Hintergrund der Erfindung
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Diese Erfindung bezieht sich auf die Schaffung von reflektierenden Bragg-Gittern in
optischen Wellenleitern, typischerweise Lichtleitfaser-Wellenleitern, durch Bestrahlung,
typischerweise durch Bestrahlung mit ultraviolettem Licht, durch eine Maske,
typischerweise eine Phasenmaske, oder alternativ durch holographische Einrichtungen.
Eine spezielle Anwendung für derartige reflektierende Gitter besteht in der Entzerrung
der chromatischen Dispersion in optischen Übertragungssystemen. Eine derartige
Anwendung ist in der Beschreibung des US-Patentes 4 953 939 beschrieben.
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Einige Anwendungen von reflektierenden Bragg-Gittern erfordern eine Gitterlänge, die
länger als die ist, die bequem mit einer einzigen Maske zur Herstellung eines
derartigen Gitters herzustellen ist. Es kann beispielsweise eine Notwendigkeit
bestehen, ein Bragg-Gitter herzustellen, das eine Länge im Bereich von einem Meter
hat, während beträchtliche Schwierigkeiten bestehen, eine durch einen Elektronenstrahl
hergestellte Maske wesentlich länger als ungefähr 100 mm zu machen. Eine Lösung,
die zur Überwindung dieses Problems vorgeschlagen wurde, besteht darin, das lange
Gitter schrittweise in einer Folge von Abschnitten herzustellen, die Ende-an-Ende
angeordnet sind. Jeder Abschnitt mit Ausnahme des ersten zu schaffenden Abschnitts
wird so geschaffen, dass er an oder gerade jenseits des Endes des jeweils vorher
geschaffenen Abschnittes beginnt. Wenn das lange Gitter zur Verwendung in einer
Wellenlängenmultiplex- (WDM-) Umgebung ausgelegt ist, bei der jeder Abschnitt eine
spektrale Bandbreite aufweist, die das gesamte Spektrum eines einzigen Kanals des
WDM-Signals überdeckt, so kann es möglich sein, das Ganze so anzuordnen, dass
die Reflexionsbänder der einzelnen Abschnitte des Gitters spektral durch Schutzbänder
getrennt sind, die vollständig innerhalb der Spektral-Schutzbänder liegen, die die
einzelnen Kanäle des WDM-Signals trennen. Unter diesen Umständen ist irgendeine
körperliche Trennung zwischen benachbarten Abschnitten des Gitters weitgehend ohne
Bedeutung.
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Andererseits ergibt sich, wenn Unterbrechungen in der spektralen
Reflexionscharakteristik des langen Gitters vermieden werden müssen, das Problem, dass die
spektrale Charakteristik eines Abschnittes an einem Punkt in dem Spektrum beginnt,
an dem die spektrale Charakteristik eines anderen Abschnittes endet. Dies bedeutet,
dass beide Abschnitte bei einer gemeinsamen Wellenlänge teilweise reflektierend sind.
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Wenn die effektiven Reflexionspunkte zusammentreffen, so ergibt sich kein Problem.
Wenn andererseits einer in Längsrichtung gegenüber dem anderen verschoben ist, so
ergeben die zwei Reflexionskomponenten eine kohärente Interferenz mit dem
Ergebnis, dass die Größe der resultierenden Reflexion in kritischer Weise von der
Phasentrennung abhängt, die zwischen den eine Interferenz ergebenden Komponenten
vorliegt. Eine Veröffentlichung von R. Kashyapetal mit dem Titel "Super-step-chirped
fibre Bragg gratings", Electronics Letters (18. Juli 1986), Bd. 32, Nr. 15, Seiten 1394-6,
erläutert, dass es möglich ist, durch absichtliches Anordnen benachbarter Abschnitte
des Gitters derart, dass sie nicht aneinander stoßen, sondern durch kurze
dazwischenliegende Abschnitte des Wellenleiters getrennt sind, den photorefraktiven
Effekt auszunutzen und UV-Licht zu verwenden, um die effektive optische Pfadlänge
von irgendwelchen zwischenliegenden Abschnitten derart abzugleichen, dass die
Phasentrennung der zwei in Interferenz stehenden Komponenten auf einen
gewünschten Wert gebracht wird. Auf diese Weise ist es möglich, Einbrüche in der
spektralen Reflexionscharakteristik des Gesamt-Bragg-Gitters zu glätten, die sich aus
nicht-optimierten Intervallen zwischen benachbarten Abschnitten des Gitters ergeben
könnten. Ein Nachteil dieser Lösung zum Ausrichten der Abschnitte besteht darin, dass
sie speziell einen Abstand zwischen benachbarten Abschnitten erfordert, und dass
damit die Verzögerungszeit, die Zeit, die Licht mit irgendeiner bestimmten Wellenlänge
benötigt, um sich von einem Ende des das Bragg-Gitter enthaltenden Wellenleiters zu
dessen Reflexionspunkt und zurück zum gleichen Ende auszubreiten, nicht eine sich
gleichförmig ändernde Funktion der Wellenlänge ist, sondern eine Funktion, die so
viele Sprünge und kompliziertere Diskontinuitäten enthält, wie sich Abstände zwischen
benachbarten Abschnitten des Gitters befinden, wobei die Verzögerung in diesen
diskontinuierlichen Bereichen durch Resonanzeffekte vom Fabry-Perot-Typ zwischen
Komponenten der gleichen Wellenlänge beeinflusst wird, die durch die zwei
benachbarten Gitterabschnitte reflektiert werden.
Zusammenfassung der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung ist auf ein Verfahren zum Ausrichten der Abschnitte eines
reflektierenden Lichtwellenleiter-Bragg-Gitters gerichtet, während dieses
Abschnitt-für-Abschnitt geschaffen wird, wobei das Verfahren die spezielle Eigenschaft
hat, dass es nicht erfordert, dass irgendein Abstand zwischen benachbarten
Abschnitten vorhanden ist, was ihre direkte Anlage aneinander zulässt. Ein
Gesichtspunkt der Erfindung ist in Anspruch 1 ausgeführt. Ein weiterer Gesichtspunkt
ist in Anspruch 2 ausgeführt.
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Das Verfahren der Erfindung beruht auf der Tatsache, dass die Bestrahlung, die zur
Schaffung eines Streifenmusters von Brechzahl- (Realteil-) Änderungen in dem
Wellenleiter verwendet wird, die zusammenwirken, um das reflektierende Bragg-Gitter
bilden, nicht nur ausschließlich den Realteil der Brechzahl ändert, sondern auch den
Imaginärteil ändert, d. h. ein gleichzeitiges optisches Absorptions-Randmuster erzeugt,
Das Verfahren der vorliegenden Erfindung nutzt diese Tatsache aus, um ein
Verfahrenzur Ausrichtung einer Maske derart zu schaffen, dass sie bereit ist, einen bestimmten
Abschnitt des Bragg-Gitters bezüglich eines bereits erzeugten benachbarten
Abschnittes des Gitters zu erzeugen. Zu diesem Zweck ist die Maske mit einem
Überlappungsabschnitt versehen, der ein Streifenmuster mit einer Periodizität erzeugt,
das effektiv an einen entsprechenden benachbarten Endabschnitt des bereits
hergestellten benachbarten Gitterabschnittes angepasst ist. Dieser
Überlappungsabschnitt wird lediglich für Maskenausrichtzwecke verwendet und wird
nicht bestrahlt, wenn die Maske tatsächlich dazu verwendet wird, ihren entsprechenden
Abschnitt des Bragg-Gitters herzustellen. Der Ausrichtvorgang beinhaltet die Projektion
von Licht durch die Serienkombination des Überlappungsabschnittes der Maske und
des benachbarten Endabschnittes des bereits hergestellten benachbarten
Gitterabschnittes. Dieses Licht sollte eine Wellenlänge aufweisen, die in
unterschiedlicher Weise von dem optischen Absorptions-Streifenmuster absorbiert wird,
das in dem bereits hergestellten benachbarten Gitterabschnitt vorhanden ist, sollte
jedoch eine Intensität haben, die niedrig genug ist, um es zu ermöglichen, dass der
Ausrichtprozess ohne die Gefahr abgeschlossen wird, dass eine wesentliche Störung
des photorefraktiven Effektes dieses Streifenmusters hervorgerufen wird.
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Wenn die Maske perfekt ausgerichtet ist, so sind die hellen Teile der Streifen, die
durch ihren Ausrichtabschnitt hervorgerufen werden, präzise mit den am wenigsten
absorbierenden Bereichen des optischen Absorptions-Streifenmusters ausgerichtet, das
in dem entsprechenden bereits hergestellen Abschnitt des Bragg-Gitters vorhanden ist,
sodass die Übertragung des projizierten Lichtes ein Maximum aufweist. Wenn die
Streifenmuster beide die gleiche gleichförmige Steigung haben sollten, so würde die
Übertragung zyklisch zwischen einem Maximalwert und einem Minimalwert moduliert,
während die Maske und das Gitter fortschreitend aus der präzisen Ausrichtung
miteinander herausbewegt werden. Wenn die Streifenmuster die gleiche gleichförmig
veränderte Steigung haben sollten, so würde sich ein Hauptmaximum ergeben, das der
perfekten Ausrichtung zugeordnet ist, sowie fortschreitend verringerte
Amplitudenmaxima mit zunehmender Abweichung von der perfekten Ausrichtung.
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Typischerweise ist die Maske eine Phasenmaske, die so ausgelegt ist, dass sie die
Leistungsabstrahlung in die Null-Beugungsordnung zu einem Minimum macht, wobei
in diesem Fall die Übertragung dadurch überwacht wird, dass ein Photodetektor so
positioniert wird, dass er in eine andere Beugungsordnung, typischerweise die erste,
abgestrahltes Licht sammelt.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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Es folgt eine Beschreibung der Herstellung eines reflektierenden Bragg-Gitters in
einem Lichtleitfaser-Wellenleiter, wobei das Verfahren die Erfindung in einer
bevorzugten Ausführungsform verwirklicht. Die Beschreibung bezieht sich auf die
beigefügten Zeichnungen, in denen:
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Fig. 1 eine schematische Darstellung der Vorrichtung ist, die zur Herstellung des
reflektierenden Bragg-Gitters verwendet wird,
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Fig. 2 eine schematische Darstellung des Gitters ist,
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Fig. 3-5 Schnittansichten eines Abschnittes der Lichtleitfaser während
aufeinanderfolgender Stufen der Herstellung eines Abschnittes des
reflektierenden Bragg-Gitters in dieser sind, und
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Fig. 6-8 das Ausrichtverfahren erläutern; das verwendet wird, um
eine zur Herstellung des nächstbenachbarten Abschnittes des
reflektierenden Bragg-Gitters verwendete Maske auszurichten.
Ausführliche Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform
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In Fig. 1 ist ein Abschnitt einer Länge 11 einer Monomoden-Lichtleitfaser, in dem das
Gitter hergestellt werden soll, leicht zwischen zwei Halterungen 12 und 13 gespannt,
sodass dieser Abschnitt nahezu in Berührung mit einem Phasengitter 10a steht, das
so ausgerichtet ist, dass sich seine Gitterlinien quer zur Lichtleitfaserachse erstrecken,
vorzugsweise unter rechten Winkeln zu dieser Achse. Ein Argon-Ionenlaser 14, der ein
frequenzverdoppeltes Ultraviolett-Ausgangslicht bei 244 nm liefert, ist mit seinem
Ausgang auf das Phasengitter 10a über ein Teleskop 15, eine Apertur 16, einen
Spiegel 17 und eine Zylinderlinse 18 gerichtet. Der Spiegel 17 ist an einem
Schrittmotorantrieb 19 befestigt, mit dessen Hilfe der Spiegel in kontrollierter Weise in
der Axialrichtung der Lichtleitfaser 11 hin- und herverschoben werden kann, um den
Lichtstrahl über das Phasengitter 10a in der Axialrichtung der Lichtleitfaser 11 zu
führen.
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Die Phasenmaske 10a ist ein Phasenkontrast-Beugungsgitter, das in einer dünnen
Platte aus Siliziumdioxid ausgebildet ist. Zu diesem Zweck wurde die
Siliziumdioxid-Platte mit einer Schicht aus Chrom beschichtet, die ihrerseits mit einer
Elektronenstrahl-Lithographie mit einem Muster versehen wurde, um eine Maske für
eine reaktive Ionenätzung des darunterliegenden Siliziumdioxids zu bilden. Die Tiefe
der Ätzung wurde so gewählt, dass die Beugung nullter Ordnung von Licht unterdrückt
wird, das senkrecht auf die Phasenmaske auftrifft. Der Laser hat einen
Dauerstrich-Ausgang von 100 mW bei 244 nm, von dem ungefähr die Hälfte durch das
optische System an der Phasenmaske in einer im Wesentlichen rechtwinkligen Zone
konzentriert wird, die Abmessungen von angenähert 3 mm mal 150 um hat, wobei ihre
lange Achse mit der Lichtleitfaserachse ausgerichtet ist. Es wurde festgestellt, dass
diese Leistung ausreicht, um in einem einzigen Durchlauf bei 100 um pro Sekunde des
Lichtstrahls in der Axialrichtung einer nicht-hydrierten Lichtleitfaser zu schreiben, deren
Kern mit Bor und Germanium in einer Weise dotiert war, die ähnlich der ist, wie sie von
D. L. Williams et al. in der Veröffentlichung mit dem Titel "Enhanced UV
Photosensitivity in Boron Co-doped Germanosilicate Fibres", Electronics Letters, 7.
Januar 1993, Bd. 29, Nr. 1, S. 45-47 beschrieben ist.
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Die vorstehenden Einzelheiten typisieren lediglich eines von verschiedenen
unterschiedlichen alternativen Verfahren, mit denen der erste Abschnitt des
Bragg-Gitters in der Lichtleitfaser 11 hergestellt worden sein könnte, und soweit
unterscheidet sich das Verfahren nach der Erfindung nicht vom Stand der Technik.
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In dem speziellen Fall eines langen reflektierenden Bragg-Gitters, das in einem
Längenabschnitt einer Monomoden-Lichtleitfaser 11 zur Verwendung beispielsweise
bei der Dispersionskompensation hergestellt wird, ist die Steigung des. Gitters nicht
gleichförmig, sondern monoton von einem Ende zum anderen ansteigend, wie dies
schematisch durch die Linien 20 in der Darstellung nach Fig. 2 dargestellt ist. Für die
Schaffung eines derartigen Gitters Abschnitt-für-Abschnitt wird eine unterschiedliche
Maske eines Satzes von Masken für die Herstellung jedes Abschnittes verwendet.
Lediglich zu Erläuterungszwecken wurde dieser Satz in Fig. 2 als der Satz von sechs
Masken 10a bis 10f dargestellt. Im Fall dieser sechs Masken wird die Maske 10a zur
Herstellung der Linien 20 in dem Bereich von a bis b und die Maske 10b zur
Herstellung der Linien in dem Bereich von b bis c usw. verwendet. Die Maske 10a
überdeckt den Bereich von a bis b, doch überdeckt jede der anderen Masken 10b bis
10f einen Bereich, der sich außerdem über einen Teil des vorhergehenden Bereiches
erstreckt. Somit überdeckt die Maske 10b den Bereich von b bis c, den Bereich, den
sie in die Lichtleitfaser schreibt, jedoch auch den Teil b' bis b des Bereiches a bis b,
der unter Verwendung der Maske 10a geschrieben wurde. Es ist dieser Teil b' bis b
und die entsprechenden Teile c' bis c, d' bis d, e' bis e und f' bis f, die gemäß dem
Verfahren dieser Erfindung für Ausrichtzwecke verwendet werden.
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Idealerweise würde die kontinuierliche Änderung des Gitters sowohl monoton als auch
gleichförmig gewesen sein, doch war dies bei der speziellen
Elektronenstrahlvorrichtung, die zur Herstellung des Satzes von Phasenmasken
verwendet wurde, keine praktische Lösung. Entsprechend wurde eine Näherung an ein
gleichförmig mit einer Phasenänderung versehenes oder "gechirptes" Gitter unter
Verwendung von Phasenmasken geschaffen, die statt einer gleichförmigen Gradierung
der Steigung schrittweise gradiert waren, typischerweise mit zwischen 200 und 300
Schritten. Innerhalb jeder Schritte ist die Steigung konstant, doch ergibt sich ein
sanftes Fortschreiten der Steigung von Stufe zu Stufe innerhalb der Phasenmaske von
einem Ende zum anderen. Die Präzision des Elektronenstrahls war ausreichend, um
Indexierprobleme zwischen den Teilschritten irgendeiner einzelnen Phasenmaske
auszuschließen.
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Zur Vereinfachung der Darstellung zeigt die Fig. 2 die Masken 10a bis 10f in
staffelförmiger Anordnung, doch befindet sich jede Maske, wenn sie tatsächlich zur
Herstellung des zugehörigen Abschnittes des Bragg-Gitters verwendet wird, in der
gleichen mit engem Abstand angeordneten Beziehung zu der Lichtleitfaser 11, wie dies
weiter oben unter spezieller Bezugnahme auf Fig. 1 bezüglich der Positionsbeziehung
zwischen der Maske 10a und der Lichtleitfaser 11 beschrieben wurde.
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Zweckmäßigerweise wird jede Maske 10b bis 10f ihrerseits an die Position gebracht,
die vorher von der Maske 10a eingenommen wurde, und die Lichtleitfaser 11 wird
entlang ihrer Axialrichtung um angenähert den erforderlichen Betrag schrittweise
bewegt, um die erforderliche Ausrichtung zwischen dieser Maske und dem bereits in
der Lichtleitfaser 11 erzeugten Bragg-Gitter zu erzielen. Wenn man sich lediglich auf
eine Positionbestimmung verlässt, so kann diese Schrittbewegung typischerweise eine
Genauigkeit von ungefähr 1 bis 2 um erreichen, doch ist eine größere Präzision
erforderlich. Dies wird nachfolgend durch die schrittweise Bewegung und die
Positionsbestimmung durch einen Feinabgleich der Relativposition erreicht. Dieser
Feinabgleich wird durch Verwendung einer eine hohe Präzision aufweisenden
Translationsstufe 21 (Fig. 1), beispielsweise einer piezoelektrischen oder
elektrostriktiven Translationsstufe erreicht, an der entweder die Maske oder die
Lichtleitfaserhalterungen 12 und 13 befestigt sind. Zur Erleichterung der Darstellung
zeigt Fig. 1 die Lichtleitfaser-Halterungen 12 und 13 in an der Translationsstufe
befestigter Anordnung.
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Die Art und Weise, wie der Feinabgleich erzielt wird, wird nunmehr unter spezieller
Bezugnahme auf die Fig. 3 bis 8 beschrieben, die sich speziell auf die Feineinstellung
der Position der Maske 10b bezüglich der Lichtleitfaser 11 beziehen. Diese Fig. 4
bis 8 zeigen einen Abschnitt der Lichtleitfaser 11, der zwischen b' und b nach Fig. 2
liegt. Fig. 3 zeigt einen Abschnitt der Lichtleitfaser 11 mit ihrem dotierten Kern 11a
sowie außerdem einen Abschnitt der Maske 10a in einer Position in Vorbereitung für
die Herstellung eines Abschnittes des reflektierenden Bragg-Gitters in der Lichtleitfaser
11. Fig. 4 zeigt die tatsächliche Herstellung dieses Abschnittes des Gitters. Dies wird
dadurch erreicht, dass ein intensives Ultraviolettlicht von dem Laser 14 durch die
Maske 10a gelenkt wird, um ein Streifenmuster von intensiven Lichtflecken 23 zu
schaffen, die durch den photorefraktiven Effekt entsprechende Volumen eines
vergrößerten Beugungsindex und einer verringerten Absorption in dem Kern 11a
erzeugen. Diese Volumen sind bei 24 in Fig. 5 gezeigt, die die Lichtleitfaser 11 nach
der Entfernung der Maske 10a zeigt. Fig. 6 zeigt die Situation, sobald die Maske 10b
schrittweise in angenähert die richtige Position gegenüber der Lichtleitfaser bewegt
wurde und während ein Teil des Bereiches der Maske 10b, der zwischen b' und b liegt,
mit einer Abfragebeleuchtung beleuchtet wird, um ein Streifenmuster von Lichtflecken
25 zu erzeugen. Dieser Bereich der Maske 10b ist eine exakte Wiedergabe des
Bereiches der Maske 10a, die zwischen b' und b liegt.
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Entsprechend ist innerhalb des Bereiches, der zwischen b' und b liegt, die relative
Anordnung der einen erhöhten Index und eine verringerte Absorption aufweisenden
Volumen 24, die exakt an die relative Anordnung des Streifenmusters der intensiven
Flecken angepasst ist, die von der Maske 10a erzeugt werden, ihrerseits exakt an die
relative Anordnung des Streifenmusters von Flecken 25 angepasst, die von der Maske
10b erzeugt werden. Im speziellen Fall der Verwendung der stufengradierten
Phasenmasken, die vorstehend beschrieben wurden, kann der zwischen b' und b
liegende Bereich typischerweise und zweckmäßigerweise eine einzige dieser Stufen
umfassen.
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Die Abfragebeleuchtung zur Erzeugung des Streifenmusters von Flecken 25 muss eine
derartige Wellenlänge und Intensität haben, dass sie als solche keine wesentlichen
Änderungen aufgrund des photorefraktiven Effektes auf der Lichtleitfaser 11 hervorruft,
doch muss sie andererseits eine Wellenlänge haben, für die sich eine unterschiedliche
Absorption ergibt, d. h. für die die ihr durch die Volumen 24 mit verringerter Absorption
dargebotene Absorption sich merklich von der unterscheidet, die ihr von den
zwischenliegenden Bereichen des Kerns 11a dargeboten werden. Für die spezielle
Faserzusammensetzung und Beleuchtungsbedingungen, die weiter oben angegeben
wurden, wurde festgestellt, dass diese Kriterien in adäquater Weise dadurch erfüllt
werden, dass die gleiche Wellenlänge (244 nm) verwendet wird, dass jedoch die
Intensität an der Maske um ungefähr 20 dB verringert wird. Die Literatur gibt an, dass
unterschiedliche Dotierungsrezepte unterschiedliche Breiten von Absorptionsspektren
zeigen zu scheinen, sodass es mit bestimmten Rezepten möglich sein kann, eine
beträchtlich längere Wellenlänge zu Abfragezwecken zu verwenden, als sie zum
Schreiben des Bragg-Gitters verwendet wird, sodass hierdurch weiter die Gefahr
verringert wird, dass das Abfragen seine eigene (unerwünschte) Schreibwirkung
hervorruft.
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Wenn die Positionsbestimmung-Indexierung, die die Maske 10b auf angenähert die
erforderliche Position gegenüber der Lichtleitfaser 11 bringt, die exakte Position jedoch
um angenähert die halbe Streifenperiode verfehlt, so sind die Abfrageflecken 25 in der
in Fig. 6 gezeigten Weise ausgerichtet, wobei die eine höhere Absorption
aufweisenden Bereiche zwischen benachbarten, eine verringerte Absorption
aufweisenden Bereichen 24 liegen. Wenn die erforderliche Position um ungefähr ein
Viertel einer Streifenperiode verfehlt wird, so würde die Situation so sein, wie dies in
Fig. 7 gezeigt ist, bei der die Abfrageflecken 25 lediglich zur Hälfte mit diesen eine
verringerte Absorption aufweisenden Bereichen 24 ausgerichtet sind. Wenn die
zufälligerweise die exakte erforderliche Ausrichtung ergeben würde, so würden die
Abfrageflecken 25 vollständig mit den eine verringerte Absorption aufweisenden
Bereichen 24 ausgerichtet sein, wie dies in Fig. 8 gezeigt ist.
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Es ist klar, dass die Situation nach Fig. 8, die exakte korrekte Positionsbeziehung, die
größte Transmission der Abfragebeleuchtung durch die Lichtleitfaser ergibt, während
die nach Fig. 6 ein Minimum ergibt. Die piezoelektrische Transiationsstufe 21 wird
daher betrieben, um periodisch die relative Positionierung der Maske 10b und der
Lichtleitfaser 11 zu ändern, während gleichzeitig der Ausgang eines Photodetektors 22
(Fig. 1) überwacht wird, der so angeordnet ist, dass er einen Teil dieses übertragenen
Lichtes auffängt. Weil die Maske 10b so ausgelegt wurde, dass sie gebeugtes Licht
nullter Ordnung unterdrückt, ist der Photodetektor 22 vorzugsweise in einer Position
angeordnet, in der er gebeugtes Licht erster Ordnung auffängt. Die piezoelektrische
Translationsstufe wird dann auf die dem maximalen Ausgang des Photodetektors 22
entsprechende Position eingestellt, und während diese Position beibehalten wird, wird
der zweite Abschnitt des Gitters, der Abschnitt von b bis c; in der Lichtleitfaser 11
hergestellt.
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Wie dies weiter oben angegeben wurde, wird der Abschnitt des Gitters von b' zu b, der
bereits unter Verwendung der Maske 10a geschrieben (hergestellt) wurde, nicht unter
Verwendung der Maske 1 Ob überschrieben, sodass der entsprechende Abschnitt der
Maske 10b als solcher während des Schreibens des Abschnittes von b zu c abgedeckt
werden kann.
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Das Verfahren zur Ausrichtung und zum Schreiben der dritten und nachfolgenden
Masken (Masken 10c und ff.) folgt den gleichen Verfahren, wie sie vorstehend
bezüglich der Ausrichtung und des Schreibens mit der zweiten Maske (Maske 10b)
beschrieben wurden.
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Für die Dauer jedes Überwachungsverfahrens wird es bevorzugt, eine (nicht gezeigte)
Zerhackerklinge vorübergehend in dem Lichtpfad zwischen dem Laser 14 und dem
Teleskop 15 anzuordnen, sodass ein phasengeregeltes Detektionssystem zur
Erfassung des Teils des Lichtes verwendet werden kann, der von dem Photodetektor
22 aufgefangen wird.
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Die vorstehende spezielle Beschreibung bezog sich auf das Schreiben eines eine
periodische Änderung aufweisenden Gitters in einem Lichtleitfaser-Wellenleiter, und es
umfasste die Verwendung einer unterschiedlichen Maske (10a bis 10f) für das
Schreiben jedes der Teilabschnitte (a bis b) bis (f bis g). Es ist jedoch ersichtlich, dass
für das Schreiben von Abschnitten eines eine gleichförmige Steigung aufweisenden
Gitters in dem Lichtleitfaser-Wellenleiter die gleiche Maske für das Schreiben jeder der
Teilabschnitte verwendet werden kann.