EP0655032A1 - Anti-kopier-film oder -schicht für dokumente. - Google Patents

Anti-kopier-film oder -schicht für dokumente.

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EP0655032A1
EP0655032A1 EP93915945A EP93915945A EP0655032A1 EP 0655032 A1 EP0655032 A1 EP 0655032A1 EP 93915945 A EP93915945 A EP 93915945A EP 93915945 A EP93915945 A EP 93915945A EP 0655032 A1 EP0655032 A1 EP 0655032A1
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EP
European Patent Office
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film
layer
covers
opaque
transparent
Prior art date
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EP93915945A
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English (en)
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Helmut Steininger
Peter Heilmann
Peter Greenside Hewkin
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Emtec Magnetics basf AG GmbH
BASF Magnetics Holding GmbH
Original Assignee
BASF Magnetics GmbH
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Publication date
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Application granted granted Critical
Publication of EP0655032B1 publication Critical patent/EP0655032B1/de
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    • B41M3/148Transitory images, i.e. images only visible from certain viewing angles
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Definitions

  • the invention consists in an anti-copying film or layer for documents, consisting of a film or a layer of transparent material with a plurality of spaced-apart, at least partially opaque areas, the planes of which are roughly predetermined Position opposite the surfaces of the film or layer are arranged so that the anti-copying film is substantially opaque from an approximately perpendicular viewing angle to the surfaces of the film or layer and from a predetermined viewing angle to the surfaces of the film or the layer of anti-copy film is essentially transparent.
  • Such a film which is intended to enable copy-proof documents, is effective in covering up graphic information and / or characters of a document or generally a piece of writing in a vertical line of sight, as is present in a copying machine, and the graphic information and / or characters to make it visible from a predetermined different point of view, related to the level of the document.
  • such an anti-copying film is a transparent plastic film with an opaque surface or with an indented or sawtooth-shaped surface in which a first oblique or vertical surface is either black or reflective with respect to a vertical viewing angle, based on the level of the film or the document, and the other oblique surface is transparent from a different angle, so that the information or characters can be read.
  • Such notched or sawtooth-shaped surfaces are very difficult to produce, since the surfaces first have to be embossed or hammered in, and then the inclined surfaces have to be provided with a black or reflective material, the accuracy of these operations having to be so great that the transparent surfaces are not affected drawn, ie also partially provided with black and reflective material.
  • An anti-copy medium for writing or printing is known from AU-A-610 614, in which the medium contains a photosensitive color system which, when irradiated in a photocopier, makes the writing illegible or makes the copy clearly distinguishable from the original so that either the original becomes worthless or clearly recognizable as copied.
  • Anti-copy film or layer for documents consisting of a film or a layer of transparent material with a plurality of spaced-apart, at least partially opaque areas, the planes of which are approximately in the same predetermined position with respect to the surfaces of the film or the layer are arranged so that the anti-copying film is essentially opaque from an approximately perpendicular viewing angle on the surfaces of the film or layer and from a predetermined viewing angle on the surfaces of the film or layer of the anti-copying film.
  • the film is essentially transparent, in that each area is formed from at least first opaque covers on one of the surfaces of the film or layer and at least second opaque covers on the other of the surfaces of the film or layer, and in that the at least first and second covers essentially hori are arranged zonally.
  • first and second covers can be arranged offset parallel to one another in horizontal planes.
  • the first and second covers can have approximately the same width (in cross section) and can be arranged on a gap without significant overlaps.
  • first and second covers it is also possible for the first and second covers to have approximately the same width and to be arranged on a gap with overlaps. It may also be appropriate to design the first and second covers with different widths.
  • the covers can be applied as a line structure on both sides to a transparent film or layer, in particular in terms of printing technology.
  • such a film according to the invention is characterized in that a first photosensitive layer is applied to a transparent film on the one hand, directly exposed and developed, and that a second photosensitive layer is subsequently applied to the transparent film on the other hand, directly exposed and is developed.
  • a further practical training is given in that a first photosensitive layer is applied to a transparent film on the one hand, is directly exposed and developed, and that a second photosensitive layer is then applied to the transparent film on the other hand, indirectly through the first developed, photosensitive Layer and the film is exposed and developed.
  • a further variant consists in that on the one hand a line structure and on the other hand a photosensitive layer is applied to a transparent film, and the photosensitive layer is exposed and developed through the line structure.
  • the exposure can take place by means of parallel or divergent radiation, so that either there is almost no overlap of the covers or just one overlap.
  • An advantageous embodiment results from the fact that, on the one hand, a negative resist layer is applied to a transparent film and a positive resist layer is applied to the other side, and both layers are exposed by exposure through a line structure mask from the side of the negative resist layer and both layers are washed out are formed.
  • the photosensitive layer material can expediently be a photographic emulsion or else a plastic layer with photoinitiators.
  • non-opaque layer material is made opaque before application, in particular by adding colors.
  • a non-opaque layer material can be provided with opaque material, for example color, after the application, exposure and development at the raised or deepened areas.
  • the finished layers with the covers can also be sealed against damage by means of a transparent lacquer coating.
  • the at least partially opaque and / or reflective covers can be essentially in the form of strips and can be arranged approximately parallel to and equidistant from one another.
  • Fig. 3 covers according to the invention, produced by double-sided photosensitive layers
  • Fig. 10 is a multiple film version of the anti-copy film according to the invention.
  • these covers are intended to cover optically.
  • a very thin opaque and possibly additionally reflective layer is sufficient for this.
  • the layer thickness can reach without further film thickness.
  • the layers should be black or reflective.
  • the copy protection film can be attached to the original to be protected using adhesive or other types of adhesive.
  • the oblique opaque planes are said to be approximately 2.5 microns thick and approximately 25 microns apart. The implementation of such a theoretical copy protection film is not described.
  • FIG. 1b shows a copy protection film 11 described in the same US Pat. No. 3,887,742 with a plastic material Z, which has a sawtooth-shaped surface 12, which likewise consists of transparent plastic.
  • the oblique tooth flanks V should be black or reflective, while the vertical flanks W are transparent.
  • the information on an original is erased or obscured with a vertical viewing or copying direction and the information is made visible with an oblique viewing direction (angular range ⁇ as stated above).
  • FIGS. 2a and 2b Embodiments of the present invention are shown schematically in FIGS. 2a and 2b.
  • the present invention takes the following route.
  • Anti-copying films or layers here consist of a transparent film or a transparent layer S (hereinafter referred to only as film S), which is provided with approximately parallel and strip-shaped covers A, which are described above (AI ) and below (A2) on the film surfaces and with gaps L to each other and under defined (approx. ten) viewing angles as optical covers and at other viewing angles approximately 30-73 °, in particular approximately 45 ° to approximately 60 °, are intended to serve as optical openings.
  • film S transparent film or a transparent layer S
  • covers A which are described above (AI ) and below (A2) on the film surfaces and with gaps L to each other and under defined (approx. ten) viewing angles as optical covers and at other viewing angles approximately 30-73 °, in particular approximately 45 ° to approximately 60 °, are intended to serve as optical openings.
  • the covers AI and A2 are arranged essentially horizontally, which means that although slight deviations from the horizontal plane are harmless, they are not necessary in the sense of the invention, such as the inclined plane arrangement in FIGS. 1a and 1b.
  • the covers AI and A2 have the same or different dimensions as can be seen from the comparison of FIGS. 2a and 2b.
  • FIG. 2a essentially the same widths of AI and A2 are used at the top and bottom, while in FIG. 2b the widths of the covers A2 'are larger than those of the covers AI'.
  • the film thickness s is in the large range from approx. 5 ⁇ to approx. 300 ⁇ , in particular between approx. 20 ⁇ and 100 ⁇ .
  • the film thickness s is practically in the range of
  • the longer path (h) of the light rays must also take into account the fact that, in addition to the visible area, there is also an invisible area a on the document D which is "optically switched off" by the covers AI, A2.
  • the value has the maximum value for a
  • the anti-copy films 13 and 14 can be printed using all suitable printing methods with the parallel line structures (covers) AI, L; Manufacture A2, L or AI ', L' as well as A2 ', L' on one or both sides at the same time.
  • the exact positioning of the covers AI and AI 'to their counterparts A2 and A2' is assumed and depends on the respectively given viewing angle ⁇ .
  • the thickness of the printing layers is of the order of magnitude of less than 1 ⁇ m, so that the above fear of obtaining enlarged invisible areas a becomes irrelevant.
  • the parallel line structures AI, L; A2, L or AI ', L' and A2 ', L' produced photographically by applying or coating photosensitive layers B1 or B2 one after the other on both sides of the film S.
  • the layer B1 in a suitable technique, e.g. Laminating, spraying, etc., applied, then exposed through a mask Ml and developed in a suitable manner.
  • a suitable technique e.g. Laminating, spraying, etc.
  • Layer B2 is then applied, exposed through M2 (which corresponds to Ml and can also be Ml) and then developed. Exposure of layer B2 can expediently also take place through layer B1 which has already been exposed and developed. This would make the mask M2 obsolete.
  • the exposure is carried out with suitable light sources and is symbolized by the arrows b.
  • FIG. 4 shows a variant for producing the anti-copying film 15 in FIG. 3 using the anti-copying film 16.
  • the line structure LS is applied to one side of the film S in terms of printing technology.
  • the photosensitive layer B is then exposed through the print line structure, which thus takes over the mask function.
  • the covers AI and A2 are exposed with parallel light radiation (collimated light) or divergent light.
  • parallel light the arrangement of the covers AI and A2 does not overlap on the gap (FIG. 2a) and overlaps in the case of divergent light, as in FIG. 2b, for example.
  • FIG. 5 shows an anti-copying film 17 with a photosensitive layer BN and FIG. 6 shows an anti-copying film 18 with a photosensitive layer BP.
  • BN stands for negative photoresist material and BP for positive resist material.
  • Negative photoresists are generally based on photopolymerizable mixtures which, in addition to a polymeric binder, contain a photopolymerizable compound with a photoinitiator. Such mixtures contain e.g. partially cyclized polyisoprene as a polymerizable compound and a diazide compound as a light-sensitive difunctional crosslinker (photoinitiator). Partially cyclized polybutadiene is also known as a polymerizable compound and diazides (see above).
  • Positive-working photoresists are conventional systems consisting of a photo-insensitive alkali-soluble matrix based on novolaks and a photosensitive component which acts as a solubility inhibitor and is converted into alkali-soluble products by exposure, so that the entire exposed areas become soluble in the alkaline development solvent.
  • Resists for the short-wave UV range are also e.g. Poly-methyl methacrylate, copolymers of methyl methacrylate and indenone and of methyl methacrylate and 3-oximino-2-butanone are known as photoactive components.
  • Two-component systems composed of a poly-methyl-methacrylate-co-methacrylic acid matrix and o-nitrobenzyl esters are also known, e.g. Esters of cholic acid, as solubility inhibitors ..
  • Suitable photoresist materials can be selected for the purpose of the invention, if appropriate using suitable transparent adhesives or adhesives, and can be used with advantage.
  • FIG. 5 after exposure to radiation (arrows b) through a mask M, the parts M1 and M2 remain as hardened parts, which form the covers, after the development of the negative resist layer BM (FIG. 5b).
  • the washed spaces R1-R3 in FIG. 5c and R4-R5 can be coated with opaque material, e.g. Color pigments or the like can be filled out in a suitable manner, so that in this case the covers are realized by the spaces R1-R5. In these cases, however, the resist material must be transparent.
  • FIG. 7 A further production method for an anti-copying film 19 is shown in FIG. 7, the upper layer being a negative resist layer BN and the lower layer being a positive resist layer BP.
  • the layer BN After exposure of the layer BN and development, after which the hardened parts N1 and N2 remain, exposure is again carried out from above (arrows b) through the finished upper layer, which serves as a mask for the lower layer BP in the exposure process , so that the parts P1-P3 remain after development.
  • the negative resist material of the layer BN must be opaque or the same by exposure and washing out, or a mask M must be used, or the parts N1 and N2 must be colored opaque before the second exposure, by a Cover layer AS, as indicated in Fig. 7b.
  • either the raised parts Nl, N2 and P1-P3 must be colored opaque, or the gaps, as described for FIGS. 5c, 6c, must be made opaque when the parts Nl, N2 and P1 -P3 are transparent.
  • the photosensitive layers are applied to the film S in a conventional manner.
  • it is known to apply very thin layers by means of adsorptive or adhesive techniques.
  • the layers produced photographically or photopolymerically have a thickness in the range from approximately 0.1 ⁇ m to approximately 10 ⁇ m or only slightly above.
  • electrostatic or adhesive forces can of course also be used to attach the films.
  • FIG. 10 shows a further variant of the anti-copying films according to the invention, which is distinguished by a multilayer arrangement of individual films or layers.
  • 3 individual films or layers S1-S3, each of which has covers A on one side only, can be transparently connected to one another.
  • 2 individual films or layers S1 and S2 can also be transparently connected to one another and to a carrier film F.
  • the films S1 and S2 would be different in that film S1 or S2 would be provided with covers A on both sides and the other film S2 would only be formed with covers A (bottom) and S1 only with covers A (top) ought to.
  • Multi-layer arrangements are also conceivable.
  • the physical transparency is defined as the ratio of the quantity of light J transmitted to the quantity of light J 0 that is incident
  • the opacity (the opacity) is the reciprocal of it
  • Oph J
  • transparent such as films, layers, adhesive or adhesive layers
  • P ⁇ 1 the opacity 0 Ph of the materials referred to as “opaque” or light “opaque”
  • covers should be as large as possible.
  • a large light scatter or light reflection of the material which is intended to act as a cover can also be as advantageous in the sense of the present invention as a material with high opacity if the ratio of the amount of light J 0 which is incident is very much larger is as the let through J 0 >> J.
  • an anti-copying film or layer for originals or documents consists of transparent film material with a large number of spaced-apart, at least partially opaque and possibly reflecting areas which act as covers on the film surfaces in the are arranged essentially in horizontal planes, in particular offset parallel to one another, so that information of an underlying original is hidden in an approximately vertical viewing direction and the information is visible in the direction of a predetermined viewing angle.
  • Appropriate production methods enable the use of photo techniques.

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Description

Anti-Kopier-Film oder -Schicht für Dokumente
Beschreibung
Die Erfindung besteht in einem Anti-Kopier-Film oder -Schicht für Dokumente, bestehend aus einem Film oder einer Schicht aus trans¬ parentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise undurchsichtigen Bereichen, de- ren Ebenen in etwa derselben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films oder der Schicht angeordnet sind, so daß aus einem etwa senkrechten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Films oder der Schicht der Anti-Kopier-Film im wesentlichen un¬ durchsichtig ist und aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Films oder der Schicht der Anti-Kopier-Film im wesentlichen durchsichtig ist.
Ein Anti-Kopie-Film der oben bezeichneten Art ist in der
US-A 3 887 742 beschrieben. Ein solcher Film, der kopiersichere Dokumente ermöglichen soll, ist wirksam, grafische Informationen und/oder Zeichen eines Dokumentes oder allgemein eines Schrift¬ stücks zu verdecken in senkrechter Blickrichtung, wie sie in ei¬ nem Kopiergerät vorliegt, und die grafischen Informationen und/ oder Zeichen unter einem vorbestimmten anderen Blickwinkel, bezo- gen auf die Ebene des Dokumentes, sichtbar zu machen.
Praktisch ist ein solcher Anti-Kopier-Film eine transparente Kunststoff-Folie mit darin befindlichen undurchsichtigen oder mit einer beliebig eingekerbten oder im Querschnitt sägezahnförmigen Oberfläche, worin eine erste schräge oder senkrechte Fläche ent¬ weder schwarz oder reflektiv ist in bezug auf einen senkrechten Blickwinkel, bezogen auf die Ebene der Folie oder des Dokumentes, und die andere schräge Fläche durchsichtig ist unter einem ande¬ ren Blickwinkel, so daß die Informationen bzw. Zeichen lesbar sind. Solche eingekerbten oder sägezahnförmigen Oberflächen sind sehr schwierig herstellbar, da zuerst die Oberflächen geprägt oder eingeschlagen werden müssen, und dann die Schrägflächen mit einem schwarzen oder reflektierenden Material versehen werden müssen, wobei die Genauigkeit dieser Arbeitsgänge so groß sein muß, daß die Transparentflächen nicht in Mitleidenschaft gezogen, d.h. ebenfalls teilweise mit schwarzem und reflektierendem Mate¬ rial versehen werden. Für die theoretische Schrägflächenausbil¬ dung innerhalb der Folie sind praktische Herstellausführungen nicht beschrieben. Ein Anti-Kopier-Medium für Geschriebenes oder Gedrucktes ist aus der AU-A-610 614 bekannt, worin das Medium ein photoempfindliches Farbsystem enthält, das bei Bestrahlung in einem Photokopierer die Schrift unlesbar macht oder die Kopie vom Original deutlich unterscheidbar macht, so daß entweder das Original wertlos wird oder klar als kopiert erkennbar wird.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Anti-Kopier-Film oder eine -Schicht bereitzustellen, der bzw. die einfacher her- stellbar und wirtschaftlicher ist.
Anti-Kopie-Film oder -Schicht für Dokumente, bestehend aus einem Film oder einer Schicht aus transparentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise undurchsichtigen Bereichen, deren Ebenen in etwa der¬ selben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films oder der Schicht angeordnet sind, so daß aus einem etwa senkrech¬ ten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Films oder der Schicht der Anti-Kopier-Film im wesentlichen undurchsichtig ist und aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Films oder der Schicht der Anti-Kopier-Film im wesentlichen durchsich¬ tig ist, dadurch gelöst, daß jeder Bereich aus mindestens ersten undurchsichtigen Abdeckungen auf einer der Oberflächen des Films oder der Schicht und mindestens zweiten undurchsichtigen Abdek- kungen auf der anderen der Oberflächen des Films oder der Schicht gebildet ist, und daß die mindestens ersten und zweiten Abdeckun¬ gen im wesentlichen horizontal angeordnet sind.
Dadurch vereinfacht sich die Herstellung eines solchen, ansonsten mechanisch und/oder chemisch herzustellenden Films beträchtlich, und es ergeben sich beträchtliche Variationsmöglichkeiten je nach der gerade angestrebten Anwendung.
Praktisch können die ersten und zweiten Abdeckungen in Horizon- talebenen parallel zueinander versetzt angeordnet sein.
In zweckmäßiger Ausbildung können die ersten und zweiten Abdek- kungen etwa dieselbe Breite (im Querschnitt) aufweisen und auf Lücke ohne wesentliche Überlappungen angeordnet sein.
Es ist jedoch auch möglich, daß die ersten und zweiten Abdeckun¬ gen etwa dieselbe Breite aufweisen und auf Lücke mit Überlappun¬ gen angeordnet sind. Es kann auch zweckmäßig sein, die ersten und zweiten Abdeckungen mit unterschiedlichen Breiten auszubilden. Praktisch können die Abdeckungen als Linienstruktur beidseitig auf einen transparenten Film oder eine Schicht, insbesondere drucktechnisch, aufgebracht sein.
Das ist für die Massenherstellung solcher Filme und Schichten eine sehr günstige Herstellbarkeit.
Praktisch ist ein solcher erfindungsgemäßer Film dadurch gekenn¬ zeichnet, daß eine erste photosensitive Schicht einerseits auf einen transparenten Film aufgebracht, direkt belichtet und ent¬ wickelt ist und daß danach eine zweite photosensitive Schicht an¬ dererseits auf den transparenten Film aufgebracht, direkt belich¬ tet und entwickelt ist.
Eine weitere praktische Ausbildung ist dadurch gegeben, daß eine erste photosensitive Schicht einerseits auf einen transparenten Film aufgebracht, direkt belichtet und entwickelt ist und daß da¬ nach eine zweite photosensitive Schicht andererseits auf den transparenten Film aufgebracht, indirekt durch die erste entwik- kelte, photosensitive Schicht und den Film hindurch belichtet und entwickelt ist.
Eine weitere Variante besteht darin, daß auf einen transparenten Film einerseits eine Linienstruktur und andererseits eine photo- sensitive Schicht aufgebracht ist, und die photosensitive Schicht durch die Linienstruktur hindurch belichtet und entwickelt ist.
Dabei kann die Belichtung mittels paralleler oder divergenter Strahlung erfolgen, so daß entweder annähernd keine Überlappung der Abdeckungen oder gerade eine Überlappung erfolgt.
Eine vorteilhafte Ausführung ergibt sich dadurch, daß auf einen transparenten Film einerseits eine Negativ-Resistschicht und auf die andere Seite eine Positiv-Resistschicht aufgebracht ist und beide Schichten durch Belichten durch eine Linienstruktur-Maske von der Seite der Negativ-Resistschicht hindurch und Auswaschen beider Schichten gebildet sind.
Das photosensitive Schichtmaterial kann zweckmäßig eine photogra- phische Emulsion oder auch eine KunststoffSchicht mit Photoini¬ tiatoren sein.
Es ist auch vorteilhaft, wenn ein nicht undurchsichtiges Schicht¬ material, vor dem Auftrag undurchsichtig gemacht, insbesondere durch Farbzumischung. Dabei kann ein nicht undurchsichtiges Ξchichtmaterial nach dem Auftragen, Belichten und Entwickeln an den erhabenen oder ver¬ tieften Stellen mit undurchsichtigen Material, z.B. Farbe, verse¬ hen sein.
Die fertigen Schichten mit den Abdeckungen können auch mittels eines transparenten Lacküberzugs gegen Beschädigung versiegelt sein.
Weitere Patentansprüche beziehen sich auf eine Mehrfilm- oder -Schichtausführung des erfindungsgemäßen Anti-Kopier-Films sowie auf vorteilhafte Dimensionierungsbereiche der Abdeckungen, des Films oder der Schicht bzw. einer eventuellen Trägerfolie, um weitgehend optimale Abdeck- und Durchsichtverhältnisse zu errei- chen. Konkret können die zumindest teilweise undurchsichtigen und/oder reflektierenden Abdeckungen im wesentlichen als Streifen ausgebildet und etwa parallel zu und gleichabständig voneinander angeordnet sein.
Die Erfindung ist anhand von Zeichnungen in einzelnen Ausfüh¬ rungsformen nachfolgend beschrieben.
Es zeigen
Fig. 1, a und b
Ausführungen von Kopier-Sicherungsfolien nach dem Stand der Tech¬ nik mit Schrägflächen
Fig. 2, a und b erfindungsgemäße Anti-Kopier-Filme mit Abdeckungen
Fig. 3 erfindungsgemäße Abdeckungen, durch beidseitige photosensitive Schichten erzeugt
Fig. 4 erfindungsgemäße Abdeckungen gebildet durch Belichtung einer pho¬ tosensitiven Schicht durch eine Druck-Maske hindurch
Fig. 5, a-c schematische Herstellung von erfindungsgemäßen Abdeckungen mit¬ tels Negativ-Resist-Materials Fig. 6 , a-c schematische Herstellung wie nach Fig. 5, a-c jedoch mittels Po- sitiv-Resist-Materials
Fig. 7, a und b schematische Herstellung von beidseitigen erfindungsgemäßen Ab¬ deckungen durch gleichzeitige Verwendung von Negativ- und Posi- tiv-Resist-Material
Fig. 8 und 9 schematische geometrische Darstellungen eines erfindungsgemäßen
Anti-Kopier-Films
Fig. 10 eine Mehrfach-Film-Ausführung des erfindungsgemäßen Anti-Kopier- Films
Definitionen:
Abdeckungen
Im Sinne der Erfindung sollen diese Abdeckungen optisch abdecken. Dafür ist im Extremfall eine sehr dünne lichtundurchlässige und ggf. zusätzlich reflektierende Schicht ausreichend. Die Schicht¬ dicke kann dabei ohne weiteres Foliendicke erreichen.
Belichtung
Kann durch optische Masken hindurch erfolgen, wobei diese auf die zu belichtende Schicht aufgelegt wird (im Kontakt) .
Kann auch kontaktlos erfolgen mittels Abtasters (Scanners), meh¬ rerer Lichtquellen (z.B. Photodioden-Anordnung [Array] , wobei die mehreren Lichtquellen auch optisch, z.B. durch Beugungsgitter, erzeugbar sind.
Lichtquelle
ist jede Strahlung emittierende Vorrichtung.
Strahlung
wird erzeugt durch alle elektromagnetischen Quellen, schließt auch jede Korpuskular-Strahlung (z.B. Elektronenstrahlen) ein. Entwicklung
Chemische Entwicklung bei photographischen Schichten und Auswa¬ schen mittels geeignetem Lösungsmittel oder Wasser bei photosen- sitiven Kunststoffen.
Beschreibung
Figur la zeigt eine bekannte theoretische Kopierschutzfolie, be- stehend aus einem dünnen durchsichtigen Kunststoff-Material Q auf einem transparenten Trägermaterial G, wobei im Material Q eine Reihe von parallelen und gleichabständigen, undurchsichtigen, schrägen Ebenen im Winkelbereich von γ = 50 bis 70°, vorzugsweise von 60° zur Oberfläche des Materials Q vorgesehen sind. Die Ebenen sollen schwarz oder reflektierend sein. Die Kopierschutzfolie kann über Kleben oder andere Haftarten auf dem zu schützenden Original angebracht werden. Die schrägen opaken Ebenen sollen etwa 2,5 μ dick sein und etwa im Abstand von 25 μangeordnet sein. Die Realisation einer derartigen theoretischen Kopierschutzfolie ist nicht beschrieben.
Figur lb zeigt eine in derselben US-A-3 887 742 beschriebene Ko¬ pierschutzfolie 11 mit einem Kunststoffmaterial Z, das eine Säge¬ zahnform-Oberfläche 12 aufweist, die ebenfalls aus transparentem Kunststoff besteht. Dabei sollen die schrägen Zahnflanken V (s. dickere Strichstärke) schwarz oder reflektierend sein, während die senkrechten Flanken W transparent sind.
Es ergibt sich wie im obigen Beispiel ein Auslöschen oder Verdek- ken der Informationen auf einem Original bei senkrechter Blick¬ oder Kopierrichtung und ein Sichtbarmachen der Informationen bei schräger Blickrichtung (Winkelbereich γ wie oben angegeben) .
Ausführungen der vorliegenden Erfindung sind in Figuren 2a und 2b schematisch dargestellt.
Im Unterschied zu den bekannten Kopierschutzfolien in Figuren la und lb, in denen ausnahmslos schräge Ebenen oder Flächen als op¬ tische Verdeckungsmittel ausgenutzt werden, geht die vorliegende Erfindung den folgenden Weg.
Anti-Kopier-Filme oder -Schichten bestehen hierbei aus einem transparenten Film oder einer transparenten Schicht S (im fol¬ genden wird nur vom Film S gesprochen) , der bzw. die mit etwa parallelen und streifenförmigen Abdeckungen A versehen ist, die oben (AI) und unten (A2) auf den Filmoberflächen und mit Lücken L zueinander angebracht sind und unter definierten (ca. senkrech- ten) Blickwinkeln als optische Abdeckungen und unter anderen Blickwinkeln ca. 30-73°, insbesondere etwa 45° bis etwa 60°, als optische Öffnungen dienen sollen.
Die Abdeckungen AI und A2 sind im wesentlichen horizontal an¬ geordnet, was bedeutet, daß zwar geringe Abweichungen aus der Ho- rizontaiebene unschädlich sind, aber im Sinne der Erfindung nicht notwendig sind, wie etwa die schräge Ebenenanordnung in Figur la und lb.
Die Abdeckungen AI und A2 haben gleiche oder unterschiedliche Ab¬ messungen wie aus dem Vergleich von Figuren 2a und 2b hervorgeht. In Figur 2a sind oben und unten im wesentlichen gleiche Breiten von AI und A2 benutzt, während in Figur 2b, die Breiten der Ab- deckungen A2' größer als die der Abdeckungen AI' sind.
Die für eine praktische Anwendung solcher Filme mit Abdeckungen notwendigen geometrischen Betrachtungen werden im folgenden an¬ hand der Schemaskizzen der Figuren 8 und 9 erläutert.
φ: Effektiver Öffnungswinkel der marktüblichen Kopiergeräte 6°<_ φ/2 < 54°
dg: Breite der Abdeckungen AI, A2
do: Breite der Lücke L zwischen den Abdeckungen
s: Dicke des Films S
h: Dicke einer eventuellen Trägerfolie F
x: Überlappungsbreite der Abdeckungen AI und A2
p: Summe der Breiten dg und do
α: Mittlerer Betrachtungswinkel zum Lesen
Transmission der Anordnung
do
T- dg + do
Es ergibt sich aus der Geometrie der Skizze (Fig. 8! tan φ 2 = x/s = Y
für den mittleren Betrachtungswinkel α = 45° ergibt sich
dg + do = 2 s
do = 2 s - dg
dg = s + x
dg > s wenn α > 45°
Mit A = 1/tan α und A > Y
ergibt sich
dg = s (A + Y)
do = s (A - Y)
und für die Transmission folgt
do
T- dg + do
= 1/2 (A-Y) .
Mit dem Winkelbereich 6° < φ/2 < 54° wird die Systemparamter-Un- gleichung
0,05 < Y < 0,5
erhalten.
Wird der Winkelbereich auf 6= < φ/2 < 12° begrenzt, ergibt sich
0,05 Y ≤. 0,1.
Für den Betrachtungswinkelbereich wird angenommen
A = 1/tan α und 73° < α < 30,5°, daraus folgt:
0,3 < A a. 1,7 Die Filmdicke s liegt im großen Bereich von ca. 5 μ bis ca. 300 μ, insbesondere zwischen etwa 20 μ und 100 μ.
Die Filmdicke s liegt für dieses Rechenbeispiel praktisch im Be- reich von
5 μ < s < 100 μ.
Daraus folgen für do und dg die Bereiche:
Die Werte von do und dg zeigen, welch großen Einfluß der Betrach¬ tungswinkel α für die Dimensionierung besitzt.
Wird eine Trägerfolie F benutzt, so muß durch den längeren Weg (h) der Lichtstrahlen noch berücksichtigt werden, daß es außer dem sichtbaren Bereich auch einen durch die Abdeckungen AI, A2 selbst "optisch abgeschalteten" unsichtbaren Bereich a auf dem Dokument D gibt.
Es ergibt sich die Beziehung:
h = 2 s - a oder 2 - y
a = 2 s - h (2 - y)
für h ( 2 - y) » 2 s
geht a
Bei Vergrößerung von h strebt a gegen Null, was anzustreben ist,
Als Höchstwert für a hat sich der Wert
a <_ 0,3 dg herausgestellt. Damit wird ein sehr kleiner unsichtbarer Bereich a erhalten. Zur Verdeutlichung wurden die Werte von h min in obige Tabelle aufge¬ nommen, wobei sich an den unterschiedlichen Werten auch der be¬ trächtliche Einfluß von A bzw. α auf h min zeigt.
Bei obiger Betrachtung wurde die Dicke der Abdeckungen, die den Wert a noch vergrößern könnten, vernachlässigt.
Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Anti-Kopier-Filme oder -Fo- lien wird beispielhaft folgendes beschrieben.
Die Anti-Kopier-Filme 13 und 14 lassen sich einmal drucktechnisch mittels aller geeigneter Druckverfahren mit den Parallel-Linien- strukturen (Abdeckungen) AI, L; A2, L bzw. AI', L' sowie A2 ' , L' einseitig oder beidseitig gleichzeitig herstellen. Das genaue Po¬ sitionieren der Abdeckungen AI bzw. AI' zu ihren Pendants A2 bzw. A2 ' wird dabei vorausgesetzt und hängt vom jeweilig vorgegebenen Sichtwinkel α ab.
Die Dicke der Druckschichten liegt dabei in der Größenordnung von unter 1 μ, so daß obige Befürchtung, dadurch vergrößerte unsicht¬ bare Bereiche a zu erhalten, gegenstandslos wird.
In Figur 3 werden die Parallel-Linienstrukturen AI, L; A2, L bzw. AI', L' und A2' , L' photographisch hergestellt durch Auftragen bzw. Beschichten von photosensitiven Schichten Bl bzw. B2 nach¬ einander auf beide Seiten des Films S.
Zunächst wird z.B. die Schicht Bl in geeigneter Technik, z.B. Aufkaschieren, Aufspritzen usw., aufgebracht, dann durch eine Maske Ml hindurch belichtet und in geeigneter Weise entwickelt.
Anschließend wird die Schicht B2 aufgebracht, durch M2 (die Ml entspricht und auch Ml sein kann) hindurch belichtet und dann entwickelt. Zweckmäßig kann die Belichtung der Schicht B2 auch durch die bereits belichtete und entwickelte Schicht Bl hindurch erfolgen. Die Maske M2 wäre dadurch hinfällig.
Die Belichtung wird mit geeigneten Lichtquellen vorgenommen und ist durch die Pfeile b symbolisiert.
In Figur 4 wird eine Variante zur Herstellung des Anti-Kopier- Films 15 in Figur 3 anhand des Anti-Kopier-Films 16 dargestellt. Zuerst wird drucktechnisch die Linienstruktur LS auf eine Seite des Films S aufgebracht. Danach wird die photosensitive Schicht B durch die Druck-Linienstruktur hindurch belichtet, die damit die Maskenfunktion übernimmt. Je nach gewünschtem Überlappungsbereich der Abdeckungen AI und A2 erfolgt die Belichtung mit Parallel- Licht-Strahlung (kollimiertem Licht) oder divergentem Licht. Bei parallelem Licht erhält man die Anordnung der Abdeckungen AI und A2 auf Lücke nicht überlappt (Fig. 2a) und bei divergentem Licht überlappt, wie z.B. in Figur 2b.
Figur 5 zeigt einen Anti-Kopier-Film 17 mit einer photosensitiven Schicht BN und Figur 6 einen Anti-Kopier-Film 18 mit einer photo¬ sensitiven Schicht BP.
BN steht für Negativ-Photoresist-Material und BP für Positiv-Re- sist-Material.
Diese Materialien unterscheiden sich funktioneil dadurch, daß der Negativ-Resist an den belichteten Stellen aushärtet und der Posi- tiv-Resist an den belichteten Stellen besser löslich, also aus¬ waschbar, wird.
Negativ arbeitende Photoresists basieren im allgemeinen auf pho- topolymerisierbaren Gemischen, die neben einemm polymeren Binde¬ mittel eine photopolymerisierbare Verbindung mit einem Photoini¬ tiator enthalten. Derartige Gemische enthalten z.B. partiell cy- clisiertes Polyisopren als polymerisierbare Verbindung und eine Diazid-Verbindung als lichtempfindlichen difunktioneilen Vernet- zer (Photoinitiator) . Es sind auch teilcyclisiertes Polybutadien als polymerisierbate Verbindung und Diazide (s.o.) bekannt.
Positiv arbeitende Photoresists sind konventionelle Systeme aus einer photounempfindlichen alkalilöslichen Matrix auf Basis von Novolaken und einer photoempfindlichen Komponente, die als Lös- lichkeitsinhibitor wirkt und durch Belichtung in alkalilösliche Produkte umgewandelt wird, so daß die gesamten belichteten Berei¬ che in dem alkalischen Entwicklungslösungsmittel löslich werden.
Als Resiste für den kurzwelligen UV-Bereich sind auch z.B. Poly- methyl-methacrylat, Copolymere aus Methylmethacrylat und Indenon sowie aus Methylmethacrylat und 3-Oximino-2-butanon als photoak¬ tive Komponente bekannt. Ebenfalls sind auch ZweikomponentenSy¬ steme aus einer Poly-methyl-methacrylat-co-methacrylsäure-Matrix und o-Nitrobenzylestern bekannt, z.B. Estern der Cholsäure, als Lös1ichkeitsinhibitorer..
Geeignete Photoresist-Materialien können für den Zweck der Erfin¬ dung ggf. unter Verwendung geeigneter transparenter Klebe- oder Haftmittel ausgewählt und mit Vorteil verwendet werden. In Figur 5, nach der Belichtung mit einer Strahlung (Pfeile b) durch eine Maske M hindurch, bleiben nach der Entwicklung von der Negativ-Resist-Schicht BM die Teile Ml und M2 als gehärtete Teile, die die Abdeckungen bilden, stehen (Fig. 5b) .
In Figur 6 bleiben nach der Belichtung mit einer Strahlung (Pfeile b) durch eine Maske M hindurch und nachfolgender Entwick¬ lung die nicht belichteten Teile Pl, P2 und P3 der Schicht BP stehen und bilden die Abdeckungen. (Fig. 6b) .
Falls in diesen beiden Fällen die Materialien der Resistschichten BN und BP nicht undurchsichtig oder opak sind, können die ausge¬ waschenen Zwischenräume R1-R3 in Figur 5c und R4-R5 mit opakem Material, z.B. Farbpigmenten oder Ähnlichem, in geeigneter Weise ausgefüllt werden, so daß in diesem Fall die Abdeckungen durch die Zwischenräume R1-R5 realisiert werden. Das Resistmaterial muß in diesen Fällen jedoch transparent sein.
In Figur 7 ist noch eine weitere Herstellungsmethode für einen Anti-Kopier-Film 19 dargestellt, wobei die obere Schicht eine Ne¬ gativ-Resistschicht BN und die untere eine Positiv-Resistschicht BP ist.
Nach Belichten der Schicht BN und Entwickeln, wonach die gehärte- ten Teile Nl und N2 stehenbleiben, wird noch einmal wieder von oben (Pfeile b) durch die fertige obere Schicht, die als Maske für die untere Schicht BP beim Belichtungsprozeß dient, belich¬ tet, so daß nach dem Entwickeln die Teile P1-P3 stehen bleiben. In diesem Fall muß entweder das Negativ-Resist-Material der Schicht BN opak sein oder dasselbe durch Belichten und Auswaschen werden, oder es muß doch eine Maske M benutzt werden oder die Teile Nl und N2 müssen vor der zweiten Belichtung opak eingefärbt werden, durch eine Abdeckschicht AS, wie in Fig. 7b angedeutet.
Je nachdem, welche Möglichkeit benutzt wird, müssen entweder die erhabenen Teile Nl, N2 und P1-P3 opak gefärbt werden, oder es müssen die Zwischenräume, wie zu Figur 5c, 6c beschrieben, opak gemacht werden, wenn die Teile Nl, N2 und P1-P3 transparent sind.
Es ist in allen Fällen der Figuren 2 bis 7 auch möglich, nach Herstellung der Λnti-Kopier-Filme die fertigen Abdeck-Schichten noch mit einem, vorzugsweise transparenten, Schutzlack zu über¬ ziehen.
Das Auftragen der photosensitiven Schichten auf den Film S er¬ folgt in konventioneller Weise. Es ist z.B. bekannt, sehr dünne Schichten durch adsorptive oder adhäsive Techniken aufzutragen. Im allgemeinen kann man wohl davon ausgehen, daß die photogra¬ phisch oder photopolymerisch hergestellten Schichten im Dickenbe¬ reich von ca. 0,1 μ bis ca. 10 μ oder nur wenig darüber liegen.
Um die beschriebenen Anti-Kopier-Filme auf den Dokumenten oder allgemein Originalen oder auch Kopien zu befestigen, sind eben¬ falls handelsübliche Klebe- und Haftmittel verwendbar.
Es sind prinzipiell natürlich auch elektrostatische oder adhäsive Kräfte für die Anbringung der Filme ausnutzbar.
In Figur 10 ist eine weitere Variante der erfindungsgemäßen Anti- Kopier-Filme dargestellt, die sich durch eine mehrlagige Anord¬ nung von Einzelfilmen oder -Schichten auszeichnet.
Wie bezeichnet, können 3 Einzelfilme oder -Schichten S1-S3, die jeweils nur einseitig oben die Abdeckungen A besitzen, transpa¬ rent miteinander verbunden sein.
Es können aber auch 2 Einzelfilme oder -Schichten Sl und S2 transparent miteinander und mit einer Trägerfolie F verbunden sein. Dabei wären die Filme Sl und S2 insofern verschieden ausge¬ bildet, als Film Sl oder S2 mit beidseitigen Abdeckungen A verse¬ hen und der jeweils andere Film S2 nur mit Abdeckungen A (unten) bzw. Sl nur mit Abdeckungen A (oben) ausgebildet sein müßte. Mehrlagigere Anordnungen sind ebenfalls denkbar.
Die physikalische Transparenz (Lichtdurchlässigkeit) ist defi¬ niert als das Verhältnis der durchgelassenen Lichtmenge J zur auffallenden Lichtmenge J0
ph =
Die Opazität (die Lichtundurchlässigkeit) ist der reziproke Wert davon
Jo
Oph = J Die hierin als "transparent" bezeichneten Materialien, wie Filme, Schichten, Kleb- oder Haftschichten sollen dem theoretischen Höchstwert der Transparenz P ~ 1 möglichst nahekommen, so wie die Lichtundruchlässigkeit 0Ph der als "opak" oder licht"undurch- sichtig" bezeichneten Materialien der Abdeckungen möglichst groß sein soll. Eine große Lichtstreuung oder Lichtreflexion des Mate¬ rials, das als Abdeckung wirken soll, kann im Sinne der vorlie¬ genden Erfindung dann ebenfalls so vorteilhaft sein wie auch ein Material mit großer Opazität, wenn das Verhältnis der auffallen- den Lichtmenge J0 sehr viel größer ist als die durchgelassene J0 >> J.
Hierin verwendete Begriffe wie zumindest "teilweise undurchsich¬ tige Bereiche" sind also als zumindest "teilweise opak" oder "teilweise lichtreflektierend" in dem Sinne zu verstehen, daß das Licht eines Kopiegerätes nur in für den Kopiervorgang zu geringer Lichtmenge durch den Anti-Kopier-Film oder die -Schicht hindurch zum Original gelangt. Ebenso ist der Begriff "im wesentlichen durchsichtig" wieder im Sinne der physikalischen Transparenz als möglichst lichtdurchlässig zu verstehen.
Ein Anti-Kopier-Film oder eine -Schicht für Originale oder Doku¬ mente besteht erfindungsgemäß aus transparentem Folienmaterial mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zu- mindest teilweise undurchsichtigen und ggf. reflektierenden Be¬ reichen, die als Abdeckungen auf den Folienoberflächen im wesent¬ lichen in Horizontalebenen, insbesondere parallel zueinander ver¬ setzt, angeordnet sind, so daß in etwa senkrechter Blickrichtung Informationen eines darunterliegenden Originals verdeckt und in Richtung eines vorgegebenen Betrachtungswinkels die Informationen sichtbar sind. Zweckmäßige Herstellungsweisen ermöglichen die An¬ wendung von Photo-Techniken.

Claims

Patentansprüche
1. Anti-Kopier - z l oder -Schicht (S) für Dokumente, bestehend aus einem F- m oder einer Schicht aus transparentem Material mit einer Vii-._2.ahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise undυ -chsichtigen Bereichen, deren Ebenen in etwa demselben vorbes .mmten Lage gegenüber den Oberflä¬ chen des Films oder der i rhicht (S) eingeordnet sind, so daß aus einem etwa senkrechten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Films oder der Schicht (S) der Anti-Kopier-Film im we¬ sentlichen undurchsichtig ist und aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Films oder der Schicht (S) der Antikopierfilm im wesentlichen durchsichtig ist, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Bereich aus mindestens ersten undurchsichtigen Abdeckungen (AI) auf einer der Ober¬ flächen des Films oder der Schicht (S) und mindestens zweiten undurchsichtigen Abdeckungen (A2) auf der anderen der Ober¬ flächen des Films oder der Schicht (S) gebildet ist, und daß die mindestens ersten und zweiten Abdeckungen (AI und A2) im wesentlichen horizontal angeordnet sind.
2. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Abdeckungen (AI und A2) in Horizon- talebenen parallel zueinander versetzt angeordnet sind.
3. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Abdeckungen (AI und A2) etwa dieselbe Breite (dg) aufweisen und auf Lücke ohne wesentliche Überlap- pungen angeordnet sind.
4. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich¬ net, daß die ersten und zweiten Abdeckungen etwa dieselbe Breite (dg) aufweisen und auf Lücke mit Überlappungen an- geordnet sind.
5. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch unterschiedliche Breiten der ersten und zweiten Abdeckungen
(AI' , A2' ) .
6. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß die Abdeckungen (AI, A2) als Linienstruktur beidseitig auf einem transparenten Film oder Schicht (S) , insbesondere drucktechnisch, aufgebracht sind.
7. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß eine erste photosensitive Schicht (Bl) einerseits auf ei¬ nem transparenten Film (S) aufgebracht, direkt belichtet und entwickelt ist und daß danach eine zweite photosensitive Schicht (B2) andererseits auf den transparenten Film (S) auf¬ gebracht, direkt belichtet und entwickelt ist.
8. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5 und 7, dadurch gekenn¬ zeichnet, daß eine erste photosensitive Schicht (B) einer- seits auf einen transparenten Film (S) aufgebracht, direkt belichtet und entwickelt ist und daß danach eine zweite pho¬ tosensitive Schicht (B2) andererseits auf den transparenten Film (S) aufgebracht, indirekt durch die erste entwickelte photosensitive Schicht (B) und den Film (S) hindurch belich- tet und entwickelt ist.
9. Anti-Kopier-Film nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekenn¬ zeichnet, daß auf einen transparenten Film (S) einerseits eine Linienstruktur (LS) und andererseits eine photosensitive Schicht (B) aufgebracht ist, die photosensitive Schicht (B) durch die Linienstruktur (LS) hindurch belichtet und danach entwickelt ist.
10. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung mittels paralleler Strahlung erfolgt ist, so daß annäherend keine Überlappung der Abdeckungen (AI, A2) er¬ halten wird.
11. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung mittels divergenter Lichtstrahlung erfolgt ist, so daß im wesentlichen eine Überlappung der (AI', A2 ' ) erhalten wird.
12. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen transparenten Film (S) einerseits eine Negativ- Resistschicht (BN) und auf die andere Seite eine Positiv-Re- sistschicht (BP) aufgebracht ist und beide Schichten durch Belichten durch eine Linienstruktur-Maske (M) von der Seite der Negativ-Resistschicht hindurch und Auswaschen beider Schichten (BN, BP) gebildet sind.
13. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5 und einem oder mehreren der Ansprüche 6 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das pho¬ tosensitive Schichtmaterial eine photographische Emulsion ist.
14. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5 und einem oder mehreren der Ansprüch 6 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Schichtmateria3 eine KunststoffSchicht mit Photoinitiatoren ist.
5
15. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5 und einem oder mehreren der Ansprüche 6 bis 12 und 14, dadurch gekennzeichnet, daß ein nicht undurchsichtiges Schichtmaterial vor dem Auftrag undurchsichtig gemacht ist, insbesondere durch Farb-Zumi- 0 schung.
16. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1-5 und einem oder mehreren der Ansprüche 6 bis 12 und 14, dadurch gekennzeichnet, daß ein nicht undurchsichtiges Schichtmaterial nach dem Auftra- 5 gen, Belichten und Entwickeln an den erhabenen oder vertief¬ ten Stellen mit undurchsichtigem Material, z.B. Farbe, verse¬ hen ist.
17. Anti-Kopier-Film nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-16, 0 dadurch gekennzeichnet, daß die fertigen Schichten mit den
Abdeckungen mittels eines transparenten Lacküberzugs versie¬ gelt sind.
18. Anti-Kopier-Film oder Schicht für Dokumente, bestehend aus 5 wenigstens einem Film oder wenigstens einer Schicht aus transparentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise undurchsichtigen Bereichen, deren Ebenen in etwa derselben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films oder der Schicht (S) an- 0 geordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Bereich aus mindestens ersten undurchsichtigen Abdeckungen auf einer Oberfläche des ersten Films oder der ersten Schicht (Sl) und zumindest zweiten undurchsichtigen Abdeckungen auf einer Oberfläche des zweiten Films oder der zweiten Schicht (S2)
35 gebildet ist, wobei die ersten und zweiten Filme oder Schich¬ ten (Sl, S2) derartig miteinander verbunden sind, daß die er¬ sten und zweiten Abdeckungen in Horizontalebenen und insbe¬ sondere parallel zueinander versetzt angeordnet sind.
40 19. Anti-Kopier-Film, nach Anspruch 1 oder 18 und einem oder meh¬ reren der Ansprüche 3-17, dadurch gekennzeichnet, daß die er¬ sten und zweiten Abdeckungen eine Breite (dg) aufweisen und der Horizontalabstand (do) zwischen den ersten Abdeckungen bzw. zwischen den zweiten Abdeckungen zwischen 50 und 90 %
45 der Breite (dg) der Abdeckungen beträgt.
20. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1 und 2 oder 18 und einem oder mehreren der Ansprüche 3 bis 17 und 19, dadurch gekennzeich¬ net, daß der Winkel der Verbindungsgeraden zwischen den Enden der Breite (dg) übereinanderliegender Abdeckungen (AI, A2) im Breich von etwa 30° bis etwa 73°, insbesondere bei etwa 45° bis etwa 60° liegt.
21. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1 oder 18 und einem oder meh¬ reren der Ansprüche 2 bis 17 und 19 und 20, dadurch gekenn- zeichnet, daß der zumindest eine Film oder die zumindest eine Schicht (S) transparent mit einer transparenten Trägerfolie (F) verbunden ist.
22. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Trägerfolie (F) mindestens 70 % der Dicke
(s) des Films oder der Schicht (S) beträgt.
23. Anti-Kopier-Film nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke (s) des Films oder der Schicht (S) in der Größenordnung von ca. 5 μ, insbeson¬ dere bei etwa 20 μ bis etwa 100 μ liegt.
24. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke (s) des Films oder der Schicht (S) etwa der Dicke (h) der Trägerfolie (F) entspricht.
25. Anti-Kopier-Film nach Anspruch 1 oder 18, und einem oder meh¬ reren der Ansprüche 2 bis 17 und 19 bis 24, dadurch gekenn¬ zeichnet, daß die zumindest teilweise undurchsichtigen Abdek- kungen (AI, AI', A2, A2' ) im wesentlichen Streifenform (ST) aufweisen und etwa parallel und gleich abständig voneinander angeordnet sind.
GEÄNDERTE ANSPRÜCHE
[beim Internationalen Büro am 10. Januar 1994 (10.01.94) eingegangen, ursprüngliche Ansprüche 1-25 durch geänderte Ansprüche 1-12 ersetzt;
(2 Seiten)]
1. Verfahren zur Herstellung eines Antikopierfilms, bei dem auf einen transparenten Film (S) beidseitig undurchsichtige, streifenförmige Abdeckungen (AI; A2) gleichmäßig wiederkeh¬ rend und definiert zueinander versetzt aufgebracht werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Abdeckungen (AI - A2) in den definiert versetzten Anordnungen auf den Film (S) drucktech- nisch und/oder phototechnisch durch Auftragen einer photosen¬ sitiven Schicht (Bl) auf der einen Seite des Film (S) , Be¬ lichten der Schicht durch eine Maske (Ml) und anschließendes Entwickeln und Auftragen einer weiteren photosensitiven Schicht (B2) auf der anderen Seite des Films, Belichten durch eine Maske (M2) und anschließendes Entwickeln aufgebracht werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die weitere photosensitive Schicht (B2) durch die erste, bereits entwickelte Schicht (Bl) hindurch belichtet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen transparenten Film (S) einerseits eine Linienstruktur (LS) und andererseits eine photosensitive Schicht (B) aufge- bracht wird, die photosensitive Schicht (B) durch die Linien¬ struktur (LS) hindurch belichtet und danach entwickelt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung mittels paralleler Strahlung erfolgt, so daß annäherend keine Überlappung der Abdeckungen (AI, A2) erhal¬ ten wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung mittels divergenter Lichtstrahlung erfolgt, so daß im wesentlichen eine Überlappung der Abdeckungen (AI', A2' ) erhalten wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen transparenten Film (S) einerseits eine Negativ-Resist- schicht (BN) und auf die andere Seite eine Positiv-Resist- schicht (BP) aufgebracht werden und durch Belichten beider Schichten durch eine Maske (M) von der Seite der Negativ-Re¬ sistschicht hindurch und Auswaschen beider Schichten (BN, BP) die Abdeckungen gebildet werden. 7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das photosensitive Schichtmaterial eine photographische Emul¬ sion ist.
8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das photosensitive Schichtmaterial eine Kunststoffschicht mit Photoinitiatoren ist.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein nicht undurchsichtiges Schichtmaterial vor dem Auftrag un¬ durchsichtig gemacht wird, insbesondere durch Farb-Zu- mischling.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein nicht undurchsichtiges Schichtmaterial nach dem Auftragen,
Belichten und Entwickeln an den erhabenen oder vertieften Stellen mit undurchsichtigem Material versehen wird.
11. Verfahren nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die fertigen Schichten mit den Abdeckungen mittels eines transparenten Lacküberzugs versiegelt werden.
12. Verfahren nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Abdeckungen (AI; A2) einer Breite (dg) mit einem Horizontalabstand (do) zwischen den ersten Ab¬ deckungen bzw. zwischen den zweiten Abdeckungen zwischen 50 und 90 % der Breite (dg) der Abdeckungen hergestellt werden.
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