EP0955408A2 - Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen eines Auftragsmediums auf einen laufenden Untergrund - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen eines Auftragsmediums auf einen laufenden Untergrund Download PDF

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EP0955408A2
EP0955408A2 EP99105295A EP99105295A EP0955408A2 EP 0955408 A2 EP0955408 A2 EP 0955408A2 EP 99105295 A EP99105295 A EP 99105295A EP 99105295 A EP99105295 A EP 99105295A EP 0955408 A2 EP0955408 A2 EP 0955408A2
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EP
European Patent Office
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medium
application
atomized
moistening
atomizing device
Prior art date
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Withdrawn
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EP99105295A
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English (en)
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EP0955408A3 (de
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Harald Hess
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Voith Patent GmbH
Original Assignee
Voith Paper Patent GmbH
Voith Sulzer Papiertechnik Patent GmbH
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Publication date
Application filed by Voith Paper Patent GmbH, Voith Sulzer Papiertechnik Patent GmbH filed Critical Voith Paper Patent GmbH
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Publication of EP0955408A3 publication Critical patent/EP0955408A3/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • D—TEXTILES; PAPER
    • D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H23/00—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper
    • D21H23/02—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper characterised by the manner in which substances are added
    • D21H23/22—Addition to the formed paper
    • D21H23/50—Spraying or projecting
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/18—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area using fluids, e.g. gas streams
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
    • B05B5/025—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns
    • B05B5/04—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns characterised by having rotary outlet or deflecting elements, i.e. spraying being also effected by centrifugal forces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
    • B05B5/08—Plant for applying liquids or other fluent materials to objects
    • B05B5/14—Plant for applying liquids or other fluent materials to objects specially adapted for coating continuously moving elongated bodies, e.g. wires, strips, pipes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/02—Spray pistols; Apparatus for discharge
    • B05B7/06—Spray pistols; Apparatus for discharge with at least one outlet orifice surrounding another approximately in the same plane
    • B05B7/062—Spray pistols; Apparatus for discharge with at least one outlet orifice surrounding another approximately in the same plane with only one liquid outlet and at least one gas outlet
    • B05B7/066—Spray pistols; Apparatus for discharge with at least one outlet orifice surrounding another approximately in the same plane with only one liquid outlet and at least one gas outlet with an inner liquid outlet surrounded by at least one annular gas outlet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
    • B05D3/0486—Operating the coating or treatment in a controlled atmosphere

Definitions

  • the invention relates to a method for applying an application medium by means of an atomizing device to a running surface, the running surface being the surface of a material web, in particular made of paper or cardboard when applied directly, and the surface of a transfer element from which the application medium is then applied indirectly is transferred to the material web.
  • Such devices are known in the prior art, for example from EP 0 670 004 B1, WO 94/11116 and EP 0 435 904 B1.
  • the aim of such atomization application processes is to apply the application medium to the running surface with the smallest possible excess, in the best case even completely without excess (1: 1 application).
  • the application medium is atomized using air and guided to the running surface. After it has settled there, the guide air is sucked out of the application area again via channels surrounding the atomizing device. Even with low application weights, very large amounts of air have to be led to the surface and extracted from it again per unit of time. It has therefore been shown in practice that the known application methods can only achieve an order result that is unsatisfactory in terms of quality.
  • the subsequent smoothing of the applied layer it has an uneven structure and a rough, sandpaper-like surface.
  • an application method of the type mentioned at the outset in which an atmosphere is maintained in the area of the atomizing device from a medium which rewet or / and moisten the atomized application medium.
  • the vapor of a liquid can also be used as the rewetting or / and moistening medium, which also serves as a carrier liquid for application medium which is liquid or pasty before atomization, for example water vapor, toluene vapor or the like.
  • water vapor as the rewetting or / and wetting medium will always be referred to for the sake of facilitating the discussion. However, this does not limit the scope of protection of the method according to the invention to the use of water vapor.
  • the atomized application medium moves in an atmosphere from the atomizer device to the running surface, which reduces, if not completely, an excessive escape of moisture from the application medium droplets or particles and thus a drying out of at least the surface of these droplets or particles prevented.
  • the droplets or particles which are more liquid as a result can flow more easily after impacting the running surface, which enables a smoother surface to be obtained from the layer applied to the surface.
  • the steam atmosphere does not need to be sucked out of the application area again, but it is only necessary to compensate for steam losses, for example as a result of steam being deposited as moisture on the running surface or the application layer, by supplying fresh steam.
  • turbulence such as occurs in the prior art due to the air supply and air extraction, can be largely avoided in the application area, which has a favorable effect on the uniformity of the layer application.
  • the above-mentioned precipitation of steam as moisture on the application layer has no adverse effects, since the water in the application layer is already present as the carrier liquid of the application medium. On the contrary, the precipitation of moisture improves the flowability of the application medium in the application layer and thus allows a smoother surface to be achieved.
  • the above also applies to any other carrier liquid and its vapor common in application media, for example toluene and toluene vapor.
  • drying is understood to mean the escape of carrier liquid from the application medium in gaseous form and the term “rewetting” means the supply of carrier liquid from the steam atmosphere into the application medium droplets or particles.
  • rewetting means the supply of carrier liquid from the steam atmosphere into the application medium droplets or particles.
  • the vapor atmosphere provided in the area of the atomizer device is such that a balance between drying and rewetting is established for the atomized application medium.
  • dry, powdery application media can also be processed with the method according to the invention, in which case the steam condenses on the application medium particles on their way from the atomizer device to the running substrate and these thus moistened so that they can flow onto the substrate after impact and form a smooth application layer.
  • the atomizing device be arranged in a chamber into which the rewetting or / and moistening medium is introduced by means of a supply device provided for this purpose.
  • the atomizer device can be, for example, a single-substance atomizer device. However, it is also possible to use a two-substance atomizer device in the process according to the invention, which atomizes the application medium by means of steam.
  • the steam used for atomization can be used, for example, solely to form the steam atmosphere in the area of the atomizer device. However, it is also possible to introduce additional steam into the area of the atomizer device.
  • a rotary atomizer device can be used as the atomizer device, in which the application medium is atomized by a rapidly rotating atomizer element under the influence of centrifugal forces acting on it.
  • the application medium atomized in this way can, for example, be guided to the running surface by means of the steam.
  • an annular slot-like steam outlet opening can be provided around the rotating atomizer element, from which the steam emerges in the form of a cone of a predetermined opening angle.
  • An annular arrangement of several separate steam outlet openings can also be considered.
  • electrostatic forces can also be used to guide the atomized application medium to the surface.
  • the rotary atomizing device and in particular its rotating atomizing element can be placed at a predetermined electrical potential, so that the atomized application medium droplets or particles leave the atomizing device in an electrically charged state and the ground or an element assigned to the ground is connected to ground potential , so that an attractive force is exerted on the charged droplets or particles.
  • a device can be provided in the direction of travel of the subsurface in front of the application area, which removes an air boundary layer carried by the running subsurface from the subsurface using steam. This makes it easier to cover the entire surface of the running substrate with application medium, which in turn has an advantageous effect on the application quality, in particular the covering quality of the applied application layer.
  • the invention relates to a device for applying an application medium by means of an atomizing device to a running surface.
  • a device for applying an application medium by means of an atomizing device to a running surface With regard to the structural details, design variants and the advantages which can be achieved with this device, reference is made to the above discussion of the application method according to the invention.
  • An application device is generally designated 10 in FIG. 1.
  • the application device 10 is used to apply an application medium 12 to the surface 14a of a material web 14 which is guided around a support roller 16 in the area of the application device 10.
  • the material web 14 runs past the application device 10 as a result of a rotation of the support roller 16 in the direction of the arrow L.
  • the application device 10 comprises a spray nozzle 18 which dispenses the application medium 12 in atomized form, i.e. as droplets or particles 12a, applied to the material web 14.
  • the droplets or particles 12a impinging on the material web surface 14a flow there and form an application layer 20 on the material web surface 14a.
  • the spray nozzle 18 is arranged in a chamber 22, which is enclosed by a housing 24.
  • the housing 24 is designed to be open toward the support roller 16 and is arranged at such a small distance from it that the material web 14 can enter the region B of the chamber 22 without contact and can also exit from this region B together with the application layer 20 without contact. but that at the same time it is ensured that the atmosphere prevailing in the chamber 22 cannot easily escape from this chamber 22.
  • Water vapor 28 is introduced into the chamber 22 via a feed line 26, which is indicated by the arrow Z in FIG. 1.
  • This water vapor has the task of creating a moist atmosphere in the chamber 22, which prevents the droplets or particles 12a from drying out on their way from the spray nozzle 18 to the material web 14. In this way, a desired low viscosity of the application medium 12 to form the application layer 20 is maintained, so that the droplets or particles 12a pour well after their impact on the material web surface 14a and can thus form an application layer 20 with a smooth surface.
  • part of the water vapor 28 will deposit on the material web 14 or the application layer 20 and thereby further support the flow of the application medium 12.
  • the application medium can be used with the spray nozzle 18 12 are applied to the material web 14 without or essentially without excess (1: 1 application), so that in the running direction L after the application device 10 only an equalization, but not a metering, of the application layer 20 has to take place.
  • the application medium 12 is fed to the spray nozzle 18 via a feed line which adjoins the longitudinal ends of the spray nozzle 18 located in the transverse direction Q of the arrangement in front of or behind the plane of the drawing.
  • the housing 24 has at its lower end an outlet line 30, via which application medium 12, which has inadvertently not reached the material web 14 and has deposited on the walls of the housing 24, can be discharged from the chamber 22 (direction of arrow A ).
  • the spray nozzle 18 is a single-substance spray nozzle which is known per se from the prior art and which atomizes the application medium, for example using ultrasound.
  • FIG. 2 shows a further embodiment variant of the application device according to the invention, the function of which essentially corresponds to the embodiment according to FIG. 1. Therefore, in FIG. 2, analog parts are provided with the same reference numerals as in FIG. 1, but increased by the number 100.
  • the embodiment according to FIG. 2 will only be described in the following to the extent that it differs from the embodiment according to FIG. 1, the description of which is hereby expressly otherwise referred to.
  • the main difference between the application device 110 according to FIG. 2 and the application device 10 according to FIG. 1 is that, instead of a single-substance spray nozzle 18, a two-substance spray nozzle 118 is used to spray the application medium 112.
  • the application medium 112 exits at an outlet opening 118a of the spray nozzle 118 and is discharged from there the water vapor 128 supplied via the feed line 126 is detected, atomized and directed to the surface 114a of the material web 116 guided around the roller 116, where it is deposited as an application layer 120.
  • the maintenance of the moisture in the atomized application medium droplets or particles 112a by the atomization medium, i.e. the steam 128, is ensured without the spray nozzle 118, as in the embodiment according to FIG. 1, being enclosed by a steam box corresponding to the housing 24.
  • a steam box can also be provided in the application device 110 according to FIG. 2, in particular to achieve a certain moistening of the material web 114 and the application layer 120.
  • a steam blower 132 is provided in the embodiment according to FIG. 2 in the running direction L in front of the spray nozzle 118, which counteracts the direction of rotation L of the roller 116 at an acute angle the surface 114a of the material web 114 is turned on, ie like a stabbing blade.
  • the steam blower 132 emits a steam jet 134 which "scrapes" an air boundary layer 136 carried by the material web surface 114a from the material web surface 114a, which could otherwise hinder the coating of the material web 114 with application medium 112.
  • a steam blower can also be provided in the embodiment according to FIG. 1.
  • spray nozzle 118 according to FIG. 2 is shown roughly schematically as a two-component spray nozzle working according to the external mixing principle, two-component spray nozzles operating according to the internal mixing principle can also be used according to the invention.
  • FIG. 3 shows a further embodiment of the application device according to the invention, which essentially corresponds to the embodiment according to FIG. 2. Therefore, the same reference numerals are used in Fig. 3 for analog parts as in Fig. 2, but increased by the number 100, i.e. in comparison with FIG. 1 increased by the number 200. In addition, the embodiment according to FIG. 3 will be described in the following only insofar as it differs from the embodiment according to FIG.
  • a rotary atomizer nozzle 218 is used to coat the surface 214a of the material web 214 which is guided around the roller 216 instead of a two-substance spray nozzle working with steam atomization.
  • the rotary atomizer nozzle 218 includes an atomizer disc 240 which is rotatably driven by a motor 242 at high speeds.
  • Application medium 212 is fed to the rotating atomizer element 240 via a supply line 244, which centrifuges it radially outward under the influence of the centrifugal forces that occur and atomizes it in the process.
  • the application medium droplets 212a After the application medium droplets 212a have left the atomizer element 240, they are caught by a steam jet 228 which is ejected in a ring shape around the atomizer element 240 and deflected towards the material web surface 214a, where they are deposited as an application layer 220.
  • the deflection of the radially thrown droplets or particles 212a can also be accomplished with the aid of electrostatic forces. This is indicated in FIG. 3 in that the atomizing nozzle 218 is connected to a high-voltage source via a connection 246, while the roller 216 is connected to ground potential. As a result, the droplets or particles 212a can be electrically charged during the atomization and pulled from the potential difference between the nozzle 218 and the roller 216 to the material web surface 214a. With regard to avoiding the droplets from drying out 212a or its rewetting should be referred in full to the relevant comments on the embodiment according to FIG. 2.
  • the atomizing nozzle 218 according to FIG. 3 can be arranged in a steam box analogous to FIG. 1.
  • the fact that the application medium according to the invention is conducted to the material web in a rewetting and / or moistening atmosphere and thereby maintains its high flowability has the further advantage of reducing the risk of application medium baking on the nozzle outlet opening and the chamber walls.
  • the device according to the invention is therefore characterized by long operating times between two consecutive maintenance and short downtimes for carrying out the maintenance work.
  • solid, powdered application media can also be processed with the application method according to the invention or with the application device according to the invention.
  • the steam has the task of supplying the atomized powder granules and the material web surface with so much moisture that the application medium can flow to the desired extent after hitting the material web.
  • the application medium was applied directly to the material web, it is also conceivable to apply the application medium to the surface of a transfer roller, which then transfers the application layer to the material web.

Abstract

Bei einem Verfahren zum Aufbringen eines Auftragsmediums (12) mittels einer Zerstäubervorrichtung (18) auf einen laufenden Untergrund, der Im Falle direkten Auftrags die Oberfläche (14a) einer Materialbahn (14), insbesondere aus Papier oder Karton, ist, wird im Bereich (B) der Zerstäubervorrichtung (18) eine Atmosphäre aus einem das zerstäubte Auftragsmedium rückfeuchtenden oder/und befeuchtenden Medium (28) aufrechterhalten. <IMAGE>

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen eines Auftragsmediums mittels einer Zerstäubervorrichtung auf einen laufenden Untergrund, wobei der laufende Untergrund bei direktem Auftrag die Oberfläche einer Materialbahn, insbesondere aus Papier oder Karton, und bei indirektem Auftrag die Oberfläche eines Übertragselements ist, von welchem das Auftragsmedium dann an die Materialbahn übertragen wird.
  • Derartige Vorrichtungen sind im Stand der Technik beispielsweise aus der EP 0 670 004 B1, der WO 94/11116 und der EP 0 435 904 B1 bekannt. Ziel derartiger Zerstäubungs-Auftragsverfahren ist es ganz allgemein, das Auftragsmedium mit möglichst geringem Überschuß, ja im günstigsten Fall sogar vollständig ohne Überschuß (1:1-Auftrag), auf den laufenden Untergrund aufzubringen. Bei den aus den vorstehend genannten Druckschriften genannten Auftragsverfahren wird das Auftragsmedium mittels Luft zerstäubt und zum laufenden Untergrund geführt. Nachdem es sich dort abgesetzt hat, wird die Führungsluft über die Zerstäubervorrichtung umgebende Kanäle wieder aus dem Auftragsbereich abgesaugt. Selbst bei niedrigen Auftrags-Flächengewichten müssen dabei pro Zeiteinheit sehr große Luftmengen zum Untergrund hin geführt und von diesem wieder abgesaugt werden. Es hat sich daher in der Praxis gezeigt, daß sich mit den bekannten Auftragsverfahren lediglich ein in qualitativer Hinsicht nicht zufriedenstellendes Auftragsergebnis erzielen läßt. Trotz anschließender Glättung der aufgetragenen Schicht weist diese eine ungleichmäßige Struktur sowie eine rauhe, sandpapierartige Oberfläche auf.
  • Demgegenüber ist es Aufgabe der Erfindung, ein Zerstäubungs-Auftragsverfahren bereitzustellen, mit welchem sich Auftragsschichten mit gleichmäßigerer und glatterer Oberfläche erzielen lassen.
  • Diese Aufgabe wird durch ein Auftragsverfahren der eingangs genannten Art gelöst, bei welchem man im Bereich der Zerstäubervorrichtung eine Atmosphäre aus einem das zerstäubte Auftragsmedium rückfeuchtenden oder/und befeuchtenden Medium aufrechterhält. Als Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium kann dabei der Dampf einer Flüssigkeit verwendet werden, die auch als Trägerflüssigkeit von vor der Zerstäubung flüssigem oder pastösem Auftragsmedium dient, beispielsweise Wasserdampf, Toluoldampf oder dergleichen. Bei der nachfolgenden Erläuterung der Erfindung wird lediglich aus Gründen der Erleichterung der Diskussion stets auf Wasserdampf als Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium Bezug genommen werden. Eine Beschränkung des Schutzbereichs des erfindungsgemäßen Verfahrens auf die Verwendung von Wasserdampf geht damit jedoch nicht einher.
  • Das Aufrechterhalten einer Dampfatmosphäre im Bereich der Zerstäubervorrichtung ist zur Erzielung eines qualitativ hochwertigen Auftragsergebnisses in mehrfacher Hinsicht vorteilhaft:
  • Zum einen bewegt sich das zerstäubte Auftragsmedium in einer Atmosphäre von der Zerstäubereinrichtung zum laufenden Untergrund, welche ein übermäßiges Entweichen von Feuchtigkeit aus den Auftragsmedium-Tröpfchen bzw. -Partikeln und somit ein Austrocknen zumindest der Oberfläche dieser Tröpfchen bzw. Partikel vermindert, wenn nicht gar vollständig verhindert. Die hierdurch flüssigeren Tröpfchen bzw. Partikel können nach dem Auftreffen auf dem laufenden Untergrund leichter verfließen, was den Erhalt einer glatteren Oberfläche der auf den Untergrund aufgetragenen Schicht ermöglicht.
  • Zum anderen braucht die Dampfatmosphäre nicht aus dem Auftragsbereich wieder abgesaugt zu werden, sondern es ist lediglich erforderlich, Dampfverluste, beispielsweise infolge von Niederschlag des Dampfs als Feuchtigkeit auf dem laufenden Untergrund bzw. der Auftragsschicht durch die Nachfuhr von Frischdampf auszugleichen. Hierdurch können im Auftragsbereich Turbulenzen, wie sie beim Stand der Technik durch die Luftzufuhr und die Luftabsaugung entstehen, weitgehend vermieden werden, was sich auf die Gleichmäßigkeit des Schichtauftrags günstig auswirkt.
  • Der vorstehend angesprochene Niederschlag von Dampf als Feuchtigkeit auf der Auftragschicht hat keine nachteiligen Auswirkungen, da das Wasser in der Auftragsschicht ohnehin als Trägerflüssigkeit des Auftragsmediums vorhanden ist. Im Gegenteil verbessert die sich niederschlagende Feuchtigkeit die Fließfähigkeit des Auftragsmediums in der Auftragsschicht und erlaubt es somit, eine glattere Oberfläche zu erzielen. Vorstehendes gilt auch für jede andere in Auftragsmedien übliche Trägerflüssigkeit und deren Dampf, beispielsweise für Toluol und Toluoldampf.
  • Festzuhalten ist, daß im vorstehenden Sinne unter dem Begriff "Trocknen" das Entweichen von Trägerflüssigkeit aus dem Auftragsmedium in Gasform verstanden wird und unter dem Begriff "Rückfeuchten" die Zufuhr von Trägerflüssigkeit aus der Dampfatmosphäre in die Auftragsmedium-Tröpfchen bzw. -Partikel verstanden wird. Im günstigsten Falle ist die im Bereich der Zerstäubervorrichtung vorgesehene Dampfatmosphäre so beschaffen, daß sich für das zerstäubte Auftragsmedium ein Gleichgewicht zwischen Trocknung und Rückfeuchtung einstellt.
  • Festzuhalten ist ferner, daß sich mit dem erfindungsgemäßen Verfahren auch trockene, pulverförmige Auftragsmedien verarbeiten lassen, wobei der Dampf in diesem Falle an den Auftragsmedium-Partikeln auf deren Weg von der Zerstäubervorrichtung zum laufenden Untergrund kondensiert und diese somit befeuchtet, so daß sie nach Auftreffen auf dem Untergrund verfließen und eine glatte Auftragsschicht bilden können.
  • In Weiterbildung der Erfindung wird vorgeschlagen, daß die Zerstäubervorrichtung in einer Kammer angeordnet ist, in welche man mittels einer hierfür vorgesehenen Zufuhreinrichtung das Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium einleitet.
  • Die Zerstäubereinrichtung kann beispielsweise eine Einstoff-Zerstäubereinrichtung sein. Es ist jedoch ebenso möglich, im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens eine Zweistoff-Zerstäubervorrichtung einzusetzen, welche das Auftragsmedium mittels Dampf zerstäubt. Dabei kann der zur Zerstäubung verwendete Dampf beispielsweise alleine zur Bildung der Dampfatmosphäre im Bereich der Zerstäubereinrichtung dienen. Es ist jedoch ebenso möglich, in den Bereich der Zerstäubereinrichtung noch zusätzlich Dampf einzuleiten.
  • In Abhängigkeit der Randbedingungen des jeweiligen Einsatzfalles, beispielsweise der Konsistenz und Zusammensetzung des zu zerstäubenden Auftragsmediums können sowohl nach dem Innenmischprinzip arbeitende, als auch nach dem Außenmischprinzip arbeitende Zweistoff-Zerstäubervorrichtungen eingesetzt werden.
  • Ferner kann als Zerstäubervorrichtung eine Rotations-Zerstäubervorrichtung eingesetzt werden, bei welcher das Auftragsmedium von einem sich schnell drehenden Zerstäuberelement unter dem Einfluß von auf es einwirkenden Zentrifugalkräften zerstäubt wird. Das so zerstäubte Auftragsmedium kann beispielsweise mittels des Dampfs zum laufenden Untergrund geführt werden. Hierzu kann beispielsweise um das rotierende Zerstäuberelement herum eine ringschlitzartige Dampfauslaßöffnung vorgesehen sein, aus der der Dampf in Form eines Kegels eines vorbestimmten Öffnungswinkels austritt. Auch kommt eine ringförmige Anordnung mehrerer gesonderter Dampfauslaßöffnungen in Betracht.
  • Zusätzlich oder alternativ können auch elektrostatische Kräfte eingesetzt werden, um das zerstäubte Auftragsmedium zum Untergrund zu führen. Hierzu kann man beispielsweise die Rotations-Zerstäubervorrichtung und insbesondere deren rotierendes Zerstäuberelement auf ein vorbestimmtes elektrisches Potential legen, so daß die zerstäubten Auftragsmedium-Tröpfchen oder -Partikel die Zerstäubervorrichtung elektrisch geladen verlassen, und den Untergrund bzw. ein dem Untergrund zugeordnetes Element, auf Massepotential legen, so daß auf die geladenen Tröpfchen bzw. Partikel eine anziehende Kraft ausgeübt wird.
  • Schließlich kann in Laufrichtung des Untergrunds vor dem Auftragsbereich eine Vorrichtung vorgesehen sein, welche eine von dem laufenden Untergrund mitgeführte Luftgrenzschicht unter Einsatz von Dampf von dem Untergrund entfernt. Dies erleichtert die Bedeckung der gesamten Oberfläche des laufenden Untergrunds mit Auftragsmedium, was sich wiederum auf die Auftragsqualität, insbesondere die Abdeckqualität der aufgetragenen Auftragsschicht, vorteilhaft auswirkt.
  • Führt man in Weiterbildung der Erfindung dem Untergrund in Laufrichtung des Untergrunds vor der Zerstäubereinrichtung Dampf zu und saugt diesen in Laufrichtung nach der Zerstäubereinrichtung wieder ab, so kann hierdurch dem sich auf den Untergrund zu bewegenden, zerstäubten Auftragsmedium eine Bewegungskomponente verliehen werden, die dessen Anlagerung an dem Untergrund im Sinne des Erhalts einer glatten Auftragsschicht begünstigt. Die hierzu einzusetzenden Dampfmengen sind im Vergleich zu den vorstehend als nachteilig diskutierten Luftmengen erheblich geringer, so daß keine Verschlechterung der Gleichmäßigkeit des Auftragsergebnisses eintritt.
  • Nach einem weiteren Gesichtspunkt betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zum Aufbringen eines Auftragsmediums mittels einer Zerstäubervorrichtung auf einen laufenden Untergrund. Hinsichtlich der konstruktiven Details, Ausbildungsvarianten, sowie der mit dieser Vorrichtung erzielbaren Vorteile sei auf die vorstehende Diskussion des erfindungsgemäßen Auftragsverfahrens verwiesen.
  • Die Erfindung wird im folgenden an Ausführungsbeispielen anhand der beigefügten Zeichnung näher erläutert werden. Es stellt dar:
    • Fig. 1 bis 3
    schematische Seitenansichten dreier verschiedener Ausführungsformen einer erfindungsgemäßen Auftragsvorrichtung.
  • In Fig. 1 ist eine erfindungsgemäße Auftragsvorrichtung allgemein mit 10 bezeichnet. Die Auftragsvorrichtung 10 dient zum Auftragen eines Auftragsmediums 12 auf die Oberfläche 14a einer Materialbahn 14, welche im Bereich der Auftragsvorrichtung 10 um eine Stützwalze 16 herumgeführt ist. Die Materialbahn 14 läuft infolge einer Drehung der Stützwalze 16 in Richtung des Pfeils L an der Auftragsvorrichtung 10 vorbei. Die Auftragsvorrichtung 10 umfaßt eine Sprühdüse 18, welche das Auftragsmedium 12 in zerstäubter Form, d.h. als Auftragsmedium-Tröpfchen bzw. -Partikel 12a, zur Materialbahn 14 hin abgibt. Die auf der Materialbahnoberfläche 14a auftreffenden Tröpfchen bzw. Partikel 12a verfließen dort und bilden eine Auftragsschicht 20 auf der Materialbahnoberfläche 14a.
  • In der Ausführungsform gemäß Fig. 1 ist die Sprühdüse 18 in einer Kammer 22 angeordnet, welche von einem Gehäuse 24 umschlossen ist. Das Gehäuse 24 ist zur Stützwalze 16 hin offen ausgebildet und von dieser mit einem solch geringen Abstand angeordnet, daß zwar die Materialbahn 14 berührungslos in den Bereich B der Kammer 22 eintreten und samt Auftragsschicht 20 auch wieder berührungslos aus diesem Bereich B austreten kann, daß aber gleichzeitig sichergestellt ist, daß die in der Kammer 22 vorherrschende Atmosphäre nicht ohne weiteres aus dieser Kammer 22 entweichen kann.
  • Über eine Zufuhrleitung 26 wird in die Kammer 22 Wasserdampf 28 eingeleitet, was in Fig. 1 durch den Pfeil Z angedeutet ist. Dieser Wasserdampf hat die Aufgabe in der Kammer 22 eine feuchte Atmosphäre zu schaffen, welche einem Austrocknen der Tröpfchen bzw. Partikel 12a auf ihrem Weg von der Sprühdüse 18 zur Materialbahn 14 vorbeugt. Hierdurch bleibt eine zur Bildung der Auftragsschicht 20 erwünschte niedrige Viskosität des Auftragsmediums 12 erhalten, so daß die Tröpfchen bzw. Partikel 12a nach ihrem Auftreffen auf der Materialbahnoberfläche 14a gut verfießen und somit eine Auftragsschicht 20 mit glatter Oberfläche bilden können. Darüber hinaus wird sich ein Teil des Wasserdampfs 28 auf der Materialbahn 14 bzw. der Auftragsschicht 20 niederschlagen und hierdurch das Verfließen des Auftragsmediums 12 weiter unterstützen. Diese zusätzliche Befeuchtung der Materialbahn 14 bzw. der Auftragsschicht 20 kann ohne weiteres toleriert werden, da Materialbahn 14 und Auftragsschicht 20 aufgrund des von der Herstellung der Materialbahn her in dieser enthaltenen Wassers oder/und des als Trägerflüssigkeit des Auftragsmediums 12 dienenden Wassers ohnehin im Anschluß an die Beschichtung der Materialbahn in der Auftragsvorrichtung 10 getrocknet werden müssen.
  • Gemäß Vorstehendem muß über die Zufuhrleitung 26 nur soviel Wasserdampf 28 in die Kammer 22 nachgeführt werden, wie aufgrund von Kondensation uf der Materialbahn 14 bzw. der Auftragsschicht 20 und aufgrund von Mitnahmeeffekten an der Oberfläche der Auftragsschicht 20 aus der Kammer 22 entweicht. Die in der Kammer 22 herrschende Dampfatmosphäre ist daher relativ ruhig. Insbesondere beeinflußt sie den von der Sprühdüse 18 ausgehenden Sprühstrahl von Auftragsmedium 12 nicht durch Turbulenzen, so daß die Auftragsschicht 20 darüber hinaus relativ gleichmäßig ausgebildet ist. Ferner kann mit der Sprühdüse 18 das Auftragsmedium 12 ohne bzw. im wesentlichen ohne Überschuß auf die Materialbahn 14 aufgebracht werden (1:1-Auftrag), so daß in Laufrichtung L nach der Auftragsvorrichtung 10 lediglich eine Egalisierung, nicht aber eine Dosierung der Auftragsschicht 20 stattfinden muß.
  • Nachzutragen ist noch, daß das Auftragsmedium 12 der Sprühdüse 18 über eine Zuführleitung zugeführt wird, welche sich an in Querrichtung Q der Anordnung vor bzw. hinter der Zeichenebene befindenden Längsenden der Sprühdüse 18 anschließt. Ferner weist das Gehäuse 24 an seinem unteren Ende eine Auslaßleitung 30 aus, über welche Auftragsmedium 12, das versehentlich nicht zur Materialbahn 14 gelangt ist und sich an den Wänden des Gehäuses 24 niedergeschlagen hat, aus der Kammer 22 ausgeleitet werden kann (Richtung des Pfeils A).
  • Nachzutragen ist ferner, daß die Sprühdüse 18 eine aus dem Stand der Technik an sich bekennte Einstoff-Sprühdüse ist, welche das Auftragsmedium beispielsweise unter Einsatz von Ultraschall zerstäubt.
  • In Fig. 2 ist eine weitere Ausführungsvariante der erfindungsgemäßen Auftragsvorrichtung dargestellt, die insbesondere in ihrer Funktion im wesentlichen der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entspricht. Daher sind in Fig. 2 analoge Teil mit gleichen Bezugszeichen versehen wie in Fig. 1, jedoch vermehrt um die Zahl 100. Darüber hinaus wird die Ausführungsform gemäß Fig. 2 im folgenden nur insoweit beschrieben werden, als sie sich von der Ausführungsform gemäß Fig. 1 unterscheidet, auf deren Beschreibung hiermit ansonsten ausdrücklich verwiesen sei.
  • Der Hauptunterschied der Auftragsvorrichtung 110 gemäß Fig. 2 im Vergleich zur Auftragsvorrichtung 10 gemäß Fig. 1 besteht darin, daß anstelle einer Einstoff-Sprühdüse 18 eine Zweistoff-Sprühdüse 118 zum Versprühen des Auftragsmediums 112 eingesetzt wird. Das Auftragsmedium 112 tritt an einer Austrittsöffnung 118a der Sprühdüse 118 aus und wird dort von dem über die Zuführleitung 126 zugeführten Wasserdampf 128 erfaßt, zerstäubt und zur Oberfläche 114a der um die Walze 116 herumgeführten Materialbahn 116 gelenkt, wo es sich als Auftragsschicht 120 niederschlägt.
  • Gemäß Vorstehendem wird bei der Auftragsvorrichtung 110 gemäß Fig. 2 der Erhalt der Feuchtigkeit in den zerstäubten Auftragsmedium-Tröpfchen bzw. -Partikeln 112a durch das Zerstäubungsmedium, d.h. den Wasserdampf 128, sichergestellt, ohne daß die Sprühdüse 118 wie bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 von einem dem Gehäuse 24 entsprechenden Dampfkasten umschlossen ist. Dies schließt jedoch nicht aus, daß insbesondere zur Erzielung einer gewissen Befeuchtung von Materialbahn 114 und Auftragsschicht 120 auch bei der Auftragsvorrichtung 110 gemäß Fig. 2 zusätzlich ein derartiger Dampfkasten vorgesehen sein kann.
  • Als weitere Maßnahme zur Verbesserung des Auftragsergebnisses, insbesondere der Bedeckung der Materialbahn 114 mit Auftragsmedium 112 ist bei der Ausführungsform gemäß Fig. 2 in Laufrichtung L vor der Sprühdüse 118 ein Dampfgebläse 132 vorgesehen, welches entgegen der Drehrichtung L der Walze 116 unter einem spitzen Winkel gegen die Oberfläche 114a der Materialbahn 114 angestellt ist, d.h. nach Art einer Stechklinge. Das Dampfgebläse 132 stößt einen Dampfstrahl 134 aus, der eine von der Materialbahnoberfläche 114a mitgeführte Luftgrenzschicht 136 von der Materialbahnoberfläche 114a "abschabt", welche ansonsten die Beschichtung der Materialbahn 114 mit Auftragsmedium 112 behindern könnte. Selbstverständlich kann auch bei der Ausführungform gemäß Fig. 1 ein derartiges Dampfgebläse vorgesehen sein.
  • Obgleich die Sprühdüse 118 gemäß Fig. 2 grob schematisch als nach dem Außenmischprinzip arbeitende Zweistoff-Sprühdüse dargestellt ist, können erfindungsgemäß ebenso nach dem Innenmischprinzip arbeitende Zweistoff-Sprühdüsen eingesetzt werden.
  • In Fig. 3 ist eine weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Auftragsvorrichtung dargestellt, welche im wesentlichen der Ausführungsform gemäß Fig. 2 entspricht. Daher sind in Fig. 3 für analoge Teile die gleichen Bezugszeichen verwendet wie in Fig. 2, jedoch vermehrt um die Zahl 100, d.h. im Vergleich mit Fig. 1 vermehrt um die Zahl 200. Darüber hinaus wird die Ausführungsform gemäß Fig. 3 im folgenden nur insoweit beschrieben werden, als sie sich von der Ausführungsform gemäß Fig. 2 unterscheidet, auf deren Beschreibung hiermit ansonsten ausdrücklich verwiesen sei.
  • Bei der Auftragsvorrichtung 210 gemäß Fig. 3 wird zur Beschichtung der Oberfläche 214a der um die Walze 216 herumgeführten Materialbahn 214 anstelle einer mit Dampfzerstäubung arbeitenden Zweistoff-Sprühdüse eine Rotations-Zerstäuberdüse 218 verwendet. Die Rotations-Zerstäuberdüse 218 umfaßt eine Zerstäuberscheibe 240, welche mittels eines Motors 242 mit hohen Drehzahlen drehangetrieben ist. Dem rotierenden Zerstäuberelement 240 wird über ein Zufuhrleitung 244 Auftragsmedium 212 zugeführt, von diesem unter dem Einfluß der auftretenden Zentrifugalkräfte radial nach außen geschleudert und dabei zerstäubt. Nachdem die Auftragsmedium-Tröpfchen 212a das Zerstäuberelement 240 verlassen haben, werden sie von einem um das Zerstäuberelement 240 herum ringförmig ausgestoßenen Dampfstrahl 228 erfaßt und zur Materialbahnoberfläche 214a hin umgelenkt, wo sie sich als Auftragsschicht 220 ablagern.
  • Wie dies im Stand der Technik an sich bekannt ist, kann das Umlenken der radial weggeschleuderten Tröpfchen bzw. Partikel 212a auch unter Zuhilfenahme elektrostatischer Kräfte bewerkstelligt werden. In Fig. 3 ist dies dadurch angedeutet, daß die Zerstäuberdüse 218 über einen Anschluß 246 mit einer Hochspannungsquelle verbunden ist, während die Walze 216 auf Massepotential gelegt ist. Hierdurch können die Tröpfchen bzw. Partikel 212a bei der Zerstäubung elektrisch geladen und von der Potentialdifferenz zwischen Düse 218 und Walze 216 zur Materialbahnoberfläche 214a hin gezogen werden. Hinsichtlich der Vermeidung des Austrocknens der Tröpfchen 212a bzw. deren Rückfeuchtung sei vollinhaltlich auf die diesbezüglichen Ausführungen zur Ausführungsform gemäß Fig. 2 verwiesen.
  • Darüber hinaus kann auch die Zerstäuberdüse 218 gemäß Fig. 3 analog Fig. 1 in einem Dampfkasten angeordnet sein. Schließlich ist es auch möglich, die von der Materialbahn 214 mitgeführte Luftgrenzschicht in Laufrichtung L vor der Rotations-Zerstäuberdüse 218 von der Materialbahnoberfläche 214a zu entfernen.
  • Die Tatsache, daß das Auftragsmedium erfindungsgemäß in einer Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungsatmosphäre zur Materialbahn hin geleitet wird und hierdurch seine hohe Fließfähigkeit behält, hat den weiteren Vorteil einer Reduzierung des Risikos eines Anbackens von Auftragsmedium an der Düsenaustrittsöffnung und den Kammerwandungen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung zeichnet sich daher durch lange Betriebszeitdauern zwischen zwei aufeinanderfolgenden Wartungen und kurze Stillstandszeiten zur Durchführung der Wartungsarbeiten aus.
  • Festzuhalten ist, daß mit dem erfindungsgemäßen Auftragsverfahren bzw. mit der erfindungsgemäßen Auftragsvorrichtung auch feste, pulverförmige Auftragsmedien verarbeitet werden können. Dabei hat der Dampf die Aufgabe, den zerstäubten Pulverkörnchen und der Materialbahnoberfläche soviel Feuchtigkeit zuzuführen, daß das Auftragsmedium nach dem Auftreffen auf der Materialbahn in dem gewünschten Maße verfließen kann.
  • Obgleich bei allen drei vorstehend diskutierten Ausführungsformen das Auftragsmedium direkt auf die Materialbahn aufgebracht wurde, ist es auch denkbar, das Auftragsmedium auf die Oberfläche einer Übertragswalze aufzubringen, welche die Auftragsschicht dann an die Materialbahn überträgt.
  • Festzuhalten ist ferner, daß neben Wasser auch andere Medien zur Bildung der Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Atmosphäre geeignet sind, beispielsweise Toluol.

Claims (21)

  1. Verfahren zum Aufbringen eines Auftragsmediums (12; 112; 212) mittels einer Zerstäubervorrichtung (18; 118; 218) auf einen laufenden Untergrund,
       wobei der laufende Untergrund bei direktem Auftrag die Oberfläche (14a; 114a; 214a) einer Materialbahn (14; 114; 214), insbesondere aus Papier oder Karton, und bei indirektem Auftrag die Oberfläche eines Übertragselements ist; von welchem das Auftragsmedium dann an die Materialbahn übertragen wird,
    dadurch gekennzeichnet, daß man im Bereich (B) der Zerstäubervorrichtung (18; 118; 218) eine Atmosphäre aus einem das zerstäubte Auftragsmedium rückfeuchtenden oder/und befeuchtenden Medium (28; 128; 228) aufrechterhält.
  2. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß der Dampf einer Flüssigkeit, die auch als Trägerflüssigkeit von vor der Zerstäubung flüssigem oder pastösem Auftragsmediums dient, als Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (28; 128; 228) verwendet wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
    dadurch gekennzeichnet, daß das Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (28; 128; 228) Dampf, vorzugsweise Wasserdampf, ist.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (128) zur Zerstäubung des Auftragsmediums einsetzt.
  5. Verfahren nach Anspruch 4,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das Auftragsmedium (112) mittels einer Zwei-Stoff-Zerstäubervorrichtung (118) zerstäubt.
  6. Verfahren nach Anspruch 5,
    dadurch gekennzeichnet, daß man eine nach dem Innenmischprinzip arbeitende Zwei-Stoff-Zerstäubervorrichtung verwendet.
  7. Verfahren nach Anspruch 5,
    dadurch gekennzeichnet, daß man eine nach dem Außenmischprinzip arbeitende Zwei-Stoff-Zerstäubervorrichtung (118) verwendet.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das Auftragsmedium mittels einer Rotations-Zerstäubervorrichtung zerstäubt.
  9. Verfahren nach Anspruch 8,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das zerstäubte Auftragsmedium (212) mittels des Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Mediums (228) zum Untergrund (214a) führt.
  10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das zerstäubte Auftragsmedium (212) unter Einsatz elektrostatischer Kräfte (246) zum Untergrund (214a) führt.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (28; 228) dem bereits zerstäubten Auftragsmedium (12; 212) zuführt.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium ferner dazu verwendet, eine von dem laufenden Untergrund (114a) mitgeführte Luftgrenzschicht (136) von dem Untergrund (114a) zu entfernen, bevor dieser in den Auftragsbereich (B) gelangt.
  13. Vorrichtung (10; 110; 210) zum Aufbringen eines Auftragsmediums (12; 112; 212) mittels einer Zerstäubervorrichtung (18; 118; 218) auf einen laufenden Untergrund, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 12,
       wobei der laufende Untergrund bei direktem Auftrag die Oberfläche (14a; 114a; 214a) einer Materialbahn (14; 114; 214), insbesondere aus Papier oder Karton, und bei indirektem Auftrag die Oberfläche eines Übertragselements ist, welches das Auftragsmedium dann an die Materialbahn überträgt,
    dadurch gekennzeichnet, daß der Zerstäubervorrichtung (18; 118; 218) eine Gaszufuhreinrichtung (26; 126; 226) zugeordnet ist, welche im Auftragsbereich (B) eine Atmosphäre aus einem das zerstäubte Auftragsmedium rückfeuchtenden oder/und befeuchtenden Medium (28; 128; 228) aufrechterhält.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 13,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Zerstäubervorrichtung (18) in einer Kammer (22) angeordnet ist, in welche die Gaszufuhreinrichtung (26) das Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (28) einleitet.
  15. Vorrichtung nach Anspruch 13 oder 14,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Zerstäubervorrichtung (118) eine Zwei-Stoff-Zerstäubervorrichtung ist, welche das Auftragsmedium (112) mittels des Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Mediums (128) zerstäubt.
  16. Vorrichtung nach Anspruch 15,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Zwei-Stoff-Zerstäubervorrichtung nach dem Innenmischprinzip arbeitet.
  17. Vorrichtung nach Anspruch 15,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Zwei-Stoff-Zerstäubervorrichtung (118) nach dem Außenmischprinzip arbeitet.
  18. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 14,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Zerstäubervorrichtung (218) eine Rotations-Zerstäubervorrichtung ist.
  19. Vorrichtung nach Anspruch 18,
    dadurch gekennzeichnet, daß das aus der Gaszufuhreinrichtung (226) austretende Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (228) das von der Rotations-Zerstäubervorrichtung (218) zerstäubte Auftragsmedium (212) mitreißt und zum laufenden Untergrund (214a) führt.
  20. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Rotations-Zerstäubervorrichtung (218) und der Untergrund bzw. ein dem Untergrund (214a) zugeordnetes Element (216) auf einem vorbestimmten elektrischen Potential (246) gehalten sind.
  21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 20,
    dadurch gekennzeichnet, daß in Laufrichtung (L) des Untergrunds (114a) vor dem Auftragsbereich (B) eine Vorrichtung (132) vorgesehen ist, welche eine von dem laufenden Untergrund (114a) mitgeführte Luftgrenzschicht (136) unter Einsatz von Rückfeuchtungs- oder/und Befeuchtungs-Medium (134) von dem Untergrund (114a) entfernt.
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