ES2730803T3 - Sistema de generación de gas reactivo y procedimiento de tratamiento con gas reactivo - Google Patents

Sistema de generación de gas reactivo y procedimiento de tratamiento con gas reactivo Download PDF

Info

Publication number
ES2730803T3
ES2730803T3 ES16788620T ES16788620T ES2730803T3 ES 2730803 T3 ES2730803 T3 ES 2730803T3 ES 16788620 T ES16788620 T ES 16788620T ES 16788620 T ES16788620 T ES 16788620T ES 2730803 T3 ES2730803 T3 ES 2730803T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
product
reactive gas
seeds
gas
fruits
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES16788620T
Other languages
English (en)
Inventor
Kevin M Keener
Mark A Hochwalt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanoguard Technologies LLC
Original Assignee
Nanoguard Technologies LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanoguard Technologies LLC filed Critical Nanoguard Technologies LLC
Application granted granted Critical
Publication of ES2730803T3 publication Critical patent/ES2730803T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23B—PRESERVING, e.g. BY CANNING, MEAT, FISH, EGGS, FRUIT, VEGETABLES, EDIBLE SEEDS; CHEMICAL RIPENING OF FRUIT OR VEGETABLES; THE PRESERVED, RIPENED, OR CANNED PRODUCTS
    • A23B9/00—Preservation of edible seeds, e.g. cereals
    • A23B9/16—Preserving with chemicals
    • A23B9/18—Preserving with chemicals in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor
    • A23B9/22—Preserving with chemicals in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor in a controlled atmosphere comprising other gases in addition to CO2, N2, O2 or H2O
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23B—PRESERVING, e.g. BY CANNING, MEAT, FISH, EGGS, FRUIT, VEGETABLES, EDIBLE SEEDS; CHEMICAL RIPENING OF FRUIT OR VEGETABLES; THE PRESERVED, RIPENED, OR CANNED PRODUCTS
    • A23B7/00—Preservation or chemical ripening of fruit or vegetables
    • A23B7/14—Preserving or ripening with chemicals not covered by groups A23B7/08 or A23B7/10
    • A23B7/144—Preserving or ripening with chemicals not covered by groups A23B7/08 or A23B7/10 in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor
    • A23B7/152—Preserving or ripening with chemicals not covered by groups A23B7/08 or A23B7/10 in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor in a controlled atmosphere comprising other gases in addition to CO2, N2, O2 or H2O ; Elimination of such other gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23K—FODDER
    • A23K40/00—Shaping or working-up of animal feeding-stuffs
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20—Gaseous substances, e.g. vapours
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20—Gaseous substances, e.g. vapours
    • A61L2/202—Ozone
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23V—INDEXING SCHEME RELATING TO FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES AND LACTIC OR PROPIONIC ACID BACTERIA USED IN FOODSTUFFS OR FOOD PREPARATION
    • A23V2002/00—Food compositions, function of food ingredients or processes for food or foodstuffs
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/23—Containers, e.g. vials, bottles, syringes, mail
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/24—Medical instruments, e.g. endoscopes, catheters, sharps
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/25—Rooms in buildings, passenger compartments
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
    • A61L9/22—Ionisation

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Storage Of Fruits Or Vegetables (AREA)

Abstract

Un procedimiento para reducir las micotoxinas en frutas o semillas, que comprende: producir un gas reactivo formando un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo; transportar el gas reactivo al menos a 3 metros del HVCP; seguido de poner en contacto la fruta o semillas con el gas reactivo; en el que el gas reactivo es un gas producido por un HVCP, que incluye las especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.

Description

DESCRIPCIÓN
Sistema de generación de gas reactivo y procedimiento de tratamiento con gas reactivo
ANTECEDENTES
[0001] La descontaminación biológica y la esterilización tienen una amplia gama de aplicaciones que incluyen la esterilización de equipos y dispositivos médicos, la producción y conservación de alimentos y la preparación de bienes de consumo. Los productos químicos, el calor, los haces de electrones de alta energía y los sistemas de irradiación de rayos X o de rayos gamma se utilizan actualmente para la esterilización. Cada uno de estos sistemas tiene ventajas y desventajas debido al coste, la eficacia, la inmovilidad, los requisitos de potencia eléctrica, los desechos tóxicos, el riesgo personal y el tiempo necesario para la esterilización o descontaminación.
[0002] Los plasmas se han utilizado para la descontaminación y la esterilización. El plasma, un cuarto estado de la materia que se distingue del gas, líquido y sólido, puede producirse mediante descarga eléctrica, por ejemplo, descarga eléctrica a través de un gas. Aunque todos los plasmas contienen electrones, iones y especies neutrales, tendrán diferentes propiedades en función de la composición del gas utilizado para preparar el plasma, así como la configuración eléctrica y estructural del dispositivo utilizado para producir el plasma.
[0003] Un tipo de plasma es el plasma frío de alta tensión (HVCP), que puede prepararse utilizando sistemas de descarga de barrera dieléctrica (DBD). El HVCP puede prepararse utilizando la descomposición de un gas de desequilibrio, utilizando tensiones preferentemente de 30 kV a 500 kV, típicamente a una frecuencia de 50 o 60 Hz con un sistema DBD. El HVCP no se ha estudiado tan bien como otros tipos de plasmas, como puede ser el plasma térmico o los plasmas de RF. Por consiguiente, actualmente no existe una teoría que explique las propiedades de estos plasmas, ni las diversas especies excitadas y reactivas producidas en dicho plasma. Durante la última década, se ha llevado a cabo un examen experimental de HVCP para estudiar este plasma.
[0004] Se ha estudiado la exposición directa de materiales al HVCP. De particular relevancia son los estudios que exponen productos biológicos y contaminantes al HVCP, en los que los productos biológicos están sellados dentro de los envases y el HVCP se produce dentro del envase. En dichos estudios, los alimentos envasados, tales como productos agrícolas y otros materiales, fueron esterilizados en un corto espacio de tiempo. El producto dentro de los envases se pone en contacto directo con el plasma. Dado que los envases están sellados, el gas reactivo producido en el plasma permanece en contacto con el producto por tiempo indefinido, no se diluye ni se dispersa, y el producto envasado está protegido de la recontaminación, lo que aumenta drásticamente la vida útil de los productos, tales como frutas y verduras. Véase, por ejemplo, las patentes estadounidenses Pub., Pub. Núms.2013/0189156 y 2014/0044595, ambas de Keener y col.
[0005] El documento US 2013/319460 A1 describe un aparato de limpieza para artículos de limpieza.
[0006] El documento WO 2009/041861 A1 describe un dispositivo y un procedimiento para levantar y manipular objetos.
[0007] El documento EP 2374753 A1 describe un dispositivo para producir una especie química a partir de un fluido mediante la implementación de una estructura resonante de microondas.
[0008] El documento WO 2014/135254 A1 describe un procedimiento y un dispositivo para limpiar un objeto.
RESUMEN
[0009] En un primer aspecto, la presente invención es un procedimiento para reducir las micotoxinas en frutas o semillas, que comprende:
producir un gas reactivo formando un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo; transportar el gas reactivo al menos a 3 metros del HVCP; seguido de poner en contacto la fruta o semillas con el gas reactivo;
en el que el gas reactivo es un gas producido por un HVCP, que incluye las especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.
[0010] En un segundo aspecto, la presente invención es un procedimiento para tratar un producto o superficie con un gas reactivo, que comprende:
producir el gas reactivo formando un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo;
transportar el gas reactivo al menos a 3 metros del HVCP; seguido de poner en contacto el producto o superficie con el gas reactivo;
en el que el HVCP no se pone en contacto con el producto o la superficie, y en el que el producto o la superficie es Salmonella, Listeria y/o E. coli pasteurizada por la puesta en contacto; y
en el que el gas reactivo es un gas producido por un HVCP, que incluye las especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.
[0011] Un procedimiento para esterilizar médicamente una superficie, que comprende producir el gas reactivo formando un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo; y el contacto de la superficie con el gas reactivo se describe en el presente documento. El HVCP no se pone en contacto con la superficie, y la superficie es la superficie de un espacio cerrado, o el equipo en un espacio cerrado, en el que el espacio cerrado tiene un volumen de, al menos, 8 metros cúbicos.
[0012] Un procedimiento para tratar un producto o superficie con un gas reactivo, que comprende proporcionar un recipiente que tiene gas reactivo almacenado producido mediante la formación de un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo; y el contacto del producto o la superficie con el gas reactivo se describe en el presente documento. El gas reactivo comprende al menos una especie reactiva o excitada distinta del ozono.
[0013] En un tercer aspecto, la presente invención es un sistema (200, 300, 400) para tratar un producto o superficie con un gas reactivo, que comprende:
(1) un sistema de descarga de barrera dieléctrica (DBD) (206, 306, 406), y
(2) una cámara de tratamiento (216, 302, 400), conectada de manera fluida al sistema DBD (206, 306, 406), en el que la cámara de tratamiento (216, 302, 400) tiene un volumen de al menos 1 metro cúbico; y
en el que la distancia entre el sistema DBD (206, 306, 406) y la cámara de tratamiento (216, 302, 400) es de al menos 3 metros; y
en el que el gas reactivo (210, 408) es un gas producido por un HVCP, que incluye especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.
DEFINICIONES
[0014] Toda la corriente descrita en este documento corriente alterna, especificada como voltios (V) y kilovoltios (kV) del valor cuadrático medio (RMS). El porcentaje (%) de las composiciones de gas son porcentajes en volumen.
[0015] Un plasma frío se refiere a un plasma que tiene una temperatura de como máximo 40 °C por encima de la temperatura del gas utilizado para preparar el plasma (es decir, el gas de trabajo), más preferentemente una temperatura de, como máximo, 20 °C por encima de la temperatura del gas utilizado para preparar el plasma.
[0016] Plasma frío de alta tensión (HVCP) significa un plasma frío preparado con un sistema de descarga de barrera dieléctrica (DBD), que utiliza tensiones de 500 kV como máximo, con una frecuencia máxima de 1000 Hz, preparado a partir de un gas con una presión de 10 a 50000 Torr, tal como 760 Torr (presión atmosférica). E1HVCP no es un plasma térmico, no es un plasma de microondas y no es un plasma de radiofrecuencia (RF). Los plasmas de HVCP se preparan bajo condiciones de descomposición de desequilibrio.
[0017] Gas reactivo significa el gas producido por un HVCP, que incluye las especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas que se disipan en 0,2 segundos o menos. La composición de un gas reactivo cambiará con el tiempo a medida que las especies excitadas se disipen y se produzcan reacciones químicas dentro del gas reactivo. El gas reactivo es el gas que se puede alejar del sistema DBD que produce un HVCP. Se considera que una especie reactiva o una especie excitada está presente en un gas reactivo si puede detectarse mediante espectroscopia.
[0018] Descarga de barrera dieléctrica (DBD), o un sistema DBD, significa un sistema que tiene al menos dos electrodos separados por una barrera dieléctrica, y puede tener más electrodos, en el que hay una barrera dieléctrica entre cada electrodo, para evitar la carga generada en el gas por una descarga al alcanzar un electrodo. La distancia más corta entre los electrodos adyacentes en un sistema DBD es preferentemente como máximo 30 cm (o 12 pulgadas) y, preferentemente, es al menos 0,5 cm (o 0,25 pulgadas). Preferentemente, los sistemas DBD están configurados para operar en condiciones para producir un HVCP. Ejemplos de sistemas DBD se ilustran en las figs.
1A, 1B, 1C, 1D, 1E y 1F; preferentemente, los electrodos están separados por un espacio o plénum directamente entre los electrodos según se ilustra en las figs. 1A, 1B, 1C y 1F.
[0019] El gas de trabajo y la mezcla de gas de trabajo se refieren al gas que se utiliza para formar un plasma.
[0020] Envase significa un contenedor que tiene un volumen máximo de 6 galones (o 22,7 litros).
[0021] Sellado o sustancialmente sellado significa que los gases dentro del envase o contenedor permanecen en el interior y no fluyen o se difunden fuera del envase o contenedor durante, al menos, 24 horas, si no se los perturba.
[0022] Esterilización o esterilizado significa esterilización médica o esterilizado médicamente, lo que significa someter (o haber sido sometido) a un tratamiento suficiente para reducir el número de esporas de Bacillus atrophaeus viables sobre, o dentro de, un producto, o superficie a, como máximo, 1 x 10-6 de la cantidad presente antes del tratamiento, si dichas esporas hubieran estado presentes.
[0023] Esterilización en lata o esterilizado en lata significa someter (o haber sido sometido) a un tratamiento suficiente para reducir el número de esporas de Clostridium botulinum viables sobre, o dentro de, un producto o superficie a, como máximo, 1 x 10-12 de la cantidad presente antes del tratamiento, si dichas esporas hubieran estado presentes.
[0024] E. coli pasteurizada significa someter (o haber sido sometido) a un tratamiento suficiente para reducir el número de Escherichia coli O157:H7 viable sobre, o dentro de, un producto o superficie a, como máximo, 1 x 10-5 de la cantidad presente antes del tratamiento, si dicha bacteria hubiera estado presente.
[0025] Listeria pasteurizada significa someter (o haber sido sometido) a un tratamiento suficiente para reducir el número de Listeria monocytogenes viable sobre, o dentro de, un producto o superficie a, como máximo, 1 x 10-5 de la cantidad presente antes del tratamiento, si dicha bacteria hubiera estado presente.
[0026] Salmonella pasteurizada significa someter (o haber sido sometido) a un tratamiento suficiente para reducir el número de Salmonella enterica subesp. enterica serovar enteritidis viable sobre, o dentro de, un producto o superficie hasta como máximo 1 x 10-5 de la cantidad presente antes del tratamiento, si tal bacteria hubiera estado presente.
[0027] La frase "contiene demasiada micotoxina para uso como alimento humano según los estándares de los EE. UU." significa que el producto al que se hace referencia contiene más de 20 partes por billón (ppb) de aflatoxinas, más de 1000 ppb de deoxinivalenol y/o más de 200 ppb de fumonisinas, mientras que la frase "es adecuada para uso como alimento humano según los estándares de los EE. UU." significa que el producto al que se hace referencia contiene, como máximo, 20 ppb de aflatoxinas, como máximo 1000 ppb de deoxinivalenol y, como máximo, 200 ppb de fumonisinas.
[0028] La frase "contiene demasiada micotoxina para uso como alimento humano según las normas de la UE" significa que el producto al que se hace referencia contiene más de 2 ppb de aflatoxina B1, más de 4 ppb de aflatoxinas totales, más de 750 ppb de deoxinivalenol, más de 1000 ppb de fumonisinas y/o más de 75 ppb de zearalenona, mientras que la frase "es adecuada para uso como alimento humano según los estándares de la UE" significa que el producto al que se hace referencia contiene, como máximo 2 ppb de aflatoxina B1, como máximo 4 ppb de aflatoxinas en total, como máximo 750 ppb de deoxynivalenol, como máximo 1000 fumonisinas ppb y como máximo zearalenona 75 ppb.
[0029] La frase "contiene demasiada micotoxina para uso como alimento para animales según los estándares de los EE. UU." significa que el producto al que se hace referencia contiene más de 20 ppb de aflatoxinas, más de 5000 ppb de deoxinivalenol, más de 5000 ppb de fumonisinas y/o más de 1000 ppb de zearalenona, mientras que la frase "es adecuada para uso como alimento para animales según los estándares de los EE. UU." significa que el producto al que se hace referencia contiene como máximo 20 ppb de aflatoxinas, como máximo 5000 ppb de deoxinivalenol, como máximo 5000 ppb de fumonisinas y como máximo 1000 ppb de zearalenona.
[0030] La frase "contiene demasiada micotoxina para uso como alimento para animales según los estándares de la UE" significa que el producto al que se hace referencia contiene más de 10 ppb de aflatoxinas, más de 1750 ppb de desoxinivalenol, más de 4000 ppb de fumonisinas y/o más de 100 ppb de zearalenona, mientras que la frase "es adecuada para uso como alimento para animales según los estándares de la UE" significa que el producto al que se hace referencia contiene como máximo 10 ppb de aflatoxinas, como máximo 1750 ppb de deoxinivalenol, como máximo 4000 ppb de fumonisinas y como máximo 100 ppb de zearalenona.
BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS
[0031] Las siguientes figuras se proporcionan para ayudar a ilustrar los productos, dispositivos y procedimientos de la aplicación, pero son posibles otras variaciones y configuraciones. Las figuras no están dibujadas a escala, con el tamaño de algunas partes aumentado o disminuido para una mayor claridad.
Las figs. 1A, 1B, 1C, 1D, 1E y 1F son ilustraciones esquemáticas de una variedad de sistemas DBD.
La fig.2 es una ilustración esquemática de un sistema de tratamiento de gas reactivo para el tratamiento continuo de un producto o una superficie con un gas reactivo.
La fig. 3 es una ilustración esquemática de un sistema de tratamiento de gas reactivo para el tratamiento por lotes de un producto o una superficie con un gas reactivo.
La fig. 4 es una ilustración esquemática de un sistema de tratamiento de gas reactivo para el tratamiento de equipos y/o superficies con un espacio cerrado.
DESCRIPCIÓN DETALLADA
[0032] La presente invención aprovecha el gas reactivo producido por el HVCP. El gas reactivo puede esterilizar o pasteurizar las superficies incluso cuando se transporta a una distancia significativa del sistema DBD en la que se produce el plasma, por ejemplo, de 3 a 30 metros (o de 10 a 100 pies). Además, el gas reactivo es capaz de descomponer algunos materiales orgánicos y biológicos, como las micotoxinas. Esto es bastante sorprendente, ya que a diferencia del HVCP producido dentro de un envase, no hay exposición directa del producto a1HVCP, el tiempo de contacto del gas reactivo con el producto es limitado, por ejemplo, durante 1 segundo, 1 minuto, 30 minutos, o una hora Además, como el gas reactivo se transporta lejos del sistema DBD en el que se produce e1HVCP, se diluye por difusión en el gas circundante y se mezcla con el gas circundante y/o el gas de trabajo. Dado que el gas reactivo se transporta lejos del sistema DBD, se pueden exponer volúmenes de producto mucho mayores al gas reactivo, en procedimientos discontinuos o procedimientos continuos. Además, también se puede llevar a cabo una desinfección a gran escala, como la desinfección de una suite quirúrgica.
[0033] Las figs. 1A, 1B, 1C, 1D, 1E y 1F son ilustraciones esquemáticas de una variedad de sistemas DBD que se pueden usar para producir el HVCP que produce un gas reactivo. Un sistema DBD incluye una fuente de alta tensión, 10, que tiene un conductor a tierra que genera una corriente alterna, un primer electrodo, 20, un segundo electrodo, 30, y un dieléctrico intermedio, 40. Uno o más dieléctricos intermedios adicionales, 60, también pueden estar presentes entre el primer y el segundo electrodo. En algunas configuraciones, el dieléctrico puede rodear el primer y/o segundo electrodo. En algunas configuraciones, la acumulación de carga en los electrodos, utilizada junto con la forma de onda de la tensión, puede usarse para estimar el consumo de potencia del sistema DBD, y puede medirse determinando la tensión desarrollada a través de un condensador convencional u otro sensor, 70. Preferentemente, está presente un plénum, 50, que define un espacio entre los electrodos en el que se producen el HVCP y el gas reactivo, según se muestra en las figs. 1A, 1B, 1C y 1F. Sin embargo, e1HVCP y el gas reactivo también pueden producirse en las proximidades de los dieléctricos, incluso cuando no está presente un plénum transparente en el sistema DBD, según se ilustra en las figs. 1D y 1E. En algunas configuraciones, se pueden usar múltiples electrodos, tal como de 3 a 10 electrodos, de 4 a 8 electrodos, o de 5 a 7 electrodos, con uno o más dieléctricos intermedios entre cada par de electrodos adyacentes y, opcionalmente, formando múltiples plénums, según se ilustra en la fig. 1F (en los que se puede usar una estructura, 80, para sujetar cada conjunto de electrodo-dieléctrico (tales como 40, 20 y 40) que definen cada plénum (50)); dicha disposición permite la producción de una mayor cantidad de HVCP y, por lo tanto, la producción de gas reactivo, al mismo tiempo que mantiene la distancia adecuada entre los electrodos y mantiene el sistema compacto. La configuración del sistema DBD da como resultado la limitación de la corriente de cualquier descarga filamentosa que se forma entre los electrodos para evitar la formación de un arco de alta corriente. En una disposición preferida, un primer electrodo está completamente encerrado en un dieléctrico, y un segundo electrodo está conectado a tierra.
[0034] Los electrodos pueden estar formados de cualquier material conductor, como puede ser un metal. Los dieléctricos pueden formarse a partir de cualquier material aislante (material dieléctrico), tal como cerámica, vidrio, materiales orgánicos o plásticos, incluidas capas múltiples de diversas composiciones. El grosor del dieléctrico, o diferentes capas del dieléctrico, debe seleccionarse para limitar la corriente de cualquier descarga filamentosa que pueda formarse entre los electrodos. La selección de materiales para las capas dieléctricas puede tener un efecto en la composición del gas reactivo.
[0035] La distancia entre los electrodos adyacentes cuando los electrodos son paralelos, o la distancia más corta entre los electrodos adyacentes cuando los electrodos no son paralelos, es preferentemente, como máximo, 30 cm (o 12 pulgadas) y, preferentemente, es al menos 0,5 cm (o 0,25 pulgadas), tal como de 1 a 10 cm, o de 2,5 a 6 cm (o de 1 a 2 pulgadas), incluido 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 y 9 cm. La fuente de alta tensión produce una tensión de como máximo 500 kV, más preferentemente de 30 kV a 150 kV, incluido 40, 50, 60, 70, 80, 90, 95, 100, 110, 120, 130 y 140 kV; con una frecuencia de como máximo 1000 Hz, más preferentemente de 10 a 100 Hz, tal como de 50 a 60 Hz. También se puede usar potencia de CC variable en el tiempo (es decir, pulsada). Aunque la frecuencia se elige principalmente por conveniencia (por ejemplo, la red eléctrica municipal proporciona una potencia de CA de 50 o 60 Hz), se selecciona la tensión para asegurar la producción de HVCP.
[0036] La selección diferente de gases de trabajo y mezclas de gases de trabajo afectará a las especies presentes en el gas reactivo producido por el HVCP. Ejemplos de gases que pueden usarse para preparar e1HVCP incluyen oxígeno (O2); nitrógeno (N2); vapor de agua (H2O); gases inertes y nobles tales como helio (He), neón (Ne), argón (Ar), criptón (Kr), xenón (Xe) y hexafluoruro de azufre (SF6); hidrógeno (H2); dióxido de carbono (CO2) y monóxido de carbono (CO); halógenos y pseudohalógenos tales como flúor (F2), cloro (CL), bromo (Br2) y cianógeno ((CN)2); gases ácidos tales como sulfuro de hidrógeno (H2S), fluoruro de hidrógeno (HF), cloruro de hidrógeno (HCl) y sulfuro de carbonilo (COS); amoníaco (NH3); hidracina (H4N2); trifluoruro de nitrógeno (NF3); dióxido de cloro (ClO2); hidrocarburos tales como metano (CH4), etano (C2H6) y acetileno (H2C2); alcoholes tales como metanol (CH3OH) y etanol (C2H5OH); y mezclas de los mismos. Los gases preferidos incluyen aire y MA65 (una mezcla del 65 % de O2, 30 % de CO2 y 5 % de N2). El aumento de la cantidad de vapor de agua en el gas puede usarse para reducir el ozono presente en el gas reactivo. El aumento de la cantidad de gas noble, como el helio, se puede usar para reducir la tensión necesaria para producir el HVCP. La presión del gas utilizado para preparar e1HVCP se selecciona oportunamente como presión ambiente o atmosférica, pero se pueden usar otras presiones, tal como 1333 a 6666100 Pa (10 a 50000 Torr), más preferentemente 13332 a 133322 Pa (100 a 1000 Torr), tal como 101325 Pa (760 Torr, presión atmosférica).
[0037] El gas reactivo contiene una variedad de especies reactivas y excitadas, y el gas reactivo siempre contiene al menos una (y típicamente más de una) especies reactivas y/o excitadas que no están presentes en el gas de trabajo. Cuando el gas de trabajo contiene oxígeno (por ejemplo, O2 , CO2 y/o H2O), se puede formar ozono; sin embargo, las propiedades y reacciones del gas reactivo no se explican por la presencia solo de ozono, y el gas reactivo siempre contiene otras especies reactivas y excitadas además de cualquier ozono (que puede estar presente o no en el gas reactivo). Además del ozono, otras especies reactivas y excitadas que pueden estar presentes en el gas reactivo incluyen: oxígeno singlete (1O2) y otras especies moleculares excitadas (tanto moléculas excitadas vibracionalmente como átomos y/o moléculas excitadas electrónicamente, tales como O2 , H2 , N2 , CO, CO2 , H2O, He, Ne, Ar, Kr y Xe), radical hidroxilo (HO«), óxidos de nitrógeno (tales como N2O, NO, NO2, NO3 , N2O3, N2O4 y N2O5), peróxido de hidrógeno (H2O2), hidroperoxil (HO2), especies de HNOx (tales como HNO4 , HNO3 y HNO), radicales atómicos (tales como O, F, Cl, N y H) y radicales moleculares (tales como radicales de hidrocarburo, que también pueden contener uno o más de oxígeno, nitrógeno, flúor y cloro). Preferentemente, el gas reactivo tiene al menos una especie reactiva y/o excitada adicional además de ozono y NO2 (o N2O4) (que puede o no estar presente). A diferencia de1HVCP, el gas reactivo no es un plasma y no contiene electrones libres. Preferentemente, el gas reactivo contiene al menos 2 especies reactivas y/o excitadas diferentes enumeradas anteriormente, más preferentemente, al menos 3 especies reactivas y/o excitadas diferentes enumeradas anteriormente, incluso más preferentemente, al menos 4 especies reactivas y/o excitadas diferentes enumeradas anteriormente, y lo más preferentemente, al menos 5 especies reactivas y/o excitadas diferentes enumeradas anteriormente, incluidas de 2 a 10 o de 3 a 8 o de 4 a 6 especies reactivas y/o excitadas diferentes enumeradas anteriormente.
[0038] También es posible capturar y almacenar el gas reactivo en un recipiente para su uso posterior. Preferentemente, el gas reactivo almacenado se utiliza para tratar un producto o superficie dentro de las 24 horas posteriores a su producción, más preferentemente dentro de las 12 horas, más preferentemente dentro de las 6 horas, incluso más preferentemente con 3 horas.
[0039] El gas reactivo también puede capturarse y almacenarse mediante refrigeración a temperaturas extremadamente bajas, por ejemplo, utilizando nitrógeno líquido como refrigerante, o utilizando helio líquido como refrigerante. Cuando se captura y almacena a temperaturas tan bajas, el gas reactivo puede almacenarse durante largos períodos de tiempo, por ejemplo, de 1 día a 6 semanas, y posiblemente más. Se pueden usar recipientes, tales como recipientes de vidrio o metal usados para almacenar otros gases licuados o solidificados.
[0040] Un sistema de tratamiento de gas reactivo incluye un sistema DBD o un gas reactivo almacenado, y una cámara de tratamiento. El sistema de tratamiento de gas reactivo también incluye un dispositivo, un mecanismo o una configuración para alejar el gas reactivo del sistema DBD (que produce un HVCP, que a su vez produce el gas reactivo) o de un contenedor que tiene gas reactivo almacenado, hacia, o a través de, la cámara de tratamiento; esto puede ser una conexión de fluido entre el sistema DBD y la cámara de tratamiento. Preferentemente, la cámara de tratamiento no está sellada; dicha cámara no sellada incluiría una cámara de tratamiento con una salida de gas. Preferentemente, la cámara de tratamiento tiene un volumen de al menos 28 litros (o 1 pie cúbico), más preferentemente un volumen de al menos 1 metro cúbico, e incluso más preferentemente al menos 8 metros cúbicos. Ejemplos de cámaras de tratamiento incluyen habitaciones, contenedores, secadoras de granos, silos, depósitos y contenedores de envío.
[0041] El sistema de gas reactivo puede usarse para llevar a cabo un procedimiento de tratamiento de un producto y/o una superficie, suministrando el gas reactivo (ya sea a partir del gas reactivo almacenado, o generando un HVCP utilizando un sistema DBD), y distribuyendo el gas reactivo hacia, o a través de, la cámara de tratamiento. Los ejemplos de un dispositivo, mecanismo o configuración para mover el gas reactivo incluyen la convección, una vía o línea de gas, un ventilador y el suministro de gas de trabajo en un flujo o presurizado al sistema DBD. Preferentemente, el producto o la superficie tratada por el gas reactivo no se calienta (es decir, su temperatura no aumenta) por el procedimiento de tratamiento en más de 40 °C, más preferentemente en no más de 20 °C, incluso más preferentemente en no más de 10 °C, y más preferentemente en no más de 5 °C, como por ejemplo sin calentamiento del producto o superficie. El tratamiento con el gas reactivo es un procedimiento de procesamiento no térmico. Preferentemente, los productos o las superficies no están expuestos a la radiación (tal como la luz UV) producida por un HVCP durante el procedimiento. Opcionalmente, puede usarse aire, un gas de trabajo u otro gas (como un gas noble o nitrógeno) para expulsar el gas reactivo de la cámara de tratamiento, o la cámara de tratamiento puede ser evacuada. El procedimiento se puede repetir opcionalmente 1,2, 3 o más veces, para proporcionar múltiples tratamientos a productos o superficies. Opcionalmente, el producto se puede sellar en un contenedor y/o refrigerarse después del tratamiento con un gas reactivo. Preferentemente, el producto a tratar no está encerrado en un contenedor sellado o sustancialmente sellado, tal como un contenedor con un volumen de 10 galones como máximo, o de 6 galones como máximo, durante el tratamiento. Preferentemente, el HVCP no se produce dentro de un contenedor sellado, tal como un contenedor con un volumen de como máximo 37,9 litros (10 galones), o como máximo 22,7 litros (6 galones).
[0042] El gas reactivo producido por el HVCP se transporta lejos del lugar de producción de1HVCP (para evitar la exposición directa del producto o la superficie al HVCP), por difusión o transferencia de gas. La distancia entre el plasma y el producto o la superficie a tratar es de al menos una distancia de 3 metros, por ejemplo de 3 a 300 metros, incluidos 5, 10, 20, 30, 40 y 50 metros. En la mayoría de las configuraciones, se permite que el gas reactivo fluya mientras está en contacto con un producto o superficie a tratar, aunque también es posible producir el gas reactivo y transferirlo a un sitio para tratar el producto o la superficie, y confinar el gas a la ubicación de tratamiento por un período de tiempo. Los ejemplos de caudales para transferir el gas reactivo a una ubicación para el contacto con un producto o superficie incluyen de 10 a 3000 metros/minuto, de 30 a 2500 metros por minuto y de 1000 a 2000 metros/minuto, tal como 50, 100, 200, 300, 400, 500, 750 y 1500 metros/minuto. Se permite que el gas reactivo entre en contacto con el producto o la superficie durante al menos 1 segundo, por ejemplo, al menos 2 segundos, al menos 10 segundos, al menos 30 segundos, al menos 1 minuto, al menos 10 minutos, al menos 30 minutos, a al menos 35 minutos, al menos 1 hora, al menos 6 horas o al menos 12 horas. Los ejemplos de tiempos de contacto incluyen de 1 segundo a 12 horas, de 10 segundos a 1 hora, de 1 minuto a 35 minutos, incluidos 5 segundos, 15 segundos, 2 minutos, 5 minutos, 20 minutos, 35 minutos, 40 minutos, 2 horas, 3 horas, 4 horas y 5 horas.
[0043] La fig. 2 es una ilustración esquemática de un sistema de tratamiento de gas reactivo, 200, para el tratamiento continuo de un producto o una superficie con un gas reactivo. El sistema incluye un sistema DBD, 206, para generar un HVCP para producir un gas reactivo, 210. El gas reactivo fluye a lo largo de una vía de gas, 208, hacia una cámara de tratamiento, 216, y posteriormente sale por una salida de gas, 222. El producto, 214, a tratar o que tiene una superficie a tratar, puede almacenarse en una tolva, 212, a medida que se suministra hacia la cámara de tratamiento, y sobre un transportador, 218, que mueve el producto a través de la cámara de tratamiento y hacia un contenedor de recepción, 220, que contendrá el producto después de ponerse en contacto con el gas reactivo. También se ilustra una fuente de gas, 202, tal como un depósito de gas, que proporciona un gas de trabajo a partir del cual se forma el HVCP, y una línea de gas, 204, que suministra al sistema Db D el gas de trabajo. El gas reactivo se puede diluir con gas de trabajo adicional a medida que fluye a través del sistema. El transporte del gas reactivo desde el sistema DBD a la cámara de tratamiento es a través de un diferencial de presión entre el sistema DBD (a una presión más alta desde la introducción del gas de trabajo) y la cámara de tratamiento (a una presión más baja debido a la salida de gas). Opcionalmente, la salida de gas se puede conectar de nuevo al sistema DBD mediante una segunda línea de gas, permitiendo el reciclaje del gas de trabajo y cualquier gas reactivo restante. Opcionalmente, el sistema DBD puede ubicarse dentro de la cámara de tratamiento, evitando la necesidad de una vía de gas. En una variación, el gas de trabajo puede ser aire, y el transporte del gas reactivo puede ser causado por un ventilador ubicado en la vía de gas (soplando el gas reactivo hacia la cámara de tratamiento) o en la parte posterior del sistema DBD (aire soplado) a través del sistema DBD). Opcionalmente, el transportador puede transportar el producto en una pantalla para asegurar que el gas reactivo entre en contacto en todas las superficies del producto. Además, el producto puede moverse a través de la cámara de tratamiento en una pluralidad de transportadores, en los que el producto se desplaza a medida que se mueve desde un primer transportador a un segundo transportador, asegurando que el gas reactivo entre en contacto con todas las superficies del producto. En otra variación, el sistema DBD puede eliminarse utilizando un gas reactivo almacenado como fuente de gas y transportando el gas reactivo directamente a la cámara de tratamiento. Se puede utilizar una variedad de transportadores diferentes, tales como una cinta transportadora permeable, un tornillo, un secador de túnel, un secador de grano o un secador cilíndrico.
[0044] La fig. 3 es una ilustración esquemática de un sistema de tratamiento de gas reactivo, 300, para el tratamiento por lotes de un producto o una superficie con un gas reactivo. El sistema incluye un sistema DBD, 306, para generar un HVCP para producir un gas reactivo. El gas reactivo fluye a lo largo de las vías de gas, 308 y 312, hacia una cámara de tratamiento, 302, y posteriormente sale a través de una vía de gas, 316, a través de una rejilla de recuperación de producto opcional, 318, a lo largo de una vía de gas, 320, y sale a través de una salida de gas, 324. Parte o todo el gas reactivo y el gas de trabajo se pueden reciclar al sistema DBD a través de una vía de gas opcional, 304. El gas reactivo y el gas de trabajo son impulsados a través del sistema por ventiladores, 310 y 322. El producto, 314, a tratar o que tiene una superficie a tratar, está presente en la cámara de tratamiento; según se ilustra, el gas reactivo se suministra a través de la parte inferior de la cámara de tratamiento para crear un lecho fluidizado a partir del gas reactivo y el producto para asegurar el tratamiento de todas las superficies del producto. La rejilla de recuperación del producto se puede usar para capturar cualquier producto que salga de la cámara de tratamiento hacia la vía de gas, y lo devuelva a la cámara de tratamiento. La cámara de tratamiento puede ser un silo en el sistema ilustrado; otras cámaras de tratamiento incluyen un lecho fluido, un lecho fluido mecánico y un contenedor. El gas reactivo se puede diluir con gas de trabajo adicional a medida que fluye a través del sistema. Según se ilustra, el gas de trabajo puede ser aire, pero opcionalmente la vía de gas, 304, puede conectarse a una fuente de gas para suministrar un gas de trabajo al sistema DBD. En otra variación, el sistema DBD puede eliminarse y sustituirse con gas reactivo almacenado.
[0045] Cualquier producto o superficie se puede tratar con el gas reactivo, para esterilizar (esterilización médica o esterilización en lata) o pasteurizar (Salmonella pasteurizada, Listeria pasteurizada o E. coli pasteurizada) el producto o su superficie y/o eliminar contaminantes, tales como toxinas. Los ejemplos de productos incluyen alimentos frescos (como frutas, verduras, granos, frijoles, semillas, carne, productos lácteos, huevos y condimentos), mariscos (pescado y moluscos, y sus partes), alimentos preparados, alimentos congelados, alimentos procesados antes del envasado (agua, bebidas, alimentos para bebés, huevos líquidos, jugo de frutas, harina, aceite, productos nutricionales, vitaminas, nutracéuticos y alimentos horneados), productos envasados (para el tratamiento del exterior de los envases), alimentos para animales, latas, botellas, recipientes de plástico, recipientes para alimentos, batería de cocina y utensilios; pastillas, cápsulas, formas de dosificación unitaria y polvos; dispositivos médicos y equipos médicos, tanto antes como después de su uso; vidrio de laboratorio y artículos de plástico; productos cerámicos; productos metálicos; y productos de cuero y madera.
[0046] Si no se consigue una reducción suficiente de los microorganismos viables (o esporas de los microorganismos) mediante el tratamiento con el gas reactivo, se pueden llevar a cabo tratamientos sucesivos hasta que se consiga la reducción deseada, por ejemplo, suficiente para conseguir la esterilización médica o la esterilización en lata. Por ejemplo, se pueden llevar a cabo de 1 a 10 tratamientos, o de 2 a 9 tratamientos, incluidos 3, 4, 5, 6, 7 u 8 tratamientos. Del mismo modo, el tiempo de tratamiento también puede extenderse. Preferentemente, el tratamiento con gas reactivo se repite hasta que se consiga la esterilización médica o la esterilización en lata, o se consiga la pasteurización con Salmonella, la pasteurización con Listeria o la pasteurización con E. coli según las reivindicaciones.
[0047] Al igual que con la esterilización o la pasteurización, si no se consigue una reducción suficiente de la toxina (tal como la micotoxina o la aflatoxina) mediante el tratamiento con el gas reactivo, se pueden llevar a cabo tratamientos sucesivos hasta conseguir la reducción deseada. Por ejemplo, el tratamiento puede repetirse hasta que se consiga una reducción de al menos una reducción del 50 %, o al menos una reducción del 90 %.
[0048] Las superficies de los productos, habitaciones y contenedores pueden tratarse con gas reactivo, desodorizar, eliminar plagas e insectos, eliminar o matar el moho, esterilizar, pasteurizar, blanquear y destruir toxinas tales como toxinas biológicas y pesticidas. El gas reactivo también se puede usar para tratar aguas residuales, gases de escape (tales como los gases de escape de los automóviles), modificar químicamente los aceites y desnaturalizar las enzimas.
[0049] Frutas (tales como partes de frutas y frutos secos) y semillas (por ejemplo, partes de semillas; granos tales como trigo, arroz y maíz; legumbres como guisantes, frijoles, lentejas, soja y cacahuetes; y nueces tales como los anacardos, las nueces de macadamia, las avellanas, las castañas, las bellotas, las almendras, las pacanas, los pistachos, las nueces y las nueces de Brasil), en particular las contaminadas con micotoxinas, como las aflatoxinas, son productos preferidos porque el gas reactivo puede destruir dichas toxinas, haciendo que dichos productos que antes no eran adecuados para el consumo humano o animal, puedan utilizarse para dichos fines. Los ejemplos de toxinas que se pueden eliminar o reducir con el contacto con gas reactivo incluyen: aflatoxina (como la aflatoxina B1, B2, G1 y G2), desoxinivalenol (como el 15-acetil deoxinivalenol y 3-acetil deoxinivalenol), ocratoxina A, toxina T2, Toxina HT-2, zearalenona y fumonisina (como la fumonisina B1, B2 y B3). La siguiente tabla indica la cantidad de diversas micotoxinas por encima de las cuales un producto no es adecuado para su uso como alimento humano o animal, tanto en los EE. UU. como en Europa (UE). El tratamiento con gas reactivo, incluido el tratamiento repetido con gas reactivo, puede usarse para eliminar suficientes micotoxinas para transformar un producto que no es adecuado para su uso como alimento humano o animal en un producto que sea adecuado para su uso como alimento humano o animal.
Tabla 1. Recomendaciones y reglamentos sobre límites seguros para las concentraciones de micotoxinas en granos en Estados Unidos y la Unión Europea, a partir de 2008.
Micotoxina Grano para el consumo Grano para el consumo
humano animal
USAa UEb USAa UEb Aflatoxinas 20 ppb 2-4 ppbc 20-300 ppbd 10-50 ppbd Deoxinivalenol 1000 ppb 750 ppb 5000-10000 ppbd 1.750 ppb Fumonisinas 200-4000 ppbc 1.000 ppb 5000-100000 ppbd 4.000 ppb (continuación)
Zearalenona No hay niveles orientativos; 75-100 ppbc 1000-200000 ppbd 100-350 ppbd criterio de caso por caso
aMunkvold, 2003a
bReglamento de la Comisión (CE) n.° 1126/2007
cVaría entre los alimentos específicos
dVaría entre las especies de ganado
[0050] La fig. 4 es una ilustración esquemática de un sistema de tratamiento de gas reactivo para el tratamiento de equipos y/o superficies con un espacio cerrado, como una habitación, un contenedor de envío, un remolque o un camión refrigerado. Dentro de la cámara de tratamiento, 400, que aquí es el espacio cerrado, hay un sistema DBD, 406, para generar un HVCP que produce un gas reactivo, 408. Un ventilador, 410, se utiliza para distribuir el gas reactivo en todo el espacio cerrado. También se ilustran productos o superficies a tratar, que incluyen las paredes o superficies interiores del espacio cerrado, equipo opcional, 414, tal como equipo médico (por ejemplo, instrumentos quirúrgicos, mascarillas, equipo de respiración asistida y monitores de signos vitales), y/o superficies opcionales, 412, tal como una mesa quirúrgica, a tratar con el gas reactivo. Opcionalmente, se podrían usar los soportes, 402, para montar el sistema DBD en la parte superior o en los lados del espacio cerrado, o el sistema DBD podría colocarse en el suelo del espacio cerrado. Opcionalmente, un suministro de gas de trabajo podría ser suministrado por una línea de gas, 404, conectada a un suministro de gas (no se ilustra). De forma alternativa, el espacio cerrado podría llenarse con un gas de trabajo. En otra configuración, el sistema DBD podría sustituirse con gas reactivo almacenado.
EJEMPLOS
[0051] Los siguientes ejemplos son sistemas de prueba para mostrar los efectos y las propiedades del gas reactivo, en los que se utilizó un HVCP para producir el gas reactivo. En un sistema típico, la escala se incrementaría para conseguir el tratamiento de cantidades comercialmente significativas de producto. Todo e1HVCP se produjo usando una potencia a 60 Hz.
Ejemplo 1: tratamiento del maíz integral para reducir la carga microbiana simulando una exposición al gas reactivo de corta duración
[0052] Se colocaron 100 g de maíz entero en un contenedor ArtBin® de polipropileno (PP) (modelo 9100AB) -tamaño 37,0 cm x 35,5 cm x 5,2 cm (L x W x H). El ArtBin® se colocó dentro de una segunda bolsa compuesta por una película de alta barrera Cryovac® B2630 - tamaño 40,0 cm x 47,0 cm (L x W). Cada bolsa se enjuagó durante 3 minutos (37 l/min) con MA65 (65 % de O2, 30 % de CO2 , 5 % de N2) como gas de relleno y posteriormente se selló. A continuación, se colocó la bolsa dentro de un sistema DBD, entre dos conjuntos de 4 electrodos (cada electrodo: aluminio, 15,24 cm de diámetro, 8 electrodos en total, 4 arriba, 4 abajo) para producir un HVCP dentro de la bolsa, pero no en contacto con el maíz entero en el ArtBin®. Los tiempos de tratamiento fueron de 5 minutos y 15 minutos para todas las muestras de maíz con un consumo de potencia de 280-290 vatios. La altura (espacio) fue de 5,2 cm entre los electrodos. El HVCP se formó a 95 kV con un amperaje de 1,0-1,5 mA. Las barreras dieléctricas se usaron para regular las características del campo de plasma dentro de las bolsas: (1) planchas de corte (marca IKEA®, 37 cm x 29 cm x 2 cm); (2) barrera de plexiglás colocada en el conjunto de electrodos superiores; y (3) tapas de cajas (marca Bella™) de 114 L y/o cajas de 151 L (dos arriba y una debajo de cada bolsa) para una extensión adicional de la superficie de la capacidad de la barrera. Estas barreras dieléctricas permitieron la generación óptima de gas reactivo desde el HVCP.
[0053] El ozono y los óxidos de nitrógeno se midieron mediante tubos Drager® de detección a corto plazo (Drager Safety AG & Co. KGaA, Lübeck, Alemania). Inmediatamente después de que se completó el tratamiento, las bolsas se abrieron y las muestras se lavaron con gas fresco para eliminar cualquier gas reactivo restante, con la excepción de una muestra que se trató durante 5 minutos y se dejó que el gas reactivo permaneciera en la bolsa sellada durante 24 horas antes de la apertura.
[0054] Las unidades formadoras de colonias (UFC/g) de bacterias aerobias totales se determinaron mediante una metodología estándar por extensión en placa utilizando agar de soja tríptico para bacterias aerobias (TSA, marca Difco, Becton, Dickinson and Company (BD), Sparks, MD). Las placas de TSA estándar para recuperaciones aeróbicas se incubaron a 37 °C durante 24 horas. Después de 24 horas después del tratamiento con gas reactivo y el almacenamiento a temperatura ambiente (22 °C), las poblaciones microbianas se recuperaron de los productos alimenticios respectivos utilizando un enjuague estéril (0,1 % de peptona) por agitación durante 1 minuto en bolsas Stomacher con filtro estéril para eliminar microorganismos de las superficies del producto. El enjuague por agitación (agitación manual y vórtice) permitió solamente recuperaciones externas, sin la posibilidad de una interferencia bactericida adicional que pueda introducirse desde la carne interna como resultado de la digestión. Las recuperaciones de los diluyentes se obtuvieron mediante diluciones en serie y enumeración de placas. Las colonias microbianas se enumeraron después de que las placas se incubaron a 37 °C durante 24 horas. Todos los procedimientos microbiológicos se realizaron según el Manual de Análisis Bacteriológico de la Food and Drug Administration de los EE. UU. (BAM: Bacteriological Analytical Manual, 8.a edición, revisión final: 25 de enero de 2001). Las muestras del maíz entero se recogieron de la misma muestra de maíz entero subdividiendo la muestra y analizando las muestras antes y después del tratamiento para obtener la reducción diferencial de la carga microbiana en el maíz.
[0055] La siguiente tabla resume los resultados de este experimento. "Temp." en la tabla se refiere a la temperatura de los electrodos. Se podría utilizar una reducción adicional, utilizando tratamientos sucesivos, para conseguir una reducción tan grande como se desee.
Tabla 1: Parámetros del procedimiento de HVCP: Configuración de electrodos múltiples de 95 kV, tipo de gas MA65, _____________________________ 100 g de muestra de granos de maíz entero_____________________________
Almacenamie
Tiempo (min) nto (h) Experimento Temp. (°C) Log10 reducción/g Ozono (ppm) NOx (ppm) 5 0 1 32 0,35 15000 1000
2 33 0,35 15000 2000
Media 0,35±0,0 15000±0,0 1500±707
5 24 1 35 1,12 15000 1000
2 34 1,66 17500 1500
3 38 1,43 8000? 1600
4 38 1,36 15000 2000
Media 1,69±0,26 15833±1443 1525±411,3 15 0 1 48 3,05 15000 1000
2 35 1,56 10000 2000
3 38 1,75 8000 1200
Media 2,25±0,34 11000±3535 1333±707
Ejemplo 2: tratamiento del trigo integral para reducir la carga microbiana simulando una exposición corta al gas reactivo [0056] se utilizó 100 g de trigo integral en lugar de maíz entero, y se repitieron los experimentos y mediciones que se llevaron a cabo en el Ejemplo
1. La siguiente tabla resume los resultados de este experimento. "Temp." en la tabla se refiere a la temperatura de los electrodos. Se podría utilizar una reducción adicional, utilizando tratamientos sucesivos, para conseguir una reducción tan grande como se desee.
Tabla 2: Parámetros del procedimiento de HVCP: Configuración de electrodos múltiples de 95 kV, tipo de gas MA65, _____________________________ 100 g de muestra de granos de trigo integral_____________________________
Almacenamie
Tiempo (min) nto (h) Experimento Temp. (°C) Log10 reducción/g Ozono (ppm) NOx (ppm) 5 0 1 38 0 9250 4000
2 41 0 17500 6000
Media 0 13375±5833 5000±1414 5 24 1 33 0,79 7500 1000
2 37 1,23 10000 1500
Media 1,01 ±0,31 8750±1767 1250±353
15 0 1 48 0,46 7000 500
2 53 0,62 5500 800
Media 0,54±0,11 6250±1060 650±212
Ejemplo 3: Tratamiento de una muestra de referencia conocida que contiene micotoxinas para mostrar una reducción [0057] 50 gramos de un producto de maíz multitoxina contaminado naturalmente suministrado por Trilogy Analytical Laboratory, Washington, MO (Material de referencia de Trilogy®, Producto núm.: TR-MT500, Lote núm.: MTC-9999E) con concentraciones conocidas de micotoxinas se colocaron en un contenedor ArtBin® de polipropileno (PP) (modelo 9100AB) - tamaño 37,0 cm x 35,5 cm x 5,2 cm (L x W x H). El ArtBin® se colocó dentro de una segunda bolsa compuesta por una película de alta barrera Cryovac® B2630 - tamaño 40,0 cm x 47,0 cm (L x W). Cada bolsa se enjuagó durante 3 minutos (37 l/min) con aire (22 % O2 , 78 % N2) o MA65 (65 % O2, 30 % CO2 , 5 % N2) como gas de relleno y posteriormente se selló. La humidificación del gas utilizado en algunos de los experimentos se realizó utilizando una burbuja (que produjo aproximadamente un 60 % de humedad). A continuación, se colocó la bolsa dentro de un sistema DBD, entre dos conjuntos de 4 electrodos (cada electrodo: aluminio, 15,24 cm de diámetro, 8 electrodos en total, 4 arriba, 4 abajo) para producir un HVCP dentro de la bolsa, pero no en contacto con el producto en el ArtBin®. El HVCP se formó a 100 kV con un amperaje de 0,6-1,8 mA en todas las muestras. Las barreras dieléctricas se usaron para regular las características del campo de plasma dentro de las bolsas: (1) planchas de corte (marca IKEA®, 37 cm x 29 cm x 2 cm); (2) barrera de plexiglás colocada en el conjunto de electrodos superiores; y (3) tapas de cajas (marca Bella™) de 114 L y/o cajas de 151 L (dos arriba y una debajo de cada bolsa) para una extensión adicional de la superficie de la capacidad de la barrera. Todas las muestras del producto se trataron con unos tiempos de tratamiento de 30 minutos y, posteriormente, se almacenaron durante 24 horas después del tratamiento en condiciones de temperatura ambiente (22 °C). Después de 24 horas de almacenamiento, todas las muestras de prueba y los controles se enviaron a Trilogy Analytical Laboratory, Washington, MO para un panel completo de micotoxinas (#6).
[0058] Las siguientes dos tablas muestran el resultado de estos experimentos. En la tabla "ND" significa "no detectado". En la Tabla 3, la toxina total en la referencia fue de 40,67 ppm, mientras que después del tratamiento el total fue de solo 13,00 ppm, lo que resultó en una reducción total del 68 %. En la Tabla 4, la toxina total en la referencia fue de 45,97 ppm, mientras que después del tratamiento el total fue de solo 23,75 ppm, lo que resultó en una reducción total del 48 %. Se podría utilizar una reducción adicional, utilizando tratamientos sucesivos, para conseguir una reducción tan grande como se desee.
T l : R l l r i n mi xin n r MA 1 kV r n min
Figure imgf000011_0001
Tabla 4: R l l r i n mi xin ^ n r ir 1 ^ kV r n minutos
Figure imgf000012_0002
Ejemplo 4: generación y transporte de gas reactivo.
[0059] Un tubo de polipropileno de 1/4" de diámetro con un diámetro interno de 1/8" se equipó con dos cables aislados de calibre 20, con una separación de 180 grados entre sí. Los cables eran de cinco pies de longitud total. Un pie de cada cable se unió al tubo de polipropileno utilizando un tubo de retracción de cloruro de polivinilo. El aparato se colocó en un pedestal con dos soportes verticales para suspenderlo del suelo. El tubo se conectó a un depósito de gas comprimido que tenía un rotómetro para medir el flujo de gas que pasaba a través del tubo. Se instaló una válvula y una válvula de muestreo en la descarga de este sistema DBD para medir la cantidad de ozono que se estaba generando como un sustituto de otras especies reactivas y excitadas que se estaban generando además del ozono. La cantidad de ozono generado se midió mediante tubos Drager® de detección a corto plazo (Drager Safety AG & Co. KGaA, Lübeck, Alemania). El gas de trabajo utilizado en este experimento fue aire comprimido. Se utilizaron dos caudales diferentes para determinar si el caudal afectaría la tasa de generación de especies reactivas y excitadas. Los caudales de gas se midieron utilizando el rotómetro y también se midieron por el tiempo necesario para llenar una jeringa de 100 ml que se unió a la válvula de muestreo. Se tomaron tres medidas diferentes durante un período de 30 minutos para determinar la tasa promedio de generación de ozono. Las condiciones para generar e1HVCP fueron las mismas para ambos experimentos (30 kV) usando 7 vatios de potencia. La siguiente tabla resume los resultados de este experimento.
T l : n r i n r n r r iv
Figure imgf000012_0001
___ ___ (continuación)
Figure imgf000013_0001

Claims (17)

REIVINDICACIONES
1. Un procedimiento para reducir las micotoxinas en frutas o semillas, que comprende:
producir un gas reactivo formando un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo; transportar el gas reactivo al menos a 3 metros del HVCP; seguido de poner en contacto la fruta o semillas con el gas reactivo;
en el que el gas reactivo es un gas producido por un HVCP, que incluye las especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.
2. Un procedimiento para tratar un producto o superficie con un gas reactivo, que comprende:
producir el gas reactivo formando un plasma frío de alta tensión (HVCP) a partir de un gas de trabajo; transportar el gas reactivo al menos a 3 metros del HVCP; seguido de poner en contacto el producto o superficie con el gas reactivo;
en el que el HVCP no se pone en contacto con el producto o la superficie, y en el que el producto o la superficie es Salmonella, Listeria y/o E. coli pasteurizada por la puesta en contacto; y en el que el gas reactivo es un gas producido por un HVCP, que incluye las especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.
3. El procedimiento según la reivindicación 1 o 2, en el que el gas reactivo se almacena en un recipiente.
4. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el producto, frutas o semillas, o superficie, no está sellado o sustancialmente sellado dentro de un envase o recipiente durante el contacto, en el que sellado o sustancialmente sellado significa que los gases dentro del envase o el contenedor deben permanecer en el interior y no fluir ni difundirse fuera del envase o contenedor durante al menos 24 horas, si no es perturbado.
5. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el producto, frutos o semillas, o superficie, se esterilizan médicamente mediante la puesta en contacto, en el que esterilizarse médicamente significa que el contacto es suficiente para reducir el número de esporas de Bacillus atrophaeus viables sobre, o dentro del, producto, frutas o semillas, o superficie a, como máximo, 1 x 10-6 de la cantidad presente antes de la puesta en contacto, si dichas esporas están presentes.
6. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el producto, frutas o semillas, o superficie, comprende grano.
7. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende además eliminar el gas reactivo del contacto con el producto, frutas o semillas, o superficie, después de 1 segundo a 12 horas; y/o
en el que el gas de trabajo comprende MA65; y/o
en el que el producto, frutas o semillas, o superficie, son maíz entero o trigo integral; y/o
en el que la puesta en contacto se lleva a cabo con el producto, frutas o semillas, o superficie, en un lecho fluidizado.
8. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el gas reactivo comprende al menos una especie reactiva o excitada distinta del ozono.
9. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende además eliminar el gas reactivo del contacto con el producto, frutas o semillas, o superficie, después de 35 minutos a 12 horas.
10. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que antes del procedimiento, el producto, frutas o semillas,
o superficie, contienen demasiada micotoxina para su uso como alimento humano según los estándares de EE. UU. y/o de la UE, y después de la puesta en contacto con el producto, fruta o las semillas, o la superficie, es adecuado para su uso como alimento humano según los estándares de EE. UU. y/o de la UE; y/o en el que la puesta en contacto se realiza con el producto, frutas o semillas, o superficie, moviéndose en un transportador; y/o en el que la puesta en contacto se lleva a cabo en una cámara de tratamiento que tiene un volumen de al menos 1 metro cúbico; y/o en el que una cantidad de micotoxina presente en el producto, frutas o semillas, o superficie, se reduce en al menos un 50 % o al menos un 90 %; y/o
en el que al menos una porción del producto, frutas o semillas, o superficie, está a al menos 3 metros lejos de1HVCP; y/o en el que el producto, frutas o semillas, o superficie, es la superficie interior de una habitación en un hospital.
11. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el producto, frutos o semillas, o superficie, se esteriliza en lata mediante la puesta en contacto, en la que la esterilización en lata significa que la puesta en contacto es suficiente para reducir el número de esporas de Clostridium botulinum viables sobre, o dentro del, producto, frutas o semillas, o superficie a, como máximo, 1 x 10-12 de la cantidad presente antes de la puesta en contacto, si dichas esporas están presentes.
12. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 o 3-11, en el que el producto, frutos o semillas, o superficie, son Salmonella, Listeria y/o E. coli pasteurizados por la puesta en contacto.
13. El procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que antes del procedimiento, el producto, las frutas o semillas, o la superficie, contienen demasiada micotoxina para su uso como alimento para animales según los estándares de los EE. UU. y/o la UE, y después de ponerse en contacto con el producto, fruta o semillas, o superficie es adecuado para su uso como alimento para animales según los estándares de los EE. UU. y/o la UE.
14. Un sistema (200, 300, 400) para tratar un producto o superficie con un gas reactivo, que comprende:
(1) un sistema de descarga de barrera dieléctrica (DBD) (206, 306, 406), y
(2) una cámara de tratamiento (216, 302, 400), conectada de manera fluida al sistema DBD (206, 306, 406), en el que la cámara de tratamiento (216, 302, 400) tiene un volumen de al menos 1 metro cúbico;
en el que la distancia entre el sistema DBD (206, 306, 406) y la cámara de tratamiento (216, 302, 400) es de al menos 3 metros; y
en el que el gas reactivo (210, 408) es un gas producido por un HVCP, que incluye especies excitadas y químicamente reactivas, pero no aquellas especies que se disipan en 0,2 segundos o menos.
15. El sistema (200, 300, 400) según la reivindicación 14, en el que el sistema DBD (206, 306, 406) comprende:
(i) un primer electrodo (20) completamente cerrado por un dieléctrico (40, 60), y
(ii) un segundo electrodo (30), conectado a tierra, y
(iii) una fuente de tensión de corriente alterna (CA) (10),
en el que un plénum (50) está presente entre el primer (20) y segundo electrodos (30); y/o en el que el sistema DBD (206, 306, 406) comprende:
(a) una pluralidad de primeros electrodos (20), y
(b) una pluralidad de segundos electrodos (30), cada uno entre dos primeros electrodos (20), en el que hay el mismo número de primeros electrodos (20) que segundos electrodos (30), o un primer electrodo (20) más que segundos electrodos (30), y
(c) al menos una barrera dieléctrica entre cada primer electrodo adyacente (20) y segundo electrodo (30), en el que cada primer electrodo adyacente (20) y segundo electrodo (30) forman un plénum (50).
16. El sistema (200, 300, 400) según la reivindicación 14 o 15,
que comprende además un transportador (218) dentro de la cámara de tratamiento (216, 302, 400); y/o que comprende además un ventilador (310, 322, 410), para transportar un gas reactivo desde el sistema DBD (206, 306, 406)
a la cámara de tratamiento (216, 302, 400).
17. El sistema (200, 300, 400) según una cualquiera de las reivindicaciones 14-16, en el que la cámara de tratamiento (216, 302, 400) tiene un volumen de al menos 8 metros cúbicos.
ES16788620T 2015-10-23 2016-10-19 Sistema de generación de gas reactivo y procedimiento de tratamiento con gas reactivo Active ES2730803T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/921,910 US10194672B2 (en) 2015-10-23 2015-10-23 Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
PCT/US2016/057753 WO2017070240A1 (en) 2015-10-23 2016-10-19 Reactive gas generation system and method of treatment using reactive gas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2730803T3 true ES2730803T3 (es) 2019-11-12

Family

ID=57211590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES16788620T Active ES2730803T3 (es) 2015-10-23 2016-10-19 Sistema de generación de gas reactivo y procedimiento de tratamiento con gas reactivo

Country Status (17)

Country Link
US (3) US10194672B2 (es)
EP (2) EP3581209B1 (es)
JP (1) JP6654238B2 (es)
KR (2) KR102113202B1 (es)
CN (3) CN207253505U (es)
AR (1) AR106421A1 (es)
BR (1) BR112018007350B1 (es)
CA (1) CA3039902C (es)
ES (1) ES2730803T3 (es)
HU (1) HUE043743T2 (es)
MX (2) MX369186B (es)
PL (1) PL3247412T3 (es)
PT (1) PT3247412T (es)
RU (1) RU2724046C2 (es)
TR (1) TR201908191T4 (es)
WO (1) WO2017070240A1 (es)
ZA (1) ZA201803358B (es)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10194672B2 (en) 2015-10-23 2019-02-05 NanoGuard Technologies, LLC Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
DE102018115300A1 (de) 2018-06-26 2020-01-02 Relyon Plasma Gmbh Anordnung und Verfahren zur Dekontamination von Objekten
DE102018120269A1 (de) * 2018-08-21 2020-02-27 Relyon Plasma Gmbh Anordnung und Verfahren zur Behandlung von Objekten
KR102345998B1 (ko) * 2018-10-24 2022-01-04 가천대학교 산학협력단 저온 플라즈마를 이용한 농산물 가공품의 벤조피렌을 포함한 유해생성물질 저감화 방법 및 시스템
CN109089372A (zh) * 2018-11-12 2018-12-25 北京赛特超润界面科技有限公司 一种使等离子体发生器的电晕区降温和增能的装置
KR20200076811A (ko) 2018-12-19 2020-06-30 가천대학교 산학협력단 플라즈마를 이용한 가공식품의 아크릴아마이드 저감 방법
CN111374257A (zh) * 2018-12-28 2020-07-07 南京苏曼等离子科技有限公司 一种大气压差分低温等离子体冷杀菌保鲜设备及操作方法
IL264463A (en) * 2019-01-24 2020-07-30 Nova Plasma Ltd Device and method for disinfecting herbs using plasma
DE102019106767A1 (de) 2019-03-18 2020-09-24 Relyon Plasma Gmbh Anordnung zur Dekontamination einer Oberfläche von Objekten und Verfahren zur Dekontamination einer Oberfläche von Objekten
US10925144B2 (en) 2019-06-14 2021-02-16 NanoGuard Technologies, LLC Electrode assembly, dielectric barrier discharge system and use thereof
WO2021086863A1 (en) 2019-10-28 2021-05-06 Clean Crop Technologies, Inc. Systems and methods for reactive gas-based product treatment
CN110897077A (zh) * 2019-11-14 2020-03-24 华南理工大学 一种等离子体活性水真空包装红肉保鲜系统及方法
CN111543479B (zh) * 2020-03-20 2021-10-22 国家食品安全风险评估中心 脱氧雪腐镰刀菌烯醇及其衍生物的消减方法
US11896731B2 (en) * 2020-04-03 2024-02-13 NanoGuard Technologies, LLC Methods of disarming viruses using reactive gas
WO2021221675A1 (en) * 2020-04-30 2021-11-04 Hzo, Inc. Atmospheric plasma systems, apparatuses and processes
IT202000009868A1 (it) * 2020-05-05 2021-11-05 Gilardoni Spa Metodo ed apparato di sanificazione per l’abbattimento della carica virale e batterica presente su oggetti.
WO2021252369A1 (en) 2020-06-07 2021-12-16 Comestaag Llc Selectively treating plant items
EP4161281A1 (en) 2020-06-07 2023-04-12 Comestaag LLC Barrier coating compositions for perishables and methods, kits and coated items relating thereto
PL243915B1 (pl) * 2021-01-14 2023-10-30 Siec Badawcza Lukasiewicz Inst Mikroelektroniki I Fotoniki Układ elektryczny samodezynfekującej klawiatury dotykowej
DE102021106664A1 (de) * 2021-03-18 2022-09-22 Plasmatreat Gmbh Verfahren und vorrichtung zum desinfizieren, insbesondere sterilisieren, verpackter güter
CN116235917A (zh) * 2023-05-11 2023-06-09 江苏品脱高新技术有限公司 一种新型的高压脉冲电场杀菌处理腔
CN116948744B (zh) * 2023-09-20 2023-12-08 曲阜良友食品有限公司 一种玉米油适度加工工艺

Family Cites Families (179)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2837666A (en) 1953-07-24 1958-06-03 Ernest G Linder Radioactive voltage source employing a gaseous dielectric medium
US3891561A (en) 1967-01-04 1975-06-24 Purification Sciences Inc Corona generator apparatus
JPS58220659A (ja) 1982-06-16 1983-12-22 House Food Ind Co Ltd 小麦粉の品質改良法
US4643876A (en) 1985-06-21 1987-02-17 Surgikos, Inc. Hydrogen peroxide plasma sterilization system
US5184046A (en) 1990-09-28 1993-02-02 Abtox, Inc. Circular waveguide plasma microwave sterilizer apparatus
RU2102084C1 (ru) * 1993-04-06 1998-01-20 Евгений Петрович Бельков Способ стерилизации объектов
US5482684A (en) 1994-05-03 1996-01-09 Abtox, Inc. Vessel useful for monitoring plasma sterilizing processes
US5656238A (en) 1994-10-11 1997-08-12 Johnson & Johnson Medical, Inc. Plasma-enhanced vacuum drying
IL115130A (en) 1995-09-01 1999-09-22 Israel State Method and device for ozone sterilization of objects
WO1997018343A1 (fr) 1995-11-13 1997-05-22 Ist Instant Surface Technology S.A. Procede et dispositif de sterilisation, de desodorisation et de protection de la surface interne de recipients et tubes
RU2067003C1 (ru) 1995-12-15 1996-09-27 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственная фирма "Плайн" Способ обработки поверхностей тел и устройство для его осуществления
US5896587A (en) 1996-01-11 1999-04-27 Gentry; Debra Sun shield helmet assembly for bicyclist
US6331514B1 (en) 1996-08-26 2001-12-18 Stephen R. Wurzburger Sterilizing and disinfecting compound
US5895587A (en) 1997-01-21 1999-04-20 Cryovac, Inc. Cook-in package and method of making same
AU7027098A (en) 1997-05-12 1998-12-08 Ist Instant Surface Technology S.A. Method and device for surface treatment
DE19719911A1 (de) 1997-05-13 1998-11-19 Max Kettner Gmbh & Co Kg I K Vorrichtung zur Behandlung von Getränkebehältern
US6406759B1 (en) * 1998-01-08 2002-06-18 The University Of Tennessee Research Corporation Remote exposure of workpieces using a recirculated plasma
DE19814865C2 (de) 1998-04-02 2000-09-07 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Plasmabehandlung in Hohlkörpern
US6093432A (en) 1998-08-13 2000-07-25 University Of Guelph Method and apparatus for electrically treating foodstuffs for preservation
FR2790962B1 (fr) 1999-03-16 2003-10-10 Absys Procede et dispositifs de sterilisation par plasma
US6455014B1 (en) 1999-05-14 2002-09-24 Mesosystems Technology, Inc. Decontamination of fluids or objects contaminated with chemical or biological agents using a distributed plasma reactor
US20020129902A1 (en) 1999-05-14 2002-09-19 Babayan Steven E. Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device
US6096564A (en) 1999-05-25 2000-08-01 Wisconsin Alumni Research Foundation Plasma-aided treatment of surfaces against bacterial attachment and biofilm deposition
AU5761700A (en) 1999-06-24 2001-01-09 Wisconsin Alumni Research Foundation Cold-plasma treatment of seeds to remove surface materials
US6403029B1 (en) 2000-01-12 2002-06-11 The Trustees Of Princeton University System and method of applying energetic ions for sterilization
KR20000053747A (ko) 2000-03-23 2000-09-05 고중석 기화기부착 미량 정량 액체자동공급장치
FR2814079B1 (fr) 2000-09-15 2005-05-13 Absys Systeme de sterilisation par plasma
DE10045585A1 (de) 2000-09-15 2002-03-28 Ruediger Haaga Gmbh Verfahren zum Sterilisieren und Depyrogenisieren gewaschener Behälter
US6638475B1 (en) 2000-11-08 2003-10-28 The Regents Of The University Of California Method for inhibiting pathogenic and spoilage activity in products
KR100430345B1 (ko) * 2000-11-28 2004-05-04 (주)에스이 플라즈마 대기압에서 저온 플라즈마를 발생시키는 장치
KR100434940B1 (ko) 2000-12-12 2004-06-10 한국기계연구원 저온 플라즈마 및 유전열을 이용하여 유해가스를 처리하기위한 촉매 반응기 및 그 처리방법
US20040050682A1 (en) 2000-12-27 2004-03-18 George Paskalov Activated water apparatus and methods and products
US7163664B2 (en) 2000-12-27 2007-01-16 Hydro Enterprises, Inc. Methods and devices for dispensing a potable product liquid
DE10108717C1 (de) 2001-02-23 2002-07-11 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung und Verfahren zur Entladung von dielektrischen Oberflächen
US20020182101A1 (en) 2001-03-27 2002-12-05 Pavel Koulik Process and device for plasma surface treatment
WO2002078749A2 (en) 2001-03-28 2002-10-10 The Regents Of The University Of California Atmospheric pressure rf plasma source using ambient air and complex molecular gases
US6811757B2 (en) 2001-04-04 2004-11-02 Ecozone Technologies Ltd. Dielectric barrier discharge fluid purification system
RU2199349C2 (ru) * 2001-04-12 2003-02-27 ГП "Красная Звезда" НПЦ "ИНТЕКО" Способ сухой стерилизации медицинских изделий и устройство для его реализации
US6562386B2 (en) 2001-05-07 2003-05-13 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization
US20030030374A1 (en) 2001-08-03 2003-02-13 Deepak Pai Dielectric barrier discharge plasma reactor cell
DE10138938A1 (de) 2001-08-08 2003-02-20 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zur Sterilisation von Behältnissen
KR100437095B1 (ko) * 2001-08-14 2004-06-23 (주)네오포텍 광촉매 및 저온 플라즈마를 이용한 폐수 정화 장치
US20030039726A1 (en) 2001-08-24 2003-02-27 American Air Liquide Inc. Method of treating food products using irradiation and a modified atmoshpere
WO2003018176A1 (en) 2001-08-25 2003-03-06 Accentus Plc Non-thermal plasma reactor
FR2836772B1 (fr) 2002-03-04 2004-07-09 Absys Generateur de gaz pour un systeme de sterilisation
US6822250B2 (en) 2002-03-04 2004-11-23 Steris Inc. Mobile radiant energy sterilizer
US20030168009A1 (en) 2002-03-08 2003-09-11 Denes Ferencz S. Plasma processing within low-dimension cavities
US20040076543A1 (en) 2002-03-18 2004-04-22 Sokolowski Asaf Zeev System and method for decontamination and sterilization of harmful chemical and biological materials
DE10211976A1 (de) 2002-03-19 2003-10-02 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zumindest zur Sterilisation von Behältnissen und/oder deren Verschließelementen
EP1497846B1 (fr) 2002-04-24 2008-09-10 Apit Corp. S.A. Dispositif pour le traitement de surface de recipients par plasma
WO2004007066A1 (en) * 2002-04-30 2004-01-22 Regents Of The University Of Minnesota Non-thermal disinfection of biological fluids using non-thermal plasma
AUPS220302A0 (en) 2002-05-08 2002-06-06 Chang, Chak Man Thomas A plasma formed within bubbles in an aqueous medium and uses therefore
JP4599023B2 (ja) 2002-06-21 2010-12-15 大日本印刷株式会社 高電圧パルス電源を用いた包装材料の殺菌方法およびその装置
US20040216845A1 (en) 2003-05-02 2004-11-04 Czeslaw Golkowski Non-thermal plasma generator device
US20060027539A1 (en) 2003-05-02 2006-02-09 Czeslaw Golkowski Non-thermal plasma generator device
US7307243B2 (en) 2003-05-09 2007-12-11 North Carolina State University Dynamic radiant food preparation methods and systems
US8475723B2 (en) 2003-07-28 2013-07-02 Iono2X Engineering, L.L.C. Dielectric barrier discharge cell with hermetically sealed electrodes and automatic washing of electrodes during operation of the cell
US6991768B2 (en) 2003-07-28 2006-01-31 Iono2X Engineering L.L.C. Apparatus and method for the treatment of odor and volatile organic compound contaminants in air emissions
US7767167B2 (en) 2003-07-28 2010-08-03 Iono2X Engineering, L.L.C. Dielectric barrier discharge cell with hermetically sealed electrodes, apparatus and method for the treatment of odor and volatile organic compound contaminants in air emissions, and for purifying gases and sterilizing surfaces
US20050189302A1 (en) 2003-07-31 2005-09-01 Latino Joseph S. Viral inactivation using ozone
RU2254143C2 (ru) * 2003-09-08 2005-06-20 ФГУП - Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики - ФГУП-РФЯЦ-ВНИИЭФ Способ стерилизации объектов
WO2007010534A2 (en) 2005-07-19 2007-01-25 Spectrum Dynamics Llc Imaging protocols
WO2005070018A2 (en) 2004-01-22 2005-08-04 Plasmasol Corporation Modular sterilization system
US7367196B2 (en) 2004-02-23 2008-05-06 Princeton Biomeditech Corporation Spinning cold plasma apparatus and methods relating thereto
NL1026532C2 (nl) 2004-06-30 2006-01-02 Tno Methode en middelen voor generatie van een plasma bij atmosferische druk.
DE102004049783B4 (de) 2004-10-12 2009-03-19 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Bearbeitung von Gütern unter Zuhilfenahme einer elektrischen Entladung
FR2880105B1 (fr) 2004-12-23 2007-04-20 Cie Financiere Alcatel Sa Dispositif et procede de pilotage de l'operation de deshydratation durant un traitement de lyophilisation
DE102005002142A1 (de) 2005-01-12 2006-07-20 Forschungsverbund Berlin E.V. Mikroplasmaarray
GB0501460D0 (en) 2005-01-25 2005-03-02 Univ Edinburgh Improved plasma cleaning method
US8999357B2 (en) 2005-02-07 2015-04-07 Sishield Technologies, Inc. Methods and compositions for biocidal treatments
US7719200B2 (en) 2005-03-07 2010-05-18 Old Dominion University Plasma generator
WO2006116828A1 (en) 2005-04-29 2006-11-09 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek Apparatus and method for purification and disinfection of liquid, solid or gaseous substances
CN101223403B (zh) 2005-07-20 2010-06-16 艾尔廸科技有限公司 空气净化和消毒装置
JP5007386B2 (ja) 2005-07-28 2012-08-22 国立大学法人佐賀大学 ラジカル滅菌装置
WO2007031934A2 (en) 2005-09-15 2007-03-22 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Adaptive driver for dielectric barrier discharge (dbd) lamp
US20070104610A1 (en) 2005-11-01 2007-05-10 Houston Edward J Plasma sterilization system having improved plasma generator
WO2007067924A2 (en) 2005-12-07 2007-06-14 Stryker Corporation Sterilizing system with a plasma generator, the plasma generator having an electrode assembly having an array of capillaries in which the plasma is generated and into which fluid is introduced to generate sterilant
US7967820B2 (en) 2006-02-07 2011-06-28 P Tech, Llc. Methods and devices for trauma welding
DE102006019664B4 (de) 2006-04-27 2017-01-05 Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. Kaltplasma-Handgerät zur Plasma-Behandlung von Oberflächen
DE102006020483A1 (de) 2006-04-28 2007-11-08 Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Saatgut mit einem physikalischen Plasma bei Atmosphärendruck
US7384456B2 (en) 2006-05-15 2008-06-10 Airinspace B.V. Modular frame for air purification devices
US20080006536A1 (en) 2006-05-18 2008-01-10 North Carolina State University Processing cellulosic material utilizing atmospheric-pressure plasma
DE102006036536B3 (de) 2006-07-31 2008-02-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Plasmabehandeln einer Oberfläche
EP1884248A1 (fr) 2006-08-01 2008-02-06 L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Procédé continu de fonctionnalisation et aseptisation d'éléments plans d'emballages alimentaires par plasma atmosphérique
WO2008014615A1 (en) 2006-08-02 2008-02-07 Viroforce Systems Inc. Apparatus and method for using ozone as a disinfectant
KR100775124B1 (ko) 2006-09-07 2007-11-08 삼성전자주식회사 플렉서블 전도성 폴리머 전극을 포함한 선도 유지 시스템
US20080063559A1 (en) 2006-09-13 2008-03-13 Joseph Alexander Fan forced electric unit that incorporates a low power cold plasma generator and method of making same
FR2907351B1 (fr) 2006-10-18 2009-02-06 Sidel Participations Machine de traitement de recipients par plasma,comprenant des circuits de depressurisation et de pressurisation decales
US7931811B2 (en) 2006-10-27 2011-04-26 Regents Of The University Of Minnesota Dielectric barrier reactor having concentrated electric field
WO2008072170A2 (en) 2006-12-15 2008-06-19 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Dielectric barrier discharge lamp
KR100707730B1 (ko) 2007-01-29 2007-04-16 (주)씨맥스 슬롯형 리모트 대기압 플라즈마 반응기
WO2008096292A1 (en) 2007-02-07 2008-08-14 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Dielectric barrier discharge lamp
US20080193330A1 (en) 2007-02-09 2008-08-14 Tokyo Institute Of Technology surface treatment apparatus
EP2153851A1 (en) 2007-04-11 2010-02-17 Olexandr Borisovich Zayika Method for treating water and aqueous solutions by means of a gas-discharge plasma and a device for carrying out said method
EP2135493A1 (en) 2007-04-11 2009-12-23 University of Limerick A plasma system
DK1982734T3 (da) 2007-04-19 2011-10-17 Akos Advanced Technology Ltd Fremgangsmåde og apparat til væskerensning
PL2153704T3 (pl) 2007-05-11 2018-06-29 Force Technology Wspomaganie plazmowej modyfikacji powierzchni przy zastosowaniu ultradźwiękowych fal akustycznych o wysokim natężeniu i o wysokiej mocy
WO2008144499A1 (en) 2007-05-16 2008-11-27 Old Dominion Univesity Research Foundation System and methods for pasteurizing food using ultrashort electrical pulses
US8097217B2 (en) 2007-07-06 2012-01-17 Uion Co., Ltd Atmospheric pressure plasma generating apparatus by induction electrode
DE102007037406A1 (de) 2007-08-08 2009-06-04 Neoplas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung
WO2009041861A1 (en) 2007-09-25 2009-04-02 Sik Institutet För Livsmedel Och Bioteknik Ab Device and method for lifting and handling of objects
EP2206521B1 (en) 2007-09-27 2019-07-17 Satoshi Ikawa Apparatus for sterilization
WO2009040130A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Danmarks Tekniske Universitet Method for sterilization of objects
WO2009067682A2 (en) 2007-11-21 2009-05-28 University Of Florida Research Foundation, Inc. Self-sterilizing device using plasma fields
US8268136B2 (en) 2007-12-20 2012-09-18 McCutchen, Co. Electrohydraulic and shear cavitation radial counterflow liquid processor
WO2009098662A1 (en) 2008-02-08 2009-08-13 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Long lifetime system for the generation of surface plasmas
US8115135B2 (en) 2008-02-14 2012-02-14 Adventix Technologies Inc. Plasma assisted oxygen decontaminant generator and sprayer
SE531797C2 (sv) 2008-04-07 2009-08-04 Paer H Henriksson Arrangemang och förfarande för oskadliggörande av mikroorganismer med ett elektriskt fält samt användningar av arrangemanget
US20090274592A1 (en) 2008-05-01 2009-11-05 Airlnspace B.V. Plasma-based air purification device including carbon pre-filter and/or self-cleaning electrodes
US7621985B1 (en) 2008-05-24 2009-11-24 Adventix Technologies Inc. Plasma torch implemented air purifier
US20090297409A1 (en) 2008-05-30 2009-12-03 Buchanan Walter R Discharge plasma reactor
CA2733163C (en) 2008-08-08 2013-11-19 Chokichi Sato Water vapor plasma generating apparatus, sterilization and disinfection method, and method for antioxidative treatment using water vapor plasma
US8968286B2 (en) 2008-08-19 2015-03-03 Drexel University Nano discharges in liquids
ITMI20081993A1 (it) 2008-11-11 2010-05-12 Francesco Mazzariello Metodo ed impianto per la sanificazione di prodotti alimentari contaminati da micotossine
US9539352B2 (en) 2009-03-24 2017-01-10 Purdue Research Foundation Method and system for treating packaged products
US9363880B2 (en) 2009-03-24 2016-06-07 Purdue Research Foundation Method and system for treating packaged products
US8961894B2 (en) 2009-03-24 2015-02-24 Purdue Research Foundation Generation of microbiocide inside a package utilizing a controlled gas composition
GB0906091D0 (en) 2009-04-07 2009-05-20 Snowball Malcolm R None invasive disinfector
US8372460B2 (en) 2009-07-10 2013-02-12 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude System and method for non-thermal plasma treatment of foodstuffs
CN102625730B (zh) 2009-09-03 2014-03-12 国立大学法人大阪大学 向液体供给离子的方法和装置以及杀菌方法和装置
US8128869B2 (en) 2009-10-05 2012-03-06 Hussmann Corporation Air sanitization system with variable speed fan
GB0919274D0 (en) 2009-11-03 2009-12-16 Univ The Glasgow Plasma generation apparatus and use of plasma generation apparatus
US20110115415A1 (en) 2009-11-16 2011-05-19 Kun-Liang Hong Low ozone ratio, high-performance dielectric barrier discharge reactor
WO2011110191A1 (en) 2010-03-10 2011-09-15 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e. V. Method and arrangement for treating an object with a low- temperature plasma
DE102010003284A1 (de) 2010-03-25 2011-09-29 Dot Gmbh Verfahren zur chemischen Aktivierung von Arbeitsgasen in abgeschlossenen Volumina
US20130330229A1 (en) 2010-03-31 2013-12-12 Drexel University Plasma system for air sterilization
FR2958187B1 (fr) 2010-04-01 2012-06-15 Centre Nat Rech Scient Dispositif de production d'une espece chimique a partir d'un fluide grace a la mise en oeuvre d'une structure resonante micro-ondes
US20110268850A1 (en) 2010-04-30 2011-11-03 Vashui Rasanayagam Modified atmosphere packaging gas, method for non-thermal plasma treatment of article, and article of manufacture for use therein
WO2011138463A1 (de) * 2010-05-07 2011-11-10 Inp Greifswald - Leibniz-Institut Für Plasmaforschung Und Technologie E. V. Plasmageneriertes gas-sterilisationsverfahren
DE102010026104B3 (de) 2010-07-05 2011-12-01 Fresenius Medical Care Deutschland Gmbh Verfahren zur Sterilisation wenigstens eines Gegenstandes, Sterilisationsvorrichtung sowie Verwendung hierzu
CN101912761B (zh) 2010-07-05 2014-02-19 洪昆喨 一种均匀电场介电质放电反应器
FR2965179B1 (fr) 2010-09-24 2013-04-26 C R I T T Materiaux Depots Et Traitement De Surface Dispositif de sterilisation par plasma froid d'un objet, tel qu'un dispositif medical, un implant ou autre et procede mettant en oeuvre ce dispositif
DE102010062874A1 (de) 2010-12-13 2012-06-14 Hilti Aktiengesellschaft Handwerkzeugmaschine
US8551546B2 (en) 2010-12-20 2013-10-08 American Air Liquide, Inc. Plasma generation of CO for modified atmosphere packaging
US20120156340A1 (en) 2010-12-20 2012-06-21 Vasuhi Rasanayagam Plasma Generation of CO for Modified Atmosphere Packaging
DE102011009056B4 (de) 2011-01-20 2016-04-07 Schott Ag Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Hohlkörpern
DE102011003782A1 (de) * 2011-02-08 2012-08-09 Meiko Maschinenbau Gmbh & Co. Kg Reinigungsvorrichtung zur Reinigung von Reinigungsgut
NL2006212C2 (en) * 2011-02-16 2012-08-20 Synthesis B V Device and method for disinfecting plant seeds.
EP2678046B1 (de) 2011-02-25 2015-01-21 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Desinfektionseinrichtung, behälter, verwendung eines behälters und desinfektionsverfahren zur desinfektion eines behälters, insbesondere für einen lebensmittelbehälter
US9220162B2 (en) 2011-03-09 2015-12-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Plasma generating apparatus and plasma generating method
DE102011016448A1 (de) 2011-03-29 2012-10-04 Khs Corpoplast Gmbh Verfahren zum Sterilisieren sowie Vorrichtung zur Blasformung von Behältern
GB201107692D0 (en) 2011-05-09 2011-06-22 Snowball Malcolm R Sterilisation of packed articles
US20130164173A1 (en) 2011-06-24 2013-06-27 Elwood G. Norris Plasma emitter
CN102343106B (zh) * 2011-07-22 2014-07-23 大连民族学院 大气压低温等离子体杀菌装置及杀菌方法
TWI461113B (zh) 2011-08-24 2014-11-11 Nat Univ Tsing Hua 常壓電漿噴射裝置
US9107538B2 (en) 2011-11-01 2015-08-18 Pepsico, Inc. Cold plasma sanitation for a dispensing machine
JP6083093B2 (ja) 2011-11-11 2017-02-22 国立大学法人佐賀大学 プラズマ生成装置
EP2782869A1 (de) 2011-11-22 2014-10-01 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines nicht-thermischen plasmas mit vorherbestimmter ozonkonzentration
GB2496879A (en) 2011-11-24 2013-05-29 Creo Medical Ltd Gas plasma disinfection and sterilisation
WO2013090418A1 (en) 2011-12-12 2013-06-20 Applied Quantum Energy Llc Sterilization using plasma generated nox
JP6317927B2 (ja) 2012-01-09 2018-04-25 ムー・メディカル・デバイスズ・エルエルシーＭｏｅ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｄｅｖｉｃｅｓ Ｌｌｃ プラズマ補助皮膚処置
US8747972B2 (en) 2012-01-31 2014-06-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Packaging material for boil/retort treatment and pouch
KR101391708B1 (ko) 2012-06-07 2014-05-07 한국식품연구원 대기압 플라즈마를 이용한 밀봉 포장식품의 살균방법 및 이에 의해 제조된 밀봉 포장식품
US8834803B2 (en) 2012-10-19 2014-09-16 Hussmann Corporation Electro hydrodynamic thruster for decontaminating a display case
US9067788B1 (en) 2012-11-01 2015-06-30 Rick B. Spielman Apparatus for highly efficient cold-plasma ozone production
CN103039151B (zh) 2012-12-07 2015-09-02 常州中科常泰等离子体科技有限公司 冷等离子体种子处理设备
WO2014093513A1 (en) 2012-12-11 2014-06-19 Cold Plasma Medical Technologies, Inc. Method and apparatus for cold plasma food contact surface sanitation
DE102013003865B4 (de) 2013-03-06 2018-09-13 Al-Ko Therm Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Gegenstandes
WO2014138066A2 (en) 2013-03-06 2014-09-12 John Moore Adhesive with tunable porosity and methods to support temporary bonding applications
US20160037790A1 (en) 2013-03-15 2016-02-11 Archer Daniels Midland Company Improved methods for treating grain with ozone
DE102014107805A1 (de) * 2013-07-17 2015-01-22 Vorwerk & Co. Interholding Gmbh Anordnung zur Filterung von Luft sowie Verfahren zur Luftreinigung
BR112016003723A2 (pt) 2013-09-16 2017-09-12 Iams Co sanitização de alimento
NL2013151C2 (en) 2013-10-30 2015-05-04 Johannes Adrianus Maria Hoefnagels Process for the treatment of fruits and vegetables.
GB201322387D0 (en) 2013-12-18 2014-02-05 Dublin Inst Of Technology A method for reducing the oil content of snacks by increasing spreadsheet
US9560860B2 (en) * 2014-05-15 2017-02-07 Tim Zwijack Apparatus and method for decontaminating grain
WO2015200907A1 (en) 2014-06-27 2015-12-30 EP Technologies LLC Treated sprout plants with decreased bacterial viability and methods and apparatuses for making the same
EP3166413B1 (en) 2014-07-08 2020-05-13 Johannes Adrianus Maria Hoefnagels Process for the treatment of biological material
WO2016140447A1 (en) 2015-03-03 2016-09-09 Plasmapp Co., Ltd. Plasma treatment method for processed meat product and plasma treatment apparatus for processed meat product
LU92784B1 (en) 2015-07-22 2017-01-31 Luxembourg Inst Of Science And Tech (List) Negatively charged self-assembling supported lipid bilayer on mesoporous silica nanoparticles, method of synthesis and use as a nanovector
US20190224354A1 (en) 2015-07-24 2019-07-25 The Board Of Regents For Oklahoma State University Cold plasma devices for decontamination of foodborne human pathogens
US10194672B2 (en) 2015-10-23 2019-02-05 NanoGuard Technologies, LLC Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
DE102015119369A1 (de) 2015-11-10 2017-05-11 INP Leipniz-Institut für Plalsmaforschung und Technologie e.V. Vorrichtung, System und Verfahren zur Behandlung eines Gegenstandes mit Plasma
JP6649754B2 (ja) 2015-11-24 2020-02-19 日本特殊陶業株式会社 プラズマリアクタ
US10668180B2 (en) 2016-03-02 2020-06-02 Asp Global Manufacturing Gmbh Apparatus and method for sterilizing medical devices
KR20190039445A (ko) * 2016-09-02 2019-04-11 솜니오 글로벌 홀딩스, 엘엘씨 자유 라디칼 발생 장치 및 그 제조 방법
PT3526324T (pt) 2017-03-28 2021-10-20 Locanabio Inc Proteína associada a crispr (cas)
CN108310425B (zh) 2018-02-02 2021-02-12 毕玉亮 大棚自动灭菌机
US10925144B2 (en) 2019-06-14 2021-02-16 NanoGuard Technologies, LLC Electrode assembly, dielectric barrier discharge system and use thereof
US11896731B2 (en) 2020-04-03 2024-02-13 NanoGuard Technologies, LLC Methods of disarming viruses using reactive gas

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017070240A1 (en) 2017-04-27
US10194672B2 (en) 2019-02-05
EP3581209B1 (en) 2024-07-10
MX2018004893A (es) 2018-08-14
RU2018118775A (ru) 2019-11-25
US20190159471A1 (en) 2019-05-30
JP2018533405A (ja) 2018-11-15
CN207253505U (zh) 2018-04-20
CA3039902C (en) 2019-09-17
BR112018007350B1 (pt) 2021-03-30
KR20180073589A (ko) 2018-07-02
KR102113202B1 (ko) 2020-05-20
EP3581209A3 (en) 2020-03-25
RU2724046C2 (ru) 2020-06-19
CA3039902A1 (en) 2017-04-27
EP3247412A1 (en) 2017-11-29
JP6654238B2 (ja) 2020-02-26
PT3247412T (pt) 2019-06-14
US11000045B2 (en) 2021-05-11
RU2018118775A3 (es) 2019-12-09
US11882844B2 (en) 2024-01-30
BR112018007350A2 (pt) 2018-10-23
CN106962471A (zh) 2017-07-21
EP3247412B1 (en) 2019-03-20
AR106421A1 (es) 2018-01-10
KR20200056477A (ko) 2020-05-22
EP3581209A2 (en) 2019-12-18
CN106962471B (zh) 2020-05-01
ZA201803358B (en) 2022-08-31
TR201908191T4 (tr) 2019-06-21
MX2019012614A (es) 2020-01-30
HUE043743T2 (hu) 2019-09-30
US20170112157A1 (en) 2017-04-27
MX369186B (es) 2019-10-31
US20210267225A1 (en) 2021-09-02
CN111602710A (zh) 2020-09-01
PL3247412T3 (pl) 2019-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2730803T3 (es) Sistema de generación de gas reactivo y procedimiento de tratamiento con gas reactivo
Niveditha et al. Application of cold plasma and ozone technology for decontamination of Escherichia coli in foods-a review
US9363880B2 (en) Method and system for treating packaged products
Ito et al. Plasma agriculture
KR101384565B1 (ko) 비가열 식품 살균장치
US9539352B2 (en) Method and system for treating packaged products
CN102438661A (zh) 包装制品的灭菌
JP2018533405A5 (es)
US10729798B2 (en) Inactivating pathogenic microorganisms using cold plasma
Ehlbeck et al. Plasma treatment of food
US20080226496A1 (en) Systemic Method For Proximity Hygiene and Device With Low-Temperature Sanitizing Chamber in Particular For Food Products
CN111066871A (zh) 一种用于鱼体表面的连续式低温等离子体杀菌装置
JP3909110B2 (ja) 可搬式滅菌装置
Oliveira et al. Application of non-thermal atmospheric plasma processing in the food industry
Moon et al. Decontamination Effects of Ozone Generated in an Atmospheric-pressure Air Plasma on Packaged Fruits
WO2017065234A1 (ja) 殺菌装置
JP2017094059A (ja) 殺菌装置
Kaluwahandi Effectiveness of Atmospheric Cold Plasma in Inactivating Microorganisms
KR20150105827A (ko) 조제분유 살균장치