JP2002529762A - 光誘起回折格子の波長整調 - Google Patents

光誘起回折格子の波長整調

Info

Publication number
JP2002529762A
JP2002529762A JP2000580029A JP2000580029A JP2002529762A JP 2002529762 A JP2002529762 A JP 2002529762A JP 2000580029 A JP2000580029 A JP 2000580029A JP 2000580029 A JP2000580029 A JP 2000580029A JP 2002529762 A JP2002529762 A JP 2002529762A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
phase mask
diffraction grating
distance
focusing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000580029A
Other languages
English (en)
Inventor
バティア，ヴィクラム
エイ モデイヴィス，ロバート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of JP2002529762A publication Critical patent/JP2002529762A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
    • G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02142—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating based on illuminating or irradiating an amplitude mask, i.e. a mask having a repetitive intensity modulating pattern
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/7035—Proximity or contact printers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70408—Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/90—Methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 可能な範囲のブラッグ波長を有する光回折格子を、単一の位相マスクを用い、このマスクに空間的にフィルタリングされた非コリメート光ビームを当てることによりつくることができる。空間フィルタ(３０)がビームから高空間周波数成分を除去し、焦点調節光学系(３６)がフィルタリングされたビームを位相マスク(４０)に向ける。可能な範囲の周期を有する回折格子を導波路につくるために、ビームの集束率及び位相マスクと感光性導波路の露光部分(１２)との間隔が変えられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】発明の分野 本発明は、パターン付化学線露光により光導波路の感光性材料に作製される光
回折格子に関する。交互する光帯を含むパターンは全般的に干渉縞によりつくら
れ、周期を１μｍ未満とすることができる。
【０００２】技術的背景 光導波路回折格子、特にファイバブラッグ回折格子を作製するための干渉パタ
ーンは、干渉計または位相マスクを用いてつくることができる。干渉計はコヒー
レントな光ビームを、所望の干渉パターンをつくるためにある角度をもって導波
路で再合成させられる、２本の別々のビームに分ける。それ自体が回折格子であ
る位相マスクは同様に、コヒーレントビームを、同様の干渉パターンをつくるた
めに導波路で再合成させられる、相異なる回折次数もつビームに分ける。
【０００３】 干渉計は安定性が低く、製造環境での使用が困難なことがあるため、作製のた
めには位相マスクが好まれることが多い。位相マスクは安定性は高いが、得られ
る干渉パターンの周期の調節に対する融通性が低い。コリメートされた２本のビ
ーム間の干渉周期は、干渉ビームの波長とビームが合成される点での角度の関数
である。位相マスクで分けられたビームのいかなる波長変化も、分けられたビー
ムが再合成される回折角を変化させるから、所望の干渉パターンのそれぞれに対
して異なる位相マスクが必要となることが多い。
【０００４】 位相マスクでつくられる光誘起導波路パターンの効果を調節するためにいくつ
かの手法が開発されている。得られる回折格子応答のブラッグ波長（中心波長）
は格子周期と導波路の平均屈折率のいずれもの関数である。ブラッグ波長の小さ
な調節は導波路（すなわち光ファイバ）にあらかじめ応力をかけること及び集束
または発散ビームで位相マスクを照射することによりなされてきた。
【０００５】 前者の手法は、“フォトニクス・テクノロジー・レターズ（Photonics Techno
logy Letters）”誌，第６巻、第７号（１９９４年７月）に発表された、「あら
かじめ応力をかけたファイバへの回折格子書込によるブラッグ波長の整調」と題
する、クイン・ザン(Quin Zhang)等の論文に述べられている。応力をかけられた
状態で、感光性ファイバが位相マスクによりつくられた干渉パターンで露光され
る。応力が除かれると、ブラッグ波長は無応力状態で同様に露光されたファイバ
に対して低い側にシフトする。ファイバ及びその他の光導波路は限られた強さの
応力にしか耐えられないから、この手法による調節の大きさは限られている。
【０００６】 “エレクトロニクス・レターズ(Electronics Letters)”誌，第２９巻，第１
８号（１９９３年９月２日）に発表された、「マスクで作製されたファイバブラ
ッグ回折格子の拡大／縮小」と題する、ジェイ・ディー・プロハスカ(J. D. Pro
haska)等による論文は、感光性ファイバに入射する干渉パターンの倍率を調節す
るために集束または発散ビームで位相マスクを照射することを提案している。集
束または発散レンズの倍率、レンズと位相マスクとの間隔、及び位相マスクとフ
ァイバとの間隔を変えて、位相マスクを通過する光のフレネル近接場内で干渉パ
ターンの倍率を調節することができる。しかし、位相マスクからある距離につく
られる干渉パターンは照射ビームの空間的コヒーレンスにより制限されるから、
実用上は、周期を大きく変化させることはできない。
【０００７】 アンダーソン(Anderson)等への米国特許第５,３２７,５１５号では、位相マス
クで形成された干渉パターン像をファイバ上に投影するために、位相マスクと感
光性ファイバとの間にレンズがおかれている。このレンズ投影系は、ファイバ上
に投影される干渉パターンを拡大または縮小するように配置することができる。
しかし、既知の干渉計配置と同様に、安定性及び位置合わせの問題が製造環境に
おけるこの手法の実用性を低くしている。
【０００８】発明の概要 本発明は、位相マスクによる光導波路回折格子の製造において、より高い融通
性を提供する。回折格子周期及び回折格子長の調節だけでなく、アポダイゼーシ
ョンプロファイルの調節も行うことができる。その他の構造変動を補償するため
の整調の目的で回折格子を小さく変えることができ、あるいは仕様の異なる回折
格子を作製するために大きく変えることができる。同じ位相マスクで１つの回折
格子を別の回折格子に重ねて書き込むことができ、これは複合センサの作製に特
に有用である。回折格子のチャーピングも、より複雑なスペクトル応答をサポー
トするために制御できる。
【０００９】 本発明の好ましい実施形態は、光（すなわち化学線）ビームから空間的にイン
コヒーレントな光を取り除く空間フィルタを含む。位相マスクはフィルタリング
された光ビームを、導波路に沿う平均干渉縞周期をもつ干渉パターンを形成する
２本の干渉ビームに分ける。焦点調節光学系が空間フィルタに近づく光ビームを
集束ビームとして向け、さらに、フィルタリングされた光ビームを位相マスク上
に入射する非コリメートビームとして向ける。導波路支持体が、導波路に沿って
形成される干渉パターンの平均干渉縞周期を調節するために、導波路を位相マス
クからある距離の位置に置く。
【００１０】 空間フィルタは、ビームの伝搬軸を横切る２つの直交方向の内の少なくとも第
１の方向からインコヒーレント光をフィルタリングする。この方向は導波路が向
けられている方向と同じである。焦点調節光学系は空間フィルタに位置する第１
の焦線を通して第１の直交方向に光ビームを集束させる。導波路に向かうときに
は、焦点調節光学系はフィルタリングされたビームを第１の直交方向に発散させ
るかまたは集束させる。空間フィルタと位相マスクとの間に発散素子または集束
素子を置くことにより、位相マスクに入射するビームの実効曲率中心を変えるこ
とができる。第１の直交方向で位相マスクに入射する発散ビームは導波路に沿っ
て形成される平均干渉縞周期を長くし、同じく第１の直交方向で位相マスクに入
射する集束ビームは平均干渉縞周期を短くする。位置合わせに必要な光学部品を
最小限に抑えるために、発散ビームの曲率中心は空間フィルタに位置する第１の
焦線上にある。
【００１１】 焦点調節光学系は、２つの直交方向におけるビーム形状を別々に制御すること
が好ましい。フィルタリングされて空間的コヒーレンスが高められる第１の方向
において、ビームは位相マスクと導波路とのある与えられた間隔にともなう干渉
縞周期の変化の大きさに影響を与える形状にされる。第２の方向においては、導
波路上に光エネルギーを集中させるために別の焦点調節光学系を用いることがで
きる。例えば、第１の直交方向に沿って位相マスクに近づくフィルタリングされ
たビームを平均干渉縞周期を長くするために発散させるため、また第２の直交方
向に沿って位相マスクに近づく同じビームをより多くの光エネルギーを導波路上
に集中させるために集束させるための、フィルタ系を配置することができる。
【００１２】 空間フィルタにより、位相マスクと導波路との間隔を大きくとっても、良好な
干渉縞コントラストをもつ干渉パターンをつくることができる。フィルタリング
されたビームの集束率または発散率を調節することにより、位相マスクと導波路
との間隔を変えても同じ干渉縞周期を得ることができる。位相マスクと導波路と
の間隔に影響されるその他の変数には、位相マスクから出てくる干渉ビーム間の
重なり長さ及び再合成ビームの強度プロファイルがある。重なり長さは導波路に
書き込まれる回折格子の長さを支配する。強度プロファイルは所望のスペクトル
応答を得るためのアポダイゼーション問題に影響する。
【００１３】 回折格子の一端から他端にかけて変る格子周期をもつ、線型チャーピングを回
折格子に与えるために、導波路を第１の直交方向を含む軸平面内で傾けることも
できる。位相マスクへの発散または集束ビームの焦点距離を短くすると（例えば
空間フィルタの第１の焦線と位相マスクとの間隔を縮めると）、回折格子の中心
からの距離の関数として変る格子周期をもつ、二次曲線型チャーピングを回折格
子に与えることができる。このような二次曲線型チャーピングもアポダイゼーシ
ョン問題に影響し得る。
【００１４】発明の詳細な説明 図１に示される配置は、光ファイバとして示されるが、プレーナ型またはチャ
ネル型導波路を含むその他の形態とすることもできる、導波路１０に光回折格子
を形成するために用いることができる。導波路１０にはクラッド層に囲まれた感
光性コアを含む露光部分１２がある。例示的な感光性コアはシリカとゲルマニウ
ムの配合でつくられ、一方クラッド層はシリカのみを含むことができる。感光性
を高めるために水素添加を用いることができる。
【００１５】 １５０ｎｍから２５０ｎｍの波長範囲で動作するエキシマーレーザのようなレ
ーザ源１６が、時間的にコヒーレントな化学線のビーム１８をつくる。他のレー
ザ及び他の波長も、別の波長及びパワー領域に感光する材料と組み合わせて用い
ることができる。パルス波または連続波の光を用いることができる。
【００１６】 折返しミラー２０に続く第１の開口絞り２２が、第１の焦線２６を通してビー
ムを集束する第１の焦点調節レンズ２４（例えば円柱レンズ）の前でビーム１８
から不要部分をそぎ落とす。座標軸“Ｚ”がビーム伝搬方向に伸び、座標軸“Ｘ
”及び“Ｙ”がビーム伝搬方向に対して横方向の平面内に伸びる直交座標系に関
して見れば、焦線２６を通るビーム１８の集束は“Ｘ”軸方向でおこる。焦線２
６は図１が描かれている平面に垂直な“Ｙ”軸方向に伸びる。
【００１７】 焦線２６近くに置かれた空間フィルタ３０が、ビームの空間的コヒーレンスを
高めるためにビーム１８の高空間周波数成分を発散させる。本発明に好ましい空
間フィルタ３０の詳細は、本明細書に参照として含まれる、名称を「高パワーレ
ーザビーム用空間フィルタ」とする、米国仮特許出願第６０/０４７,８５９号に
開示されている。空間フィルタ３０を出ると、ビーム１８はｓｉｎｃ２型強度プ
ロファイルをもち、第２の開口絞り３４でサイドローブがそぎ落とされる。第２
の焦点調節レンズ３６（例えば別の円柱レンズ）が、導波路１０の軸３９にほぼ
一致する第２の焦線３８を通して“Ｙ”軸方向にビーム１８を集束させる。焦線
３８及び導波路１０の軸３９はいずれも、直交する“Ｘ”軸方向に伸びる。
【００１８】 “Ｙ”軸方向で焦点調節された集束とは対照的に、ビーム１８の中心からの距
離の関数として変化する入射角でビーム１８が位相マスク４０に当たるまでビー
ム１８は焦点調節レンズ３６を通って“Ｘ”軸方向に発散し続ける。第１の焦線
２６から位相マスク４０までのビーム１８の全発散は距離“ｚ”にかけておこる
。位相マスク４０用の調節可能なマウント４２は“Ｚ”軸方向に平行移動して、
距離“ｚ”を調節する。それ自体が回折格子である位相マスク４０はビーム１８
を、２つの相異なる、好ましくは符号が逆の、回折次数（例えば＋１次及び−１
次）で２本の干渉ビーム４４及び４６を回折する。ゼロ次と１次の組合せを含む
その他の回折次数の組合せも用い得るが、２つの１次回折が好ましい。
【００１９】 通常の実施にしたがって位相マスク４０を導波路１０の露光部分１２に密着す
る位置に置く代わりに、位相マスク４０は“Ｚ”軸に沿って距離“ｄ”をあけて
露光部分１２から隔てられる。導波路１０は、位相マスク４０と導波路１０との
間隔“ｄ”を焦線２６と位相マスクとの間隔“ｚ”とは独立に変えるために“Ｚ
”軸方向に平行移動される、調節可能なマウント４８に支持される。ビーム１８
の高められた空間的コヒーレンスにより１ｃｍないしそれ以上の距離“ｄ”が可
能であり、このことは、導波路１０上に得られる干渉縞パターンのピッチ間隔だ
けでなく、結果として導波路１０の露光部分１２に形成される光回折格子５０の
対応するブラッグ波長の、有意な制御をさらに付加する。また、導波路を位相マ
スクから離した位置に置くことにより、結果の品質及び一貫性に影響し得る不要
な相互作用が回避される。
【００２０】 変数“ｚ”及び“ｄ”の関数としてのブラッグ波長の変化“ΔλＢ”は次式：
【数１】 で与えられ、ここで“λ書込”は照射ビーム１８の波長、“ｎ実効”は導波路１
０のコアの実効平均屈折率、また“θ”は符号が逆の次数の干渉ビーム４４及び
４６が互いになす角の１/２である。
【００２１】 上式は、“ｚ”が“ｄ”よりかなり大きい、多くの実用目的には：
【数２】 と近似することができる。
【００２２】 すぐ上の式から、“ｚ”を小さくするかまたは“ｄ”を大きくすると、回折格
子のブラッグ波長の変化が大きくなることは明らかである。“Ｘ”軸方向におけ
るビーム１８の発散率に関係する距離“ｚ”は、距離“ｄ”の変化が干渉ビーム
４４及び４６の間の重なり量にも干渉ビーム４４と４６との合成強度プロファイ
ルにも影響する率を支配する。重なり量は導波路１０に書き込まれる回折格子の
長さを支配する。干渉ビーム４４及び４６の強度プロファイルのピーク間隔を拡
げれば、重なり範囲内の強度変化を小さくして、得られる光回折格子５０のスペ
クトル応答をよりよく制御することができる。位相マスク４０から距離“ｄ”に
導波路１０を離して置くことのアポダイゼーション効果のさらなる説明は、名称
を「感光性材料に形成された光フィルタのアポダイゼーション」とする、１９９
８年７月１日に出願された米国仮特許出願第６０/０９１,５４７号に与えられて
おり、この出願は本明細書に参照として含まれる。
【００２３】 例えば光回折格子５０のブラッグ波長は、回折格子５０の長さの制御並びに距
離“ｚ”及び“ｄ”の様々な組合せを利用することによる干渉ビーム４４と４６
との合成強度プロファイルと組み合わせて、変化させることができる。二次曲線
型チャーピング、すなわち回折格子の中心からの距離の関数としての格子ピッチ
の漸進性変化を与えるために、より短い距離“ｚ”を用いることもできる。
【００２４】 図２に示されるように、“Ｘ”軸及び“Ｚ”軸を含む平面内での導波路１０の
傾けて、次式：
【数３】 にしたがう、漸進線型チャーピングをもつ回折格子５０を得ることができ、ここ
で“δ(ΔλＢ)”は回折格子５０の長さ“Ｌ”に沿う中心波長の変化量、“α”
は導波路１０が位相４０マスクに対して傾けられる角度である。チャーピングさ
れた位相マスクによりそれとは別に導入されるチャーピングは、“Ｘ−Ｚ”平面
で導波路１０を同様に傾けることにより、さらに強めるか、さらに弱めるかある
いは無くすことさえできる。導波路１０を“Ｘ−Ｙ”平面内で“Ｚ”軸のまわり
に回転させて、ブレーズド回折格子を書き込むこともできる。
【００２５】 “Ｙ”軸方向の集束を制御して、導波路１０の傾けられた軸３９に沿う強度プ
ロファイルを調整することもできる。傾きに関わらず、導波路軸３９に沿う強度
プロファイルは、空間フィルタ３０と位相マスク４０との間に置かれることが好
ましい、振幅マスクでさらに制御することができる。ビーム１８の空間的コヒー
レンスをさらに高めるために、１つより多い空間フィルタ３０を連続して配置す
ることができる。空間フィルタ３０に続けて別の空間フィルタを加えることによ
り、第１の空間フィルタからのｓｉｎｃ２型強度プロファイルが第２の空間フィ
ルタからのｓｉｎｃ４型強度プロファイルに変換される。
【００２６】 本発明の可能性のいくつかを実証する一実施例は、以下の値： ｚ = ３.０ｍ ｄ = １.０ｃｍ λ書込 = ２４８ｎｍ ｎ実効 = １.４５ θ = １３.４° を有する。得られたブラッグ波長変化“ΔλＢ”は５.０５ｎｍに等しい。ブラ
ッグ波長の小さな変化は、製造変動あるいは予想される環境効果を補償するため
の整調のような目的に用いることができる。大きな変化は、同じ位相マスクを用
いて同じかまたは異なる導波路に異なる回折格子を作製するために用いることが
できる。例えば、複合光センサのような複数の機能をサポートするように、様々
なブラッグ波長をもつ多重回折格子を同じ導波路に重ねて書き込むことができる
。複合フィルタリングまたはデマルチプレックスのような機能を与えるために、
相異なる回折格子を導波路に沿って連続してつくることもできる。
【００２７】 本発明は主として導波路に光回折格子をつくるための位相マスクの使用に適用
できるが、同じ回折格子をつくるために干渉計を使用するとさらなる利点をいく
つか得ることができる。図３はそのような干渉計６０を描いている。同様の光源
６２が、所望の形状及び強度プロファイルをもつ空間的にコヒーレントなビーム
７４をつくるための、焦点調節光学系６４及び６６，開口絞り６８，及び空間フ
ィルタ７２の同様の組合せとともに用いられる。
【００２８】 しかし、先の実施形態とは対照的に、ビームスプリッタブロック７６がビーム
７４を、折返しミラー８２と８４の組合せ及び８６と８８と９０の組合せのそれ
ぞれにより互いに角“β”をなす方向に向けられる、２本の別々のビーム７８及
び８０に分ける。ビーム７８及び８０のそれぞれは、導波路１００の露光部分９
６に入射する前に、焦点調節光学系９３及び９４により最終的に整形される。
【００２９】 先の実施形態と同様に、ビームは、その内で導波路１００の露光部分９６が位
置合わせされる平面（すなわち、図３が描かれている平面）では、導波路１００
を横断する垂直面とは異なる形状につくられる。導波路１００の平面内では、ビ
ーム７８及び８０は漸進的に導波路上１００上に集束する（同じビーム７８及び
８０を、先の実施形態と同様に導波路１００上に発散するように構成することも
できる）。空間フィルタ７２における焦線１０２を含む横断平面においては、ビ
ーム７８及び８０は導波路１００により多くの光エネルギーを集中させるために
集束されることも好ましい。
【００３０】 ビーム７８及び８０は、導波路１００からオフセットされた位置で交差する、
中心軸１０４及び１０６を有する。導波路平面における焦線（例えば１０２）か
らビーム軸１０４と１０６との交差点１０８までのビーム７８及び８０の距離は
先の実施形態における距離“ｚ”と同程度である。交差点１０８から導波路１０
０までの距離は、先の実施形態における距離“ｄ”と同程度である。しかし、本
実施形態における距離“ｄ”は、導波路１００が交差点１０８の前方に置かれる
か後方に置かれるかにしたがって、負または正の値を取り得る。角“β”は先の
実施形態の角“θ”の２倍に相当する。
【００３１】 距離“ｚ”及び“ｄ”を調節して、結果として導波路１００に形成される回折
格子１１０の平均周期をさらに調整するだけでなく、チャーピング及びアポダイ
ゼーションの問題も調整することができる。導波路マウント１１２は距離“ｄ”
を調節し、また、より線形な態様で格子ピッチを変えるために導波路１００を傾
けるためにも用いることができる。回折格子の周期は、角“β”を変えることで
調節できるから、距離“ｚ”及び“ｄ”はチャーピング及びアポダイゼーション
問題に一層有用な寄与をすると考えられる。
【００３２】 本発明は長周期回折格子の作製にも適用できる。図１と同様の構成を用いるこ
とができる。しかし、位相マスク４０は方形振幅マスク１２０で置き換えられる
。ビーム１８が振幅マスク１２０に近づく際の発散率を変えるために追加の焦点
調節光学系１２２が空間フィルタ３０と振幅マスクとの間に置かれる。そのよう
な焦点調節光学系１２２は、入射ビーム１８の実効曲率中心を移動させるために
、また対応して距離“ｚ”を縮めるかまたは延ばすために、いずれの実施形態に
も用いることができる。
【００３３】 干渉機構に依存して導波路１０及び１００に沿う光帯パターンをつくる先の実
施形態とは対照的に、導波路１２８の露光部分１２６上に所望の光帯をつくる強
度変化パターンをもつ振幅マスク１２０から単一ビーム１２４が出てくる。長さ
“Ｌ”及び得られる長周期回折格子１３０のピッチ間隔のいずれも、（実効曲率
中心１３６からの距離“ｚＡ”で測られる）振幅マスク１２０を通る発散率及び
振幅マスク１２０と導波路１２８の露光部分１２６との間隔“ｄＡ”により制御
される。
【００３４】 距離“ｚＡ”及び“ｄＡ”を変えるために、マスクマウント１３２が“Ｚ”軸
方向で平行移動させられ、導波路マウント１３４が距離“ｄＡ”を距離“ｚＡ”
とは独立に変えるために同じ方向で平行移動させられる。導波路マウントは、長
周期回折格子１３０のチャーピングまたはブレーズ化にさらに影響を与えるため
に、“Ｙ”または“Ｚ”軸方向のまわりで傾けることもできる。
【００３５】 当業者には、本発明のその他の用途、用法及び配置が明らかであろう。本発明
にしたがってつくられる回折格子は通信システムに特に有用であるが、センサ、
分散補正、及びレーザポンピング安定器としての使用も含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 位相マスクを用いて導波路に回折格子を光誘起するための装置の図
【図２】 線型チャーピングされた周期をもつ回折格子をつくるために位相マスクに対し
て傾けられた導波路の図
【図３】 導波路に回折格子を光誘起するための干渉計の図
【図４】 導波路に長周期回折格子を光誘起するために導波路とともに配置された振幅マ
スクの図
【符号の説明】
１０ 導波路 １２ 露光部分 １６ レーザ源 １８ ビーム ２０ 折返しミラー ２２，３４ 開口しぼり ２４，３６ 焦点調節レンズ ３０ 空間フィルタ ４０ 位相マスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＬ，ＡＭ，Ａ Ｔ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ， ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，Ｉ Ｌ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ， ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，Ｐ Ｔ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ， ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ Ｆターム(参考） 2H047 KA03 LA02 PA02 PA15 PA30 QA05 RA01 2H049 AA34 AA52 AA59 AA62 AA66 2H050 AA07 AB05X AC84 AD00

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光誘起回折格子を作製する装置において、前記装置が： 光ビームから空間的にインコヒーレントな光を取り除く空間フィルタ； 前記フィルタリングされた光ビームを、平均干渉縞周期をもつ干渉パターンを
    導波路に沿って形成する、２本の干渉ビームに分ける位相マスク； 前記空間フィルタに近づく光ビームを集束ビームとして向け、さらに、前記フ
    ィルタリングされた光ビームを前記位相マスクに入射する別の非コリメートビー
    ムとして向ける焦点調節光学系；及び 前記導波路に沿って形成される前記干渉パターンの前記平均干渉縞周期を調節
    するために、前記位相マスクからある距離の位置に前記導波路を置く、導波路支
    持体； を含むことを特徴とする装置。
  2. 【請求項２】 前記空間フィルタが、ビーム伝搬軸を横切る２つの直交方向
    の内の第１の方向からインコヒーレント光をフィルタリングすることを特徴とす
    る請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 前記導波路支持体が前記第１の直交方向に沿う方向に前記導
    波路の向きを定めることを特徴とする請求項２記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記焦点調節光学系が、前記空間フィルタに位置する第１の
    焦線を通して、前記第１の直交方向に前記光ビームを集束させることを特徴とす
    る請求項３記載の装置。
  5. 【請求項５】 前記焦点調節光学系が、前記第１の焦線から前記位相マスク
    にかけて、前記フィルタリングされた光ビームを前記第１の直交方向に発散させ
    ることを特徴とする請求項４記載の装置。
  6. 【請求項６】 前記位相マスクに入射する前記発散光ビームが、前記第１の
    焦線に曲率中心を有することを特徴とする請求項５記載の装置。
  7. 【請求項７】 前記焦点調節光学系が前記光ビームを前記第１の焦線を通し
    て前記第１の直交方向に集束させる第１の光学素子及び前記フィルタリングされ
    た光ビームを前記導波路に沿う位置にある第２の焦線を通して第２の前記直交方
    向に集束させる第２の光学素子を含むことを特徴とする請求項６記載の装置。
  8. 【請求項８】 前記第１及び第２の焦線が前記ビーム伝搬軸を横切る共通平
    面内で互いにある角度をなす関係にされていることを特徴とする請求項６記載の
    装置。
  9. 【請求項９】 導波路に光誘起回折格子を書き込む方法において、前記方法
    が： 光ビームの空間的コヒーレンスを向上させるために前記光ビームを空間的にフ
    ィルタリングする工程； 前記フィルタリングされた光ビームを、前記ビームの中心からの距離の関数と
    して変る入射角で位相マスクに入射させる工程；及び 前記位相マスクからある距離の位置に感光性導波路を置き、よって、前記導波
    路の前記位相マスクからの前記距離により影響される平均周期を有する回折格子
    を前記導波路に書き込む工程； を含むことを特徴とする方法。
  10. 【請求項１０】 前記回折格子の前記平均周期を変えるために前記位相マス
    ク面内での前記入射角の変化率を調節する工程を含むことを特徴とする請求項９
    記載の方法。
  11. 【請求項１１】 前記回折格子の所望の平均周期及び前記回折格子の所望の
    長さのいずれをも決定し、前記所望の回折格子周期及び長さを満たすために、前
    記位相マスク面内での前記入射角の前記変化率を調節する前記工程及び前記導波
    路を前記位相マスクからある距離の位置に置く前記工程を関係づける工程をさら
    に含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
  12. 【請求項１２】 空間的にフィルタリングする前記工程が、伝搬方向に沿う
    前記光ビームの軸に対して横方向に伸びる２つの直交方向の内の第１の方向にお
    いて、空間的にインコヒーレントな光をフィルタリングする工程を含むことを特
    徴とする請求項９記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記ビームの中心からの距離の関数としての前記位相マス
    クへの前記入射角の変化率を制御するために前記フィルタリングされたビームを
    前記第１の直交方向で焦点調節することを特徴とする請求項１２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 前記導波路上に前記フィルタリングされたビームの光エネ
    ルギーを集中させるために、前記２つの直交方向の内の第２の方向では別様に前
    記フィルタリングされたビームを焦点調節することを特徴とする請求項１３記載
    の方法。
  15. 【請求項１５】 前記位相マスクを第１の距離“ｚ”を介して前記フィルタ
    リングされたビームの焦線から離す工程、前記導波路を第２の距離“ｄ”を介し
    て前記位相マスクから離す工程、及び前記回折格子の前記平均周期への前記第２
    の距離“ｄ”の効果の大きさを変えるために前記第１の距離“ｚ”を調節する工
    程をさらに含むことを特徴とする請求項９記載の方法。
  16. 【請求項１６】 前記位相マスクと前記導波路との間隔を変える方向に前記
    導波路を前記位相マスクに関して相対的に傾け、よって、前記間隔の関数として
    前記格子周期を漸進的に変える工程をさらに含むことを特徴とする請求項９記載
    の方法。
  17. 【請求項１７】 導波路に複合光回折格子を作製する方法において、前記方
    法が： 光ビームの空間的コヒーレンスを向上させるために前記光ビームをフィルタリ
    ングする工程； ビーム伝搬軸に対して横向きの第１の方向で前記フィルタリングされたビーム
    の幅を漸進的に変えるために前記ビームを焦点調節する工程； 前記フィルタリングされて焦点調節されたビームを、前記ビームを２本の干渉
    ビームに分ける位相マスクに入射させる工程； 感光性導波路を、第１の平均周期を有する第１の回折格子を前記導波路に書き
    込むために、前記位相マスクからの第１の距離の位置に置く工程； 前記感光性導波路を、第２の平均周期を有する第２の回折格子を前記導波路に
    書き込むために、前記位相マスクからの第２の距離の位置に置く工程；及び 前記第１及び第２の回折格子の前記第１及び第２の平均周期の間の差の大きさ
    に作用させるために、前記位相マスクに入射する前記ビームの前記幅における前
    記漸進的変化を制御する工程； を含むことを特徴とする方法。
  18. 【請求項１８】 前記制御工程が、前記位相マスクに入射する前記ビームの
    焦線と前記位相マスクとの間隔を調節する工程を含むことを特徴とする請求項１
    ７記載の方法。
  19. 【請求項１９】 前記焦点調節工程が、前記ビーム伝搬軸に対して横向きの
    第２の方向に前記フィルタリングされたビームの焦点を合わせる工程を含むこと
    を特徴とする請求項１７記載の方法。
  20. 【請求項２０】 前記第１及び第２の回折格子が前記導波路の一部分を重な
    り合って占有していることを特徴とする請求項１７記載の方法。
  21. 【請求項２１】 感光性導波路に光回折格子を形成するための干渉計におい
    て、前記干渉計が： 化学線のビームをつくるための源； 前記ビームの空間的コヒーレンスを向上させる空間フィルタ； 前記ビームをそれぞれの中心軸を有する２本の干渉ビームに分けるビームスプ
    リッタ； 前記干渉ビームのいずれをも非コリメートビームとして構成する焦点調節光学
    系； 前記２本の干渉ビームをそれぞれの軸が交差点で交差するような角度に関係づ
    ける位置合わせ光学系；及び 導波路を前記交差点からオフセットされた位置に置く導波路支持体； を含むことを特徴とする干渉計。
JP2000580029A 1998-10-30 1999-10-07 光誘起回折格子の波長整調 Withdrawn JP2002529762A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10651298P 1998-10-30 1998-10-30
US60/106,512 1998-10-30
PCT/US1999/023326 WO2000026703A1 (en) 1998-10-30 1999-10-07 Wavelength tuning of photo-induced gratings

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002529762A true JP2002529762A (ja) 2002-09-10

Family

ID=22311807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000580029A Withdrawn JP2002529762A (ja) 1998-10-30 1999-10-07 光誘起回折格子の波長整調

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6269208B1 (ja)
EP (1) EP1123520A4 (ja)
JP (1) JP2002529762A (ja)
KR (1) KR20010080342A (ja)
CN (1) CN1325495A (ja)
AU (1) AU761179B2 (ja)
BR (1) BR9914872A (ja)
CA (1) CA2346475A1 (ja)
WO (1) WO2000026703A1 (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1311335B1 (it) * 1999-12-21 2002-03-12 Otc Optical Technologies Ct S Procedimento e dispositivo per realizzare reticoli in fibra ottica.
US6553163B2 (en) * 2000-03-30 2003-04-22 Corning, Incorporated Method and apparatus for writing a Bragg grating in a waveguide
US6819833B1 (en) * 2000-06-29 2004-11-16 Avanex Corporation In-fiber continuously chirped gain flattening filters and method
KR100342493B1 (ko) * 2000-07-25 2002-06-28 윤종용 회절 효과를 최소화하기 위한 광섬유 격자 제작장치
US6381387B1 (en) * 2000-08-02 2002-04-30 Networks Photonics, Inc. Athermalization of a wavelength routing element
US6591039B2 (en) * 2000-11-16 2003-07-08 Corning Oil Spa Method and equipment for writing a Bragg grating in a waveguide
EP1207410A1 (en) * 2000-11-16 2002-05-22 Corning O.T.I. S.p.A. Method and equipment for writing a bragg grating in a waveguide
JP4578674B2 (ja) * 2000-12-18 2010-11-10 富士フイルム株式会社 分離された領域を持つ縞画像の解析方法
US6898350B2 (en) * 2001-01-18 2005-05-24 General Dynamics Advanced Information Systems, Inc. Interferometric focusing technique for forming taps in fibers
US6693701B2 (en) * 2001-05-29 2004-02-17 Ibsen Photonics A/S Method and apparatus for diffractive transfer of a mask grating
CA2377208A1 (en) * 2001-10-09 2003-04-09 Teraxion Inc. Method and apparatus for recording an optical grating in a photosensitive medium
US6975794B2 (en) * 2002-03-15 2005-12-13 Intel Corporation Method and apparatus for fabricating a waveguide Bragg grating using pulsed light
US6753118B2 (en) * 2002-03-27 2004-06-22 Fitel Usa Corp. Optical grating fabrication process
CA2516603A1 (en) 2003-03-25 2004-10-14 Imprensa Nacional Casa Da Moeda, S.A. Maskless optical interferometric lithography
US7901870B1 (en) 2004-05-12 2011-03-08 Cirrex Systems Llc Adjusting optical properties of optical thin films
US7565084B1 (en) 2004-09-15 2009-07-21 Wach Michael L Robustly stabilizing laser systems
CN100414330C (zh) * 2005-09-21 2008-08-27 北京交通大学 一种取样光纤光栅的制作方法
CA2548029A1 (en) * 2006-05-23 2007-11-23 Itf Laboratories Inc. Method and system for writing fiber bragg grating having apodized spectrum on optical fibers
CN103353710B (zh) * 2013-06-26 2015-03-18 京东方科技集团股份有限公司 曝光装置、曝光系统及曝光方法
JP2015206993A (ja) * 2014-04-09 2015-11-19 住友電気工業株式会社 グレーティング製造装置およびグレーティング製造方法
US10156680B2 (en) 2014-07-11 2018-12-18 National Research Council Of Canada Forming an optical grating with an apparatus providing an adjustable interference pattern
CN106168694A (zh) * 2016-08-19 2016-11-30 武汉理工大学 使用高效准分子激光源在线制备光纤光栅的方法
CN111856636B (zh) * 2020-07-03 2021-10-22 中国科学技术大学 一种变间距光栅掩模线密度分布可控微调方法
CN114509836B (zh) * 2022-02-25 2022-10-18 中山大学 一种正交光栅型微纳结构的制备方法及制备系统

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4140362A (en) * 1977-07-14 1979-02-20 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Forming focusing diffraction gratings for integrated optics
US5058977A (en) * 1987-01-20 1991-10-22 Hewlett-Packard Company Broadband tunable in-line filter for fiber optics
US5007709A (en) * 1987-12-28 1991-04-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Diffraction grating and manufacturing method thereof
JPH0274902A (ja) * 1988-09-12 1990-03-14 Nec Corp 回折格子作成装置
US5016951A (en) * 1989-08-03 1991-05-21 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Fiber optic diffraction grating maker
US5367588A (en) * 1992-10-29 1994-11-22 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Communications Method of fabricating Bragg gratings using a silica glass phase grating mask and mask used by same
US5331466A (en) * 1991-04-23 1994-07-19 Lions Eye Institute Of Western Australia Inc. Method and apparatus for homogenizing a collimated light beam
US5327515A (en) * 1993-01-14 1994-07-05 At&T Laboratories Method for forming a Bragg grating in an optical medium
US5400422A (en) * 1993-01-21 1995-03-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Technique to prepare high-reflectance optical fiber bragg gratings with single exposure in-line or fiber draw tower
GB2289770A (en) * 1994-05-17 1995-11-29 Northern Telecom Ltd Writing bragg gratings in photosensitive waveguides
GB2289771B (en) * 1994-05-26 1997-07-30 Northern Telecom Ltd Forming Bragg gratings in photosensitive waveguides
GB2291208B (en) * 1994-06-01 1997-07-30 Northern Telecom Ltd Incubated bragg gratings in waveguides
FR2728356B1 (fr) * 1994-12-15 1997-01-31 Alcatel Fibres Optiques Dispositif d'impression d'un reseau de bragg dans une fibre optique
US5552882A (en) * 1995-03-28 1996-09-03 Lyons; Donald R. Methods of and apparatus for calibrating precisely spaced multiple transverse holographic gratings in optical fibers
GB2302599B (en) * 1995-06-20 1998-08-26 Northern Telecom Ltd Forming Bragg gratings in photosensitive optical waveguides
US5748814A (en) * 1995-11-16 1998-05-05 Institut National D'optique Method for spatially controlling the period and amplitude of Bragg filters
US5837169A (en) * 1996-11-19 1998-11-17 Northern Telecom Limited Creation of bragg reflactive gratings in waveguides
US5822479A (en) * 1997-01-24 1998-10-13 Northern Telecom Limited Writing diffraction gratings with interference fringe patterns
IT1292316B1 (it) * 1997-05-20 1999-01-29 Cselt Centro Studi Lab Telecom Procedimento e dispositivo per la realizzazione di reticoli di bragg in fibre o guide d'onda ottiche.
EP0881515B1 (en) * 1997-05-29 2004-03-17 Corning Incorporated Spatial filter for high power laser beam

Also Published As

Publication number Publication date
BR9914872A (pt) 2001-07-03
KR20010080342A (ko) 2001-08-22
CA2346475A1 (en) 2000-05-11
EP1123520A4 (en) 2006-04-12
AU761179B2 (en) 2003-05-29
US6269208B1 (en) 2001-07-31
AU6418699A (en) 2000-05-22
EP1123520A1 (en) 2001-08-16
WO2000026703A1 (en) 2000-05-11
CN1325495A (zh) 2001-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002529762A (ja) 光誘起回折格子の波長整調
US5388173A (en) Method and apparatus for forming aperiodic gratings in optical fibers
US5327515A (en) Method for forming a Bragg grating in an optical medium
JP4177893B2 (ja) 光導波管格子
US5363239A (en) Method for forming spatially-varying distributed Bragg reflectors in optical media
US6621960B2 (en) Method of fabricating multiple superimposed fiber Bragg gratings
JP4512266B2 (ja) 光格子の製造装置及び製造方法
US5818988A (en) Method of forming a grating in an optical waveguide
JPH09508713A (ja) 光格子
EP0978738A1 (en) Apparatus and method for generating an interference pattern to be written as a grating in a sample of a photosensitive material
JP2002519742A (ja) 感光性媒体に形成された光フィルタのアポダイゼーション
CA2440198C (en) System and method for fabricating blazed bragg gratings
JPH09311238A (ja) 光導波路型回折格子の作成方法
US6501883B1 (en) Method and apparatus for recording an optical grating in a photosensitive medium
US6873762B1 (en) Fabrication of fiber optic grating apparatus and method
JP3484868B2 (ja) 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置
CA2354321A1 (en) Apparatus for writing features in or on photosensitive medium
JP2004170476A (ja) ファイバ・ブラッグ・グレーティングの形成方法
MXPA01004358A (en) Wavelength tuning of photo-induced gratings
KR20020049493A (ko) 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치
JPH0829631A (ja) チャープグレーティング作製装置
JPH08286062A (ja) 光導波路型回折格子の作成方法
Fonjallaz et al. New interferometer for complete design of UV-written fibre Bragg gratings
AU2004215321A1 (en) Optical structure writing system
JPH08338919A (ja) 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070109