FR2569033A1 - Support d'enregistrement optique - Google Patents

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Shigeharu Iijima
Eizo Sasamori
Katsuhiko Takano
Masaaki Matsushima
Kazuoki Honguu
Mitsuharu Sawamura
Kazuhiko Kikuchi
Takahiko Ishiwatari
Hiroyoshi Kishi
Hisaaki Kawade
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Abstract

L'INVENTION CONCERNE UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE D'UNE GRANDE RESISTANCE A LA CORROSION. IL COMPORTE UNE COUCHE11 D'ENREGISTREMENT OPTIQUE APPLIQUEE SUR UN SUBSTRAT10, ET UN FILM PROTECTEUR12 EN CARBURE D'UNE SUBSTANCE CHOISIE PARMI LE TUNGSTENE, LE BORE, LE MOLYBDENE, L'HAFNIUM, LE NIOBIUM, LE TITANE, LE CHROME, LE VANADIUM, LE TANTALE ET LE SILICIUM, CE FILM PROTECTEUR POUVANT ETRE FORME SUR UNE FACE OU SUR CHAQUE FACE DE LA COUCHE D'ENREGISTREMENT. DOMAINE D'APPLICATION : SUPPORTS D'ENREGISTREMENT OPTO-MAGNETIQUES, ETC.

Description

q
L'invention concerne un support d'enregistre-
ment optique permettant d'effectuer un enregistrement
et une reproduction à l'aide d'un faisceau lumineux.
On connaît, en tant que support d'enregistre-
ment optique et dans la constitution d'un disque optique ou de sa couche d'enregistrement, l'utilisation de films
minces constitués d'alliages terresrares-métaux de transi-
tion, de films minces constitués d'oxydes réducteurs tels que des composés ch&cogènes utilisant la transition d'une phase non cristalloilde à une phase cristallo de, des supports d'enregistrement à mode thermique, des supports d'enregistrement thermoplastiques, etc. Par
exemple, en tant que supports d'enregistrement magnéto-
optiques formés de films minces d'alliages terres rares-
métaux de transition, on connaît des films minces poly-
cristallins tels que MnBi, MnCuBi et analogues, des films minces amorphes tels que GdCo, GdFe, TbFe, DyFe,
GdTbFe, TbDyFe et analogues, et des films minces monocris-
tallins tels que GdIG et analogues.
Parmi ces films minces, les films minces
amorphes ont récemment été considérés comme étant excel-
lents en tant que support d'enregistrement opto-magnétique, compte tenu de l'aptitude au façonnage du film lorsqu'un
film mince de grande surface est produit à une températu-
re voisine de la température ambiante, de l'efficacité avec laquelle des signaux sont écrits à l'aide d'une faible énergie lumineuse-thermique et de l'efficacité avec laquelle les signaux écrits sont lus avec un bon rapport signal/bruit. Parmi eux, le composé GdTbFe, qui présente un grand angle de rotation de Kerr et un point de curie d'environ 150 C, convient en tant que support d'enregistrement opto-magnétique. En outre, on a procédé à des études visant à améliorer l'angle
de rotation de Kerr et celles-ci ont abouti à la constata-
tion que GdTbFeCo constitue un support d'enregistrement opto-magnétique ayant un angle de rotation de Kerr assez grand et permettant une lecture avec un bon rapport signal/bruit.
Cependant, en général, les matières magnéti-
ques amorphes telles que GdTbFe, etc. utilisées dans des supports d'enregistrement magnétiques, y compris des supports d'enregistrement opto-magnétiques, ont pour inconvénient d'avoir une mauvaise résistance à la corrosion. Autrement dit, si ces matières sont en contact avec l'atmosphère ou de la vapeur d'eau, leur caractéristique magnétique s'affaiblit et elles finissent par devenir totalement oxydées et transparentes. Ce problème est courant dans les supports d'enregistrement opto-magnétiques et dans les supports d'enregistrement
optiques précités.
Pour éliminer cet inconvénient, on a donc proposé d'utiliser un revêtement protecteur constitué d'une substance transparente, par exemple une couche
protectrice de SiO2 ou de SiO, sur une couche d'enregis-
trement, ou bien d'adopter une structure à sandwich
d'air dans laquelle la couche d'enregistrement est enve-
loppée d'un gaz inactive, ou une structure collée dans laquelle un substrat est en outre appliqué sur la couche protectrice par l'intermédiaire d'un agent adhésif mais, en pratique, on n'a pas obtenu une résistance suffisante
à la corrosion.
L'invention a pour objet un support d'enre-
gistrement optique dont la résistance à la corrosion est améliorée sans que ses caractéristiques de support
d'enregistrement en soient affectées.
L'objet indiqué ci-dessus est réalisé, conformément à la présente invention, dans un support
d'enregistrement optique comportant une couche d'enregis-
trement optique appliquée sur un substrat, par la forma-
tion, sur une ou chaque face de la couche d'enregistrement optique, d'un film de carbure constitué d'une substance
choisie parmi le tungstène, le bore, le molybdène, l'haf-
nium, le niobium, le titane, le chrome, le vanadium,
le tantale et le silicium.
Le film de carbure tel que décrit ci-dessus est formé par le procédé d'évaporation ou par le procédé de pulvérisation. En particulier, la pulvérisation à haute fréquence (RF) convient à la formation d'un film de carbure d'hafnium, d'un film de carbure de vanadium et d'un film de carbure de tantale, et l'évaporation à faisceau d'électrons ou la pulvériation RF convient à la formation d'un film de carbure de tungstène, d'un film de carbure de bore, d'un film de carbure de molybdène
et d'un film de carbure de niobium. En outre, l'évapora-
tion réactive ou la pulvérisation RF réactive convient à la formation d'un film de carbure de titane et d'un film de carbure de chrome, et la pulvérisation RF convient
à la formation d'un film de carbure de silicium.
Dans la présente invention, o un film de carbure doit être formé ultérieurement sur la couche d'enregistrement optique, il est souhaitable de former la couche d'enregistrement par un procédé tel que la pulvérisation, puis de former en continu, sans rupture du vide, un film de carbure. De plus, lorsqu'un film de carbure doit être formé sur un substrat et qu'une couche d'enregistrement optique doit être formée sur ce dernier avant qu'un autre film de carbure soit formé sur cette couche, il est préférable de former les films
en continu, dans la même enceinte, sans rupture du vide.
Un autre objet de la présente invention est d'offrir un support d'enregistrement optique dont le signal de lecture présente un rapport signal/bruit élevé et qui, en outre, possède une résistance suffisante à la corrosion et une structure dans laquelle un film d'interférence optique, une couche réfléchissante, etc. sont appliques les uns à la suite des autres à partir du côté de la couche d'enregistrement pour accroître,
en particulier, l'effet magnéto-optique.
L'objet de la présente invention, indiqué ci-dessus, est réalisé par un support d'enregistrement optique comportant au moins une couche d'enregistrement optique et une couche réfléchissante appliquée sur un substrat et caractérisé en ce qu'un film d'interférence optique, constitué de carbure de silicium est prévu entre la couche d'enregistrement optique et la couche réfléchissante. Un autre objet de l'invention est d'offrir un support d'enregistrement optique caractérisé en ce qu'au moins une couche d'enregistrement optique et un film de carbure sont prévus sur un substrat portant un film de SiO, formant une; sous-couche qui est appliquée
en contact avec ce substrat.
Comme film de carbure, on peut utiliser tout carbure ayant une propriété de transmission exigée vis-à-vis de la lumière utilisée et chimiquement stable et d'une excellente résistance à l'humidité, et des carbures préférés sont SiC et B4C. L'épaisseur du film de carbure peut avantageusement être comprise entre 20 et 200 nm. Si l'épaisseur du film est inférieure à 20
nm, le film présente une résistance à la corrosion insuf-
fisante, et si l'épaisseur du film dépasse 200 nm, il
existe un risque indésirable de réduction de la sensibi-
lité d'enregistrement ou de formation de fissures ou
analogues dans le film.
Le support d'enregistrement optique selon l'invention peut présenter indifféremment la structure
collée ou la structure à sandwich d'air.
Le film de SiO appliqué en tant que sous-
couche est destiné à améliorer l'uniformité du film appliqué sur lui avec le substrat, et l'épaisseur de ce film peut avantageusement être comprise entre
et 200 nm.
L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemples nullement limitatifs et sur lesquels: - les figures 1 et 2 sont des graphiques
montrant les résultats d'essais de résistance à la corro-
sion portant sur des supports d'enregistrement optiques tels que représentés sur les figures 3 et 4;
- les figures 3 et 4 sont des coupes trans-
versales partielles et schématiques représentant ces supports d'enregistrement optiques;
- les figures 5 à 7 sont des coupes trans-
versales montrant des variantes du support d'enregistre-
ment optique selon l'invention;
- les figures 8 à 10 sont des coupes trans-
versales montrant schématiquement des supports d'enregis-
trement optiques ayant chacun une structure dans laquelle un film d'interférence optique, une couche réfléchissante, etc. sont superposés; les figures 11 et 12 sont des graphiques
montrant les résultats d'essais de résistance à la corro-
sion sur des supports d'enregistrement optiques tels que représentés sur les figures 8 à 10; - la figure 13 est une coupe transversale montrant schématiquement un support d'enregistrement optique qui présente une structure dans laquelle une couche d'enregistrement optique et un film de carbure
sont prévus sur un substrat portant un film de SiO for-
mant une sous-couche qui est en contact avec ce substrat; et - la figure 14 est une coupe transversale
montrant schématiquement un exemple comparatif.
Plusieurs formes de réalisation de l'inven-
tion seront à présent décrites en détail.
Forme de réalisation n 1: -
Dans un appareil de pulvérisation RF, on a utilisé en tant que substrat une feuille de verre blanc ayant pour dimensions 2,54 x 2,54 cm, et de petits morceaux de gadolinium (Gd) et de terbium (Tb), ayant chacun pour dimensions 5 mm x 5 mm, disposés uniformément sur une pièce de fer (Fe) de 100 mm de diamètre, ont
été utilisés en tant que cible composite et une pulvérisa-
tion a eu lieu afin qu'il se forme, sur le substrat
constitué de la feuille de verre blanc, une couche d'enre-
gistrement optique d'une épaisseur de 100 nm, comprenant
un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe.
Ensuite, dans un appareil ordinaire d'évaporation sous vide, on a évacué l'air jusqu'à un vide de l'ordre de 2 x 10-4 Pa, après quoi on a vaporisé du carbure de tungstène (WC) à l'aide d'une source de vaporisation à faisceau électronique, et on a formé par évaporation un film de carbure de tungstène d'une épaisseur de 300nm
sur ladite couche d'enregistrement.
Forme de réalisation n 2: Dans un appareil de pulvérisation RF, on a utilisé comme substrat une feuille de verre blanc ayant pour dimensions 2, 54 x 2,54 cm et on a également utilisé la même cible composite de Fe, Gd et Tb que celle utilisée dans la forme de réalisation n 1, de façon à former par pulvérisation, sur le substrat, une couche d'enregistrement d'une épaisseur de 100 nm. Ensuite, l'intérieur d'une enceinte à vide a été amené à un vide de l'ordre de 2 x 10 4 Pa, et on a introduit de l'argon gazeux (Ar) dans cette enceinte jusqu'à 4 x 101 Pa, et on a utilisé du carbure de tungstène en tant que seconde cible pour former par pulvérisation, sur ladite couche d'enregistrement, un film de carbure de tungstène d'une épaisseur de 200 nmo Forme de réalisation n 3
Dans un appareil de pulvérisation RPF, l'inté-
rieur d'une enceinte à vide a été amené à un vide de l'ordre de 4 x 10Pa, après quoi on y a -introduit de l'argon gazeux (Ar) jusqu'à environ 4 x 10- 1 Pa. Puis, on a utilise du polyméatêhacrylate de méthyle (RMNA) en tarit que substrat, et on a utilisé du carbure de tungstese en tant que première cible, de façon qu il se forme sur le substrat, par pulvérisation, un film de carbure de tungstène d'une épaisseur de 20 nm. Ensuite, à l'aide de la même cible composite constituée de Fe, Gd et Tb, que celle utilisée dans la forme de réalisationn 1. ce e ci b l coQmposite constituant une seconde cible, on a -15 fo.; p ur p) u!lvérisation une couchLe d'enregistrement
d'une 2paisceer de 100 no. En outre, on a fait & l'inté-
rieur de l'enceinte un vide de l'ordre de 4. 10 4 Pa apres quoi on y a introduit de l'argon gazeux jusquv'à 4 x 101 Pa et, en utilisant la premiere cible, on a formé sur ladite couche d'enregistrement un film de carbure de
tungstène d'une épaisseur de 200 nm.
Les résultats des essais de résistance à la corrosion portant sur les supports d'enregistrement optiques produits conformément aux formes de réalisation 1n1 1= placés danls une enceinte à température constante et humidité constante, respectivement de 70 C et 85%
de HR, sont donnés sur les figures 1 et 2. Sur Ces figu-
res 1 et 2, on indique en abscisses la durée de l'essai
(unité en heure (h)) et on indique en ordonnées la varia-
tion de la forme coercitive Hc par le rapport de cette
force avec sa valeur initiale HcO. Ces graphiques mon-
trent que plus la diminution de la force coercitive est brusque, plus la corrosion progresse rapidemento Sur la figure 1, la référence- numérique 1 désigne le résultat de l'essai portant sur la forme de réalisation n 1 et les références numériques 2 et
3 montrent les résultats portant sur des exemples compara-
tifs. Dans l'exemple comparatif n 3, u couche d'enregis-
trement optique d'une épaisseur de 100 nm, comprenant un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe, similaire à celui de la forme de réalisation n 1, est formée sur un substrat de verre et aucun film protecteur n'est prévu, et dans l'exemple comparatif n 2, un film de SiL ayant une épaisseur de 300 nm, est déposé en tant que film protecteur sur la couche d'enregistrement
de l'exemple comparatif n 3. On voit que le support d'enre-
gistreffnt optique comportant du carbure de tunsgtène ainsi appliqué en tant que couche protectrice présente une meilleure résistance à la corrosion que les supports d'enregistrement optiques des exemples comparatifs n 2 et 3. Lorsque l'on a procédé à un essai similaire sur le support d'enregistrement de la forme de réalisation n 2, on a obtenu pratiquement le même résultat que
celui de la forme de réalisation n 1.
Sur la figure 2, la référence numérique 4 indique le résultat de l'essai portant sur la forme de réalisation n 3 et les références numériques 5 et
6 indiquent les résultats portant sur des exemples compa-
ratifs. Dans l'exemple ccparatif n 6, une couche d'enregis-
trement optique d'une épaisseur de 100 nm, comprenant un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe, similaire à celui de la forme de réalisation n 3, est formée sur un substrat de PMMA et aucun film protecteur n'est prévu, et dans l'exemple comparatif n 5, un film de SiO, d'une épaisseur de 20 nm, est appliqué sur un substrat de PMMA, et une couche d'enregistrement d'une épaisseur de 100 nm, constituée de Gd, Tb et Fe, est
formée sur ce film, puis un film protecteur d'une épais-
seur de 300 nm, constitué de SiO, est déposé sur la couche d'enregistrement. Comme le montre encore la figure 2, le film protecteur en carbure de tungstène améliore
efficacement la résistance à la corrosion.
Formes de réalisation n 4 à 12: On a produit, par un procédé similaire à celui utilisé pour les formes de réalisation n 1 à 3, des supports d'enregistrement optiques comportant des films protecteurs constitués de carbure de niobium (NbC), de carbure de molybdène (Mo2C) et de carbure de bore (B4C), respectivement, à la place du carbure de tungstène des formes de réalisation n 1 à 3. Le tableau 1 indique
les constitutions de ces supports d'enregistrement opti-
ques. On a utilisé, comme couche d'enregistrement optique, un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe,
d'une épaisseur de 100 nm.
TABLEAU 1
Constitution (Procédé de formation du film de carbure)
Forme de réalisation n 4: Substrat de verre/couche d'enregistre-
ment/film de carbure de molybdène de (Evaporation à faisceau 300 nm d'électrons)
Forme de réalisation n 5: Substrat de verre/couche d'enregistre-
ment/ film de carbure de molybdène (Pulvérisation RF) de 200 nm Forme de réalisation n 6: Substrat de PMMA/film de carbure de
molybdène de 20 nm/couche d'enregis-
trement / film de carbure de mo- (Pulvérisation RF) lybdène de 200 nm
Forme de réalisation n 7: Substrat de verre/couche d'enregis-
trement/film de carbure de niobium (Evaporation à faisceau de 300 nm d'électrons)
Forme de réalisation n 8: Substrat de verre/couche d'enregis-
trement/film de carbure de niobium (Pulvérisation RF) de 200 nm Forme de réalisation n 9: Substrat de PMMA/film de carbure de
niobium de 20 nm/couche d'enregis-
trement/film de carbure de niobium (Pulvérisation RF) de 200 nm TABLEAU 1 (suite)
Forme de réalisatilon n 10: Substrat de verre/couche d enregis-
trement/film de carbure de bore (Evaporation à faisceau de 300 nm d ' électrons)
Forme de réalisation n 11 Substrat de verre/couche d'enrogis-
$ trement/film de carbure de bore (Pulvérisation, RF) de 200 nm Forme de réalisation n 12 Substrat de PMIA/film de carbure de bore de 20 nm/couche daenregia- (Pulvérisation F) trement/film de carbure de bore de 200 nm Les essais de résistance à la corrosion portant sur les supports d'enregistrement optiques des formes de réalisation 4-12 ont consisté à placer ces supports dans une enceinte à température constante de 70G C et humidité relative constante de 85%. Les résultats ont été tout à fait similaires à ceux obtenus dans le cas des figures 1 et 2 o on utilisait du carbure de tungstène pour le film protecteur. Autrement dit, comme précédemment, lorsque l'on utilise du carbure de molybdène, du carbure de bore ou du carbure de niobium comme film protecteur, la résistance à la corrosion du support
d'enregistrement optique peut être notablement améliorée.
Forme de réalisation n 13: Dans un appareil de pulvérisation RF, une feuille de verre blanc, ayant pour dimensions 2,54 x 2,54 cm a été utilisée comme substrat, et de petits morceaux de gadolinium (Gd) et de terbium (Tb) ayant chacun pour dimensions 5 mm x 5 mm, disposés uniformément sur une
pièce de fer (Fe) de 100 mm de diamètre, ont été utili-
sés comme cible composite et on a procédé à une pulvérisa-
tion pour former sur le substrat une couche d'enregistre-
ment optique d'une épaisseur de 100 nm, comprenant un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe. Ensuite,
on a établi un vide de l'ordre de 4 x 10- 4 Pa à l'inté-
rieur d'une enceinte à vide, après quoi on y a introduit
de l'argon (Ar) gazeux jusqu'à 4 x 10-1 Pa, et on a utili-
sé du carbure de tantale en tant que seconde cible dans cette enceinte pour former par pulvérisation, -sur la couche d'enregistrement, un film de carbure de tantale
d'une épaisseur de 200 nm.
Forme de réalisation n 14: Dans un appareil de pulvérisation RF, on a établi un vide de l'ordre de 4 x 104 Pa à l'intérieur d'une enceinte à vide, après quoi on a introduit de l'argon (Ar) gazeux jusqu'à environ 4 x 10 1 Pa. Puis on a utilisé comme substrat du polyméthacrylate de méthyle (PMMA) et, comme première cible, du carbure de tantale de façon à former par pulvérisation, sur le substrat, un film de carbure de tantale d'une épaisseur de 200 nm. Ensuite, à l'aide de la même cible composite, constituée de Fe, Gd et Tb, que celle de la forme de réalisation n 13, mais utilisée en tant que seconde
cible, on a formé sur le film précédent, par pulvérisa-
tion, une couche d'enregistrement d'une épaisseur de 100 nm. En outre, on a établi à l'intérieur de l'enceinte
un vide de l'ordre de 4 x 10 4 Pa, après quoi on a intro-
duit de l'argon gazeux jusqu'à environ 4 x 10 1 Pa et, en utilisant la première cible, on a formé sur la couche d'enregistrement un film de carbure de tantale d'une
épaisseur de 200 nm.
Formes de réalisation 15-18: On a produit, par un procédé similaire, des supports d'enregistrement optiques comportant des films protecteurs constitués de carbure de vanadium et de carbure d'hafnium, respectivement, à la place du carbure de tantale des formes de réalisation n0 13 et 14. Leurs constitutions sont données dans le tableau 2. Comme couche d'enregistrement optique, on a utilisé un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe,
d'une épaisseur de 100 nm.
TABLEAU 2
Constitution Forme de réalisation n 15: Substrat de verre/couche d'enregistrement/film de carbure de vanadium de 200 nm Forme de réalisation n 16: Substrat de PMMA/film de carbure de vanadium de 20 nm/couche d'enregistrement/film de carbure de vanadium de 200 nm
Forme de réalisation n 17: Substrat de verre/couche d'enregistrement/film de carbure d'haf-
nium de 200 nm Forme de réalisation n 18: Substrat de PMMA/film de carbure d'hafnium de 20 nm/couche
d'enregistrement/film de carbure d'hafnium de 200 nm.
r> os do us On a procédé à des essais de résistance à la corrosion sur les supports d'enregistrement optiques produits conformément aux formes de réalisation n 13 à 18,
ces essais consistant à placer les supports d'enregistre-
ment dans une enceinte à température constante de 70 C et humidité relative constante de 85% En ce qui concerne
les formes de réalisation n 13 et 15pon a obtenu un résul-
tat tout à fait similaire à celui montré sur la figure 1. En ce qui concerne les formes de réalisation n 14 16 et 18, on a obtenu un résultat tout à fait similaire a celui montré sur la figure 2. Autrement dit, comme précédemment, dans le cas o du carbure de tantale,
du carbure de vanadium ou du carbure d'hafnium est utili-
sé comme film protecteur, on obtient un support d'enregis-
trement optique ayant une excellente résistance à la corrosion5 de mlme que lorsqu'on utilise du carbure de
tungstène-
Forme de réalisation n 19 Dans un appareil de pulvérisation RF, on a utilisé comme substrat une feuille de verre blanc
ayant pour dimensions2,54 x 2,54 cm, et on a utilisé, com-
me cible composite, de petits morceaux de gadoliaium (Gd) et de terbium (Tb) ayant chacun pour dimensioa mm x 5 mm, disposés uniformément sur un morceau de fer (Fe) de 100 mm de diamètre, et on a procédé à une pulvérisation afin qu'il se forme, sur ledit substrat, une couche d'enregistrement optique d'une épaisseur de 100 nm, comprenant un film magnétique amorphe à trois éléments GeTbFe. Ensuite, on a placé l'ensemble dans
un appareil d'évaporation sous vide comportant une colon-
nette de décharge à haute fréquence et on a établi à l'intérieur de l'appareil un vide atteignant environ 4 x 10-4 Pa, après quoi on a introduit dans l'appareil du méthane (CH4) gazeux jusqu' une pression de l'ordre de 2 x 10-2 Pa, et on a vaporisé du carbure de titane à l'aide d'un faisceau d'électrons, en même temps qu'une décharge était provoquée par l'application d'énergie à haute fréquence, afin qu'un film de carbure de titane d'une épaisseur de 300 nm se dépose par évaporation sur la couche d'enregistrement. Forme de réalisation n 20: Dans un appareil de pulvérisation RF, on a utilisé comme substrat une feuille de verre blanc ayant pour dimensions 2,54 x 2,54 cm et, en utilisant la même cible composite de Fe, Gd et Tb que celle de la forme de réalisation n 19, ona formé sur le substrat, par pulvérisation, une couche d'enregistrement d'une épaisseur de 100 nm. Ensuite, on a établi un vide de l'ordre de 4 x 10- 4 Pa à l'intérieur d'une enceinte à vide, après quoi, on y a introduitdel'argon (Ar) gazeux et du méthane(CH4) gazeux dans une proportion de 1:2 jusqu'à une pression de l'ordre de 1Pa, et on a utilisé comme seconde cible, du carbure de titane pour former, par pulvérisation, sur la couche d'enregistrement, un
film de carbure de titane d'une épaisseur de 200 nm.
Forme de réalisation n 21: Dans un appareil de pulvérisation RF, on a fait un vide de l'ordre de 4 x 10 4 Pa à l'intérieur d'une enceinte à vide, après quoi on y a introduit de l'argon (Ar) gazeux et du méthane (CH4) gazeux dans une proportion de 1:2 jusqu'à une pression de l'ordre de 1Pa. Puis on a utilisé commer substrat du polyméthacrylate de méthyle (PMA) et on-a utilisé, come première cible, du carbure de titane afin qu'il se forme par pulvérisation, sur le substrat, un film de carbure de titane d'une épaisseur de 20 nm. Ensuite, à l'aide de la même cible composite, constituée de Fe, Gd et Tb, que celle utilisée dans la forme de réalisation n 19, mais utilisée ici en tant que seconde cible, on a formé sur le film précédent, par pulvérisation, une couche d'enregistrement d'une épaisseur de 100 nm. En outre, on a établi un vide de l'ordre de 4 x 10-4 Pa à l'intérieur de l'enceinte, après quoi on y a introduit du Ar gazeux et du CH4 gazeux dans une proportion de 1:2 jusqu'à une pression de lPa, et en utilisant la première cible, on a formé sur le support d'enregistrement un
film de carbure de titane d'une épaisseur de 200nm.
Formes de réalisation n 22-24.
On a produit, par un procédé similaire, des supports d'enregistrement optiques comportant un film protecteur constitué de carbure de chrome à la place du carbure de titane des formes de réalisation n 19 à 21. Leurs constitutions sont indiquées dans le tableau 3. On a utilisé, comme couche d'enregistrement optique, un film magnétique amorphe à trois éléments
GdTbFe, d'une épaisseur de 100 nm.
VI (&> uoTesT1ATTn&) mu OOZ oP eoziM ap ainqieD ap mTTj/luemaazsTBea -ua, p aqOnoD/mu oz ap amoqzq ap aznqie3 op mITg/VW&a op qezsqnS: Z ou uoTIeSTIega ap amao& (au uoTiesTgATlna) mu oOZ ap amoiqD ap ainqae3 ap mITJ/IuamealTsT -azua,p aqfnoD/aizaA ap 3eazsqns: Z oU uoTiesT[eai ap emuoa (suo.xlDOap mu 00C ap amoaqD neaDSTV3 e uoTIVaOdeAZ) ap ainqie3 ap mITI/qumaalsTS -alua,p aqanoo/a1aae ap zpelsqns: ZZ oU uoTiesTIu aop amUo (ainqieD ap mI!; np uoTIeUmIoap gppDoza) uoTInITIsuoD E avalaV On, a procédé à des essais de résistance à la corrosion sur les supports d'enregistrement optiques produits conformément aux formes de réalisation n 19-24 en plaçant ces dernières dans uns enceinte à température constante de 70 C et humidité relative constante de 85%. En ce qui concerne les formes de réalisation n 19, 20, 22 et 23, on a obtenu des résultats tout à fait similaires à ceux indiqués sur la figure 1o En ce qui concerne les formes de réalisation n 21 et 24, on a obtenu un résultat tout à fait similaire à celui montré sur la figure 2o Autrement dit,9 comme précédemment, dans le cas o l'on utilise du carbure de titane ou du carbure de chrome comme film protecteur, on obtient un support d'enregistrement optique d'une excellente résistance à la corrosion, de m@me que dans le cas o l'on utilise du carbure de tungstèneo Forme de réalisation n' 25 Dans un appareil de pulvérisation 2R, on a utilisé comme substrat une feuille de verre blanc ayant pour dimensions 2,54 x 2,54 cm, et on a utilisé, comme cible composite, de petits morceaux de gadolinium (Gd) et de terbium (Tb), ayant chacun pour dimensions Smmx5mm, disposés uniformément sur une pièce de fer (Fe) de 100mm de diamètre, et on a procédé à une pulvérisation afin de former sur le substrat une couche d'enregistrement optique d'une épaisseur de 100- nm, comprenant un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe. Ensuite, on a fait un vide de l'ordre de 4 x 10-4 Pa à l'intérieur d'une enceinte à vide, puis on y a introduit de l'argon {Ar) gazeux jusqu'à 4 x 10-1 Pa, et on a utilisé. dans la même enceinte, en tant que seconde cible, du carbure de silicium afin de former par pulvérisation, sur la couche d'enregistrement, un film de carbure de silicium
d'une épaisseur de 200 nm.
Forme de réalisation n 26: Dans un appareil de pulvérisation RF, on afait un vide de l'ordre de 4 x 10- 4 Pa à l'intérieur d'une enceinte à vide, après quoi on y a introduit de l'argon (Ar) gazeux jusqu'a environ 4 x 10 1 Pa. Puis on a utili- sé comme substrat, du polyméthacrylate de méthyle (PMMA) et, comme première cible, du carbure de silicium afin de former sur le substrat, par pulvérisation, un film de carbure de silicium d'une épaisseur de 20 nm. Ensuite, en utilisant comme seconde cible la même cible composite
constituée de Fe, Gd et Tb que celle de la forme de réali-
sation n 25, on a formé par pulvérisation une couche d'enregistrement d'une épaisseur de 100 nm. De plus,
on a établi un vide de l'ordre de 4 x 10- 4 Pa à l'inté-
rieur de l'enceinte, après quoi on y a introduit de l'ar-
gon gazeux jusqu'à 4 x 10-1 Pa et, en utilisant la première cible, on a formé sur la couche d'enregistrement un film
de carbure de silicium d'une épaisseur de 200 nm.
On a procédé à des essais de résistance à la corrosion sur les supports d'enregistrement optiques produits selon les formes de réalisationn 25 et'26 en plaçant ces dernières dans une enceinte à température
constante de 70 C et humidité relative constante de 85%.
Le résultat obtenu est tout à fait similaire à celui des cas des figures 1 et 2 o on a utilisé du carbure
de tungstène comme film protecteur.
Les formes de réalisation décrites ci-dessus sont représentées schématiquement sur les figures 3 et
4. Une couche d'enregistrement 11 est formée sur un subs-
trat 10 et, en outre, un film protecteur 12, à savoir un film de carbure, est formé sur cette couche, ou bien un film protecteur 13, qui est un film de carbure, est
formé sur un substrat 10, après quoi une couche d'enregis-
trement 11 est formée sur ce film et, ensuite, un film protecteur 12, à savoir un film de carbure, est formé
sur la couche d'enregistrement.
La présente invention n'est pas limitée aux formes de réalisation décrites ci-dessus, mais diverses
variantes en sont possibles. Par exemple, la couche d'enre-
gistrement optique n'est pas limitée à un film d'enregis- trement optomagnétique, mais elle peut être formée de toute matière d'enregistrement optique telle qu'indiquée
dans la description de l'art antérieur. De plus, le support
d'enregistrement optique réalisé conformément à l'inven-
tion peut être produit sous la forme d'une structure à sandwich d'air, comme montré sur la figure 5, dans laquelle la couche d'enregistrement 11 est enveloppée
d'un gaz inactivé dans un espace formé entre deux subs-
trats 10 et 15 entre lesquels est interposée une entre-
toise 14, ou bien elle peut avoir une structure telle que montrée sur la figure 6 dans laquelle une plaque de verre 16 ou analogue est collée au moyen d'un adhésif
17 afin d'améliorer encore la résistance à la corrosion.
En outre, conformément à l'invention, dans le cas d'un support d'enregistrement opto-magnétique, on peut adopter une constitution telle que celle montrée sur la figure 7. Sur un substrat transparent 10, on trouve successivement, à partir du bas, une couche protectrice
13 de carbure, une couche d'enregistrement 11 d'une épais-
seur de 10-30 nm, une couche diélectrique 18 formée de SiO, SiO2 ou analogues, une couche réfléchissante 19 formée de Ai, Cu ou analogue, et une couche protectrice
12 de carbure.
En ce qui concerne les épaisseurs des films protecteurs en carbure, il est nécessaire que l'épaisseur du film protecteur 13 adjacent au substrat 10 soit de nm ou moins, l'absorption de la lumière par le film protecteur 13 devant être prise en compte du fait que
la lumière entre par le côté du substrat 10; en consé-
quence, une épaisseur de 10-150 nm est avantageuse. Le film protecteur 13 adjacent au substrat 10 peut être réalisé de façon que son épaisseur soit plus ou moins
inférieure à celle du film protecteur 12 éloigné du subs-
trat 10, du fait de l'effet de protection produit par ce dernier. L'épaisseur du film protecteur 12 éloignée
du substrat 10 peut être cb l'ordre de 100-500 nm, et avanta-
geusement de 200-300 nm.
Sur la figure 8, la référence numérique 21 désigne un substrat, la référence 22 désigne une couche
d'enregistrement, la référence 23 désigne un film d'inter-
férence optique servant également de couche protectrice anti-corrosion, et la référence 24 désigne une couche réfléchissante. Le substrat 21 est formé de verre, ou d'une matière plastique telle qu'une résine du type polyméthacrylate de méthyle (PMMA) ou une résine du type polycarbonate (PC), ou un métal tel que de l'aluminium, et -il peut
être préformé de façon à présenter à l'avance une gorge.
La couche d'enregistrement 22, constituée d'une matière telle que GdTbFe, est formée sur le substrat 21 par un procédé tel qu'une pulvérisation, après quoi du carbure de silicium (désigné ci-après SiC) est formé de façon à constituer le film d'interférence optique 23 qui sert également de couche protectrice anti-corrosion, ce film étant produit par un procédé tel qu'une pulvérisation ou une évaporation sous vide. En outre, une couche d'un métal tel que Cu, Al, Ag ou Au, est formée en tant que
couche réfléchissante 24 par un procédé tel que l'évapora-
tion sous vide ou une pulvérisation.
L'objet souhaité peut être réalisé si le film d'interférence optique est prévu entre au moins la couche d'enregistrement et la couche réfléchissante, mais on peut également prévoir deux couches ou plus,
servant également de sous-couches et de couches protectri-
ces, par exemple. En particulier, lorsque la matière magnétique est oxydée ou absorbe l'humidité sous l'effet de la perméation d'humidité à partir de la matière du
substrat telle que PMMA ou un polycarbonateD il -est souhai-
table de prévoir un film d'interférence optique servant également de couche protectrice anti-corrosion entre
le substrat et la couche d'enregistrement optique.
L'épaisseur du film d'interférence optique est établie de manière que la détérioration du rapport signal/bruit soit faible et la caractéristique de la couche
d'enregistrement ne puisse être détériorée par des impure-
tés telles que l'oxygène et l'humidité contenus dans
l'air et dans les autres couches, et que la couche d'enre-
gistrement présente un effet d'accroissement suffisant de l'angle de rotation de Kerr pour améliorer le rapport
signal/bruit à la reproduction. L'épaisseur du film d'in-
terférence optique est déterminée en pratique par les
caractéristiques de l'appareil d'enregistrement-reproduc-
tion et elle est habituellement établie à une valeur
* comprise entre 0,5 et 500 nm. L'épaisseur du film d'inter-
férence optique prévu entre la couche d'enregistrement et la couche réfléchissante peut avantageusement être de l'ordre de 2 à 150 nm. Lorsqu'il est également prévu un film d'interférence optique entre le substrat et la couche d'enregistrement, il est seulement demandé à ce film d'empêcher la détérzioration de la caractéristique de la couche d'enregistrement sous l'influence d'impuretés telles que l'humidité et l'oxygène, qui peuvent entrer dans la couche d'enregistrement à travers le substrat, et l'épaisseur de ce film d'interférence optique peut avantageusement être comprise entre 0,5 et 200 nm et
plus particulièrement entre 10 et 150 nm.
Le support d'enregistrement optique peut recevoir une autre couche auxiliaire telle qu'une couche
protectrice, une couche adiabatique ou une couche anti-
réflexion, comme demandé. De plus, un substrat protecteur peut être appliqué sur la face opposée à celle du substrat, et on peut adopter une structure dite collée, ou bien une structure dite à sandwich d'air dans laquelle un gaz inactivé est renfermé. Forme de réalisation n 27: Un support d'enregistrement opto-magnétique ayant la structure telle que montrée sur la figure 9 a été fabriqué de la manière suivante: Dans le procédé de pulvérisation à haute fréquence, on a utilisé comme substrat 21 une feuille de verre blanc ayant pour dimensions 2,54 x 7,62 cm, et on a utilisé comme cible des morceaux carrés d'alliage GdTb (50:50, en pourcentage atomique) de 1 cm x 1 cm, disposés uniformément sur un alliage FeCo (Fe. Co = : 30, en pourcentage atomique) d'un diamètre de 12, 7cm, et on a procédé à une pulvérisation dahs de l'argon gazeux, sous une pression de 0,5 Pa, afin de former une couche d'enregistrement 22 constituée de GdTbFeCo, d'environ 20 nm. Sur cette couche, on a formé, en utilisant en tant que cible un composé SiC, un film d'interférence optique 23 constitué de SiC, d'une épaisseur d'environ nm, par pulvérisation dans de l'argon gazeux sous une pression de 0,3 Pa. Sur ce film, on a formé par le procédé d'évaporation sous vide, une couche réfléchissante 24 constituée de Cu, d'une épaisseur de 50 nm. Sur cette couche, on a formé un film d'interférence optique 25 en SiC, d'environ 200 nm, servant également de couche protectrice, par pulvérisation dans les mêmes conditions
que celles utilisées pour le film d'interférence optique.
En outre, ce dernier film a été collé, à l'aide d'un adhésif 26 du type époxy, à un substrat 27 de protection en verre. Une mesure, effectuée par diffraction de rayons X, a confirmé que le composé GdTbFeCo, qui constituait la couche d'enregistrement était amorphe, et le résultat
de l'analyse de composition donne (Gd50Tb50)23 (Fe70Co30)77.
De plus, l'angle de rotation du plan de polarisation du support d'enregistrement opto-magnétique ainsi formé était de 0,9 dans la mesure effectuée à une longueur d'onde de 830 mm. Une mesure par diffraction de rayons X a montré que le SiC formé dans cette forme de réalisation
est dans un état amorphe.
On a procédé à un essai de longévité sur ce support d'enregistrement optomagnétique en le plaçant dans une enceinte à température constante de 85 C et humidité relative constante de 85%. A titre de comparaison, on a préparé un support d'enregistrement opto-magnétique en utilisant du SiO pour le film d'interférence optique et pour la couche protectrice, et on a procédé à un essai sur ce support, dans le même temps. Les résultats de ces essais sont montrés sur la figure 11 sur laquelle
les abscisses indiquent la durée de l'essai et les ordon-
nées indiquent la force coercitive trouvée d'après une courbe d'hystérésis de Kerr et normalisée par la valeur initiale. Le graphique de la figure 11 montre que, plus la diminution de la force coercitive est grande, plus l'oxydation et la corrosion de la matière magnétique de la couche d'enregistrement, par absorption d'humidité, etc., progressent rapidement et plus l'effet du film protecteur est faible. Ainsi qu'il ressort de la figure 11, le support d'enregistrement opto-magnétique utilisant du SiC pour le film d'interférence optique et pour la couche protectrice anti-corrosion présente une longévité
nettement meilleure.
De plus, l'angle de rotation de Kerr du support
d'enregistrement opto-magnétique de cette forme de réalisa-
tion change très peu, même une fois l'essai de longévité achevé. Formes de réalisation n 28 et 29: On a fabriqué de la manière suivante un support d'enregistrement opto-magnétique de la structure telle
que représentée sur la figure 10.
Un support d'enregistrement opto-magnétique formé par une technique similaire à celle utilisée pour la forme de réalisation n 27, sauf que l'on a utilisé comme substrat 21 des morceaux de PMMA et de PC ayant chacun 7,62 x 7,62 cm et que l'on a formé SiC à 15 nm d'épaisseur, en tant que film d'interférence optique 23' servant également de sous-couche entre le substrat et un film magnétique, par pulvérisation, a été placé dans une enceinte à température constante de 70 C et humidité relative constante de 85%, et on a procédé à un essai de longévité. A titre de comparaison, un support d'enregistrement opto-magnétique, réalisé d'une manière similaire à celle utilisée pour la forme de réalisation n 27, mais sans sous-couche appliquée sur un substrat de PMMA, et un support d'enregistrement opto-magnétique réalisé à l'aide d'un substrat de PMMA et avec du Sio utilisé pour la totalité de la sous-couche, de la couche d'interférence et de la couche protectrice anti-corrosion, ont été préparés et soumis à des essais de longévité dans le même temps. Les résultats de ces essais sont indiqués sur la figure 12. Ainsi que le montre la figure 12, le support d'enregistrement utilisant du SiC présente une résistance à la corrosion davantage améliorée que le support d'enregistrement utilisant SiO. De plus, en utilisant la sous-couche, la résistance à la corrosion du support d'enregistrement est davantage améliorée que
dans le cas o il n'est pas prévu de couche.
Formes de réalisation n 30 à 32: Des supports d'enregistrement optomagnétiques, d'une constitution similaire à la constitution en couches de la forme de réalisation n 27 dans le cas d'un substrat de verre, et d'une constitution similaire à la constitution en couches des formes de réalisation n 28-29 dans le cas d'un substrat en PMPMA et en PC, à l'exception que lefeúrre, le PIe et le PC ont -été utilisés pour le substrat et que la cible en composé SiC de la forme de réalisation n 27 a été remplacée par la cible de Si et qu'un film de SiC a été formé par pulvérisation réactive à haute fréquence, dans un mélanged'Ar et de CH4 gazeusex, ont été produits. Le support d'enregistrement opto-magnétique utilisant du verre pour le substrat a été placé dans une enceinte -à température constante de 85 C et humidité relative constante de 85%, et le support d'enregistrement opto-magnétique utilisant du PMMA et du PC pour le substrat a été placé dans une enceinte à température constante de 70 C et humidité relative constante de 85%, et l'on a procédé à des essais de longévité. Les résultats sont
donnés sur le tableau 4. La variation de la force coerciti-
ve est représentée avec comme valeur initiale, la valeur 1. Ainsi qu'il ressort de la comparaison des résultats indiqués dans le tableau 4 et de la figure 10, même lorsque l'on utilise du SiC formé par le procédé de pulvérisation
réactive, on obtient un support d'enregistrement opto-
magnétique ayant une longévité égale à celle du film de SiC obtenu par l'utilisation d'une cible en composé SiC. Dans les présentes formes de réalisation, le rapport
de la pression partielle de CH4 à la pression gazeuse to-
tale de pulvérisation était de 7% mais, même si cette valeur est modifiée dans une plage de 2 à 9,5%, on peut obtenir un effet similaire. Il n'est pas nécessaire que
le gaz à mélanger avec Ar soit toujours CH4, mais l'utili-
sation d'un gaz tel que C2H2 ou C3H8 peut donner un résul-
tat similaire et, par conséquent, les types des gaz hydro-
carbonés sont peu importants.
TABLEAU 4
Forme de réali- Variation de la force sation Substrat coercitive Verre 0, 92
31 PMMA 0,86
32 PC 0,89
Forme de réalisation n 33: Un support d'enregistrement opto-magnétique ayant une constitution en couches similaire à celle de la forme de réalisation n 27, sauf que l'on a utilisé du verre n 7059 comme substrat et que, dans un dispositif
de déposition chimique en phase vapeur par décharge d'ef-
fluves, on a effectué un vide jusqu'à une contre-pression
de 10-4 Pa ou moins, après quoi on a procédé à une déchar-
ge dans un mélange de SiH4 et de C3H8 gazeux pour former un film de SiC, a été produit, et on a procédéàun essai de longévité dans des conditions de température constante
de 85 C et d'humidité relative constante de 85%. La réduc-
tion de la force coercitive au bout de 1000 heures était d'environ 12% et l'angle de rotation de Kerr avait très peu varié par rapport à la valeur initiale. Par conséquent,
en utilisant également un dispositif de déposition chimi-
que en phase vapeur pour la formation de SiC, on peut obtenir un support d'enregistrement opto-magnétique d'une excellente longévité comme c'est le cas de la forme
de réalisation n 27.
Dans la présente forme de réalisation, les débits d'écoulement du gaz étaient de 10 cm3/min dans le cas du SiH4 et de 15 cm3/min dans le cas du C3H8, dans des conditions normales de température et de pression;
la pression totale était de 16 Pa et la puissance appli-
quée était de 10W, alors que les débits d'écoulement et les autres conditions de formation de film ne sont
pas limités. Il n'est pas nécessaire que le gaz hydrocar-
boné soit toujours du C3H8, mais l'utilisation d'un gaz
hydrocarboné tel que CH4, C2H4 ou C2H2 peut également abou-
tir à un résultat similaire.
Comme décrit précédemment, pour certaines formes de réalisation, l'utilisation de SiC en tant que matière pour la couche protectrice anticorrosion et
le film d'interférence optique dans le support d'enregis-
trement opto-magnétique de structure à couches multiples peut améliorer notablement la stabilité chimique et la
longévité du support.
En se référant en outre à la figure 13, le support d'enregistrement optique représenté sur cette figure est obtenu par formation d'une souscouche 32 sur un substrat 31a placé du côté écriture, réalisation d'un film 37 de carbure, d'une couche d'enregistrement 33, d'un film 38 de carbure, d'une couche d'entretoisement 34 et d'une couche réfléchissante 35, successivement, sur la sous-couche, et collage d'un substrat protecteur
31b et d'une couche adhésive 36 interposée entre ce der-
nier et la couche 35.
Dans la forme de réalisation de la figure 13, les films de carbure sont prévus sur les faces opposées
de la couche d'enregistrement et, dans ce cas, la résis-
tance à la corrosion est la plus efficace mais, en variante, on peut ne prévoir un film de carbure que sur une face de la couche d'enregistrement et il est avantageux, mais non nécessaire, de former les films de carbure en contact avec la couche d'enregistrement, comme c'est le cas de cette forme de réalisation, et les objets de la présente invention peuvent être réalisés même si d'autres couches auxiliaires s'intercalent entre le film de carbure et
la couche d'enregistrement.
La description portera à présent sur le cas
o la forme de réalisation de la figure 13 est un support
d'enregistrement opto-magnétique, et la description portera
également sur un procédé de fabrication de ce support d'enregistrement. Une matière plastique ou du verre est utilisée
pour le substrat 31a situé du côté écriture, et la sous-
couche 32 de SiO est formée sur ce substrat, par exemple par évaporation. Le film 37 de carbure en SiC ou B4C, la couche 33 d'enregistrement magnétique constituée de GdTbFe ou de GdTbFeCo, et le film 38 de carbure, constitué de SiC ou de B4C, sont formés successivement, par exemple par pulvérisation et, en outre, la couche d'entretoisement 34 en SiO ou analogue et la couche réfléchissante 35 en Cu, Al, Au ou analogues, sont formées sur la couche précédente, par exemple par le procédé d'évaporation, après quoi le substrat protecteur 31b, réalisé en verre, en matière plastique ou en métal tel que l'aluminium, est collé à cette couche 35, la couche d'adhésif 36 étant interposée entre cette dernière et le substrat, afin
que l'on obtienne un support d'enregistrement opto-magnéti-
que ayant la structure telle que montrée sur la figure 13. Forme de réalisation n 34: On a réalisé de la manière suivante un support d'enregistrement optique ayant une structure montrée
sur la figure 13.
Un film de SiO d'environ 100 nm a été formé, en tant que couche de base 32, sur un substrat 31a en
matière plastique, par exemple en résine du type poly-
acrylate, par le procédé d'évaporation, et un film de SiC de 50 nm a été formé en tant que film protecteur 37 de carbure, par pulvérisation. 'Un film de GdTbFeCo, d'une épaisseur de 20 nm, a été formé sur le film précédent, par pulvérisation à haute fréquence, et une couche 33
d'enregistrement constituant un film magnétique a -été-
formée. En outre, un film de SiC de 20 nm a été formé en tant que couche protectrice 38, par pulvérisation, après quoi on a formé par évaporation un film de SiO d'environ 70 nm, constituant une couche d'entretoisemaLt 34, et un film de Al d'environ 50 nm constituant une couche réfléchissante 35, et ceux-ci ont été collés à un substrat protecteur 31b en matière plastique, à l'aide d'un agent adhésif au silicone formant une couche adhésive 36, afin que l'on obtienne un support d'enregistrment opto-magnétique. En ce qui concerne le support d'enregistrement ainsi obtenu, l'angle de rotation de Kerr Gk et la force coercitive Hc qu'il presenrte ont été mesurés et on a également procédé à un essai de résistance à l'humidité de 500 heures, dans une enceinte à température constante
de 45 C et hwuidité relative constante de 95%.
A titre de comparaison, on a également procédé à un essai sur un support d'enregistrement ayant une constitution similaire & celle décrite cidessus, mais sans les couches protectrices 37 et 38, comme montré
sur la figure 14.
Le résultat de cet essai est tel qu'indiqué dans le tableau 5 ci-dessous, et le support daenregistrement optique de la présente invention n'a présenté aucune' détérioration de la caractéristique magnétique et, en outre, sa longévité a été améliorée. Les valeurs numériques du tableau 5 sont données en tant que pourcentages par
rapport à des valeurs initiales de 1,0.
Forme de réalisation n 35: On a réalisé un support d'enregistrement optomagnétique similaire à la constitution en films de la forme de réalisation n 34, sauf qu'à la place du film de SiC de la forme de réalisation n 34, on a utilisé des films de B4C en tant que couches protectrices 37
et 38 produites par pulvérisation.
De même que pour la forme de réalisation n 34, on a mesuré l'angle de rotation de Kerr Ok et la
force coercitive Hc et on a procédé à un essai de résis-
tance à l'humidité de 500 heures dans une enceinte à température constante de 45 C et humidité relative cons-
tante de 95%.
Les résultats de ces essais sont donnés dans le tableau 5 ci-dessous et la longévité pourrait être améliorée.
TABLEAU 5
Caractéristique Après 500 h d'es-
initiale sai de résistance à l'humidité Hc Ok Hc Ok
Forme de réalisa-
tion n 34 1,0 1,0 0,9 0,9
Forme de réalisa-
tion n 35 1,0 1,0 0,9 0,9 Exemple comparatif 1,0 1,0 0,2 0,2 En ce qui concerne le support d'enregistrement
optique de la présente invention, même si la couche d'enre-
gistrement est, par exemple, une couche magnétique d'une épaisseur de plusieurs dizaines de nanomètres, on peut prévoir, sur une face ou sur chaque.face de cette couche
un film de carbure ne contenant pas d'oxygène en lui-
même et présentant une excellente résistance à l'humidité afin d'améliorer notablement la résistance à la corrosion du support d'enregistrement. Cet effet est particulièrement excellent dans le cas o le film de carbure est appliqué en contact avec la couche d'enregistrement. De plus, en utilisant un film de SiO en tant que sous- couche sur le substrat, on peut améliorer la solidarisation du film
qui lui est appliqué avec le substrat.
L'invention n'est pas limitée à un support d'enregistrement optomagnétique, mais elle est également efficace en ce qui concerne aussi l'amélioration de la
résistance à la corrosion d'autres supports d'enregistre-
ment optiques comportant une couche d'enregistrement aisément oxydable, telle qu'une mince feuille d'un composé chalcogène.
Comme décrit précédemment, la présente inven-
tion a pour effet d'améliorer notablement la résistance à la corrosion d'un support d'enregistrement optique
en formant, sur une ou sur chaque face de sa couche d'enre-
gistrement, un film de carbure d'un corps choisi parmi le tungstène, le bore, l'hafnium, le molybdène, le chrome,
le titane, le niobium, le vanadium, le tantale et le silicium.
Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées au support d'enregistrement optique
décrit et représenté sans sortir du cadre de l'invention.

Claims (25)

REVENDICATIONS
1. Support d'enregistrement optique, caractéri-
sé en ce qu'il comporte un substrat (10), une couche d'enregistrement optique (11) appliquée sur le substrat, et un film protecteur (12) formé sur une ou sur chaque
face de la couche d'enregistremnt et constitué d'un carbu-
re d'une substance choisie parmi le tungstène, le bore, le molybdène, l'hafnium, le niobium, le titane, le chrome,
le vanadium, le tantale et le silicium.
2. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat
est une feuille de verre blanc.
3. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat
est une feuille de polyméthacrylate de méthyle (PMMA).
4. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite couche d'enregistrement est un film magnétique,
5. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 4, caractérisé en ce que le film magnéti-
que est un film magnétique amorphe à trois éléments GdTbFe.
6. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce que la formation du film protecteur s'effectue par pulvérisation à haute
fréquence (RF).
7. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 1, caractérisé en ce que le film protec-
teur est constitué d'un carbure d'une substance choisie parmi le tungstène, le bore, le molybdène et le niobium, et en ce que sa formation s'effectue par évaporation
à faisceau d'électrons.
8. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 6, caractérisé en ce que le film protec-
teur est constitué d'un carbure de titane ou de chrome et en ce que sa formation s'effectue par pulvérisation
(RF) réactive.
9. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 1, caractérisé en ce que le film protec-
teur est constitué d'un carbure de titane ou de chrome et en ce que sa formation s'effectue par évaporation réactive.
10. Support d'enregistrement selon la revendi-
cation 1, caractérisé en ce que la couche d'enregistrement est d'une épaisseur d'environ 100 nmo
11. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 1, caractérisé en ce que le film protec-
teur n'est appliqué que sur le côté opposé à celui du subs-
trat et en ce que son épaisseur est de 200 nm à 300 nm.
- 12. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 1, caractérisé en ce que le film protec-
teur est appliqué sur chaque face de la couche d'enregis-
trement, en ce que l'épaisseur du film protecteur adjacent au substrat est d'environ 20 nu et en ce que l'épaisseur du film protecteur opposé au substrat est de 200 à 300 nm.
13. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'un autre substrat (15) est collé au film protecteur, sur le côté opposé à celui du substrat,à l'aide d'un agent adhésif (17) interposé entre cet autre substrat et le film protecteuro
14. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'un espace est
formé entre le substrat et un autre substrat (15) physique-
ment distinct du premier substrat, une entretoise (14)
étant interposée entre le substrat et la couche d'enregis-
trement étant enveloppée d'un gaz inactivé dans ledit espace.
15. Support d'enregistrement selon la revendi-
cation 1, caractérisé en ce qu'il est prévu sur le substrat (10), successivement à partir du côté du substrat, une couche protectrice (13) formée dudit carbure, ladite couche d'enregistrement (11), une couche diélectrique
(18), une couche réfléchissante (19) et une couche protec-
trice (12) formée dudit carbure.
16. Support d'enregistrement optique selon la revendication 15, caractérisé en ce que l'épaisseur
de la couche d'enregistrement est de 10 à 30 nm.
17. Support d'enregistrement optique selon la revendication 15, caractérisé en ce que la couchc
diélectrique est constituée de SiO ou de SiO2.
18. Support d'enregistrement optique selon la revendication 15, caractérisé en ce que ladite couche
réfléchissante est constituée de Al ou de Cu.
19. Support d'enregistrement optique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une couche réfléchissante (24) appliquée sur ledit substrat (21), et dans lequel le film protecteur comprend un film d'interférence optique (23) constitué
de carbure de silicium et prévu entre la couche d'enregis-
trement optique (22) et ladite couche réfléchissante.
20. Support d'enregistrement optique selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un autre film d'interférence optique (25) appliqué sur la couche réfléchissante et un autre substrat (27) collé à l'autre film d'interférence optique par un agent
adhésif (26).
21. Support d'enregistrement optique selon la revendication 20, caractérisé en ce que ledit autre film d'interférence optique est constitué de carbure
de silicium et sert également de couche protectrice.
22. Support d'enregistrement optique selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un film d'interférence optique (23') prévu entre le substrat et la couche d'enregistrement optique et servant
également de sous-couche.
23. Support d'enregistrement optique selon-la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un film de SiO prévu sur le substrat, en contact
avec lui et formant une sous-couche.
24. Support d'enregistrement optique selon
la revendication 23, caractérisé en ce que le film protec-
teur est constitué de SiC ou de B4C.
25. Support d'enregistrement optique selon la revendication 23, caractérisé en ce qu'il est prévu sur ledit substrat (32), successivement à partir du côté dudit substrat, le film de SiO (32), le premier film protecteur (37), la couche d'enregistrement optique (33), l'autre film protecteur (38), une couche d'entretoisemnent (34), une couche réfléchissante (35) et un autre substrat
(31b) collé à la couche réfléchissante par un agent adhé-
sif (36) interposé entre la couche réfléchissante et
cet autre substrat.
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