ES2712159T3 - Método para asperjar una solución química - Google Patents

Abstract

Un método para asperjar una solución (Y) química de forma continua sobre un lienzo (K) en bucle utilizado en una parte (D) seca de una máquina de papel por un aparato (10) aspersor mientras se realiza el desplazamiento del lienzo (K), siendo la solución (Y) química un agente antiensuciamiento, en donde el lienzo (K) se guía a un rodillo (IR) interno dispuesto dentro del bucle del lienzo (K) y un rodillo (OR) externo dispuesto fuera del bucle del lienzo (K), en donde el aparato (10) aspersor está dispuesto corriente arriba del rodillo (OR) externo y entre el rodillo (IR) interno y el rodillo externo (OR), y la solución (Y) química se asperja hacia el rodillo (OR) externo a lo largo una dirección (Y2) de desplazamiento del lienzo (K), caracterizado porque una distancia L entre un punto de contacto del lienzo (K) con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato (10) aspersor al lienzo (K) y un punto en donde el lienzo (K) comienza a tocar el rodillo (OR) externo es 80 mm <= L <= 5000 mm, y porque, en el caso donde la distancia L sea de 80 mm <= L <400 mm, un ángulo θ formado por una dirección de aspersión (Y1) del aparato (10) aspersor y una dirección (Y2) de desplazamiento del lienzo (K) es 10° <= θ <= 30°, y en el caso donde la distancia L sea de 400 mm <= L <= 5000 mm, el ángulo θ formado por la dirección de aspersión (Y1) del aparato (10) aspersor y la dirección (Y2) de desplazamiento del lienzo (K) es de 30° <= θ <= 60°.

Description

DESCRIPCION

Metodo para asperjar una solucion quimica

Campo Tecnico

La presente invencion se refiere a un metodo para asperjar una solucion quimica, y mas especificamente a un metodo para asperjar una solucion quimica en la que se asperja una solucion quimica sobre un lienzo utilizado en una parte seca de una maquina de papel por un aparato aspersor mientras se realiza el recorrido del lienzo.

Tecnica antecedente

Una maquina de papel para fabricar un papel incluye una parte seca para secar con calor un papel humedecido. Cuando se alimenta un papel humedecido a la parte seca, el papel humedecido se presiona contra la superficie de un rodillo de secado con un lienzo, y como consecuencia se seca. En este momento, el lienzo gira para desplazarse a la misma velocidad con la que se desplaza el papel humedecido.

En la parte seca, existe el problema de que el polvo y los residuos del papel se adhieren facilmente al lienzo. Si el polvo o los residuos de papel se adhieren al lienzo, el polvo o los residuos de papel se transfieren a un papel humedecido, lo que provoca la suciedad del papel humedecido. Por lo tanto, se ha desarrollado un metodo para aplicar un agente antiensuciamiento en el lienzo de la parte seca (por ejemplo, hagase referencia a la Literatura de Patentes 1 a 3).

Lista de Citaciones

Literatura de Patentes

PTL 1: Publicacion de Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspeccion Publica No. 2004-58031

PTL 2: Publicacion de Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspeccion Publica No. 2004-218186

PTL 3: Publicacion de Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspeccion Publica No. 2005-314814

El documento EP 1596 000 A1 describe un metodo para asperjar una solucion quimica segun el preambulo de la reivindicacion 1.

Resumen de la Invencion

Problema Tecnico

Sin embargo, incluso con el metodo para prevenir la suciedad descrito en la Literatura de Patentes 1 a 3, la adhesion del polvo de papel y los residuos al lienzo no se puede evitar suficientemente. Es decir, el metodo para prevenir el ensuciamiento descrito en la Literatura de Patentes 1 a 3 no puede lograr la aplicacion eficiente de un agente antiensuciamiento en el lienzo.

En particular, dado que el lienzo se desplaza a la misma velocidad que el papel humedecido, no se puede aplicar eficientemente un agente antisuciedad simplemente asperjando el agente.

La presente invencion se llevo a cabo en vista de los antecedentes mencionados anteriormente, y un objetivo de la invencion es proporcionar un metodo para asperjar una solucion quimica, siendo el metodo capaz de aplicar eficientemente una solucion quimica a un lienzo movil y evitando suficientemente la adherencia de polvo y residuos de papel al lienzo.

Solucion a los problemas

Los presentes inventores llevaron a cabo una extensa investigacion para resolver los problemas anteriores. Como resultado, los inventores encontraron que los problemas mencionados anteriormente pueden resolverse mediante el metodo de acuerdo con la reivindicacion 1.

Otras caracteristicas del metodo se definen en las reivindicaciones dependientes.

Efectos ventajosos de la Invencion

En el metodo para asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente invencion, se proporciona una configuracion en la que un lienzo es guiado a un rodillo interno y un rodillo exterior, se dispone un aparato aspersor en una posicion especifica y la solucion quimica se asperja continuamente en el lienzo hacia el rodillo exterior a lo largo de la direccion de desplazamiento del lienzo, por lo que la solucion quimica se puede aplicar de manera eficiente al lienzo que se desplaza y se puede evitar de forma suficiente la adherencia del polvo y los residuos de papel al lienzo.

En particular, cuando el angulo que forma la direccion de aspersion del aparato aspersor y la direccion de desplazamiento del lienzo esta dentro del rango mencionado anteriormente, la solucion qufmica se puede aplicar de manera mas eficiente al lienzo.

En el metodo de asperjar una solucion qufmica de acuerdo con la presente invencion, ya que la distancia L (mm) entre el punto de contacto del lienzo con una perpendicular desde una punta de boquilla del aparato aspersor hasta el lienzo y el punto de contacto del rodillo exterior con el lienzo es de 80 mm a 5000 mm, se asperja una solucion qufmica para asperjar desde el aparato de aspersion sobre el lienzo, y se puede hacer que una parte de la solucion qufmica se adhiera al rodillo exterior colocandose en un flujo de aire generado por el desplazamiento del lienzo (en adelante, denominado "un flujo asociado").

Aquf, el lienzo se enrolla en el rodillo exterior de modo que un lado del lienzo, que es el lado que esta en contacto con un papel humedecido, entra en contacto con el rodillo exterior, y asf, cuando el rodillo exterior gufa el lienzo, una solucion qufmica que se adhiere al rodillo exterior se puede transferir al lado del lienzo, siendo el lado el contacto con el papel humedecido.

En el metodo para asperjar una solucion qufmica de acuerdo con la presente invencion, cuando un aparato de eliminacion de suciedad esta dispuesto corriente arriba del aparato aspersor para el lienzo, el aparato aspersor puede asperjar una solucion qufmica despues de que el polvo y los residuos de papel adheridos al lienzo sean eliminados. Con esto, aumenta el efecto preventivo de la suciedad de la solucion qufmica.

Aquf, cuando el aparato de eliminacion de suciedad es un limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante, el polvo y los residuos de papel que se adhieren al lienzo se eliminan en grandes cantidades, y en consecuencia, el efecto preventivo de la suciedad de la solucion qufmica aumenta aun mas.

En el metodo de asperjar una solucion qufmica de acuerdo con la presente invencion, cuando el aparato aspersor es un aparato de boquilla de tipo barrido que asperja una solucion qufmica sobre el lienzo mientras se mueve en una direccion perpendicular a la direccion de desplazamiento del lienzo, la cantidad de la solucion qufmica utilizada puede reducirse, y la solucion qufmica puede aplicarse de manera mas uniforme a la totalidad del lienzo.

En el metodo de asperjar una solucion qufmica de acuerdo con la presente invencion, la distancia de movimiento H del aparato de boquilla durante una rotacion del lienzo y la anchura W de una porcion asperjada en el lienzo por el aparato de boquilla satisfacen la relacion:

0.5 < H/W < 12

de modo que la solucion qufmica se puede aplicar al lienzo sin la formacion de un espacio entre las porciones asperjadas con la solucion qufmica, y se puede formar una pelfcula uniforme en todo el lienzo. Como resultado, tambien puede evitarse la rotura parcial de la pelfcula.

Ademas, cuando la anchura W de una porcion asperjada por el aparato de boquilla es de 30 mm a 150 mm y la distancia de movimiento H del aparato de boquilla es de 15 mm a 1800 mm, se puede asperjar una solucion qufmica en la totalidad del lienzo sin causar desigualdades de aspersion.

La solucion qufmica de acuerdo con la presente invencion puede aplicarse uniformemente sin desigualdades cuando la solucion qufmica tiene una viscosidad de no mas de 500 cps (1 cp = 1 mPa.s).

Breve descripcion de los dibujos

La Figura 1 es una vista esquematica que ilustra una parte seca de una maquina de papel a la que se aplica un metodo para asperjar una solucion qufmica segun la presente realizacion.

La Figura 2(a) es una vista esquematica ampliada que ilustra una parte en la que se instala un aparato aspersor en la parte seca en el metodo para asperjar una solucion qufmica de acuerdo con la presente realizacion, y la Figura 2(b) es una ilustracion de la relacion de posicion del aparato aspersor y el rodillo exterior que se ilustran en la Figura 2(a). La Figura 3 es una vista en perspectiva esquematica que ilustra el aparato aspersor al que se aplica el metodo para asperjar una solucion qufmica segun la presente realizacion.

La Figura 4 es una vista desarrollada que ilustra una rotacion del lienzo con el proposito de describir una porcion asperjada con una solucion qufmica cuando la solucion qufmica se asperja sobre el lienzo mediante el metodo de aspersion de una solucion qufmica de acuerdo con la presente realizacion.

La Figura 5 es una vista esquematica que ilustra la posicion del aparato de boquilla en los Ejemplos.

Descripcion de las realizaciones

En lo sucesivo, se describe en detalle una realizacion preferible de la presente invencion con referenda a los dibujos segun sea necesario. Tengase en cuenta que, en los dibujos, a los mismos componentes se les dan los mismos numeros de referencia y se omiten las descripciones redundantes. Ademas, las relaciones de posicion verticales y horizontales se basan en las relaciones de posicion ilustradas en los dibujos, a menos que se indique lo contrario. Ademas, las relaciones dimensionales no estan limitadas a las relaciones ilustradas en los dibujos.

La Figura 1 es una vista esquematica que ilustra una parte seca de una maquina de papel a la que se aplica un metodo para asperjar una solucion quimica segun la presente realizacion.

Como se ilustra en la Figura 1, una parte D seca de una maquina de papel incluye: una pluralidad de rodillos secadores cilindricos (secador Yankee) que se desplaza mientras se seca con calor un papel X humedecido, a saber, D1, D2, D3, D4, D5, D6 , D7, D8, D9, D10 , D11 y D l2 (en adelante, referidos como "D1 a Dl 2"); los rascadores DK en contacto con los respectivos rodillos D1 a D12 secadores; un lienzo K que se desplaza mientras presiona el papel X humedecido contra las superficies de los rodillos D1 a D12 secadores; un rodillo IR interno y un rodillo OR externo, cada uno de ellos guiando el lienzo K; un aparato 10 aspersor dispuesto corriente arriba del rodillo OR externo y entre el rodillo IR interno y el rodillo OR externo y configurado para asperjar continuamente una solucion quimica en forma de un agente antiensuciamiento en el lienzo K; y un aparato de eliminacion de suciedad dispuesto corriente arriba del lienzo K desde el aparato 10 aspersor. Tengase en cuenta que el lienzo K esta configurado para desplazarse a la misma velocidad a la que se desplaza el papel X humedecido.

En la parte D seca, el lienzo K es guiado por el rodillo IR interno y el rodillo OR externo.

En este momento, el lienzo K esta guiado no solo por el rodillo IR interno, sino tambien por el rodillo OR externo, y esto ofrece la ventaja de que una estructura de maquina para ajustar la tension del lienzo es simple y, por lo tanto, ofrece un facil mantenimiento.

En la parte D seca, el papel X humedecido alimentado se presiona contra las superficies de los rodillos D1 a D12 de secado giratorios con el lienzo K. Esto permite que el papel X humedecido se adhiera a los rodillos D1 a D12 de secado, y al mismo tiempo sea secado al calor.

Tengase en cuenta que, en este momento, si el polvo o los residuos de papel se adhieren al lienzo K, el polvo o los residuos de papel se transfiere desde el lienzo K y se adhiere al papel X humedecido.

En la parte D seca, el rascador DK esta en contacto con los rodillos D1 a D12 de secado. Por lo tanto, cuando los rodillos D1 a D12 de secado giran, el rascador DK raspa el polvo y los residuos de papel adheridos.

El aparato 10 aspersor esta dispuesto entre el rodillo IR interno y el rodillo OR externo (hagase referencia a la Figura 1).

La Figura 2(a) es una vista esquematica ampliada que ilustra una parte en la que el aparato aspersor esta instalado en la parte seca en el metodo para asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion, y la Figura 2(b) es una ilustracion de la relacion de posicion del aparato aspersor y el rodillo exterior ilustrados en la Figura 2(a).

Como se ilustra en la Figura 2(a), un liquido quimico Y se asperja hacia el rodillo exterior a lo largo de la direccion de desplazamiento del lienzo K. Esto permite evitar que la solucion quimica choque con un flujo asociado Z y se agite de ese modo.

Como se ilustra en la Figura 2(b), la distancia L (mm) entre un punto de contacto P1 del lienzo K con una perpendicular desde una punta de boquilla del aparato 10 aspersor hasta el lienzo K y un punto de contacto P2 del rodillo OR externo con el lienzo K esta en un rango de 80 mm a 5000 mm, mas preferiblemente en un rango de 200 mm a 3000 mm, aun mas preferiblemente en un rango de 200 mm a 1500 mm, y aun mas preferiblemente en un rango de 200 mm a 1000 mm.

En este caso, la solucion quimica Y que se asperjara desde el aparato 10 aspersor se puede asperjar sobre el lienzo K, y se puede hacer que una parte de la solucion quimica Y se adhiera al rodillo OR externo colocandose en el flujo asociado Z generado por el recorrido del lienzo K. Luego, dado que el lienzo K se enrolla en el rodillo OR externo, de modo que un lado del lienzo K, el lado que hace contacto con el papel X humedecido, entre en contacto con el rodillo OR externo, cuando el rodillo OR externo guia el lienzo K, la solucion quimica Y que se adhiere al rodillo OR externo se puede transferir al lado del lienzo K, y el lado debe estar en contacto con el papel humedecido. Con esto, puede hacerse la solucion quimica Y asperjada desde el aparato 10 aspersor de manera que se adhiera al lienzo K de manera mas eficiente y mas uniforme.

Tengase en cuenta que, cuando la distancia L es menor de 80 mm, existe un mayor riesgo, en comparacion con el caso de que la distancia L se encuentre dentro del rango mencionado anteriormente, de que la solucion quimica Y colocada en el flujo asociado Z colisione con el exterior el rodillo O, y luego, rebote hacia atras y se adhiera a la boquilla 1 del aparato 10 aspersor, y la solucion quimica Y adherida se solidifique, lo que provoca la obstruccion de la boquilla, lo que provoca la interrupcion de la aspersion. Ademas, incluso si la interrupcion de la aspersion no es causada, existe el riesgo de que una sustancia solidificada de la solucion quimica Y provoque un cambio en la direccion de la aspersion y la irregularidad resultante de la aspersion. Ademas, existe el riesgo de que una sustancia solidificada de la solucion quimica Y que se adhiere a la boquilla 1 caiga sobre el lienzo K y se transfiera al papel humedecido, por lo que el papel se mancha de blanco y se ensucia con grasa.

Mientras tanto, cuando la distancia L supera los 5000 mm, en comparacion con el caso en donde la distancia L esta dentro del rango mencionado anteriormente, a veces, la solucion quimica Y colocada en el flujo asociado Z no alcanza suficientemente el rodillo OR externo.

Como se ilustra en la Figura 2(b), un angulo 0 formado por una direccion de aspersion Y1 del aparato 10 aspersor y una direccion de desplazamiento Y2 del lienzo esta en un rango de 10 grados a 80 grados, mas preferiblemente en un rango de 10 grados a 60 grados, y aun mas preferiblemente en un rango de 10 grados a 45 grados.

Cuando el angulo 0 esta dentro del rango mencionado anteriormente, la solucion quimica Y se puede aplicar de manera eficiente al lienzo K.

Tengase en cuenta que, cuando el angulo 0 formado por la direccion de aspersion Y1 del aparato 10 aspersor y la direccion de desplazamiento Y2 del lienzo es inferior a 10 grados, la solucion quimica Y no se aplica suficientemente al lienzo K, en comparacion con el caso donde el angulo 0 esta dentro del rango mencionado anteriormente.

Mientras tanto, cuando el angulo 0 formado por la direccion de aspersion Y1 del aparato 10 aspersor y la direccion de desplazamiento Y2 del lienzo es mas de 80 grados, en comparacion con el caso en donde el angulo 0 se encuentra dentro del rango mencionado anteriormente, existe el riesgo de que la solucion quimica Y se agite por el flujo asociado Z y se adhiera a la boquilla 1 del aparato 10 aspersor, y la solucion quimica adherente Y se solidifique, con lo que la boquilla se obstruye, lo que provoca la interrupcion de la aspersion. Ademas, incluso si la interrupcion de la aspersion no es causada, existe el riesgo de que una sustancia solidificada de la solucion quimica Y provoque un cambio en la direccion de la aspersion y la irregularidad resultante de la aspersion. Ademas, existe el riesgo de que una sustancia solidificada de la solucion quimica Y que se adhiere a la boquilla 1 caiga sobre el lienzo K y se transfiera al papel humedecido, por lo que el papel podria verse manchado de blanco y ensuciarse con grasa.

En particular, cuando la distancia L mencionada anteriormente no es menor que 80 mm y menor que 400 mm, el angulo 0 es de 10 grados a 30 grados, mientras tanto, cuando la distancia L no es menor que 400 mm y no mayor a 3000 mm, el angulo 0 es de 30 grados a 60 grados.

La Figura 3 es una vista en perspectiva esquematica que ilustra el aparato aspersor al que se aplica el metodo para asperjar una solucion quimica segun la presente realizacion.

Como se ilustra en la Figura 3, el aparato 10 aspersor comprende un aparato de boquilla configurado para inyectar la solucion quimica Y desde la boquilla 1.

Aqui, el aparato de boquilla inyecta preferiblemente la solucion quimica Y de forma plana en forma de abanico. Con esto, se puede reducir la irregularidad de la aspersion sobre el lienzo K, y la solucion quimica Y se puede aplicar a un area amplia.

El aparato 10 aspersor es un aparato aspersor de tipo de barrido que asperja la solucion quimica Y en el lienzo K mientras se mueve en una direccion Y3 perpendicular a la direccion de desplazamiento Y2 del lienzo, no ilustrada. Por lo tanto, la cantidad de la solucion quimica Y utilizada se puede reducir, y la solucion quimica Y se puede aplicar de manera mas uniforme a la totalidad del lienzo K.

El aparato de eliminacion de suciedad esta dispuesto corriente arriba del aparato 10 aspersor para el lienzo K. Tengase en cuenta que, mientras que el aparato de eliminacion de suciedad esta dispuesto corriente arriba del aparato 10 aspersor, la posicion del aparato de eliminacion de suciedad no se limita a una posicion particular. Con esta configuracion, la solucion quimica puede ser asperjada por el aparato 10 aspersor despues de eliminar el polvo y los residuos de papel que se adhieren al lienzo K, y asi se puede aumentar el efecto preventivo de la suciedad de la solucion quimica Y.

Aqui, los ejemplos del aparato de eliminacion de suciedad incluyen un limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante, un limpiador de tipo cuchilla que elimina la suciedad con el ancho total, y una red de alambre de acero inoxidable.

Entre estos, un limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante es preferible como el aparato de eliminacion de suciedad.

En particular, cuando se usa un limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante con la presion hidraulica ajustada a 80 kg/cm2 hasta 600 kg/cm2, el efecto de eliminacion de la suciedad se puede mejorar aun mas.

Ademas, un limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante se usa mas preferiblemente en combinacion con un limpiador de tipo cuchilla que elimina la suciedad con el ancho total o una red de alambre de acero inoxidable. En este caso, se puede lograr el mayor efecto.

A continuacion, se describe un metodo para asperjar la solucion quimica Y en el lienzo K.

En el metodo para asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion, mientras que el lienzo K utilizado en la parte D seca de una maquina de papel esta desplazandose, la solucion quimica Y se asperja sobre el lienzo K mediante el aparato 10 aspersor.

La Figura 4 es una vista desarrollada que ilustra una rotacion del lienzo con el proposito de describir una porcion asperjada con la solucion quimica cuando la solucion quimica se asperja sobre el lienzo mediante el metodo de aspersion de una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion. Una rotacion del lienzo significa que un punto especifico del lienzo vuelve a una posicion original despues de un ciclo.

Como se menciono anteriormente, durante una rotacion del lienzo, el aparato de boquilla asperja la solucion quimica Y mientras se mueve en una direccion perpendicular a la direction de desplazamiento del lienzo K. Por lo tanto, se deduce que la solucion quimica Y se aplica en forma de paralelogramo como se ilustra en la Figura 4.

En este momento, la distancia de movimiento H del aparato de boquilla durante una rotacion del lienzo K y la anchura W de una porcion asperjada en el lienzo por el aparato 10 aspersor (aparato de boquilla) satisfacen la siguiente relacion.

0.5 < H/W < 20

Cuando la solucion quimica se asperja continuamente, en una region satisfactoria

0.5 < H /W < 1

la solucion quimica Y se puede aplicar al lienzo K sin la formation de un espacio entre las partes asperjadas, y se puede formar una pelicula uniforme en la totalidad del lienzo K, mientras tanto, en una region satisfactoria

1 < H/W <20

un espacio, aunque se forme, se puede hacer lo mas pequeno posible. Aqui, en el lienzo K, el rodillo OR externo que guia el lienzo K hace que la solucion quimica sea uniforme a medida que el lienzo K se desplaza, y ademas, la solucion quimica Y que se adhiere al rodillo Or externo se transfiere al lienzo K, por lo que la brecha se puede llenar. Esto permite que una pelicula uniforme se forme de manera eficiente.

Como resultado, tambien se puede prevenir la rotura parcial de la pelicula, y se puede evitar la adhesion del polvo y los residuos de papel.

Ademas, en el rango antes mencionado, la relation de

1 < H/W <12

se satisface preferentemente, la relacion de

1 < H/W < 9

se satisface mas preferiblemente, y la relacion de

1 < H/W < 7

aun mas preferiblemente se satisface. Con esto, la solucion quimica se puede aplicar de manera mas eficiente, se puede formar una pelicula mas uniforme y se puede prevenir la aparicion de rotura parcial de la pelicula.

La anchura W de una parte asperjada por el aparato 10 aspersor (aparato de boquilla) esta preferiblemente en un intervalo de 30 mm a 150 mm.

Cuando el ancho W de la porcion asperjada es menor a 30 mm, hay la desventaja de que el tiempo transcurrido antes de que la boquilla se desplace y regrese y la aspersion nuevamente sea mas larga, en comparacion con el caso en donde el ancho W de la porcion asperjada esta dentro del rango antes mencionado. Mientras tanto, cuando el ancho W de la porcion asperjada excede los 150 mm, existe la desventaja de que los extremos del asperjado, que tienen menos impacto, se dispersan, por lo que la eficiencia de adhesion a un objetivo se reduce, en comparacion con el caso donde el ancho W de la porcion asperjada esta dentro del intervalo mencionado anteriormente.

La distancia de movimiento H del aparato de boquilla esta preferiblemente en un rango de 15 mm a 1800 mm, y mas preferiblemente en un rango de 15 mm a 1350 mm.

Cuando la distancia de movimiento H es inferior a 15 mm, hay la desventaja de que el tiempo transcurrido antes de que la boquilla se desplace y regrese y la aspersion sea mas larga, en comparacion con el caso en donde la distancia de movimiento H esta dentro del rango mencionado anteriormente. Mientras tanto, cuando la distancia de movimiento H supera los 1800 mm, hay la desventaja de que los extremos de ancho del asperjado, que tienen menos impacto, se dispersan, por lo que se reduce la eficiencia de adhesion a un objetivo, en comparacion con el caso donde la distancia de movimiento H esta dentro del rango antes mencionado.

Aqui, el ancho total A del lienzo K esta preferiblemente en un rango de 3000 mm a 9000 mm. Tengase en cuenta que el ancho total A del lienzo K significa el ancho total del lienzo K en una direccion perpendicular a la direccion de desplazamiento del lienzo K.

Un ancho total A de menos de 3000 mm no causa particularmente un problema, pero hay la desventaja de que, en comparacion con el caso en donde el ancho general A se encuentra dentro del rango mencionado anteriormente, la cantidad de aplicacion al lienzo es ligeramente mas excesivo, por lo que se requiere el ajuste de la cantidad de aspersion. Cuando el ancho total A supera los 9000 mm, hay las desventajas de que, en comparacion con el caso en donde el ancho general A esta dentro del rango mencionado anteriormente, el tiempo transcurrido antes de que la boquilla entre y salga y vuelva a asperjar es mas largo, y la rotura de la pelicula se produce con mayor facilidad.

La longitud total B del lienzo K esta preferiblemente en un rango de 25000 mm a 90000 mm. Tengase en cuenta que la longitud total B del lienzo K significa la longitud total del lienzo K en la direccion de desplazamiento del lienzo K.

Cuando la longitud total B es inferior a 25000 mm, hay la desventaja de que, en comparacion con el caso en que la longitud total B este dentro del rango mencionado anteriormente, la cantidad de aplicacion al lienzo es ligeramente mas excesiva, por lo que se requiere el ajuste de la cantidad de aspersion. Mientras tanto, cuando la longitud total B supera los 90000 mm, hay las desventajas de que, en comparacion con el caso en donde la longitud total B se encuentre dentro del rango mencionado anteriormente, el tiempo transcurrido antes de que la boquilla entre y salga y vuelva a asperjar es mas largo, y la rotura de la pelicula se produce con mayor facilidad.

Ademas, el tiempo requerido para una rotacion del lienzo K esta preferiblemente en un rango de 1 segundo a 20 segundos.

Cuando el tiempo es inferior a 1 segundo, existe la desventaja de que, en comparacion con el caso en donde el tiempo se encuentra dentro del rango mencionado anteriormente, la humedad en el producto quimico no se volatiliza y, por lo tanto, no se logran efectos suficientes. Cuando el tiempo supera los 20 segundos, hay la desventaja de que, en comparacion con el caso en donde el tiempo se encuentra dentro del rango mencionado anteriormente, el tiempo que un papel humedecido esta en contacto con el rodillo de secado D1 es mas largo y, por consiguiente, se absorbe una pelicula y la rotura de la pelicula se produce con mayor facilidad.

En el metodo de asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion, la solucion quimica es preferiblemente soluble en agua y preferiblemente forma una pelicula cuando se asperja sobre el lienzo K. En este caso, la rotura parcial de la pelicula puede evitarse con seguridad, y por lo tanto, la solucion quimica puede tener efecto suficientemente y con seguridad.

En este momento, la cantidad de la solucion quimica asperjada esta preferiblemente en un rango de 0.1 gg/m2 a 400 gg/m2 en terminos de contenido de solidos.

Cuando la cantidad asperjada es menor que 0.1 gg/m2, en comparacion con el caso donde la cantidad asperjada esta dentro del rango mencionado anteriormente, la solucion quimica no se adhiere suficientemente a la superficie del lienzo K. Mientras tanto, cuando la cantidad asperjada excede 400 gg/m2, en comparacion con el caso en donde la cantidad asperjada se encuentra dentro del rango mencionado anteriormente, existe el riesgo de que se absorba un excedente en el papel X humedecido.

De acuerdo con el metodo para asperjar una solucion quimica de la presente realizacion, la solucion quimica se puede aplicar de manera eficiente a un lienzo movil, y la adhesion del polvo de papel y a los residuos al lienzo se puede evitar suficientemente.

La solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion se usa para el metodo mencionado anteriormente para asperjar una solucion quimica.

Los ejemplos de un componente principal de la solucion quimica incluyen un polimero soluble en agua, una emulsion de silicona y cera.

La viscosidad de la solucion quimica esta preferiblemente en un rango de no mas de 500 cps a temperatura ambiente (25°C), y mas preferiblemente en un rango de 1 cps a 200 cps.

Cuando la viscosidad supera los 500 cps, en comparacion con el caso en donde la viscosidad este dentro del rango mencionado anteriormente, existe el riesgo de que la solucion quimica dispersada se adhiera a la abertura de una boquilla o una rendija de una boquilla de aspersion.

Ademas, la solucion quimica no sale por chorro de una boquilla, o la boquilla de aspersion no puede funcionar suficientemente, y por lo tanto, la solucion quimica no puede aplicarse suficientemente a un cuerpo movil, y ademas, la dispersion de la solucion quimica tiende a ser provocada facilmente.

La proporcion de un componente residual (un componente que se convierte en una sustancia solidificada) contenida en la solucion quimica es preferiblemente de no mas del 50% en masa, y mas preferiblemente en un rango de 0.1% en masa a 50% en masa.

En este caso, se puede evitar que la solucion quimica dispersada se adhiera a la abertura de la boquilla de una boquilla de descarga o una ranura de la boquilla de aspersion, y la abertura de la boquilla o la ranura se obstruya con el componente residual contenido en la solucion quimica.

La realizacion preferida de la presente invencion se ha descrito anteriormente, pero la invencion no se limita a la realizacion descrita anteriormente.

Por ejemplo, en el metodo para asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion, se instalan doce rodillos D1 a D12 de secado en la parte D seca, pero el numero de rodillos de secado no esta particularmente limitado. En el metodo de asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion, el aparato de boquilla inyecta la solucion quimica Y de forma plana en forma de abanico, pero la manera no se limita a esto.

En el metodo de asperjar una solucion quimica de acuerdo con la presente realizacion, la solucion quimica Y se asperja mediante un unico aparato de boquilla, pero puede asperjarse mediante una pluralidad de aparatos de boquilla. En el metodo de asperjar una solucion quimica segun la presente realizacion, el aparato 10 aspersor es un aparato de boquilla de tipo de barrido, pero puede ser una ducha fija. En este caso, la solucion quimica Y se inyecta de una vez para asperjarla sobre el lienzo K.

<Ejemplos>

De aqui en adelante, la presente invencion se describira con mas detalle en base a los Ejemplos, pero la presente invencion no se limita a los Ejemplos.

<Ejemplos 1,2 y Ejemplos Comparativos 1 a 3>

Una maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 5.75 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 850 m/min; los aparatos 10 de boquilla se dispusieron en las posiciones de aspersion P1 a P5 ilustradas en la Figura 5 para el lienzo K (longitud del lienzo: 35 m); y se asperjo a 7 cc/min un agente antiensuciamiento (limpiador PBS6015, concentracion del 10%, 2 cps de viscosidad (25°C)). Tengase en cuenta que un limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante se coloco en una posicion Q1 corriente arriba de los aparatos 10 de boquilla. Ademas, la presion de agua del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante fue de 250 kg/cm2. Ademas, el angulo 0 formado por la direccion de aspersion del aparato 10 de boquilla y la direccion de desplazamiento del lienzo K fue de 45° (hagase referencia a la Figura 2(b)).

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 1 y 2 y en los Ejemplos Comparativos 1 a 3 de tal manera que la suciedad en las superficies del lienzo K y el rodillo OR externo (400 mm de diametro) se fotografiaron en puntos fijos despues de un lapso de 10 dias, y el porcentaje de residuos se calculo mediante analisis de imagenes.

La tabla 1 muestra los resultados asi obtenidos.

(Tabla 1)

E je m p lo P o s ic io n d e in s ta la c io n P o rc e n ta je d e s u c ie d a d d e l lie n zo P o rc e n ta je d e s u c ie d a d d e l ro d illo e x te rio r.

E je m p lo 1 P 3 2 % 0 %

E je m p lo 2 P 4 1% 0 %

E je m p lo C o m p a ra tiv o 1 P1 60 % 73 %

E je m p lo C o m p a ra tiv o 2 P 2 65 % 70 %

E je m p lo C o m p a ra tiv o 3 P 3 72 % 80 %

Los resultados mostrados en la Tabla 1 revelaron que, cuando los aparatos 10 de boquilla estaban dispuestos corriente arriba del rodillo OR externo y entre el rodillo IR interno y el rodillo OR externo, el lienzo y el rodillo exterior estaban considerablemente menos sucios.

<Ejemplos 3 a 8>

La maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 4.75 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 680 m/min; el aparato 10 de boquilla se dispuso en la posicion P4 de aspersion ilustrada en la Figura 5 para el lienzo K (longitud del lienzo: 35 m); y se asperjo a 7 cc/min un agente antiensuciamiento (limpiador PBS8184, 10% de concentracion, 1 cps de viscosidad (25°C)). En este momento, se coloco un limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante en la posicion Q1 corriente arriba de la boquilla del aparato 10 o en una posicion Q2 aguas abajo del aparato 10 de la boquilla, como se ilustra en la Tabla 2. De manera similar, las evaluaciones se realizaron utilizando un tipo de cuchilla limpiadora o una malla de acero inoxidable en lugar del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante, como se ilustra en la Tabla 2. Tengase en cuenta que la presion del agua del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante fue de 290 kg/cm2.

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 1,3 a 8 de tal manera que la suciedad en las superficies del lienzo K y el rodillo OR externo (400 mm de diametro) se fotografio en puntos fijos despues de un lapso de 10 dias, y el porcentaje de residuos se calculo mediante analisis de imagenes.

La tabla 2 muestra los resultados obtenidos.

(Tabla 2)

A p a ra to p a ra re tira r la s u c ie d a d . P o s ic io n de P o rc e n ta je d e s u c ie d a d P o rc e n ta je d e s u c ie d a d de l in s ta la c io n e n lie n zo ro d illo e x te rio r.

E je m p lo L im p ia d o r d e a g u a a a lta p re s io n Q1 2 % 0 %

1 tip o d e s liz a n te

E je m p lo L im p ia d o r d e a g u a a a lta p re s io n Q 2 5 % 10 %

3 tip o d e s liz a n te

E je m p lo M a lla d e a la m b re d e a c e ro Q1 20 % 5 %

4 in o x id a b le

E je m p lo M a lla d e a la m b re d e a c e ro Q 2 45 % 25 %

5 in o x id a b le

E je m p lo L im p ia d o r t ip o c u c h il la Q1 13 % 3 %

6

E je m p lo L im p ia d o r t ip o c u c h il la Q 2 11 % 18 %

7

E je m p lo N in g u n o 55 % 65 %

8

Los resultados mostrados en la Tabla 2 revelaron que, cuando se instalo y se uso el limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante que servia como un aparato de eliminacion de suciedad corriente arriba del aparato de la boquilla, el porcentaje de suciedad del lienzo y el porcentaje de suciedad del rodillo exterior fueron considerablemente mas bajos.

Ademas, aunque no se muestra, cuando se uso el limpiador de agua a presion del tipo deslizante en combinacion con el limpiador de tipo cuchilla o la malla de alambre de acero inoxidable, el porcentaje de suciedad del lienzo y el porcentaje de suciedad del rodillo exterior fueron menores.

<Ejemplos 9 a 30>

La maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 4.7 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 790 m/min; el aparato 10 de boquilla se dispuso en la posicion P4 de aspersion ilustrada en la Figura 5 para el lienzo K (longitud del lienzo: 35 m); la distancia L (hagase referencia a la Figura 2(b)) entre el punto de contacto del lienzo K con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato 10 de boquilla hasta el lienzo K y el punto de contacto del rodillo OR externo con la el lienzo K se ajusto a los valores mostrados en la Tabla 3; y se asperjo a 7 cc/min un agente antiensuciamiento (limpiador PBS2154, concentracion del 10%, 2 cps de viscosidad (25°C)). Tengase en cuenta que el limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante se coloco en la posicion Q1 corriente arriba del aparato 10 de boquilla. La presion de agua del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante fue de 290 kg/cm2. Ademas, el angulo 0 formado por la direccion de aspersion del aparato 10 de boquilla y la direccion de desplazamiento del lienzo K fue de 45° (hagase referencia a la Figura 2(b)).

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 9 a 30 de tal manera que la suciedad en las superficies del lienzo K y el rodillo OR externo (350 mm de diametro) se fotografiaron en puntos fijos despues de un lapso de 10 dias, y el porcentaje de residuos fue calculado mediante analisis de imagenes.

Ademas, el porcentaje de obstruccion de la boquilla despues del lapso de 10 dias se calculo mediante fotografia y analisis de imagenes.

Ademas, se examino el papel humedecido en busca de un defecto causado por la caida, en el lienzo K, de una sustancia solidificada de la solucion quimica Y que se adhiere a la boquilla 1.

La tabla 3 muestra los resultados obtenidos.

(Tabla 3)

Distancia L Porcentaje de Porcentaje de Porcentaje de Defecto de papel humedecido (mm) suciedad del lienzo suciedad del rodillo obstruccion de la

exterior. boquilla

Ejemplo 40 15% 0% 80% Aparicion del defecto 9 despues de un lapso de 6 dias

Ejemplo 60 11% 0% 60% Aparicion del defecto 10 despues de un lapso de 7 dias

Ejemplo 80 6% 0% 19% Ninguno

11

Ejemplo 100 5% 0% 17% Ninguno

12

Ejemplo 150 4% 0% 15% Ninguno

13

Ejemplo 200 0% 0% 0% Ninguno

14

Ejemplo 250 0% 0% 0% Ninguno

15

Ejemplo 300 0% 0% 0% Ninguno

16

D is ta n c ia L P o rc e n ta je de P o rc e n ta je d e P o rc e n ta je d e D e fe c to d e p a p e l h u m e d e c id o (m m ) s u c ie d a d d e l lie n z o s u c ie d a d d e l ro d illo o b s tru c c io n d e la

e x te rio r. b o q u illa

Ejemplo 350 0% 0% 0% Ninguno

17

Ejemplo 400 0% 0% 0% Ninguno

18

Ejemplo 500 0% 0% 0% Ninguno

19

Ejemplo 700 0% 0% 0% Ninguno

20

Ejemplo 900 0% 0% 0% Ninguno

21

Ejemplo 1000 0% 0% 0% Ninguno

22

Ejemplo 1500 1% 1% 0% Ninguno

23

Ejemplo 2000 2% 2% 0% Ninguno

24

Ejemplo 3000 2% 2% 0% Ninguno

25

Ejemplo 4000 7% 7% 0% Ninguno

26

Ejemplo 4500 7% 10% 0% Ninguno

27

Ejemplo 5000 7% 15% 0% Ninguno

28

Ejemplo 6000 8% 30% 0% Ninguno

29

Ejemplo 6500 8% 46% 0% Ninguno

30

Los resultados mostrados en la Tabla 3 revelaron que, cuando la distancia L entre el punto de contacto del lienzo K con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato 10 de boquilla a la tela K y el punto de contacto del rodillo OR externo con el lienzo K se ajusto a no menos de 80 mm, el porcentaje de suciedad del lienzo fue considerablemente menor y la cantidad de sustancia solidificada adherida a la punta de la boquilla fue considerablemente menor.

Ademas, se revelo que, cuando la distancia L entre el punto de contacto del lienzo K con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato 10 de boquilla al lienzo K y el punto de contacto del rodillo OR externo con el lienzo K se ajusto a no menos de 200 mm, el porcentaje de suciedad del lienzo era aun mas bajo y la sustancia solidificada no se adhirio a la punta de la boquilla.

Ademas, se revelo que, cuando la distancia L no era mas de 5000 mm, el porcentaje de suciedad del rodillo exterior era considerablemente menor.

<Ejemplos 31 a 39>

La maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 4.75 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 680 m/min; el aparato 10 de boquilla se dispuso en la posicion P4 de aspersion ilustrada en la Figura 5 para el lienzo K (longitud del lienzo: 35 m); y la distancia L (hagase referencia a la Figura 2(b)) entre el punto de contacto del lienzo K con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato 10 de boquilla hasta el lienzo K y el punto de contacto del rodillo OR externo con el lienzo K se fijo en 400 mm. Ademas, el angulo 0 (hagase referencia a la Figura 2(b)) que se forma por la direccion de aspersion del aparato 10 de boquilla y la direccion de desplazamiento del lienzo K se ajusto a los valores que se muestran en la Tabla 4, y un agente antisuciedad (Limpiador PBS8184, 10% de concentracion, 1 cps de viscosidad (25°C)) se asperjo a 7 cc/min. Tengase en cuenta que el limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante se coloco en la posicion Q1 corriente arriba del aparato 10 de boquilla. La presion de agua del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante fue de 290 kg/cm2.

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 31 a 39 de tal manera que la suciedad en las superficies del lienzo K y el rodillo OR externo (380 mm de diametro) se fotografiaron en puntos fijos despues de un lapso de 20 dias, y el porcentaje de residuos se calculo mediante analisis de imagenes.

Ademas, el porcentaje de obstruccion de la boquilla despues del lapso de 20 dias se calculo mediante fotografia y analisis de imagenes.

Ademas, se examino el papel humedecido en busca de un defecto causado por la caida, en el lienzo K, de una sustancia solidificada de la solucion quimica Y que se adhiere a la boquilla 1.

La tabla 4 muestra los resultados obtenidos.

(Tabla 4)

A n g u lo P o rc e n ta je de P o rc e n ta je d e s u c ie d a d P o rc e n ta je de D e fe c to d e p a p e l h u m e d e c id o 0 s u c ie d a d d e lie n zo . d e l ro d illo e x te rio r. o b s tru c c io n d e la

b o q u illa

E je m p lo 5 52 % 0 % 0 % N in g u n o

31

E je m p lo 8 38 % 0 % 0 % N in g u n o

32

E je m p lo 10 4 % 0 % 0 % N in g u n o

33

E je m p lo 30 1% 0 % 0 % N in g u n o

34

E je m p lo 45 0 % 0 % 0 % N in g u n o

35

E je m p lo 60 2 % 3 % 3 % N in g u n o

36

E je m p lo 80 4 % 7 % 5 % N in g u n o

37

E je m p lo 90 10 % 18 % 50 % A p a r ic io n de l d e fe c to d e s p u e s 38 d e un la p s o d e 14 d ia s

E je m p lo 100 15% 24 % 55 % A p a r ic io n de l d e fe c to d e s p u e s 39 d e un la p s o d e 14 d ia s Los resultados mostrados en la Tabla 4 revelaron que, cuando el angulo 0 se formaba por la direccion de aspersion del aparato 10 de boquilla y la direccion de desplazamiento del lienzo K no era inferior a 10 grados, el porcentaje de suciedad del lienzo era considerablemente menor.

Ademas, se revelo que, cuando el angulo 0 no era mas de 80 grados, el porcentaje de suciedad del rodillo exterior era considerablemente menor y la cantidad de sustancia solidificada que se adheria a la punta de la boquilla era considerablemente menor.

<Ejemplos 40 a 53>

La maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 5.0 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 680 m/min; el aparato 10 de boquilla se dispuso en la posicion P4 de aspersion ilustrada en la Figura 5 para el lienzo K (longitud del lienzo: 40 m); y se asperjo a 5 cc /min un agente antiensuciamiento (Limpiador PBS3184, 10% de concentracion, 2 cps de viscosidad (25°C)). Tengase en cuenta que el limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante se coloco en la posicion Q1 corriente arriba del aparato 10 de boquilla. La presion de agua del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante fue de 290 kg/cm2. Ademas, la distancia de movimiento H del aparato 10 de boquilla durante una rotacion del lienzo K y la anchura W de una porcion asperjada en el lienzo K por el aparato 10 de boquilla se ajustaron a los valores mostrados en la Tabla 5. La tabla 5 muestra los resultados obtenidos.

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 40 a 53 de tal manera que la suciedad en la superficie del lienzo K se fotografio en un punto fijo despues de un lapso de 5 dias, y el porcentaje de residuos se calculo mediante analisis de imagenes.

(Tabla 5)

D is ta n c ia d e m o v im ie n to H A n c h u ra d e la p o rc io n a s p e r ja d a W H /W P o rc e n ta je d e s u c ie d a d d e (m m ) (m m ) lie n zo .

E je m p lo 60 150 0.4 45 %

40

E je m p lo 75 150 0.5 12 %

41

E je m p lo 90 150 0.6 10 %

42

E je m p lo 120 150 0.8 7 %

43

E je m p lo 150 150 1.0 0 %

44

E je m p lo 300 150 2.0 1%

45

E je m p lo 450 150 3.0 1%

46

E je m p lo 750 150 5.0 1%

47

E je m p lo 1050 150 7.0 1%

48

D is ta n c ia d e m o v im ie n to H A n c h u ra d e la p o rc io n a s p e r ja d a W H /W P o rc e n ta je d e s u c ie d a d d e (m m ) (m m ) lie n zo .

E je m p lo 1350 150 9.0 2 %

49

E je m p lo 1650 150 11.0 5 %

50

E je m p lo 1800 150 12.0 8 %

51

E je m p lo 1950 150 13.0 15 %

52

E je m p lo 2100 150 14.0 19 %

53

Los resultados mostrados en la Tabla 5 revelaron que, cuando H/W estaba en un rango de 0.5 a 12, el lienzo estaba menos sucio, y ademas, cuando H/W estaba en un rango de 1.0 a 9.0, el lienzo estaba aun menos sucio.

<Ejemplos 54 a 98>

La maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 5.75 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 850 m/min; el aparato 10 de boquilla se dispuso en la posicion P4 de aspersion ilustrada en la Figura 5 para el lienzo K (longitud del lienzo: 35 m); y la distancia L (hagase referencia a la Figura 2(b)) entre el punto de contacto del lienzo K con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato 10 de boquilla hasta el lienzo K y el punto de contacto del rodillo OR externo con el lienzo K se ajusto a los valores mostrados en la Tabla 6 ; el angulo 0 (hagase referencia a la Figura 2(b)) que se forma por la direccion de aspersion del aparato 10 de boquilla y la direccion de desplazamiento del lienzo K se ajusto a los valores mostrados en la Tabla 6 ; y se asperjo a 4 cc/min un agente antiensuciamiento (Limpiador PBS2020, concentracion del 10%, 2 cps de viscosidad (25°C)). Tengase en cuenta que el limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante se coloco en la posicion Q1 corriente arriba del aparato 10 de boquilla. La presion de agua del limpiador de agua de alta presion de tipo deslizante fue de 290 kg/cm2.

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 54 a 98 de tal manera que la suciedad en las superficies del lienzo K y el rodillo OR externo (380 mm de diametro) se fotografiaron en puntos fijos despues de un lapso de 10 dias, y el porcentaje de residuos se calculo mediante analisis de imagenes.

Ademas, el porcentaje de obstruccion de la boquilla causada por la adhesion de una sustancia solidificada originada en el agente antiensuciamiento a la punta de la boquilla despues del lapso de 10 dias se examino mediante fotografia y analisis de imagenes.

La tabla 6 muestra los resultados obtenidos.

(Tabla 6)

D is ta n c ia L A n g u lo P o rc e n ta je d e s u c ie d a d P o rc e n ta je d e s u c ie d a d de l P o rc e n ta je d e o b s tru c c io n d e (m m ) 0 d e lie n zo . ro d illo e x te rio r. la b o q u illa E je m p lo 80 10 7 % 0 % 5 %

54

E je m p lo 80 30 7 % 0 % 6 %

55

E je m p lo 80 45 11 % 0 % 15 %

56

D is ta n c ia L A n g u lo P o rc e n ta je d e s u c ie d a d P o rc e n ta je d e s u c ie d a d de l P o rc e n ta je d e o b s tru c c io n d e (m m ) 0 d e lie n zo . ro d illo e x te rio r. la b o q u illa

E je m p lo 80 60 13 % 1% 26 %

57

E je m p lo 80 80 16 % 2 % 34 %

58

E je m p lo 200 10 0 % 0 % 0 %

59

E je m p lo 200 30 0 % 0 % 0 %

60

E je m p lo 200 45 0 % 1% 2 %

61

E je m p lo 200 60 0 % 1% 2 %

62

E je m p lo 200 80 0 % 2 % 5 %

63

E je m p lo 300 10 0 % 0 % 0 %

64

E je m p lo 300 30 0 % 0 % 0 %

65

E je m p lo 300 45 0 % 1% 2 %

66

E je m p lo 300 60 0 % 1% 2 %

67

E je m p lo 300 80 0 % 2 % 5 %

68

E je m p lo 400 10 1% 0 % 0 %

69

E je m p lo 400 30 0 % 0 % 0 %

70

E je m p lo 400 45 0 % 0 % 2 %

71

E je m p lo 400 60 0 % 0 % 2 %

72

E je m p lo 400 80 0 % 1% 5 %

73

E je m p lo 500 10 1% 0 % 0 %

74

D is ta n c ia L A n g u lo P o rc e n ta je d e s u c ie d a d P o rc e n ta je d e s u c ie d a d de l P o rc e n ta je d e o b s tru c c io n d e (m m ) 0 d e lie n zo . ro d illo e x te rio r. la b o q u illa

E je m p lo 500 30 0 % 0 % 0 %

75

E je m p lo 500 45 0 % 0 % 2 %

76

E je m p lo 500 60 0 % 0 % 2 %

77

E je m p lo 500 80 0 % 1% 5 %

78

E je m p lo 1000 10 1% 0 % 0 %

79

E je m p lo 1000 30 0 % 0 % 0 %

80

E je m p lo 1000 45 0 % 0 % 2 %

81

E je m p lo 1000 60 0 % 0 % 2 %

82

E je m p lo 1000 80 0 % 1% 5 %

83

E je m p lo 84 1500 10 4 % % 1 0 %

E je m p lo 1500 30 2 % 1% 0 %

85

E je m p lo 1500 45 1% 2 % 2 %

86

E je m p lo 1500 60 1% 2 % 2 %

87

E je m p lo 1500 80 0 % 4 % 5 %

88

E je m p lo 3000 10 8 % 3 % 0 %

89

E je m p lo 3000 30 4 % 2 % 0 %

90

E je m p lo 3000 45 2 % 4 % 2 %

91

E je m p lo 3000 60 2 % 4 % 2 %

92

E je m p lo 3000 80 0 % 8 % 5 %

93

D is ta n c ia L A n g u lo P o rc e n ta je d e s u c ie d a d P o rc e n ta je d e s u c ie d a d de l P o rc e n ta je d e o b s tru c c io n d e (m m ) 0 d e lie n zo . ro d illo e x te rio r. la b o q u illa E je m p lo 5000 10 15 % 10 % 0 %

94

E je m p lo 5000 30 7 % 8 % 0 %

95

E je m p lo 5000 45 5 % 10 % 2 %

96

E je m p lo 5000 60 5 % 10 % 2 %

97

E je m p lo 5000 80 3 % 20 % 5 %

98

Los resultados mostrados en la Tabla 6 revelaron que, en el caso de que la distancia L fuera de 80 < L <400, cuando el angulo se configuro en 10 < 0 < 30, o en el caso de que la distancia L fuera de 400 < L < 5000 , cuando el angulo 0 se ajusto a 30 < 0< 60, el lienzo estaba considerablemente menos sucio y el porcentaje de obstruccion de la boquilla era considerablemente menor.

<Ejemplos 99 a 108>

La maquina de papel ilustrada en la Figura 5 se opero de tal manera que un papel humedecido con una anchura de papel de 4.8 m se movio a una velocidad de produccion de papel de 700 m/min; el aparato 10 de boquilla se dispuso en la posicion P4 de aspersion ilustrada en la Figura 5 para el lienzo K; y la distancia L (hagase referencia a la Figura 2(b)) entre el punto de contacto del lienzo K con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato 10 de boquilla hasta el lienzo K y el punto de contacto del rodillo OR externo con el lienzo K se fijo en 400 mm. Ademas, el angulo 0 formado por la direccion de aspersion del aparato 10 de boquilla y la direccion de desplazamiento del lienzo K se ajusto a 45°, y, en las condiciones que se muestran en la Tabla 7, un producto de emulsion de silicona (X-52-8247B ( fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), se asperjo una concentracion del 50%, una viscosidad de 730 cps (25 °C)), de modo que la porcion asperjada tenia un ancho de 150 mm y H/W = 1.

[Metodo de evaluacion]

Las evaluaciones comparativas se realizaron en los Ejemplos 99 a 108 de tal manera que una maquina de papel fue operada continuamente durante 5 dias, luego la suciedad acumulada en la superficie del lienzo K se fotografio en un punto fijo, y el porcentaje de suciedad (residuos) en 10 cm2 del lienzo se calculo mediante analisis de imagenes. Ademas, el porcentaje de obstruccion de la boquilla despues del lapso de 5 dias se calculo mediante fotografia y analisis de imagenes. La tabla 7 muestra los resultados obtenidos.

(Tabla 7)

V is c o s id a d (c p s ) a M a g n if ic a c io n p o r C o m p o n e n te C a n tid a d P o rc e n ta je de P o rc e n ta je d e te m p e ra tu ra d ilu c io n (d o s re s id u a l (% en a s p e rja d a o b s tru c c io n d e la s u c ie d a d d e a m b ie n te (25 °C ) v e c e s ) p e s o ) (c c /m in ) b o q u illa (% ) lie n z o (% ) E je m p lo 730 1.00 50.0 1.00 70 55 99

E je m p lo 700 1.01 49.5 1.01 65 43 100

E je m p lo 600 1.03 48.5 1.03 60 5 102

E je m p lo 500 1.06 47.2 1.06 20 3 103

V is c o s id a d (c p s ) a M a g n if ic a c io n p o r C o m p o n e n te C a n tid a d P o rc e n ta je de P o rc e n ta je de te m p e ra tu ra d ilu c io n (d o s re s id u a l (% en a s p e rja d a o b s tru c c io n d e la s u c ie d a d d e a m b ie n te (25 °C ) v e c e s ) p e s o ) (c c /m in ) b o q u illa (% ) lie n z o (% )

E je m p lo 300 1.16 43.1 1.16 15 2 104

E je m p lo 200 1.24 40.3 1.24 5 0 105

E je m p lo 100 1.43 35.0 1.43 5 0 106

E je m p lo 50 1.69 29.6 1.69 5 0 107

E je m p lo 3 6.00 8.3 6.00 0 0 108

Los resultados mostrados en la Tabla 7 revelaron que, cuando la viscosidad de la solucion quimica no era mas de 500 cps a temperatura ambiente (25°C), el porcentaje de obstruccion de la boquilla causada por el producto quimico dispersado era considerablemente menor, y el lienzo K fue considerablemente menos sucio.

Aplicabilidad Industrial

El metodo para asperjar una solucion quimica segun la presente invencion se uso adecuadamente como metodo de aspersion empleado para asperjar de forma continua una solucion quimica sobre un lienzo K en una parte seca de una maquina de papel. De acuerdo con la presente invencion, una solucion quimica se puede aplicar de manera eficiente a un lienzo movil, y la adhesion del polvo de papel y de los residuos al lienzo se puede evitar suficientemente. Lista de Signos de Referencia

1 ... boquilla,

10 ... aparatos de aspersion,

A ... anchura total del lienzo,

B ... longitud total del lienzo,

D ... parte seca,

DK ... rascador,

D1, D2, D3, D4, D5, D6 , D7, D8 , D9, D10, D11, D12 ... rodillo de secado,

H ... distancia de movimiento,

IR ... rodillo interno,

K ... lienzo,

L ... distancia,

O ... rodillo externo,

R ... diametro,

W ... anchura de la porcion asperjada,

X ... papel humedecido,

Y ... solucion quimica,

Y1 ... direccion de aspersion,

Y2 ... direccion de desplazamiento,

Y3 ... direccion perpendicular a la direccion de desplazamiento, y Z ... flujo asociado.

Claims (6)

REIVINDICACIONES

1. Un metodo para asperjar una solucion (Y) quimica de forma continua sobre un lienzo (K) en bucle utilizado en una parte (D) seca de una maquina de papel por un aparato (10) aspersor mientras se realiza el desplazamiento del lienzo (K), siendo la solucion (Y) quimica un agente antiensuciamiento,

en donde el lienzo (K) se guia a un rodillo (IR) interno dispuesto dentro del bucle del lienzo (K) y un rodillo (OR) externo dispuesto fuera del bucle del lienzo (K),

en donde el aparato (10) aspersor esta dispuesto corriente arriba del rodillo (OR) externo y entre el rodillo (IR) interno y el rodillo externo (OR), y la solucion (Y) quimica se asperja hacia el rodillo (OR) externo a lo largo una direccion (Y2) de desplazamiento del lienzo (K), caracterizado porque una distancia L entre un punto de contacto del lienzo (K) con una perpendicular desde la punta de la boquilla del aparato (10) aspersor al lienzo (K) y un punto en donde el lienzo (K) comienza a tocar el rodillo (OR) externo es 80 mm < L < 5000 mm, y

porque, en el caso donde la distancia L sea de 80 mm < L <400 mm, un angulo 0 formado por una direccion de aspersion (Y1) del aparato (10) aspersor y una direccion (Y2) de desplazamiento del lienzo (K) es 10° < 0 < 30°, y en el caso donde la distancia L sea de 400 mm < L < 5000 mm, el angulo 0 formado por la direccion de aspersion (Y1) del aparato (10) aspersor y la direccion (Y2) de desplazamiento del lienzo (K) es de 30° < 0 < 60°.

2. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 1,

en donde un aparato de eliminacion de suciedad esta dispuesto corriente arriba del aparato (10) aspersor para el lienzo (K).

3. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 2,

en donde el aparato de eliminacion de suciedad es un limpiador de agua a alta presion de tipo deslizante que tiene una presion hidraulica de 80 kg/cm2 a 600 kg/cm2.

4. El metodo de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en donde el aparato (10) aspersor es un aparato de boquilla de de tipo barrido que asperja la solucion (Y) quimica en el lienzo (K) mientras se mueve en una direccion perpendicular a la direccion de desplazamiento (Y3) del lienzo (K).

5. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 4, en donde una distancia movil H del aparato de boquilla durante una rotacion del lienzo (K) y una anchura W de una porcion asperjada sobre el lienzo (K) por el aparato de boquilla satisfacen la siguiente relacion: 0.5 < H/W < 12 en donde la distancia de movimiento H del aparato de la boquilla es de 15 mm a 1800 mm, en donde la anchura W de la porcion asperjada por el aparato de boquilla es de 30 mm a 150 mm,

en donde un ancho total del lienzo (K) en una direccion perpendicular a la direccion (Y2) de desplazamiento del lienzo (K) esta en un rango de 3000 mm a 9000 mm, y

en donde una longitud total del lienzo (K) en la direccion (Y2) de desplazamiento del lienzo (K) esta en un rango de 25000 mm a 90000 mm.

6. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 5, en donde el tiempo requerido para una rotacion del lienzo (K) esta en un rango de 1 segundo a 20 segundos.