EP3283237A1 - Vorrichtung und verfahren zur klassierung und entstaubung von polysiliciumgranulat - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur klassierung und entstaubung von polysiliciumgranulat

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EP3283237A1
EP3283237A1 EP16716838.4A EP16716838A EP3283237A1 EP 3283237 A1 EP3283237 A1 EP 3283237A1 EP 16716838 A EP16716838 A EP 16716838A EP 3283237 A1 EP3283237 A1 EP 3283237A1
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EP
European Patent Office
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sieve
gas
screen
polysilicon
polysilicon granules
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EP16716838.4A
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English (en)
French (fr)
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EP3283237B1 (de
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Michael Fricke
Martin BRIXEL
Robert Enggruber
Rainer Hauswirth
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Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
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Publication date
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Publication of EP3283237B1 publication Critical patent/EP3283237B1/de
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    • B07—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS; SORTING
    • B07B—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS BY SIEVING, SCREENING, SIFTING OR BY USING GAS CURRENTS; SEPARATING BY OTHER DRY METHODS APPLICABLE TO BULK MATERIAL, e.g. LOOSE ARTICLES FIT TO BE HANDLED LIKE BULK MATERIAL
    • B07B4/00—Separating solids from solids by subjecting their mixture to gas currents
    • B07B4/08—Separating solids from solids by subjecting their mixture to gas currents while the mixtures are supported by sieves, screens, or like mechanical elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B07—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS; SORTING
    • B07B—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS BY SIEVING, SCREENING, SIFTING OR BY USING GAS CURRENTS; SEPARATING BY OTHER DRY METHODS APPLICABLE TO BULK MATERIAL, e.g. LOOSE ARTICLES FIT TO BE HANDLED LIKE BULK MATERIAL
    • B07B11/00—Arrangement of accessories in apparatus for separating solids from solids using gas currents
    • B07B11/04—Control arrangements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B07—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS; SORTING
    • B07B—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS BY SIEVING, SCREENING, SIFTING OR BY USING GAS CURRENTS; SEPARATING BY OTHER DRY METHODS APPLICABLE TO BULK MATERIAL, e.g. LOOSE ARTICLES FIT TO BE HANDLED LIKE BULK MATERIAL
    • B07B11/00—Arrangement of accessories in apparatus for separating solids from solids using gas currents
    • B07B11/06—Feeding or discharging arrangements
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    • B07B13/14—Details or accessories
    • B07B13/16—Feed or discharge arrangements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02—Silicon
    • C01B33/037—Purification

Definitions

  • the invention relates to a device and a method for the classification and dedusting of polysilicon granules.
  • Polycrystalline silicon granules or short polysilicon granules is in a
  • Fluidized bed reactor produced This is done by fluidizing
  • Silicon particles by means of a gas flow in a fluidized bed, which is heated by a heater to high temperatures. By adding a silicon-containing reaction gas, a pyrolysis reaction takes place on the hot
  • silicon-containing compounds eg chlorosilanes or bromosilanes
  • monosilane SiH 4
  • mixtures of these gases with hydrogen can be used as the silicon-containing educt gas.
  • the polysilicon granules are usually divided into two or more fractions or classes after preparation by means of a sieve system (classification).
  • the smallest sieve fraction (Siebunterkorn) can then be processed in a grinding plant to seed particles and added to the reactor.
  • the screening target fraction is usually packaged and transported to the customer.
  • the customer uses the polysilicon granules and the like. for growing single crystals by the Czochralski method (Cz method).
  • a screening machine is generally a machine for screening, ie the separation (separation) of solid mixtures to particle sizes. After movement characteristic is between
  • planing sifters In planing sifters, the sieve tower completes a horizontal circular movement in one plane. As a result, the particles on the screen fabric largely retain their orientation. Planing machines are preferably used for needle,
  • a special type is the Mehrdecksiebmaschine, which can classify several grain sizes simultaneously. They are designed for a multitude of sharp separations in the middle of the finest grain range.
  • the drive principle is based on two-deck planer on two counter-rotating unbalance motors that produce a linear vibration. The screen material moves in a straight line over the horizontal separating surface. The machine works with low vibration acceleration.
  • US 7959008 B2 claims a method of sifting out first particles of granules comprising first and second particles by conveying the granules along a first screen surface, the granules being conveyed along the screen surface between the latter and a cover extending along the screen surface and through the cover conditionally the first particles are aligned with their longitudinal axes running along the screen surface, wherein the longitudinal extent of each first particle is greater than the mesh size of the screen forming the first screen surface and the longitudinal extent of the second particles is equal to or smaller than that
  • US 2012/0052297 A1 discloses a process for the dedusting of polycrystalline silicon, which is in the form of granules or in the form of rods, rod pieces or fragments, by means of compressed air or dry ice, without any
  • US 2014/0262981 A1 describes an apparatus and a method for dedusting polysilicon granules.
  • the polysilicon granules fall onto a conical distributor, which is located in a cylindrically shaped lined container, whereby the polysilicon granules is deflected in a radially outward movement.
  • Below the conical distributor are positioned nozzles from which an inert gas is injected into the container to discharge the released dust in countercurrent to the inflowing polysilicon granulate through a separate connection.
  • a vacuum can be applied to the discharge nozzle.
  • US 6609870 B2 describes a polysilicon granular pneumatic conveying system which includes a dedusting apparatus. This system will Polysilicon granulate via a pipe from a first container pneumatically conveyed vertically upwards into a second container. In this second container, the polysilicon granules by gravity via baffles in one
  • Receiving container promoted. Due to the contact with the baffles, dust is mobilized by the polysilicon granules and sucked off by the superimposed gas stream.
  • adhering dust particles are either the aforementioned process-related silicon particles, plastic or metal abrasion by the transport of solids or any organic or inorganic particles from the environment.
  • Dust particles either by impact effects on designated surfaces in individual apparatus or caused by movement during the screening process.
  • the mobilized dust particles are removed by suction from the plant. Partly the suction is supported by blowing in a gas.
  • Dusting was contaminated by the environment. This is due to the fact that impurities from the environment are sucked into the sieve.
  • the object of the invention is achieved by a method for the classification and dedusting of polysilicon granules, wherein the polysilicon granules in a
  • Sieve abandoned is divided by one or more screen surfaces in two or more fractions, which are separated by a throwing movement of the polysilicon granulate in the sieve adhesive dust particles from the polysilicon granules, wherein the separated dust particles by means of a sieve
  • Screening is made gas-tight and supply and discharge of the gas flow carried out in such a way that prevails in the screen pressure over the environment.
  • the object is also achieved by a device for classifying and
  • Dedusting of polysilicon granules comprising a sieve with integrated dedusting of polysilicon granules, a unit for the task of
  • Discharge area for discharging dust particles by means of a gas flow introduced into the sieve, wherein the sieve is made gas-tight and wherein in the screen pressure prevails over the environment.
  • the method provides that the adhering dust particles are separated by a
  • the sieve system is gas-tight.
  • the screening plant preferably comprises a lid and a bottom.
  • a uniform injection of a gas flow takes place on the lid of the sieve during the sieving process, whereby the dust particles are transported in the direct current of the particle flow to a discharge at the bottom of the sieve.
  • the dust particles are separated as a separate fraction at the bottom of the sieve.
  • the supply and removal of the gas is preferably controlled via a control loop.
  • a negative pressure with respect to the environment in the sieve tray turned off during suction.
  • slight leaks in the plant or in a plant setup that allowed gas exchange with the environment could be controlled via a control loop.
  • Impurities from the environment are sucked into the plant, which superficially contaminated the polysilicon granules.
  • the gas flow serves to remove the dust particles, but not the detachment of the dust particles from the polysilicon granules.
  • the detachment of the dust particles is accomplished by the throw motion of the polysilicon granules in the screen and by impact effects during the task.
  • the gas flow is provided in the direct current of the particle flow.
  • the unit for depositing the polysilicon granulate into the screening plant is a metering unit.
  • the gas is preferably uniformly introduced via filtration mats (microporous plastic bodies) which are arranged on the cover of the screening plant. Blowing in via conventional nozzles is also possible.
  • the number of gas feed points through the filtration mats on the lid of the sieve can be varied as desired, provided that the connections can be placed technically on the cover of the sieve. A preferred number are 1 to 50 feed points on the lid per m 2 of sieve area, more preferably 30 to 40 feed points on the lid per m 2 of sieve area.
  • each feed-in point is supplied and regulated with its own gas flow, or feed-in points are grouped and regulated in groups of up to 10 feed-in points.
  • the gas feed should be preceded by a cross-sectional constriction (e.g., by pinhole or Laval nozzles) to provide equal volume flows at the feed points.
  • a cross-sectional constriction e.g., by pinhole or Laval nozzles
  • gas is blown in the direction of the discharge at the bottom of the sieve.
  • the smallest product fraction of the screening material is separated from the dust fraction by a final screening stage, so that the dust is discharged via the bottom of the screening plant via its own outlet. Due to the different task points of the gas results in an optimal
  • the laden with dust particles gas streams of the respective discharge lines are merged with the discharge line of the dust from the screening plant.
  • the volumetric flow of the exhaust gas stream laden with dust particles is controlled in such a way that an overpressure relative to the environment in the sieve plant is applied.
  • the regulation also ensures that no dust particles are blown back into the sieve system through the counterflow dust below the sieve system.
  • In the screening plant should be an average gas velocity of 0, 1 to 0.4 m / s, more preferably from 0.2 to 0.3 m / s.
  • the mean gas velocities can be calculated from the supplied and measurable gas volume flow.
  • An average gas velocity of 0.2 m / s can be set, for example, with a gas flow rate based on the sieve area under standard conditions of about 200 m 3 / (hm 2 ).
  • an overpressure relative to the environment of 5 to 50 mbar, preferably 10 to 20 mbar should be present.
  • the dust particles are preferably conveyed pneumatically.
  • gas can be supplied to the discharge line via a gas feeding unit (according to a similar principle as in a venturi nozzle).
  • the particulate matter is removed via a filter unit
  • the purified gas can either be released to the environment as exhaust gas or fed back into the gas supply and circulated.
  • Suitable gases are purified air, nitrogen or other inert gases.
  • the screening plant according to the invention must continue to be constructed so that the injected gas can not escape into the work area around the sieve around.
  • FIG. 1 shows a device for classifying and dedusting
  • FIG. 2 shows the fine dust concentrations of polysilicon granules classified and dedusted according to the prior art (comparative example) and for three exemplary embodiments of the invention (classification and dedusting according to the invention).
  • 3 shows the concentrations of surface carbon on polysilicon granules classified and dedusted according to the prior art (comparative example) and for three exemplary embodiments of the invention (classification and dedusting according to the invention).
  • Fig. 4 shows the concentrations of boron of the prior art
  • Fig. 5 shows the concentrations of phosphorus according to the prior art
  • Fig. 6 shows the concentrations of sodium according to the prior art
  • Fig. 1 shows the schematic structure of a device for classifying
  • the screen 1 comprises a cover 3 and a bottom 4.
  • Product task 2 the polysilicon granules to be classified and dedusted are introduced.
  • To classify screen surfaces or screening decks 5 are provided. Gas is injected via the gas feed 6. The laden with dust particles gas is discharged through the gas outlet 7 from the screening plant 1. It is a filter 8 provided for dust particles can be removed with the fine dust from the discharged gas stream.
  • the polys ⁇ ⁇ cumgranu ⁇ at is classified into three fractions (undersize, target, upper). For these three fractions discharges 9, 10, 11 are provided.
  • the concentrations of particulate matter, surface carbon, boron, phosphorus and sodium were determined on polysilicon granules which had been classified and dedusted in different ways.
  • the determination of the carbon concentration at the surface was carried out according to the so-called LECO method, which is described in detail in US 2013/0216466 A1.
  • the metal concentrations (sodium) were determined analogously to ASTM 1724-01 by means of ICP-MS (mass spectrometry with inductively coupled plasma).
  • the washing of the fine dust is carried out analogously to the procedure in DE 10 2010 039754 A1.
  • the particulate matter content is not measured with a particle sizer, instead the dust content is determined by UV / Vis spectroscopy
  • UVA / is spectroscopy is a spectroscopy that uses electromagnetic waves of ultraviolet (UV) and visible (VIS) light.
  • Comparative Example (not According to the Invention)
  • a screening plant according to the prior art see WO 2015/032584 A1
  • the screening plant was not closed to the outside. By sucking off the dust and the associated intake of ambient air, impurities could reach the product surface.
  • Table 1 shows the results for five samples and the mean values.
  • the set volume flow under standard conditions based on the screen area for rinsing was 100 m 3 / (hm 2 ).
  • Table 2 shows the results for five samples and the mean values
  • the set volume flow under standard conditions based on the screen area for rinsing was 200 m 3 / (hm 2 ). Table 3 shows the results for five samples and the means.
  • the set volume flow under standard conditions with respect to the sieve surface for rinsing was 400 m 3 / (hm 2 ).
  • Table 4 shows the results for five samples and the means.
  • Figs. 2-6 show, for further illustration, the results of
  • Comparative Example and Examples 1 -3 as box plots for the parameters particulate matter, surface carbon, boron, phosphorus and sodium.
  • Dedusting comes by the method according to the invention.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Combined Means For Separation Of Solids (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Gegenstand der Erfindung sind ein Verfahren zur Klassierung und Entstaubung von Polysiliciumgranulat, wobei das Polysiliciumgranulat in eine Siebanlage (1) aufgegeben, mittels einer oder mehrerer Siebflächen (5) in zwei oder mehr Fraktionen aufgeteilt wird, wobei durch eine Wurfbewegung des Polysiliciumgranulats in der Siebanlage (1) anhaftende Staubpartikel vom Polysiliciumgranulat abgetrennt werden, wobei die abgetrennten Staubpartikel mittels einer der Siebanlage (1) zugeführten Gasströmung aus der Siebanlage (1) abgeführt werden, wobei die Siebanlage gasdicht ausgeführt ist und Zufuhr (6) und Abführung (7) der Gasströmung derart erfolgen, dass in der Siebanlage (1) Überdruck gegenüber der Umgebung herrscht, sowie eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung.

Description

Vorrichtung und Verfahren zur Klassierung und Entstaubung von
Polysiliciumgranulat
Gegenstand der Erfindung sind eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Klassierung und Enfstaubung von Polysiliciumgranulat.
Polykristallines Siliciumgranulat oder kurz Polysiliciumgranulat wird in einem
Wirbelschichtreaktor produziert. Dies geschieht durch Fluidisierung von
Siliciumpartikeln mittels einer Gasströmung in einer Wirbelschicht, wobei diese über eine Heizvorrichtung auf hohe Temperaturen aufgeheizt wird. Durch Zugabe eines siliciumhaltigen Reaktionsgases erfolgt eine Pyrolysereaktion an der heißen
Partikeloberfläche. Dabei scheidet sich elementares Silicium auf den Siliciumpartikeln ab, und die einzelnen Partikel wachsen im Durchmesser an. Durch den regelmäßigen Abzug von angewachsenen Partikeln und Zugabe kleinerer Siliciumpartikel als Keimpartikel kann das Verfahren kontinuierlich mit allen damit verbundenen Vorteilen betrieben werden. Als siliciumhaltiges Eduktgas können Silicium-Halogenverbindun- gen (z.B. Chlorsilane oder Bromsilane), Monosilan (SiH4), sowie Mischungen dieser Gase mit Wasserstoff zum Einsatz kommen. Das Polysiliciumgranulat wird üblicherweise nach dessen Herstellung mittels einer Siebanlage in zwei oder mehr Fraktionen oder Klassen geteilt (Klassierung).
Die kleinste Siebfraktion (Siebunterkorn) kann anschließend in einer Mahlanlage zu Keimpartikeln verarbeitet und dem Reaktor zugegeben werden.
Die Siebzielfraktion wird üblicherweise verpackt und zum Kunden transportiert. Der Kunde verwendet das Polysiliciumgranulat u.a. zum Züchten von Einkristallen nach dem Czochralski-Verfahren (Cz-Verfahren).
Zur Klassierung werden Siebmaschinen eingesetzt. Eine Siebmaschine ist allgemein eine Maschine zum Sieben, also der Trennung (Separation) von Feststoffgemischen nach Korngrößen. Nach Bewegungscharakteristik wird zwischen
Planschwingsiebmaschinen und Wurfsiebmaschinen unterschieden. Der Antrieb der Siebmaschinen erfolgt meist elektromagnetisch bzw. durch Unwuchtmotoren oder - getriebe. Die Bewegung des Siebbelags dient dem Weitertransport des Aufgabeguts in Sieblängsrichtung und dem Durchtritt der Feinfraktion durch die
Maschenöffnungen. Im Gegensatz zu Planschwingsiebmaschinen tritt bei
Wurfsiebmaschinen neben der horizontalen auch eine vertikale Siebbeschleunigung auf.
Bei den Wurfsiebmaschinen überlagern sich vertikale Wurfbewegungen mit leichten Drehbewegungen. Dies führt dazu, dass sich das Probengut über die gesamte Fläche des Siebbodens verteilt und die Partikel gleichzeitig eine Beschleunigung in vertikale Richtung erfahren (hochgeworfen werden). In der Luft können sie freie Drehungen durchführen und werden beim Zurückfallen auf das Sieb mit den Maschen des
Siebgewebes verglichen. Sind die Partikel kleiner als diese, so passieren sie das Sieb, sind sie größer, werden sie erneut hochgeworfen. Die Drehbewegung stellt dabei sicher, dass sie beim nächsten Auftreffen auf dem Siebgewebe eine andere Orientierung haben und so vielleicht doch durch eine Maschenöffnung gelangen.
Bei Plansiebmaschinen vollzieht der Siebturm eine horizontal kreisende Bewegung in einer Ebene. Hierdurch behalten die Partikel auf dem Siebgewebe größtenteils ihre Orientierung bei. Plansiebmaschinen werden vorzugsweise für nadel-,
plättchenförmige, längliche oder faserige Siebgüter eingesetzt, bei denen ein
Hochwerfen des Probengutes nicht zwingend von Vorteil ist.
Eine spezielle Art ist die Mehrdecksiebmaschine, die gleichzeitig mehrere Korngrößen klassieren kann. Sie sind konzipiert für eine Vielzahl scharfer Trennungen im Mitteibis Feinstkornbereich. Das Antriebsprinzip beruht bei Mehrdeck-Plansiebmaschinen auf zwei gegenläufig arbeitenden Unwuchtmotoren, die eine lineare Schwingung erzeugen. Das Siebgut bewegt sich geradlinig über die horizontale Trennfläche. Dabei arbeitet die Maschine mit geringer Schwingbeschleunigung. Durch ein
Baukastensystem können eine Vielzahl von Siebdecks zu einem Siebstapel zusammengestellt werden. Somit können im Bedarfsfall unterschiedliche Körnungen in einer einzigen Maschine hergestellt werden, ohne dass Siebbeläge gewechselt werden müssen. Durch mehrfache Wiederholung gleicher Siebdeckfolgen kann dem Siebgut viel Siebfläche angeboten werden. US 7959008 B2 beansprucht ein Verfahren zum Aussieben von ersten Partikeln aus einem erste und zweite Partikel umfassenden Granulat durch Fördern des Granulats entlang einer ersten Siebfläche, wobei das Granulat entlang der Siebfläche zwischen dieser und einer sich entlang der Siebfläche erstreckenden Abdeckung gefördert wird und durch die Abdeckung bedingt die ersten Partikel mit ihren Längsachsen entlang der Siebfläche verlaufend ausgerichtet werden, wobei Längenerstreckung eines jeden ersten Partikels grösser als Maschenweite des die erste Siebfläche bildenden Siebs ist und Längenerstreckung der zweiten Partikel gleich oder kleiner als die
Maschenweite ist. Das Verfahren sieht vor, in einer vorgeschalteten Siebstufe
Staubpartikel abzutrennen. Durch die Wurfbewegung werden locker anhaftende mikrometergroße Staubpartikel abgelöst und über eine Absaugung oberhalb und/oder unterhalb des Siebdecks aus der Siebanlage abgeführt. US 2012/0052297 A1 offenbart ein Verfahren zur Entstaubung von polykristallinem Silicium, das in Form von Granulat oder in Form von Stäben, Stabstücken oder Bruchstücken vorliegt, mittels Druckluft oder Trockeneis, ohne jegliche
nasschemische Behandlung, um Siliciumstaub vom polykristallinen Silicium zu entfernen.
In US 2014/0262981 A1 werden eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Entstaubung von Polysiliciumgranulat beschrieben. Dabei fällt das Polysiliciumgranulat auf einen kegelförmigen Verteiler, der sich in einem zylindrisch geformten ausgekleideten Behälter befindet, wodurch das Polysiliciumgranulat in eine radial nach außen gerichtete Bewegung umgelenkt wird. Unterhalb des kegelförmigen Verteilers sind Düsen positioniert, aus denen ein inertes Gas in den Behälter eingeblasen wird, um den freigesetzten Staub im Gegenstrom zum hereinfließenden Polysiliciumgranulat über einen separaten Anschluss auszutragen. Zur zusätzlichen Unterstützung des Austrags kann am Austragsstutzen ein Vakuum angelegt werden.
In US 6609870 B2 wird ein pneumatisches Fördersystem für Polysiliciumgranulat beschrieben, das eine Apparatur zum Entstauben beinhaltet. Bei diesem System wird Polysiliciumgranulat über eine Rohrleitung von einem ersten Behälter pneumatisch senkrecht nach oben in einen zweiten Behälter gefördert. In diesem zweiten Behälter wird das Polysiliciumgranulat durch die Schwerkraft über Leitbleche in einen
Auffangbehälter gefördert. Durch den Kontakt mit den Leitblechen wird Staub vom Polysiliciumgranulat mobilisiert und durch den überlagerten Gasstrom abgesaugt.
Es ist bekannt, dass polykristallines Silicium-Granulat oberflächlich anhaftende Staubpartikel aufweist. Bei den anhaftenden Staubpartikeln handelt es sich
vorzugweise um Partikel einer Größe von weniger als 10 ιτι. Diese anhaftenden Staubpartikel sind entweder die zuvor erwähnten prozessbedingten Siliciumpartikel, Kunststoff- oder Metallabrieb durch den Feststofftransport oder beliebige organische bzw. anorganische Partikel aus dem Umfeld.
Diese Staubpartikel wirken sich nachteilig auf die Weiterverarbeitung aus, da sie beim Aufschmelzen aufschwimmen und damit zu Ansetzproblemen beim CZ-Ziehen führen können. Zudem ist aufgrund solcher Staubpartikel eine Belagbildung an
Rohrleitungen und Armaturen zu beklagen. Aufgrund ihrer großen spezifischen Oberfläche stellen Staubpartikel weiterhin potentielle Kontaminationsträger dar. Daher besteht das Bedürfnis, diese Staubpartikel zu entfernen.
Im Stand der Technik wird die Mobilisierung der oberflächlich anhaftenden
Staubpartikel entweder durch Pralleffekte an dafür vorgesehenen Oberflächen in Einzelapparaten bzw. durch Bewegung während des Siebprozesses hervorgerufen. Die mobilisierten Staubpartikel werden durch Absaugungen aus der Anlage abgeführt. Teilweise wird die Absaugung durch Einblasen eines Gases unterstützt.
Im Stand der Technik war zu beobachten, dass das Polysiliciumgranulat beim
Entstauben durch das Umfeld kontaminiert wurde. Dies ist darauf zurückzuführen, dass Verunreinigungen aus dem Umfeld in die Siebanlage hineingesaugt werden.
Aus der beschriebenen Problematik ergab sich die Aufgabenstellung der Erfindung. Die Aufgabe der Erfindung wird gelöst durch ein Verfahren zur Klassierung und Entstaubung von Polysiliciumgranulat, wobei das Polysiliciumgranulat in eine
Siebanlage aufgegeben, mittels einer oder mehrerer Siebflächen in zwei oder mehr Fraktionen aufgeteilt wird, wobei durch eine Wurfbewegung des Polysiliciumgranulats in der Siebanlage anhaftende Staubpartikel vom Polysiliciumgranulat abgetrennt werden, wobei die abgetrennten Staubpartikel mittels einer der Siebanlage
zugeführten Gasströmung aus der Siebanlage abgeführt werden, wobei die
Siebanlage gasdicht ausgeführt ist und Zufuhr und Abführung der Gasströmung derart erfolgen, dass in der Siebanlage Überdruck gegenüber der Umgebung herrscht.
Die Aufgabe wird auch gelöst durch eine Vorrichtung zur Klassierung und
Entstaubung von Polysiliciumgranulat, umfassen eine Siebanlage mit integrierter Entstaubung des Polysiliciumgranulats, eine Einheit zur Aufgabe des
Polysiliciumgranulats in die Siebanlage, ein oder mehrere Siebflächen, einen
Austragsbereich zum Austragen von Staubpartikeln mittels einer in die Siebanlage eingebrachten Gasströmung, wobei die Siebanlage gasdicht ausgeführt wird und wobei in der Siebanlage Überdruck gegenüber der Umgebung herrscht.
Das Verfahren sieht vor, dass die anhaftenden Staubpartikel sich durch eine
Wurfbewegung auf Siebflächen einer Siebanlage vom Polysiliciumgranulat lösen.
Die Siebanlage ist gasdicht ausgeführt. Die Siebanlage umfasst vorzugweise einen Deckel und einen Boden. Vorzugweise erfolgt ein gleichmäßiges Einblasen eines Gasstroms am Deckel der Siebanlage während des Siebprozesses, wodurch die Staubpartikel im Gleichstrom des Partikelflusses zu einem Austrag am Boden der Siebanlage transportiert werden. Die Staubpartikel werden als separate Fraktion am Boden der Siebanlage abgetrennt.
Um bei der Entstaubung den Einfluss der Umgebung auszuschließen, wird die
Entstaubung in der Siebanlage unter Überdruck gegenüber der Umgebung betrieben.
Um sicherzustellen, dass ein konstanter Überdruck an der Siebanlage anliegt, wird die Zu- und Abfuhr des Gases vorzugweise über einen Regelkreis gesteuert. Im Stand der Technik stellte sich beim Absaugen ein Unterdruck gegenüber der Umgebung im Siebtrog ein. Bei leichten Undichtigkeiten der Anlage bzw. bei einem Anlagensetup, das einen Gasaustausch mit der Umgebung zuließ, konnten
Verunreinigungen aus dem Umfeld in die Anlage hineingesaugt werden, die das Polysiliciumgranulat oberflächlich kontaminierten.
Durch eine Kombination der Merkmale„gasdichte Ausführung der Siebanlage" und „Betrieb in Überdruck gegenüber der Umgebung" in der vorliegenden Erfindung kann dies vermieden werden.
Die Gasströmung dient dem Abtransport der Staubpartikel, jedoch nicht der Ablösung der Staubpartikel vom Polysiliciumgranulat. Das Ablösen der Staubpartikel wird durch die Wurfbewegung des Polysiliciumgranulats in der Siebanlage und durch Pralleffekte während der Aufgabe bewerkstelligt.
Die Gasströmung ist im Gleichstrom des Partikelflusses vorgesehen.
Bei der Einheit zur Aufgabe des Polysiliciumgranulats in die Siebanlage handelt es sich in einer Ausführungsform um eine Dosiereinheit.
Es wird vorzugweise Gas in der Einheit zur Aufgabe des Polysiliciumgranulats, vorzugsweise in einer Dosiereinheit, und über den Deckel der Siebanlage
eingeblasen. Um in der Siebanlage eine Vergleichmäßigung des Gases zu gewährleisten und um einen Freistrahl in die Siebanlage hinein zu vermeiden, wird das Gas bevorzugt über Filtrationsmatten (mikroporöse Kunststoffkörper), die am Deckel der Siebanlage angeordnet sind, gleichmäßig eingebracht. Das Einblasen über herkömmliche Düsen ist ebenfalls möglich. Die Anzahl der Gaseinspeisepunkte durch die Filtrationsmatten am Deckel der Siebanlage kann beliebig variiert werden, sofern die Anschlüsse einbautechnisch am Deckel der Siebanlage platziert werden können. Eine bevorzugte Anzahl sind 1 bis 50 Einspeisepunkte am Deckel pro m2 Siebfläche, besonders bevorzugt 30 bis 40 Einspeisepunkte am Deckel pro m2 Siebfläche.
Für die Gaszufuhr zu den Filtrationsmatten gilt, dass entweder jeder Einspeisepunkt mit einem eigenen Gasstrom versorgt und geregelt wird oder dass Einspeisepunkte in Gruppen mit bis zu 10 Einspeisepunkten zusammengefasst versorgt und geregelt werden.
Falls eine Gruppe von mehreren Einspeisepunkten gemeinsam mit Gas versorgt wird, sollte der Gaseinspeisung eine Querschnittsverengung (z.B. mittels Lochblenden oder mittels Lavaldüsen) vorgeschaltet werden, damit gleiche Volumenströme an den Einspeisepunkten vorliegen.
Zur weiteren Unterstützung des Austragens der Staubpartikel wird am Boden der Siebanlage Gas in Richtung des Austrage eingeblasen.
Die kleinste Produktfraktion des Siebgutes wird durch eine letzte Siebstufe von der Staubfraktion getrennt, so dass der Staub über den Boden der Siebanlage über einen eigenen Auslass ausgetragen wird. Durch die unterschiedlichen Aufgabepunkte des Gases ergibt sich ein optimales
Strömungsprofil in der Siebanlage, um den pneumatischen Austrag der Staubpartikel aus der Siebanlage bestmöglich zu vollführen.
Zur weiteren Entstaubung werden vorzugweise die Produktfraktionen in der jeweiligen Austragsleitung im Gegenstrom mit einem Gas zusätzlich beaufschlagt.
Die mit Staubpartikeln beladenen Gasströme der jeweiligen Austragsleitungen werden mit der Austragsleitung des Staubs aus der Siebanlage zusammengeführt. Der Volumenstrom des mit Staubpartikeln beladenen Abgasstroms wird derart geregelt, dass ein Überdruck gegenüber der Umgebung in der Siebanlage anliegt.
Durch die Regelung ist außerdem sichergestellt, dass keine Staubpartikel durch die Gegenstromentstaubung unterhalb der Siebanlage zurück in die Siebanlage geblasen werden.
In der Siebanlage soll eine mittlere Gasgeschwindigkeit von 0, 1 bis 0,4 m/s, besonders bevorzugt von 0,2 bis 0,3 m/s vorliegen.
Die mittleren Gasgeschwindigkeiten können aus dem zugeführten und messbaren Gasvolumenstrom berechnet werden.
Eine mittlere Gasgeschwindigkeit von 0,2 m/s kann beispielsweise mit einem auf die Siebfläche bezogenen Gasdurchsatz unter Normbedingungen von etwa 200 m3/(h m2) eingestellt werden.
In der Siebanlage sollte ein Überdruck gegenüber der Umgebung von 5 bis 50 mbar, bevorzugt 10 bis 20 mbar vorliegen.
Nach dem Austritt aus der Siebanlage werden die Staubpartikel vorzugweise pneumatisch gefördert.
Hierfür kann über eine Gasaufgabeeinheit (nach einem ähnlichen Prinzip wie bei einer Venturidüse) Gas der Austragsleitung zugeführt werden.
Vorzugweise wird über eine Filtereinheit der Feinstaub aus dem abgeführten
Gasstrom entfernt. Das gereinigte Gas kann entweder als Abgas an die Umwelt abgegeben werden oder in die Gasversorgung wieder eingespeist und im Kreis gefahren werden.
Als Gase eignen sich gereinigte Luft, Stickstoff oder andere inerte Gase. Zur Vermeidung von Gasverlusten, der Reduzierung des Sauerstoffgehalts und einer erhöhten Partikelkonzentration durch Stau baustritte muss die erfindungsgemäße Siebanlage weiterhin so aufgebaut sein, dass das eingeblasene Gas nicht in den Arbeitsbereich um die Siebanlage herum austreten kann.
Falls dennoch Undichtigkeiten der Siebanlage auftreten, wird durch die Fahrweise mit Überdruck gegenüber der Umgebung sichergestellt, dass keine Verunreinigungen von außen in die Siebanlage gelangen können.
Die Gefahr einer oberflächlichen Verunreinigung durch das Umfeld wird durch diese Fahrweise ausgeschlossen.
Dass stets ein Überdruck gegenüber der Umgebung an der Anlage anliegt, wird durch Druckmessung in der Siebanlage und durch eine entsprechende Regelung der Zu- und Abfuhr des Entstaubungsgases sichergestellt.
Die bezüglich der vorstehend aufgeführten Ausführungsformen des
erfindungsgemäßen Verfahrens angegebenen Merkmale können entsprechend auf die erfindungsgemäße Vorrichtung übertragen werden. Umgekehrt können die bezüglich der vorstehend ausgeführten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung angegebenen Merkmale entsprechend auf das erfindungsgemäße Verfahren übertragen werden. Diese und andere Merkmale der erfindungsgemäßen Ausführungsformen werden in der Figurenbeschreibung und in den Ansprüchen erläutert. Die einzelnen Merkmale können entweder separat oder in Kombination als Ausführungsformen der Erfindung verwirklicht werden. Weiterhin können sie vorteilhafte Ausführungen beschreiben, die selbstständig schutzfähig sind.
Kurzbeschreibung der Figuren Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung zur Klassierung und Entstaubung von
Polysiliciumgranulat. Fig. 2 zeigt die Feinstaubkonzentrationen von gemäß Stand der Technik (Vergleichsbeispiel) klassiertem und entstaubtem Polysiliciumgranuiat und für drei beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung (erfindungsgemäße Klassierung und Entstaubung).
Fig. 3 zeigt die Konzentrationen von oberflächlichem Kohlenstoff an gemäß Stand der Technik (Vergleichsbeispiel) klassiertem und entstaubtem Polysiliciumgranuiat und für drei beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung (erfindungsgemäße Klassierung und Entstaubung).
Fig. 4 zeigt die Konzentrationen von Bor von gemäß Stand der Technik
(Vergleichsbeispiel) klassiertem und entstaubtem Polysiliciumgranuiat und für drei beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung (erfindungsgemäße Klassierung und Entstaubung).
Fig. 5 zeigt die Konzentrationen an Phosphor von gemäß Stand der Technik
(Vergleichsbeispiel) klassiertem und entstaubtem Polysiliciumgranuiat und für drei beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung (erfindungsgemäße Klassierung und Entstaubung).
Fig. 6 zeigt die Konzentrationen an Natrium von gemäß Stand der Technik
(Vergleichsbeispiel) klassiertem und entstaubtem Polysiliciumgranuiat und für drei beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung (erfindungsgemäße Klassierung und Entstaubung).
Liste der verwendeten Bezugszeichen
1 Siebanlage
2 Produktaufgabe
3 Deckel der Siebanlage
4 Boden der Siebanlage
5 Siebfläche / Siebdeck
6 Gaszuführung 7 Gasabführung beladen mit Staubpartikeln
8 Filter für Staubpartikel
9 Austrag Fraktion Unterkorn
10 Austrag Fraktion Zielkorn
11 Austrag Fraktion Oberkorn
Fig. 1 zeigt den schematischen Aufbau einer Vorrichtung zur Klassierung und
Entstaubung von Polysiliciumgranulat. Die Siebanlage 1 umfasst einen Deckel 3 und ein Boden 4. Mittels der
Produktaufgabe 2 wird das zu klassierende und zu entstaubende Polysiliciumgranulat eingebracht. Zur Klassierung sind Siebflächen bzw. Siebdecks 5 vorgesehen. Über die Gaszuführung 6 wird Gas eingeblasen. Das mit Staubpartikeln beladene Gas wird über die Gasabführung 7 aus der Siebanlage 1 abgeführt. Es ist ein Filter 8 für Staubpartikel vorgesehen, mit dem Feinstaub aus dem abgeführten Gasstrom entfernt werden kann. Das Polys}\ cumgranu\at wird in drei Fraktionen (Unterkorn, Zielkorn, Oberkorn) klassiert. Für diese drei Fraktionen sind Austräge 9, 10, 11 vorgesehen.
Vergleichsbeispiel und Beispiele
Im Vergleichsbeispiel und den Beispielen wurden die Konzentrationen an Feinstaub, Oberflächenkohlenstoff, Bor, Phosphor und Natrium an Polysiliciumgranulat, das auf unterschiedliche Weisen klassiert und entstaubt wurde, bestimmt. Die Bestimmung der Kohlenstoffkonzentration an der Oberfläche erfolgte nach der sog. LECO-Methode, die in US 2013/0216466 A1 detailliert beschrieben ist.
Die Bestimmung von Bor und Phosphor erfolgte nach SEMI MF 1398 an
monokristallinen Proben aus einem aus dem polykristallinen Material erzeugten FZ- Einkristall (SEMI MF 1723) mittels Photolumineszenz.
Die Bestimmung der Metallkonzentrationen (Natrium) erfolgte analog ASTM 1724-01 mittels ICP-MS (Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma). Das Abwaschen des Feinstaubs erfolgt analog zur Vorgehensweise in DE 10 2010 039754 A1. Der Feinstaubgehalt wird nicht mit einem Partikelgrößenmessgeräts gemessen, stattdessen wird der Staubgehalt durch UV/Vis-Spektroskopie
photometrisch bestimmt. Die UVA/is-Spektroskopie ist eine Spektroskopie, die elektromagnetische Wellen des ultravioletten (UV) und des sichtbaren (englisch visible, VIS) Lichts nutzt.
Vergleichsbeispiel (nicht erfindungsgemäß) Für das Vergleichsbeispiel wurde eine Siebanlage gemäß Stand der Technik (siehe WO 2015/032584 A1 ) verwendet, bei der der Staub aus dem Siebbereich abgesaugt wurde. Die Siebanlage war jedoch nicht nach außen geschlossen. Durch das Absaugen des Staubes und das damit verbundene Ansaugen von Umgebungsluft konnten Verunreinigungen auf die Produktoberfläche gelangen.
Tabelle 1 zeigt die Ergebnisse für fünf Proben sowie die Mittelwerte.
Tabelle 1
Bei den Beispielen kamen das erfindungsgemäße Verfahren bzw. die
erfindungsgemäße Vorrichtung zum Einsatz (gasdichte Siebanlage, Betrieb in Überdruck gegenüber der Umgebung). Zudem wurden Gasdurchsätze und damit die Strömungsgeschwindigkeiten in der Siebanlage variiert. Beispiel 1
Der aufgegebene Volumenstrom unter Normbedingungen bezogen auf die Siebfläche zur Spülung betrug 100 m3/(h m2).
Tabelle 2 zeigt die Ergebnisse für fünf Proben sowie die Mittelwerte,
Tabelle 2
Beispiel 2
Der aufgegebene Volumenstrom unter Normbedingungen bezogen auf die Siebfläche zur Spülung betrug 200 m3/(h m2). Tabelle 3 zeigt die Ergebnisse für fünf Proben sowie die Mittelwerte.
Tabelle 3
Probe Probe Probe Probe Probe
Parameter Mittelwert
1 2 3 4 5
Feinstaub [ppmw] 1 ,2 1 ,6 1 ,5 1 ,8 1 ,2 1 ,46
Oberflächenkohlenstoff
0, 18 0,206 0,176 0,194 0,213 0,1938
[ppmw]
Bor [ppta] 12 13 16 15 15 14,2
Phosphor [ppta] 69 83 76 71 84 76,6
Natrium [ppbw] 0, 1 0, 14 0, 13 0, 1 1 0, 14 0, 124 Beispiel 3
Der aufgegebene Volumenstrom unter Normbedingungen bezogen auf die Siebfläche zur Spülung betrug 400 m3/(h m2).
Tabelle 4 zeigt die Ergebnisse für fünf Proben sowie die Mittelwerte. Tabelle 4
Die Fig. 2 - 6 zeigen zur weiteren Veranschaulichung die Ergebnisse von
Vergleichsbeispiel und Beispielen 1 -3 als Boxplots für die Parameter Feinstaub, Oberflächenkohlenstoff, Bor, Phosphor und Natrium.
Anhand der Beispiele 1 -3 ist erkennbar, dass es zu einer Verbesserung der
Entstaubung durch das erfindungsgemäße Verfahren kommt.
Es ist weiterhin festzustellen, dass durch die Steigerung des Gasstroms eine weitere Verbesserung der Entstaubungsleistung zu verzeichnen ist.
Ab einem bestimmten Spülvolumenstrom ist keine weitere Verbesserung möglich. In den dargestellten Beispielen ist zwischen den Volumenströmen unter
Normbedingungen bezogen auf die Siebfläche von 200 m3/(h m2) und 400 m3/(h m2) keine weitere Reduzierung des Feinstaubgehalts messbar. Dieses Verhalten deutet darauf hin, dass der Staub durch die Siebbewegung mobilisiert wird.
Es ist bevorzugt, eine Mindestgasmenge von 200 m3/(h m2) zu wählen, um den mobilisierten Staub auch aus dem Siebbereich auszutragen und somit eine
Rückkontamination zu vermeiden.
Für den Oberflächenkohlenstoff, der in Form von Kunststoffrückständen oberflächlich am Polysiliciumgranulat und auch an den Silicumstaubpartikeln anhaftet, wird ein ähnliches Verhalten wie beim Feinstaub beobachtet. Durch das Austragen der Staubpartikel wird gleichzeitig ein Teil des Kunststoffabriebs mit ausgetragen.
Für die Elemente Bor und Phosphor konnte durch die gasdichte Fahrweise unter Überdruck gegenüber der Umgebung eine Verbesserung erzielt werden. Bei diesen Elementen, die über das Umfeld eingetragen werden, spielt die Spülgasmenge keine wesentliche Rolle, da die gasdichte Ausführung und die Überdruckfahrweise für den Effekt verantwortlich sind.
Für das Element Na, das typischerweise durch das Umfeld auf das
Polysiliciumgranulat gelangen kann, konnte durch die gasdichte Ausführung der Siebanlage mit Überdruck gegenüber der Umgebung ebenfalls ein Eindringen in die Anlage verhindert werden. Als Resultat wurde ähnlich wie bei Phosphor und Bor eine Reduzierung des Wertes gegenüber dem Vergleichsbeispiel erzielt.
Die vorstehende Beschreibung beispielhafter Ausführungsformen ist exemplarisch zu verstehen. Die damit erfolgte Offenbarung ermöglicht es dem Fachmann einerseits, die vorliegende Erfindung und die damit verbundenen Vorteile zu verstehen, und umfasst andererseits im Verständnis des Fachmanns auch offensichtliche
Abänderungen und Modifikationen der beschriebenen Strukturen und Verfahren. Daher sollen alle derartigen Abänderungen und Modifikationen sowie Äquivalente durch den Schutzbereich der Ansprüche abgedeckt sein.

Claims

Patentansprüche
1 . Verfahren zur Klassierung und Entstaubung von Polysiliciumgranulat, wobei das Polysiliciumgranulat in eine Siebanlage aufgegeben, mittels einer oder mehrerer
5 Siebflächen in zwei oder mehr Fraktionen aufgeteilt wird, wobei durch eine
Wurfbewegung des Polysiliciumgranulats in der Siebanlage anhaftende
Staubpartikel vom Polysiliciumgranulat abgetrennt werden, wobei die
abgetrennten Staubpartikel mittels einer der Siebanlage zugeführten Gasströmung aus der Siebanlage abgeführt werden, wobei die Siebanlage gasdicht ausgeführt l ü ist und Zufuhr und Abführung der Gasströmung derart erfolgen, dass in der
Siebanlage Überdruck im Vergleich zur Umgebung herrscht.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei die Siebanlage einen Deckel und einen Boden umfasst und ein gleichmäßiges Einblasen eines Gasstroms am Deckel der
15 Siebanlage während des Siebprozesses erfolgt, wodurch die Staubpartikel im
Gleichstrom zum Partikeffluss zu einem Austrag am Boden der Siebanlage transportiert und als separate Fraktion am Boden der Siebanlage abgetrennt werden. 0
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei mittels einer Regeleinheit ein konstanter Überdruck im Vergleich zur Umgebung in der Siebanlage eingestellt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das Polysiliciumgranulat 5 mittels einer Dosiereinheit in die Siebanlage aufgegeben wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Gas über
Filtrationsmatten in die Siebanlage geführt wird. 0 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei in der Siebanlage eine
mittlere Gasgeschwindigkeit von 0, 1 bis 0,4 m/s vorliegt. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei in der Siebaniage ein Überdruck im Vergleich zur Umgebung von 5 bis 50 mbar herrscht.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der aufgegebene
Volumenstrom der Gasströmung unter Normbedingungen und bezogen auf eine Siebfläche der Siebanlage mindestens 200 m3/(h m2) beträgt.
Vorrichtung zur Klassierung und Entstaubung von Polysiliciumgranulat, umfassen eine Siebanlage mit integrierter Entstaubung des Polysiliciumgranulats, eine Einheit zur Aufgabe des Polysiliciumgranulats in die Siebanlage, ein oder mehrere Siebflächen, einen Austragsbereich zum Austragen von Staubpartikeln mittels einer in die Siebanlage eingebrachten Gasströmung, wobei die Siebanlage gasdicht ausgeführt wird und wobei in der Siebanlage Überdruck im Vergleich zur Umgebung herrscht.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016225248A1 (de) * 2016-12-16 2018-06-21 Siltronic Ag Abscheidevorrichtung für Polysilicium
EA202091499A1 (ru) 2017-12-20 2020-10-16 ДСМ АйПи АССЕТС Б.В. Синтез алкил 2-ацетил-5,9,13-триметилтетрадека-4,8,12-триеноатов и их производных периодическим способом
DE102020201847A1 (de) 2020-02-14 2021-08-19 Wacker Chemie Ag Klassierung von gemahlenem Silicium
CN111359869A (zh) * 2020-02-26 2020-07-03 江苏鑫华半导体材料科技有限公司 电子级多晶硅筛分装置和方法
US11760690B2 (en) * 2020-07-19 2023-09-19 KLAW Industries LLC Recycled glass pozzolan for concrete
CN112680782A (zh) * 2021-01-23 2021-04-20 漯河市鸿秀商贸有限公司 焰熔法生长钛酸锶单晶体的原料粉碎装置及使用方法
CN114769219A (zh) * 2022-03-28 2022-07-22 江苏鑫华半导体科技股份有限公司 利用干冰对电子级多晶硅进行清洗的方法
CN114558778B (zh) * 2022-04-29 2022-07-05 中国空气动力研究与发展中心计算空气动力研究所 一种微米级粉体物料可控分级气流筛及筛分方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2015355A (en) * 1932-03-25 1935-09-24 Diamond Power Speciality Dedusting apparatus
US3871846A (en) * 1965-09-30 1975-03-18 Wolfgang Berz Dust filter arrangement
JPS5575769A (en) * 1978-12-04 1980-06-07 Babcock Hitachi Kk Dust separator of catalyst
US4300921A (en) * 1980-03-04 1981-11-17 Rexnord, Inc. Apparatus and method for removing finely divided solids from gases
US4452613A (en) * 1982-02-16 1984-06-05 Rexnord Inc. Vertical media bed filter and method of cleaning filter panels
JPH0543912Y2 (de) * 1986-01-16 1993-11-05
US4790865A (en) * 1986-05-30 1988-12-13 Demarco Thomas Two compartment industrial dust collector
JPS6328181U (de) * 1986-08-07 1988-02-24
US5083577A (en) * 1990-09-27 1992-01-28 Brown & Williamson Tobacco Corporation Apparatus for metering tobacco
DE4240047C2 (de) * 1991-06-01 2001-10-04 Hans J Altmeyer Vibrations-Feinsieb und Verfahren zum Betreiben des Siebes
AT401019B (de) * 1993-06-22 1996-05-28 Zipfinger Erwin Ing Filter
JP2848776B2 (ja) * 1994-01-06 1999-01-20 鐘紡株式会社 供給装置
US6609870B2 (en) 2001-10-23 2003-08-26 Memc Electronic Materials, Inc. Granular semiconductor material transport system and process
JP2004181442A (ja) * 2002-12-05 2004-07-02 Meiji Kikai Kk 粉粒体の振動気流分級純化装置
CN2628165Y (zh) * 2003-05-18 2004-07-28 唐山市神州机械有限公司 复合式干法选煤装置
AU2003252048B2 (en) * 2003-07-21 2009-06-11 Prysmian Cavi E Sistemi Energia S.R.L. Systems and methods for cleaning a batch of granular material
US7291222B2 (en) * 2004-06-18 2007-11-06 Memc Electronic Materials, Inc. Systems and methods for measuring and reducing dust in granular material
KR200393681Y1 (ko) * 2005-06-03 2005-08-26 주식회사 덕영엔지니어링 이물 선별기
WO2007022959A2 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Miele & Cie. Kg Verfahren zur behandlung von staub und vorrichtungen zur durchführung eines solchen verfahrens
US20070287018A1 (en) * 2006-06-09 2007-12-13 Georgia-Pacific Resins, Inc. Fibrous mats having reduced formaldehyde emissions
DE102007052473A1 (de) 2007-11-02 2009-05-07 Schott Solar Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Aussieben von Partikeln
JP4889663B2 (ja) * 2008-02-07 2012-03-07 株式会社セイシン企業 気流式ふるい分け方法および装置
CN201175700Y (zh) * 2008-03-06 2009-01-07 柏飞 抛射式颗粒物料分选装置
CN101676203B (zh) 2008-09-16 2015-06-10 储晞 生产高纯颗粒硅的方法
US8118973B2 (en) * 2010-02-17 2012-02-21 Johns Manville Method of applying de-dusting agents to fibrous products and products
DE102010039752A1 (de) 2010-08-25 2012-03-01 Wacker Chemie Ag Polykristallines Silicium und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102010039754B4 (de) 2010-08-25 2013-06-06 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Bestimmung der Konzentration an Feinstaub in Silicium-Schüttgütern
DE102012202640A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Wacker Chemie Ag Polykristallines Siliciumbruchstück und Verfahren zur Reinigung von polykristallinen Siliciumbruchstücken
CN202621464U (zh) * 2012-04-17 2012-12-26 福建铁拓机械有限公司 一种干混砂浆生产线中气流结合振动的干砂分级筛系统
US8833564B1 (en) 2013-03-13 2014-09-16 Sunedison Semiconductor Limited Systems and methods for reducing dust in granular material
CN203408893U (zh) * 2013-06-27 2014-01-29 福建铁拓机械有限公司 一种新型干砂分级筛
DE102013218003A1 (de) * 2013-09-09 2015-03-12 Wacker Chemie Ag Klassieren von Polysilicium

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