JP3484868B2 - 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 - Google Patents
光導波路型回折格子の作成方法および作成装置Info
- Publication number
- JP3484868B2 JP3484868B2 JP08785296A JP8785296A JP3484868B2 JP 3484868 B2 JP3484868 B2 JP 3484868B2 JP 08785296 A JP08785296 A JP 08785296A JP 8785296 A JP8785296 A JP 8785296A JP 3484868 B2 JP3484868 B2 JP 3484868B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- diffraction grating
- refractive index
- light
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
- G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02142—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating based on illuminating or irradiating an amplitude mask, i.e. a mask having a repetitive intensity modulating pattern
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバまたは
薄膜導波路等の光導波部に回折格子が形成された光導波
路型回折格子の作成方法および作成装置に関するもので
ある。
薄膜導波路等の光導波部に回折格子が形成された光導波
路型回折格子の作成方法および作成装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】光導波路型回折格子は、Ｇｅ等を添加し
た導波路の光誘起屈折率変化を用いて、導波部にブラッ
グ回折格子を形成したものである。この光導波路型回折
格子は、特定波長の光のみを反射する反射フィルタとし
て利用できるほか、波長制御素子、センサ素子など、広
い活用が期待されている。中でも、光導波路として光フ
ァイバを用いたファイバグレーティングは、伝送路とし
て用いられる光ファイバとの接続性もよいため重要とな
っている。
た導波路の光誘起屈折率変化を用いて、導波部にブラッ
グ回折格子を形成したものである。この光導波路型回折
格子は、特定波長の光のみを反射する反射フィルタとし
て利用できるほか、波長制御素子、センサ素子など、広
い活用が期待されている。中でも、光導波路として光フ
ァイバを用いたファイバグレーティングは、伝送路とし
て用いられる光ファイバとの接続性もよいため重要とな
っている。
【０００３】光導波路型回折格子の作成方法としては、
導波路の側面より紫外線干渉パターンを投影し、任意の
周期で空間的に屈折率変化を形成する方法、例えば、２
光束干渉法、プリズム干渉法、位相格子干渉法などが知
られている。
導波路の側面より紫外線干渉パターンを投影し、任意の
周期で空間的に屈折率変化を形成する方法、例えば、２
光束干渉法、プリズム干渉法、位相格子干渉法などが知
られている。
【０００４】図１４は、２光束干渉法の一例の構成図で
ある。図中、１は光ファイバ、２はレーザ光、３はビー
ムスプリッタ、４，５はミラーである。光ファイバ１
は、Ｇｅ添加のコアを有したものであり、これに波長２
４０ｎｍ付近の光を照射するとコア部の屈折率が上昇す
る。このような波長の紫外線をレーザ光２として照射す
る。レーザ光２をビームスプリッタ３によって２分し、
それぞれを、ミラー４，５で光ファイバ１の側面に照射
する。２分されたレーザ光は、光ファイバ１のコア部分
において干渉し、干渉縞をコア部分に照射することにな
る。光ファイバ１のコア部分は、干渉縞に応じたパター
ンで屈折率の変化が生じ、回折格子が形成される。
ある。図中、１は光ファイバ、２はレーザ光、３はビー
ムスプリッタ、４，５はミラーである。光ファイバ１
は、Ｇｅ添加のコアを有したものであり、これに波長２
４０ｎｍ付近の光を照射するとコア部の屈折率が上昇す
る。このような波長の紫外線をレーザ光２として照射す
る。レーザ光２をビームスプリッタ３によって２分し、
それぞれを、ミラー４，５で光ファイバ１の側面に照射
する。２分されたレーザ光は、光ファイバ１のコア部分
において干渉し、干渉縞をコア部分に照射することにな
る。光ファイバ１のコア部分は、干渉縞に応じたパター
ンで屈折率の変化が生じ、回折格子が形成される。
【０００５】図１５は、プリズム干渉法の一例の構成図
である。図中、１は光ファイバ、２はレーザ光、８はプ
リズムである。光ファイバ１は、上述したＧｅ添加のコ
アを有したものであり、これに紫外線レーザ光２を、プ
リズム８の１面に照射し、プリズム８内で屈折して生じ
た干渉縞を、光ファイバ１のコア部分に照射する。光フ
ァイバ１のコア部分は、干渉縞に応じたパターンで屈折
率の変化が生じ、回折格子が形成される。
である。図中、１は光ファイバ、２はレーザ光、８はプ
リズムである。光ファイバ１は、上述したＧｅ添加のコ
アを有したものであり、これに紫外線レーザ光２を、プ
リズム８の１面に照射し、プリズム８内で屈折して生じ
た干渉縞を、光ファイバ１のコア部分に照射する。光フ
ァイバ１のコア部分は、干渉縞に応じたパターンで屈折
率の変化が生じ、回折格子が形成される。
【０００６】図１６は、従来の回折格子における屈折率
分布と反射特性の説明図である。上述した従来の方法で
作成した回折格子の屈折率の変化は、図１６（Ａ）に示
すように、所定範囲において、均一な変化を示してい
る。すなわち、回折格子が形成されていない部分から、
不連続的に回折格子が形成された部分につながってい
る。この回折格子を反射器として用いた場合の波長に対
する反射特性は、図１６（Ｂ）に示すように、波長λ0
で大きな反射率を示すだけでなく、波長λ0 の近傍にお
いてさほど大きくはないが、反射率が大きくなる波長が
存在し、サイドローブを有する特性を示す。したがっ
て、所望しない波長での反射が生じるという問題があ
る。
分布と反射特性の説明図である。上述した従来の方法で
作成した回折格子の屈折率の変化は、図１６（Ａ）に示
すように、所定範囲において、均一な変化を示してい
る。すなわち、回折格子が形成されていない部分から、
不連続的に回折格子が形成された部分につながってい
る。この回折格子を反射器として用いた場合の波長に対
する反射特性は、図１６（Ｂ）に示すように、波長λ0
で大きな反射率を示すだけでなく、波長λ0 の近傍にお
いてさほど大きくはないが、反射率が大きくなる波長が
存在し、サイドローブを有する特性を示す。したがっ
て、所望しない波長での反射が生じるという問題があ
る。
【０００７】また、大きな反射率を示す波長λ0 の近傍
の波長領域についても、多様な特性を得たいという要望
があるが、回折格子の屈折率を所定範囲において均一な
周期的変化をさせるだけでは、この要望を満たすことが
できないという問題もある。
の波長領域についても、多様な特性を得たいという要望
があるが、回折格子の屈折率を所定範囲において均一な
周期的変化をさせるだけでは、この要望を満たすことが
できないという問題もある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した問
題点を解決するためになされたもので、多様な反射特性
を有する光導波路型回折格子を作成することができる光
導波路型回折格子の作成方法および作成装置を提供する
ことを目的とするものである。例えば、波長選択性の良
好な反射特性を有する光導波路型回折格子の作成方法お
よび作成装置を提供することを目的とするものである。
題点を解決するためになされたもので、多様な反射特性
を有する光導波路型回折格子を作成することができる光
導波路型回折格子の作成方法および作成装置を提供する
ことを目的とするものである。例えば、波長選択性の良
好な反射特性を有する光導波路型回折格子の作成方法お
よび作成装置を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
おいては、光導波路の光導波部に屈折率変化を生じさせ
る波長の複数の光束を干渉させて空間的に周期的な明暗
を持った強度分布パターンとして光導波路に照射して、
光導波部の屈折率に周期的な変調を生じさせることによ
り、該光導波路上に回折格子を作成する光導波路型回折
格子の作成方法において、前記複数の光束の強度分布を
独立に制御して干渉領域の平均光強度の分布と干渉縞の
変調量の分布を制御することを特徴とするものである。
おいては、光導波路の光導波部に屈折率変化を生じさせ
る波長の複数の光束を干渉させて空間的に周期的な明暗
を持った強度分布パターンとして光導波路に照射して、
光導波部の屈折率に周期的な変調を生じさせることによ
り、該光導波路上に回折格子を作成する光導波路型回折
格子の作成方法において、前記複数の光束の強度分布を
独立に制御して干渉領域の平均光強度の分布と干渉縞の
変調量の分布を制御することを特徴とするものである。
【００１０】請求項２に記載の発明においては、光導波
路の光導波部に屈折率変化を生じさせる波長の複数の光
束を干渉させて空間的に周期的な明暗を持った強度分布
パターンとして光導波路に照射して、光導波部の屈折率
に周期的な変調を生じさせることにより、該光導波路上
に回折格子を作成する光導波路型回折格子の作成装置に
おいて、透過率の分布が可変である複数の透過率変調マ
スク部を有し、該透過率変調マスク部は、前記光導波路
を照射する前記複数の光束が個別に透過するように光学
系に挿入されることを特徴とするものである。
路の光導波部に屈折率変化を生じさせる波長の複数の光
束を干渉させて空間的に周期的な明暗を持った強度分布
パターンとして光導波路に照射して、光導波部の屈折率
に周期的な変調を生じさせることにより、該光導波路上
に回折格子を作成する光導波路型回折格子の作成装置に
おいて、透過率の分布が可変である複数の透過率変調マ
スク部を有し、該透過率変調マスク部は、前記光導波路
を照射する前記複数の光束が個別に透過するように光学
系に挿入されることを特徴とするものである。
【００１１】請求項３に記載の発明においては、光導波
路の光導波部に屈折率変化を生じさせる波長の複数の光
束を干渉させて空間的に周期的な明暗を持った強度分布
パターンとして光導波路に照射して、光導波部の屈折率
に周期的な変調を生じさせることにより、該光導波路上
に回折格子を作成する光導波路型回折格子の作成装置に
おいて、透過率の分布が可変である透過率変調マスク部
を有し、該透過率変調マスク部は、前記光導波路を照射
する前記複数の光束の一つが透過するように光学系に挿
入されることを特徴とするものである。
路の光導波部に屈折率変化を生じさせる波長の複数の光
束を干渉させて空間的に周期的な明暗を持った強度分布
パターンとして光導波路に照射して、光導波部の屈折率
に周期的な変調を生じさせることにより、該光導波路上
に回折格子を作成する光導波路型回折格子の作成装置に
おいて、透過率の分布が可変である透過率変調マスク部
を有し、該透過率変調マスク部は、前記光導波路を照射
する前記複数の光束の一つが透過するように光学系に挿
入されることを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、複数の光束の
強度分布を独立に制御して干渉領域の平均光強度の分布
と干渉縞の変調量の分布を制御することから、光導波部
に形成される回折格子の光伝搬方向における強度分布
と、光伝搬方向における光導波部の平均屈折率の分布を
独立に制御することができる。
強度分布を独立に制御して干渉領域の平均光強度の分布
と干渉縞の変調量の分布を制御することから、光導波部
に形成される回折格子の光伝搬方向における強度分布
と、光伝搬方向における光導波部の平均屈折率の分布を
独立に制御することができる。
【００１３】請求項２に記載の発明によれば、透過率の
分布が可変である複数の透過率変調マスク部を有し、透
過率変調マスク部が、光導波路を照射する複数の光束が
個別に透過するように光学系に挿入されることから、複
数の光束の強度分布を独立して容易に制御することがで
きる。
分布が可変である複数の透過率変調マスク部を有し、透
過率変調マスク部が、光導波路を照射する複数の光束が
個別に透過するように光学系に挿入されることから、複
数の光束の強度分布を独立して容易に制御することがで
きる。
【００１４】請求項３に記載の発明によれば、透過率の
分布が可変である透過率変調マスク部を有し、透過率変
調マスク部が、光導波路を照射する複数の光束の一つが
透過するように光学系に挿入されることから、複数の光
束の強度分布の相対比を簡単に制御することができる。
分布が可変である透過率変調マスク部を有し、透過率変
調マスク部が、光導波路を照射する複数の光束の一つが
透過するように光学系に挿入されることから、複数の光
束の強度分布の相対比を簡単に制御することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の光導波路型回折
格子の作成装置の第１の実施の形態の説明図であり、図
１（Ａ）は概略構成図、図１（Ｂ）はマスクの一例の説
明図である。図中、図１４と同様な部分には同じ符号を
付して説明を省略する。６は第１のマスク、７は第２の
マスク、６ａ，７ａは減衰板である。この実施の形態
は、本発明を図１４で説明した２光束干渉法に適用した
もので、ビームスプリッタ３を透過した側と反射した側
の両方の光学系に第１，第２のマスク６，７を挿入した
ものである。第１のマスク６がビームスプリッタ３を透
過した光学系に、第２のマスク７がビームスプリッタ３
で反射した側の光学系に挿入している。
格子の作成装置の第１の実施の形態の説明図であり、図
１（Ａ）は概略構成図、図１（Ｂ）はマスクの一例の説
明図である。図中、図１４と同様な部分には同じ符号を
付して説明を省略する。６は第１のマスク、７は第２の
マスク、６ａ，７ａは減衰板である。この実施の形態
は、本発明を図１４で説明した２光束干渉法に適用した
もので、ビームスプリッタ３を透過した側と反射した側
の両方の光学系に第１，第２のマスク６，７を挿入した
ものである。第１のマスク６がビームスプリッタ３を透
過した光学系に、第２のマスク７がビームスプリッタ３
で反射した側の光学系に挿入している。
【００１６】第１，第２のマスク６，７は、光の透過率
が図示ｘ−ｙ方向に変調され、透過率が任意の大きさお
よび形状で分布する特性を有するものである。以下、図
示ｘ−ｙ方向を、光ファイバ１の長手方向と対応させて
照射光束の長手方向と呼ぶことにする。その結果、透過
率の平均強度も任意に定めることができる。第１，第２
のマスク６，７は、透過率の大きさが長手方向に分布す
る１枚のマスクでよく、適宜特性の異なるマスクを取り
替えて使用できるような取り付け構造にする。あるい
は、図１（Ｂ）に示すように、例えば、短冊状の減衰板
６ａ，７ａを長手方向に並べたものでもよい。この減衰
板６ａ，７ａは、上下方向に光の透過率が徐々に変化す
るように作成されたもので、それぞれを上下にスライド
させることにより、図中に矩形の枠で囲んだようなレー
ザ光２の照射光束に対して、長手方向の透過率を可変に
することができる。
が図示ｘ−ｙ方向に変調され、透過率が任意の大きさお
よび形状で分布する特性を有するものである。以下、図
示ｘ−ｙ方向を、光ファイバ１の長手方向と対応させて
照射光束の長手方向と呼ぶことにする。その結果、透過
率の平均強度も任意に定めることができる。第１，第２
のマスク６，７は、透過率の大きさが長手方向に分布す
る１枚のマスクでよく、適宜特性の異なるマスクを取り
替えて使用できるような取り付け構造にする。あるい
は、図１（Ｂ）に示すように、例えば、短冊状の減衰板
６ａ，７ａを長手方向に並べたものでもよい。この減衰
板６ａ，７ａは、上下方向に光の透過率が徐々に変化す
るように作成されたもので、それぞれを上下にスライド
させることにより、図中に矩形の枠で囲んだようなレー
ザ光２の照射光束に対して、長手方向の透過率を可変に
することができる。
【００１７】図２は、第１，第２のマスクの作用を説明
する線図である。図中、横軸は光ファイバ１の長手方向
の位置であり、縦軸は干渉光の光強度である。干渉光が
長手方向に均一に変化する例で説明する。光強度（光エ
ネルギ）は、干渉による周期的な変調部分であるａの部
分と、この周期的変化の基底レベル部分であるｂの部分
に分けられる。
する線図である。図中、横軸は光ファイバ１の長手方向
の位置であり、縦軸は干渉光の光強度である。干渉光が
長手方向に均一に変化する例で説明する。光強度（光エ
ネルギ）は、干渉による周期的な変調部分であるａの部
分と、この周期的変化の基底レベル部分であるｂの部分
に分けられる。
【００１８】第１のマスク６を透過した光の強度（光エ
ネルギ）をＰ1 とし、第２のマスク７を透過した光の強
度（光エネルギ）をＰ2 とすると、 ａ＝４・ｍｉｎ（Ｐ1 ，Ｐ2 ） …（１） ｂ＝｜Ｐ1 −Ｐ2 ｜ …（２） という関係式が成り立つ。すなわち、変調部分ａの大き
さは、第１，第２のマスク６，７を透過した光の強度Ｐ
1 ，Ｐ2 のうちの小さな方の値の４倍に等しく、基底レ
ベル部分ｂの大きさは第１，第２のマスク６，７を透過
した光の強度Ｐ1，Ｐ2 の差の絶対値に等しい。
ネルギ）をＰ1 とし、第２のマスク７を透過した光の強
度（光エネルギ）をＰ2 とすると、 ａ＝４・ｍｉｎ（Ｐ1 ，Ｐ2 ） …（１） ｂ＝｜Ｐ1 −Ｐ2 ｜ …（２） という関係式が成り立つ。すなわち、変調部分ａの大き
さは、第１，第２のマスク６，７を透過した光の強度Ｐ
1 ，Ｐ2 のうちの小さな方の値の４倍に等しく、基底レ
ベル部分ｂの大きさは第１，第２のマスク６，７を透過
した光の強度Ｐ1，Ｐ2 の差の絶対値に等しい。
【００１９】第１，第２のマスク６，７を個別に調整す
ることによって、第１，第２のマスク６，７を透過する
光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 を独立して制御することができる。
その結果、光ファイバ１のコア部の屈折率分布を制御す
ることができる。すなわち、変調部分ａの大きさに対応
してコア部の屈折率の変調量が決まり、基底レベル部分
ｂの大きさに対応してコア部の屈折率の基底レベルが決
まる。平均光強度は、ほぼ変調部分ａの大きさの半分と
基底レベル部分ｂの和となり、この値に応じてコア部の
平均屈折率も決まることになる。
ることによって、第１，第２のマスク６，７を透過する
光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 を独立して制御することができる。
その結果、光ファイバ１のコア部の屈折率分布を制御す
ることができる。すなわち、変調部分ａの大きさに対応
してコア部の屈折率の変調量が決まり、基底レベル部分
ｂの大きさに対応してコア部の屈折率の基底レベルが決
まる。平均光強度は、ほぼ変調部分ａの大きさの半分と
基底レベル部分ｂの和となり、この値に応じてコア部の
平均屈折率も決まることになる。
【００２０】さらに、第１および第２のマスク６，７の
透過率が長手方向に変わるようにすることにより、変調
部分ａと基底レベル部分ｂの大きさが光ファイバ１の長
手方向、すなわち伝搬光の光伝搬方向に、屈折率の変調
量，基底レベルの高さ，平均屈折率などを任意に設定す
ることができる。したがって、回折格子の光伝搬方向に
沿った屈折率の変調量分布と平均屈折率の分布とを独立
に制御することができる。その結果、光ファイバ１のコ
ア部に形成される回折格子の光伝搬方向における強度分
布と、光伝搬方向における光導波部の平均屈折率の分布
とを独立に制御することができる。
透過率が長手方向に変わるようにすることにより、変調
部分ａと基底レベル部分ｂの大きさが光ファイバ１の長
手方向、すなわち伝搬光の光伝搬方向に、屈折率の変調
量，基底レベルの高さ，平均屈折率などを任意に設定す
ることができる。したがって、回折格子の光伝搬方向に
沿った屈折率の変調量分布と平均屈折率の分布とを独立
に制御することができる。その結果、光ファイバ１のコ
ア部に形成される回折格子の光伝搬方向における強度分
布と、光伝搬方向における光導波部の平均屈折率の分布
とを独立に制御することができる。
【００２１】例えば、図５を参照して後述するように、
屈折率が周期的に変化するとともに、中央部分の屈折率
の上昇が最も大きく、その両側に行くにしたがって屈折
率の上昇が徐々に小さくなる屈折率分布を得ることがで
きる。なお、光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 が照射光束の長手方向
に一定な強度分布になる場合を含む。また、必ずしもマ
スクによって制御される必要はなく、光ファイバ１の長
手方向に沿って照射光束の光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 の光強度
分布が制御できればよい。
屈折率が周期的に変化するとともに、中央部分の屈折率
の上昇が最も大きく、その両側に行くにしたがって屈折
率の上昇が徐々に小さくなる屈折率分布を得ることがで
きる。なお、光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 が照射光束の長手方向
に一定な強度分布になる場合を含む。また、必ずしもマ
スクによって制御される必要はなく、光ファイバ１の長
手方向に沿って照射光束の光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 の光強度
分布が制御できればよい。
【００２２】図３は、上述した第１の実施の形態の変形
例を示す。図中、図１と同様な部分には同じ符号を付し
て説明を省略する。図３（Ａ）は図１で説明したマスク
６のみを光学系に挿入したものである。また、図３
（Ｂ）は図１で説明したマスク７のみをビームスプリッ
タ３を反射した光学系に挿入したものである。したがっ
て、第１，第２のマスク６，７を透過する光の強度
Ｐ1 ，Ｐ2 のいずれか一方を制御することができ、変調
部分ａと基底レベル部分ｂの光ファイバの長手方向に沿
った分布を変えることができる。ただし、この変形例で
は、変調部分ａおよび基底レベル部分ｂの大きさを完全
に独立させて変化させることはできない。
例を示す。図中、図１と同様な部分には同じ符号を付し
て説明を省略する。図３（Ａ）は図１で説明したマスク
６のみを光学系に挿入したものである。また、図３
（Ｂ）は図１で説明したマスク７のみをビームスプリッ
タ３を反射した光学系に挿入したものである。したがっ
て、第１，第２のマスク６，７を透過する光の強度
Ｐ1 ，Ｐ2 のいずれか一方を制御することができ、変調
部分ａと基底レベル部分ｂの光ファイバの長手方向に沿
った分布を変えることができる。ただし、この変形例で
は、変調部分ａおよび基底レベル部分ｂの大きさを完全
に独立させて変化させることはできない。
【００２３】図４は、本発明の光導波路型回折格子の作
成装置の第２の実施の形態の概略構成図である。図中、
図１，図１５と同様な部分には同じ符号を付して説明を
省略する。この実施の形態は、本発明を図１５で説明し
たプリズム干渉法に適用したものである。第１，第２の
マスク６，７は、入射側、すなわち、プリズム８に入射
する光学系に挿入した。
成装置の第２の実施の形態の概略構成図である。図中、
図１，図１５と同様な部分には同じ符号を付して説明を
省略する。この実施の形態は、本発明を図１５で説明し
たプリズム干渉法に適用したものである。第１，第２の
マスク６，７は、入射側、すなわち、プリズム８に入射
する光学系に挿入した。
【００２４】この実施の形態も、第１の実施の形態と同
様に、第１，第２のマスク６，７の透過率が照射光束の
長手方向に変調されていることによって、第１，第２の
マスク６，７を透過する光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 に光強度分
布を持たせることができ、光ファイバ１の長手方向に沿
った屈折率の変調量分布と平均屈折率の分布とを独立に
制御することができる。なお、第１，第２のマスク６，
７は、図３で説明したように、いずれか一方のみを光学
系に挿入してもよい。
様に、第１，第２のマスク６，７の透過率が照射光束の
長手方向に変調されていることによって、第１，第２の
マスク６，７を透過する光の強度Ｐ1 ，Ｐ2 に光強度分
布を持たせることができ、光ファイバ１の長手方向に沿
った屈折率の変調量分布と平均屈折率の分布とを独立に
制御することができる。なお、第１，第２のマスク６，
７は、図３で説明したように、いずれか一方のみを光学
系に挿入してもよい。
【００２５】図５は、本発明の実施の形態により形成さ
れた回折格子の第１の例の屈折率分布と反射特性の説明
図であり、図５（Ａ）は、形成された回折格子の屈折率
変化の一例の概要を示すものである。屈折率の上昇部分
は、徐々に大きくなり中央部分で最大となり、それから
徐々に減少している。中央を対称軸としてほぼ対称的な
パターンであるが、必ずしも対称にしなくてもよい。要
は、屈折率変化の包絡線が徐々に上昇し、その後徐々に
減少していればよい。このような屈折率変化によって、
不連続的な屈折率変化が生じないため、この回折格子を
反射器として用いた場合の波長に対する反射特性は、図
５（Ｂ）に示すように、波長λ0 で大きな反射率を示
し、サイドローブの発生を抑えることができる。
れた回折格子の第１の例の屈折率分布と反射特性の説明
図であり、図５（Ａ）は、形成された回折格子の屈折率
変化の一例の概要を示すものである。屈折率の上昇部分
は、徐々に大きくなり中央部分で最大となり、それから
徐々に減少している。中央を対称軸としてほぼ対称的な
パターンであるが、必ずしも対称にしなくてもよい。要
は、屈折率変化の包絡線が徐々に上昇し、その後徐々に
減少していればよい。このような屈折率変化によって、
不連続的な屈折率変化が生じないため、この回折格子を
反射器として用いた場合の波長に対する反射特性は、図
５（Ｂ）に示すように、波長λ0 で大きな反射率を示
し、サイドローブの発生を抑えることができる。
【００２６】屈折率変化の包絡線の形状について説明す
る。図６は、屈折率変化の包絡線の強度パターンの具体
例の説明図である。図６（Ａ）は、強度が直線的に変化
する例である。横軸Ｘは光ファイバの軸方向の距離であ
り、形成される回折格子の中央を０とした。また、縦軸
Ｙは最大値を１とした強度の相対値である。
る。図６は、屈折率変化の包絡線の強度パターンの具体
例の説明図である。図６（Ａ）は、強度が直線的に変化
する例である。横軸Ｘは光ファイバの軸方向の距離であ
り、形成される回折格子の中央を０とした。また、縦軸
Ｙは最大値を１とした強度の相対値である。
【００２７】これを関数で表現すれば、
Ｙ＝１−ａ・｜Ｘ｜
となる。ただし、ａは定数である。
【００２８】図６（Ｂ）は、強度が曲線的に変化する例
であり、図６（Ａ）と同様に図示した。その曲線の一例
を関数で表現すれば、 Ｙ＝０．５＋０．５・ｃｏｓ（π・｜Ｘ｜／ａ） である。ただし、ａは定数である。
であり、図６（Ａ）と同様に図示した。その曲線の一例
を関数で表現すれば、 Ｙ＝０．５＋０．５・ｃｏｓ（π・｜Ｘ｜／ａ） である。ただし、ａは定数である。
【００２９】この他、両端部の一部分でのみ直線的に変
化する台形状の強度パターンとしても、回折格子が形成
されていない部分から連続的に回折格子が形成された部
分につながるようにすることができる。
化する台形状の強度パターンとしても、回折格子が形成
されていない部分から連続的に回折格子が形成された部
分につながるようにすることができる。
【００３０】図５（Ａ），図６（Ａ），図６（Ｂ）に示
した屈折率変化の包絡線の強度パターンは変調部分ａに
対応し、基底レベル部分ｂの大きさはゼロである。第
１，第２のマスク６，７を透過する光の強度Ｐ1 ，Ｐ2
の分布特性が上述した関係式（１），（２）を満足する
ように第１，第２のマスク６，７の透過率のパターンを
選定することによって、所望の回折格子を作成すること
ができる。本発明の光導波路型回折格子作成装置によれ
ば、図５（Ａ）に示した特性の光導波路型回折格子の平
均屈折率を光ファイバの長手方向に一定にすることもで
きる。
した屈折率変化の包絡線の強度パターンは変調部分ａに
対応し、基底レベル部分ｂの大きさはゼロである。第
１，第２のマスク６，７を透過する光の強度Ｐ1 ，Ｐ2
の分布特性が上述した関係式（１），（２）を満足する
ように第１，第２のマスク６，７の透過率のパターンを
選定することによって、所望の回折格子を作成すること
ができる。本発明の光導波路型回折格子作成装置によれ
ば、図５（Ａ）に示した特性の光導波路型回折格子の平
均屈折率を光ファイバの長手方向に一定にすることもで
きる。
【００３１】図７は、本発明の実施の形態により形成さ
れた回折格子の第２の例の屈折率分布の説明図である。
横軸は光ファイバの長手方向に沿った位置、縦軸は干渉
光の照射を受けた光ファイバのコア部の屈折率である。
図５（Ａ）上の破線で表わされるように、この光導波路
型回折格子の平均屈折率は、回折格子の変調量の変化に
応じて、光ファイバの長手方向に変化している。その結
果、回折格子の周期が光ファイバの長手方向に一定であ
っても、平均屈折率に応じて光の伝搬速度が変化するた
め、回折格子を構成する個々の格子間の間隔が実質的に
変化することになる。その結果、反射波長が光ファイバ
の長手方向に変化することになる。
れた回折格子の第２の例の屈折率分布の説明図である。
横軸は光ファイバの長手方向に沿った位置、縦軸は干渉
光の照射を受けた光ファイバのコア部の屈折率である。
図５（Ａ）上の破線で表わされるように、この光導波路
型回折格子の平均屈折率は、回折格子の変調量の変化に
応じて、光ファイバの長手方向に変化している。その結
果、回折格子の周期が光ファイバの長手方向に一定であ
っても、平均屈折率に応じて光の伝搬速度が変化するた
め、回折格子を構成する個々の格子間の間隔が実質的に
変化することになる。その結果、反射波長が光ファイバ
の長手方向に変化することになる。
【００３２】例えば、作成過程中の回折格子の光透過特
性や光反射特性などの光特性を観測しながら、第１，第
２のマスク６，７の透過率の分布を調整制御して、図７
に示したような屈折率分布になるようにレーザ光２を照
射することによって、図７に示される屈折率変化を有す
る回折格子を得ることができる。この回折格子は、平均
屈折率が光ファイバの長手方向に一定となるため、反射
波長を一定にすることができる。
性や光反射特性などの光特性を観測しながら、第１，第
２のマスク６，７の透過率の分布を調整制御して、図７
に示したような屈折率分布になるようにレーザ光２を照
射することによって、図７に示される屈折率変化を有す
る回折格子を得ることができる。この回折格子は、平均
屈折率が光ファイバの長手方向に一定となるため、反射
波長を一定にすることができる。
【００３３】なお、本発明の光導波路型回折格子作成装
置によれば、図７に示されたものに限られず、平均屈折
率を光ファイバの長手方向に任意に変化させるなど、任
意の屈折率特性の回折格子を形成することができる。以
下、屈折率特性の典型的な例について説明する。
置によれば、図７に示されたものに限られず、平均屈折
率を光ファイバの長手方向に任意に変化させるなど、任
意の屈折率特性の回折格子を形成することができる。以
下、屈折率特性の典型的な例について説明する。
【００３４】図８は、光導波路型ファブリペローフィル
タとなる第１の例の屈折率分布と反射特性の説明図であ
る。図８（Ａ）は作成した回折格子の屈折率の変化を示
し、図８（Ｂ）はこの光導波路型回折格子の作用の説明
図である。いずれの説明図も模式的に表わしている。横
軸は光ファイバの軸方向の位置である。図１４（Ｂ）に
おいて、１は光ファイバである。
タとなる第１の例の屈折率分布と反射特性の説明図であ
る。図８（Ａ）は作成した回折格子の屈折率の変化を示
し、図８（Ｂ）はこの光導波路型回折格子の作用の説明
図である。いずれの説明図も模式的に表わしている。横
軸は光ファイバの軸方向の位置である。図１４（Ｂ）に
おいて、１は光ファイバである。
【００３５】この例は、光ファイバ１の長手方向の少な
くとも２箇所に回折格子部を有し、この回折格子部は屈
折率が長手方向に一定な周期で変調され、隣接する回折
格子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所定間隔にわ
たって屈折率の周期的変化のない小さな所定レベルであ
る部分を有した光導波路型ファブリペローフィルタであ
る。このフィルタは、回折格子の屈折率の変化の空間的
な周期よりも長い所定間隔内の領域においては干渉光の
相対強度が０になるようにして作成されたものであり、
屈折率変調の包絡線が方形波状に変化する特性になって
いる。
くとも２箇所に回折格子部を有し、この回折格子部は屈
折率が長手方向に一定な周期で変調され、隣接する回折
格子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所定間隔にわ
たって屈折率の周期的変化のない小さな所定レベルであ
る部分を有した光導波路型ファブリペローフィルタであ
る。このフィルタは、回折格子の屈折率の変化の空間的
な周期よりも長い所定間隔内の領域においては干渉光の
相対強度が０になるようにして作成されたものであり、
屈折率変調の包絡線が方形波状に変化する特性になって
いる。
【００３６】中央の領域で屈折率変化が欠如しており、
この部分での多重反射により、入射角が０°のファブリ
ペローフィルタとなる。反射型のフィルタとして使用す
る場合を考える。屈折率変化の欠如がない場合には、回
折格子の屈折率の周期に対応する所定の波長の光が入射
方向に反射し、その他の波長の光は図示を省略した無反
射終端で吸収される。屈折率変化が欠如している場合に
は、図８（Ｂ）に示すように、左側の回折格子領域で反
射する反射光Ｒ1 および右側の回折格子領域で反射する
反射光Ｒ2 とは、遮光する領域の幅に対応した間隔ｄに
より位相差が生じる。なお、格子が連続した左右の各回
折格子領域内では位相状態が合っている。
この部分での多重反射により、入射角が０°のファブリ
ペローフィルタとなる。反射型のフィルタとして使用す
る場合を考える。屈折率変化の欠如がない場合には、回
折格子の屈折率の周期に対応する所定の波長の光が入射
方向に反射し、その他の波長の光は図示を省略した無反
射終端で吸収される。屈折率変化が欠如している場合に
は、図８（Ｂ）に示すように、左側の回折格子領域で反
射する反射光Ｒ1 および右側の回折格子領域で反射する
反射光Ｒ2 とは、遮光する領域の幅に対応した間隔ｄに
より位相差が生じる。なお、格子が連続した左右の各回
折格子領域内では位相状態が合っている。
【００３７】光の波長をλ、光導波部の屈折率をｎと
し、ｍを正の整数とするとき、透過光が最大になるの
は、２ｎｄ＝ｍλのときであり、透過光が最小になるの
は、２ｎｄ＝（２ｍ＋１）λ／２のときである。その結
果、回折格子を透過または反射する波長の光のうち、上
述した条件を満たす波長の光の透過率または反射率を最
大または最小にすることができる。なお、隣り合う透過
ピークの間隔（波数差）Δσは、Δσ＝１／（２ｎｄ）
で表されるため、実用上、ｄが小さい方が単一の波長
（波数）の光を分離して取り出しやすくなる。
し、ｍを正の整数とするとき、透過光が最大になるの
は、２ｎｄ＝ｍλのときであり、透過光が最小になるの
は、２ｎｄ＝（２ｍ＋１）λ／２のときである。その結
果、回折格子を透過または反射する波長の光のうち、上
述した条件を満たす波長の光の透過率または反射率を最
大または最小にすることができる。なお、隣り合う透過
ピークの間隔（波数差）Δσは、Δσ＝１／（２ｎｄ）
で表されるため、実用上、ｄが小さい方が単一の波長
（波数）の光を分離して取り出しやすくなる。
【００３８】図９は、光導波路型ファブリペローフィル
タとなる第２の例の屈折率分布の説明図である。図８を
参照して説明した第１の例に比較して、隣接する回折格
子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所定間隔にわた
って、屈折率が飽和レベルまたはこれに近い大きな所定
レベルになり、屈折率の周期的変化のない部分を有した
る光導波路型ファブリペローフィルタである。このフィ
ルタは、所定間隔内の領域においては干渉光の変調成分
がなく、基底レベル成分のみになるようにして作成され
たものであり、包絡線が屈折率の増加を飽和させるレベ
ルになる程度の光強度にすると好適である。
タとなる第２の例の屈折率分布の説明図である。図８を
参照して説明した第１の例に比較して、隣接する回折格
子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所定間隔にわた
って、屈折率が飽和レベルまたはこれに近い大きな所定
レベルになり、屈折率の周期的変化のない部分を有した
る光導波路型ファブリペローフィルタである。このフィ
ルタは、所定間隔内の領域においては干渉光の変調成分
がなく、基底レベル成分のみになるようにして作成され
たものであり、包絡線が屈折率の増加を飽和させるレベ
ルになる程度の光強度にすると好適である。
【００３９】図１０は、光導波路型帯域フィルタとなる
第１の例の屈折率分布と反射特性の説明図である。図１
０（Ａ）は作成した回折格子の屈折率の変化を示し、図
１０（Ｂ）はこの光導波路型回折格子の作用の説明図で
ある。いずれの説明図も模式的に表わしている。横軸は
光ファイバの軸方向の位置である。図１０（Ｂ）におい
て、１は光ファイバである。
第１の例の屈折率分布と反射特性の説明図である。図１
０（Ａ）は作成した回折格子の屈折率の変化を示し、図
１０（Ｂ）はこの光導波路型回折格子の作用の説明図で
ある。いずれの説明図も模式的に表わしている。横軸は
光ファイバの軸方向の位置である。図１０（Ｂ）におい
て、１は光ファイバである。
【００４０】この例は、光ファイバ１の長手方向の少な
くとも２箇所に回折格子部を有し、この回折格子部は屈
折率が長手方向に一定な周期で変調され、隣接する回折
格子部の間に屈折率変調の周期よりも長い所定間隔にわ
たって屈折率の周期的変化のない部分を有し、２箇所の
回折格子部にまたがって基底レベルおよび平均屈折率が
緩やかに変化する帯域型の光導波路型フィルタである。
このフィルタは、図９を参照して説明した光導波路型フ
ァブリペローフィルタの屈折率分布に、さらに基底レベ
ルが緩やかに変化する光強度が重ね合わされたものであ
る。
くとも２箇所に回折格子部を有し、この回折格子部は屈
折率が長手方向に一定な周期で変調され、隣接する回折
格子部の間に屈折率変調の周期よりも長い所定間隔にわ
たって屈折率の周期的変化のない部分を有し、２箇所の
回折格子部にまたがって基底レベルおよび平均屈折率が
緩やかに変化する帯域型の光導波路型フィルタである。
このフィルタは、図９を参照して説明した光導波路型フ
ァブリペローフィルタの屈折率分布に、さらに基底レベ
ルが緩やかに変化する光強度が重ね合わされたものであ
る。
【００４１】屈折率が大きいことは光路長が大きいこと
と等価であるから、図１０（Ａ）のように基底レベルが
直線的に変化する屈折率分布をもつ回折格子では、実効
的に右側に行くにつれて間隔が広がるような回折格子、
すなわち、チャープトグレーティングが形成される。こ
のチャープトグレーティングは、右側に行くにつれて反
射波長が長くなる特性を示す。
と等価であるから、図１０（Ａ）のように基底レベルが
直線的に変化する屈折率分布をもつ回折格子では、実効
的に右側に行くにつれて間隔が広がるような回折格子、
すなわち、チャープトグレーティングが形成される。こ
のチャープトグレーティングは、右側に行くにつれて反
射波長が長くなる特性を示す。
【００４２】反射型のフィルタとして使用する場合を考
える。屈折率変化の欠如がない場合は、波長λ1 から波
長λ3 までの光が入射方向に反射し、その他の波長の光
は透過して図示を省略した無反射終端で吸収される。屈
折率変化が欠如している場合には、図１２（Ｅ）に示す
ように、屈折率変化が欠如した領域で反射するはずであ
った波長λ2 （λ１＞λ２＞λ３）の光は光ファイバ１
のコア部を左から右に透過する。
える。屈折率変化の欠如がない場合は、波長λ1 から波
長λ3 までの光が入射方向に反射し、その他の波長の光
は透過して図示を省略した無反射終端で吸収される。屈
折率変化が欠如している場合には、図１２（Ｅ）に示す
ように、屈折率変化が欠如した領域で反射するはずであ
った波長λ2 （λ１＞λ２＞λ３）の光は光ファイバ１
のコア部を左から右に透過する。
【００４３】図１１は、図１０に示した光導波路型帯域
フィルタの第１の例の特性を模式的に示す特性図であ
り、図１１（Ａ）は反射特性、図１１（Ｂ）は透過特性
の線図である。上述した屈折率変化によって、この回折
格子を反射器として用いた場合の波長に対する反射特性
は、図１１（Ａ）に示すように反射率が波長λ2 の近傍
において低下する反射型の帯域阻止フィルタとなる。一
方、この回折格子を透過器として用いた場合の波長に対
する反射特性は、図１１（Ｂ）に示すように透過率が波
長λ2 の近傍において上昇する透過型の帯域通過フィル
タとなる。
フィルタの第１の例の特性を模式的に示す特性図であ
り、図１１（Ａ）は反射特性、図１１（Ｂ）は透過特性
の線図である。上述した屈折率変化によって、この回折
格子を反射器として用いた場合の波長に対する反射特性
は、図１１（Ａ）に示すように反射率が波長λ2 の近傍
において低下する反射型の帯域阻止フィルタとなる。一
方、この回折格子を透過器として用いた場合の波長に対
する反射特性は、図１１（Ｂ）に示すように透過率が波
長λ2 の近傍において上昇する透過型の帯域通過フィル
タとなる。
【００４４】光は図１０（Ｂ）の光ファイバ１の右側か
ら入射させてもよく、波長対位相特性は逆になるが同様
の反射率および透過率となる。なお、図１０（Ａ）にお
いて、所定間隔にわたる領域の屈折率を直線的に変化し
た基底レベルだけにしてもよい。また、このような所定
間隔にわたって屈折率が大きくなる領域を設けずに、直
線的に変化した基底レベル上に周期的な屈折率変化が一
様に続く場合には、典型的なチャープ回折格子を得るこ
とができる。
ら入射させてもよく、波長対位相特性は逆になるが同様
の反射率および透過率となる。なお、図１０（Ａ）にお
いて、所定間隔にわたる領域の屈折率を直線的に変化し
た基底レベルだけにしてもよい。また、このような所定
間隔にわたって屈折率が大きくなる領域を設けずに、直
線的に変化した基底レベル上に周期的な屈折率変化が一
様に続く場合には、典型的なチャープ回折格子を得るこ
とができる。
【００４５】図１２は、光導波路型帯域フィルタとなる
第２の例の屈折率分布の説明図である。この例は、光フ
ァイバ１の長手方向の少なくとも２箇所に回折格子部を
有し、この回折格子は２箇所の回折格子部にわたって屈
折率の周期が長手方向に緩やかに変化するとともに、隣
接する回折格子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所
定間隔で屈折率の周期的変化がない小さな所定レベルの
部分を有した帯域型の光導波路型フィルタである。
第２の例の屈折率分布の説明図である。この例は、光フ
ァイバ１の長手方向の少なくとも２箇所に回折格子部を
有し、この回折格子は２箇所の回折格子部にわたって屈
折率の周期が長手方向に緩やかに変化するとともに、隣
接する回折格子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所
定間隔で屈折率の周期的変化がない小さな所定レベルの
部分を有した帯域型の光導波路型フィルタである。
【００４６】図１３は、光導波路型帯域フィルタとなる
第３の例の屈折率分布の説明図である。この例は、光フ
ァイバ１の長手方向の少なくとも２箇所に回折格子部を
有し、この回折格子は２箇所の回折格子部にわたって屈
折率の周期が長手方向に緩やかに変化するとともに、回
折格子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所定間隔で
屈折率の周期的変化がない大きな所定レベルの部分を有
した帯域型の光導波路型フィルタである。
第３の例の屈折率分布の説明図である。この例は、光フ
ァイバ１の長手方向の少なくとも２箇所に回折格子部を
有し、この回折格子は２箇所の回折格子部にわたって屈
折率の周期が長手方向に緩やかに変化するとともに、回
折格子部の間に屈折率の変調周期よりも長い所定間隔で
屈折率の周期的変化がない大きな所定レベルの部分を有
した帯域型の光導波路型フィルタである。
【００４７】図１２，図１３においては、屈折率の周期
がわずかではあるが長手方向に緩やかに変化させてい
る。具体的には、例えば、図１に示した２光束干渉法で
はレンズを用いて平面波の波面を曲げればよく、図４に
示したプリズム干渉法ではプリズムの入射面を曲げれば
よい。
がわずかではあるが長手方向に緩やかに変化させてい
る。具体的には、例えば、図１に示した２光束干渉法で
はレンズを用いて平面波の波面を曲げればよく、図４に
示したプリズム干渉法ではプリズムの入射面を曲げれば
よい。
【００４８】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、サイドローブを抑えた波長選択性の良好な反
射特性を有する光導波路型回折格子をはじめとして、多
様な反射特性を有する光導波路型回折格子を作成できる
という効果がある。
によれば、サイドローブを抑えた波長選択性の良好な反
射特性を有する光導波路型回折格子をはじめとして、多
様な反射特性を有する光導波路型回折格子を作成できる
という効果がある。
【図１】本発明の光導波路型回折格子の作成装置の第１
の実施の形態の説明図である。
の実施の形態の説明図である。
【図２】第１，第２のマスクの作用を説明する線図であ
る。
る。
【図３】上述した第１の実施の形態の変形例を示す。
【図４】本発明の光導波路型回折格子の作成装置の第２
の実施の形態の概略構成図である。
の実施の形態の概略構成図である。
【図５】本発明の実施の形態により形成された回折格子
の第１の例の屈折率分布と反射特性の説明図である。
の第１の例の屈折率分布と反射特性の説明図である。
【図６】屈折率変化の包絡線の強度パターンの具体例の
説明図である。
説明図である。
【図７】本発明の実施の形態により形成された回折格子
の第２の例の屈折率分布の説明図である。
の第２の例の屈折率分布の説明図である。
【図８】光導波路型ファブリペローフィルタとなる第１
の例の屈折率分布と反射特性の説明図である。
の例の屈折率分布と反射特性の説明図である。
【図９】光導波路型ファブリペローフィルタとなる第２
の例の屈折率分布の説明図である。
の例の屈折率分布の説明図である。
【図１０】光導波路型帯域フィルタとなる第１の例の屈
折率分布と反射特性の説明図である。
折率分布と反射特性の説明図である。
【図１１】光導波路型帯域フィルタの第１の例の特性を
模式的に示す特性図である。
模式的に示す特性図である。
【図１２】光導波路型帯域フィルタとなる第２の例の屈
折率分布の説明図である。
折率分布の説明図である。
【図１３】光導波路型帯域フィルタとなる第３の例の屈
折率分布の説明図である。
折率分布の説明図である。
【図１４】２光束干渉法の一例の構成図である。
【図１５】プリズム干渉法の一例の構成図である。
【図１６】従来の回折格子における屈折率分布と反射特
性の説明図である。
性の説明図である。
１…光ファイバ、２…レーザ光、３…ビームスプリッ
タ、４，５…ミラー、６…第１のマスク、７…第２のマ
スク、８…プリズム。
タ、４，５…ミラー、６…第１のマスク、７…第２のマ
スク、８…プリズム。
フロントページの続き
(72)発明者 伊藤 真澄
神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友
電気工業株式会社 横浜製作所内
(72)発明者 服部 保次
神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友
電気工業株式会社 横浜製作所内
(56)参考文献 特開 昭61−190368（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−172101（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−72409（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−210068（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−281016（ＪＰ，Ａ)
特表 平５−502109（ＪＰ，Ａ)
特表 平８−501158（ＪＰ，Ａ)
特表 平９−506981（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 6/13
G02B 5/18
G02B 6/00 306
G02B 6/12
Claims (3)
- 【請求項１】 光導波路の光導波部に屈折率変化を生じ
させる波長の複数の光束を干渉させて空間的に周期的な
明暗を持った強度分布パターンとして光導波路に照射し
て、光導波部の屈折率に周期的な変調を生じさせること
により、該光導波路上に回折格子を作成する光導波路型
回折格子の作成方法において、前記複数の光束の強度分
布を独立に制御して干渉領域の平均光強度の分布と干渉
縞の変調量の分布を制御することを特徴とする光導波路
型回折格子の作成方法。 - 【請求項２】 光導波路の光導波部に屈折率変化を生じ
させる波長の複数の光束を干渉させて空間的に周期的な
明暗を持った強度分布パターンとして光導波路に照射し
て、光導波部の屈折率に周期的な変調を生じさせること
により、該光導波路上に回折格子を作成する光導波路型
回折格子の作成装置において、透過率の分布が可変であ
る複数の透過率変調マスク部を有し、該透過率変調マス
ク部は、前記光導波路を照射する前記複数の光束が個別
に透過するように光学系に挿入されることを特徴とする
光導波路型回折格子の作成装置。 - 【請求項３】 光導波路の光導波部に屈折率変化を生じ
させる波長の複数の光束を干渉させて空間的に周期的な
明暗を持った強度分布パターンとして光導波路に照射し
て、光導波部の屈折率に周期的な変調を生じさせること
により、該光導波路上に回折格子を作成する光導波路型
回折格子の作成装置において、透過率の分布が可変であ
る透過率変調マスク部を有し、該透過率変調マスク部
は、前記光導波路を照射する前記複数の光束の一つが透
過するように光学系に挿入されることを特徴とする光導
波路型回折格子の作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08785296A JP3484868B2 (ja) | 1995-04-12 | 1996-04-10 | 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8682095 | 1995-04-12 | ||
| JP8681995 | 1995-04-12 | ||
| JP7-86819 | 1995-04-12 | ||
| JP7-86820 | 1995-04-12 | ||
| JP08785296A JP3484868B2 (ja) | 1995-04-12 | 1996-04-10 | 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08338920A JPH08338920A (ja) | 1996-12-24 |
| JP3484868B2 true JP3484868B2 (ja) | 2004-01-06 |
Family
ID=27305266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08785296A Expired - Fee Related JP3484868B2 (ja) | 1995-04-12 | 1996-04-10 | 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3484868B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000249819A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Mitsubishi Electric Corp | グレーティング製造方法及びグレーティング製造装置 |
| JP4730490B2 (ja) * | 2000-11-24 | 2011-07-20 | 大日本印刷株式会社 | 表示機能を持つ光ファイバーの作製方法 |
| WO2019187777A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光デバイスおよび光検出システム |
-
1996
- 1996-04-10 JP JP08785296A patent/JP3484868B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08338920A (ja) | 1996-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2111808C (en) | Method for forming a bragg grating in an optical medium | |
| US6621960B2 (en) | Method of fabricating multiple superimposed fiber Bragg gratings | |
| EP0736201B1 (en) | Method and apparatus for forming aperiodic gratings in optical fibers | |
| US6067391A (en) | Multiply periodic refractive index modulated optical filters | |
| AU761179B2 (en) | Wavelength tuning of photo-induced gratings | |
| JP2003505714A (ja) | グレーティング構造を書き込む方法 | |
| US6694075B1 (en) | Apodization of optical filters with multiple exposures of photosensitive media | |
| JPH09311238A (ja) | 光導波路型回折格子の作成方法 | |
| JP3484868B2 (ja) | 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 | |
| US6751381B1 (en) | Embodying amplitude information into phase masks | |
| CA2336329A1 (en) | Apodization of optical filters formed in photosensitive media | |
| JP3612780B2 (ja) | 光フィルタ | |
| JP2000275442A (ja) | 光バンドパスフィルタ | |
| JPH08338919A (ja) | 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 | |
| JPH08338918A (ja) | 光導波路型回折格子の作成方法および作成装置 | |
| KR20020049493A (ko) | 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치 | |
| JPH08286009A (ja) | チャープ格子形成装置 | |
| JP4437951B2 (ja) | 光ファイバグレーティングの製造装置および製造方法 | |
| JP2004170476A (ja) | ファイバ・ブラッグ・グレーティングの形成方法 | |
| JP3955703B2 (ja) | ファイバグレーティングの作製方法 | |
| JPH1090539A (ja) | 光導波路グレーティングおよびその作成方法 | |
| US20230236494A1 (en) | Reflective holographic phase masks | |
| JPH10115701A (ja) | 回折格子の形成方法および光導波路 | |
| JP2004184834A (ja) | ファイバーグレーティングの製造方法 | |
| JPH09258015A (ja) | 広帯域光フィルターとその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071024 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101024 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |