009-02-12 沖電気工業株式会社 スーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティングの製造方法及び製造装置
US7492442B2 (en) 2004-08-27 2009-02-17 Asml Holding N.V. Adjustable resolution interferometric lithography system
US8520176B2 (en) 2011-02-01 2013-08-27 Industrial Technology Research Institute Stereoscopic display module, method for manufacturing the same and manufacturing system thereof
US9897433B2 (en) * 2015-10-30 2018-02-20 KLA—Tencor Corporation Method and system for regional phase unwrapping with pattern-assisted correction
CN109739027B (zh) * 2019-01-16 2021-07-27 北京华捷艾米科技有限公司 光点阵投影模组和深度相机

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7606548A (nl) * 1976-06-17 1977-12-20 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
NL8600638A (nl) * 1986-03-12 1987-10-01 Philips Nv Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.
US5351321A (en) * 1992-10-20 1994-09-27 Elias Snitzer Bragg grating made in optical waveguide
US5400422A (en) * 1993-01-21 1995-03-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Technique to prepare high-reflectance optical fiber bragg gratings with single exposure in-line or fiber draw tower
DE19605062C1 (de) * 1996-02-12 1997-08-28 Univ Dresden Tech Verfahren zur Erzeugung eines langen Bragg-Gitters in einer optischen Monomodefaser

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017163505A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 株式会社フジクラ 光ファイバグレーティングの製造装置及び製造方法
US10976487B2 (en) 2016-03-25 2021-04-13 Fujikura Ltd. Manufacturing device and manufacturing method of optical fiber grating

Also Published As

Publication number Publication date
EP0843186A1 (en) 1998-05-20
DE69709039D1 (de) 2002-01-24
US5837169A (en) 1998-11-17
DE69709039T2 (de) 2002-05-02
EP0843186B1 (en) 2001-12-12
CA2219530C (en) 2001-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10239537A (ja) 導波管にブラッグ反射格子を作成する方法
US5945261A (en) Creation of Bragg reflective gratings in waveguides
FR2697642A1 (fr) Méthode de fabrication de réseaux de diffraction de Bragg.
EP1197771A1 (en) Method of producing a Bragg grating in an optical waveguide
US6545808B1 (en) Phase mask with spatially variable diffraction efficiency
EP0875013B1 (en) Method and device for recording a refractive index pattern in an optical medium
US5818988A (en) Method of forming a grating in an optical waveguide
US20030138207A1 (en) Method of fabricating multiple superimposed fiber bragg gratings
JP2000501852A (ja) 屈折率格子の形成方法
EP0881515B1 (en) Spatial filter for high power laser beam
KR100334799B1 (ko) 광섬유격자 제작 장치 및 방법
EP0919841A1 (en) Method of writing short period reflective Bragg gratings using an amplitude mask
CA2237963C (en) A method of and a device for making bragg gratings in optical fibres or waveguides
KR19980703386A (ko) 로이드의 거울(Ｌｌｏｙｄ’ｓ Ｍｉｒｒｏｒ)을 이용한 감광성격자의 형성방법
US6751381B1 (en) Embodying amplitude information into phase masks
JPH08101322A (ja) 透過型ファイバグレーティングフィルタの製造方法及びその装置
JPH11295541A (ja) 導波路型回折格子の製造方法及び導波路型回折格子製造装置
KR100334822B1 (ko) 평면 도파로열 격자를 구비한 파장분할 다중/역다중화기의 중심파장 조절 방법
CN1228653C (zh) 一种任意波长数及波长间隔反射谱的光纤光栅制作方法
US6868208B2 (en) Apodization method for a bragg grating
JPH10160949A (ja) 光導波路型回折格子の製造方法
CN110542946A (zh) 一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法
JPH10133039A (ja) 屈折率分布の形成方法
JPH0829631A (ja) チャープグレーティング作製装置
WO2000003297A1 (en) Method and apparatus for manufacturing apodized phase masks and related devices

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050222

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050712