JP5175172B2 - 欠陥低減表面を有する微細複製物品 - Google Patents

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Description

本開示は、一般に、ウェブ上への材料の連続成形に関し、特に、欠陥低減表面とウェブの両辺に成形されたパターン間に高い位置合わせ度とを有する物品の成形に関する。
新聞の印刷から高機能の電子および光学デバイスの作製まで多くの物品の作製において、少なくとも一時的に液体の形状のある材料を基板の両辺に塗布することが必要である。多くの場合、基板に塗布される材料は所定のパターンで塗布され、例えば、印刷の場合、インクは文字および絵のパターンで塗布される。このような場合、基板の両辺のパターン間での位置合わせのために少なくとも最低要件があることが一般的である。
基板が回路基板などの個々の物品である場合、パターンのアプリケータは通常位置合わせの達成を助けるためにエッジに依存する。しかし、基板がウェブであるとともに位置合わせを維持する際に周期的に参照するために基板のエッジに依存することが不可能である場合、問題はやや難しくなる。なお、ウェブの場合でも位置合わせの要件が厳格でない、例えば、１００マイクロメートルを超えるという、完璧な位置合わせからのずれが容認される場合、材料塗布をその程度まで制御するための機械的手段は既知である。印刷技術はそのような基準を満たすことが可能な装置が充実している。
しかし、基板の両辺にパターンを有するある製品では、はるかに正確なパターン間の位置合わせが必要とされる。そのような場合ウェブが連続移動されてない場合には、材料をそのような基準に塗布することができる装置は知られている。そして、ウェブが連続移動中である場合には、例えば、あるタイプのフレキシブル回路の場合のように、パターンニングロールの１回転当たり一度の完璧な位置合わせという、１００マイクロメートルあるいは５マイクロメートル内にパターンニングロールをリセットすることが容認可能である場合には、当該技術はなお前進方法に関するガイドラインを与える。
しかし、例えば、輝度上昇フィルムなどの光学物品において、基板の両辺に塗布された光学的に透明な高分子内のパターンが、ツール回転内の任意の点で位置合わせ外れが極僅かな許容範囲以下であることが必要とされる。これまで当該技術は、パターンが間歇的ではなく連続的に１００マイクロメートル以内に位置合わせされた状態で維持されるように、連続移動されているウェブの両辺にパターン化表面を成形する方法について言及していない。
ディスプレイ内でのフィルムの使用に付随する問題は、コンピュータディスプレイなどの近接視認を目的とするディスプレイの外見的な要件が非常に高いということである。これはこのようなディスプレイが長時間にわたり近接視認されるからであり、そのため僅かな欠陥でも裸眼で検出されて視認者の気を散らす。このような欠陥の解消は検査時間と材料の両方に関してコストがかかる恐れがある。
欠陥はいくつかの異なる方法で明らかになる。微塵、綿埃、擦過傷、内包物等などの物理的欠陥があるとともに、光学的現象である欠陥もある。最も一般的な光学的現象の中には「ウェットアウト」がある。ウェットアウトは２つの表面が互いに光学的に接触する際に発生して、１つのフィルムから次へ伝播する光の屈折率の変化を事実上解消する。これは光学的効果を得るために構造化表面を用いるフィルムにとって特に問題であるが、それは構造化表面の屈折特性が無効になるからである。「ウェットアウト」の影響は画面に対してまだら状且つ変化する外見を生成することである。
ディスプレイアセンブリ内の欠陥の問題を克服するいくつかの手法を次に挙げた。１つは単に従来の製造プロセスにより作製される許容可能なディスプレイアセンブリの低歩留まりを容認することである。これは競争の激しい市場では明らかに受け入れられない。第２の手法は非常に清浄且つ綿密な製造手順を採用するとともに厳しい品質制御基準を課すことである。これは歩留まりを改善し得るが、洗浄設備および検査のコストをカバーする作製のコストが上昇する。欠陥を減少させる他の手法はディスプレイに拡散板、表面拡散板またはバルク拡散板のいずれかを導入することである。このような拡散板は多くの欠陥を隠すとともに、低追加コストで製造歩留まりを向上させる。しかし、拡散板は光を散乱するとともに視認者が知覚する光の軸上輝度を低減するため性能を低下させる。
本開示の一態様は、欠陥低減表面を有する微細複製物品に関する。微細複製物品は第１および第２の対向表面を有する可撓性基板と、第１の表面上の第１の塗布微細複製パターンと、第２の表面上の第２の塗布微細複製パターンとを含む。第１の塗布微細複製パターンと第２の塗布微細複製パターンとは１０マイクロメートル以内に位置合わせされている。
欠陥低減またはウェットアウト低減表面は、第１の塗布微細複製パターンまたは第２の塗布微細複製パターンの少なくとも選択されたパターン要素の長さに沿った変動高さを含む。変動高さは少なくとも選択されたパターン要素の長さに沿って位置する複数の局所高さ最大値と局所高さ最小値とを含む。変動高さは第１の値未満の局所高さ最大値と局所高さ最小値との間の高さの差の平均値を有する。ある実施形態において、第１の値は０．５〜５マイクロメートルの範囲である。欠陥低減またはウェットアウト低減特徴は、５０〜１００マイクロメートルの範囲の、変動高さ長さに沿った局所高さ最大値間の平均間隔を含む。
欠陥低減表面を有する微細複製物品を作製する方法が開示されている。方法は第１および第２の対向表面を有する、ウェブ形状の基板を設けるステップと、基板をロールツーロール成形装置を通過させて、第１の表面上に第１の塗布微細複製パターンと第２の表面上に第２の塗布微細複製パターンとを形成するステップとを含む。第１の塗布微細複製パターンと第２の塗布微細複製パターンとは１０マイクロメートル以内に位置合わせされている。
定義
本開示の状況において、「位置合わせ」は、同じウェブの反対側の他の構造に対して規定関係にあるウェブの一表面上の構造の位置決めを意味する。
本開示の状況において、「ウェブ」は、一方向の一定寸法と直交する方向の所定または不定の長さとを有する材料シートを意味する。
本開示の状況において、「連続位置合わせ」は、第１および第２のパターン化ロールの回転中、常にロール上の構造間の位置合わせ度が指定限界より良好であることを意味する。
本開示の状況において、「微細複製された」または「微細複製」は、構造化表面特徴の変化が製品毎に約１００マイクロメートル以下である、製造中の個々の特徴忠実性を保持するプロセスによる微細構造化表面の作製を意味する。
添付の図面にいくつかにおいて、同様な部分は同様な参照番号を有する。
一般に、本開示は、各側に微細複製パターン化構造が塗布された可撓性基板に関する。微細複製物品は互いに対して高精度に位置合わせされている。両側の構造が協働して必要に応じた物品光学品質をすることが好適であり、特に、構造はウェットアウトまたは欠陥低減特徴を含む複数のレンズである。
図１は例示的ディスプレイ１の概略断面図を図示する。図示の実施形態において、ディスプレイ１は、光学フィルム１４に光を供給する１つまたは複数の光源１０ａ、１０ｂを含む。ディスプレイ１は必要に応じて１つまたは複数の追加の光学要素を含むことができる。追加の光学要素には、例えば、１つまたは複数の光源１０ａ、１０ｂ間に配置された導光体１２、および光学フィルム１４、および光学フィルム１４に隣接配置された液晶セル１６がある。ある実施形態において、光学フィルム１４は、光学フィルム１４と光学フィルム１４に隣接する追加の光学要素との間の「ウェットアウト」の発生を低減する特徴（以下に説明する）を有する。ある実施形態において、光学フィルム１４は、光学フィルム１４欠陥の視認性を低減する特徴（以下に説明する）を有する。本明細書に説明する光学フィルム１４を必要に応じて多様な用途で用いることができる。
ある実施形態において、光学フィルム１４を立体液晶ディスプレイで用いることができる。１つの例示的立体液晶ディスプレイは笹川（Ｓａｓａｇａｗａ）ら著「立体ＬＣＤ用二方向バックライト（Ｄｕａｌ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎａｌ Ｂａｃｋｌｉｇｈｔ ｆｏｒ Ｓｔｅｒｅｏｓｃｏｐｉｃ ＬＣＤ）」、１〜３、ＳＩＤ０３ダイジェスト、２０００年に記載されている。図１に示すように、ディスプレイ１は右目用光源１０ａと左目用光源１０ｂとを含む。図示の実施形態において、光源１０ａ、１０ｂは１２０Ｈｚのフィールドレートおよび６０Ｈｚのフレームレートで動作するため、視差画像は右目用光源１０ａが照明された場合に右目におよび左目用光源１０ｂが照明された場合に左目に別々に表示され、それにより知覚イメージは３次元に見える。
図２は本開示による例示的微細複製光学フィルム１４の概略断面図を図示する。光学フィルム１４は第１の表面２２と対向する第２の表面２４とを有するウェブ基板２０を含む。第１の塗布微細複製パターンまたは構造２５は基板２０の第１の表面２２上に配置されている。第２の塗布微細複製パターンまたは構造３５は基板２０の第２の表面２４上に配置されている。図示の実施形態において、第１の塗布微細複製パターンまたは構造２５は複数の湾曲または円柱レンズを備えるとともに、第２の塗布微細複製パターンまたは構造３５は複数のプリズムレンズを備える。
光学フィルム１４は任意の有用な寸法を有することができる。ある実施形態において、光学フィルム１４は、５０〜５００マイクロメートル、または７５〜４００マイクロメートル、または１００〜２００マイクロメートルの高さＴを有する。第１の塗布微細複製パターン２５および第２の微細複製パターン３５は、同じ繰り返しピッチまたは周期Ｐを有することができる。ある実施形態において、繰り返しピッチまたは周期Ｐは必要に応じて２５〜２００マイクロメートル、または５０〜１５０マイクロメートルであり得る。繰り返しピッチまたは周期Ｐは複数のレンズ要素を形成することができる。各レンズ要素は隣接のレンズ要素を第１の接合点２６および第２の接合点３６で接合することができる。ある実施形態において、第１の接合点２６および第２の接合点３６は、基板２０に隣接するとともに位置合わせされている。他の実施形態において、第１の接合点２６および第２の接合点３６は、互いにウェブ２０を隔てて（ｚ方向）隣接しない規定幾何学的関係で位置合わせされている。基板２０は例えば１０〜１５０マイクロメートルまたは２５〜１２５マイクロメートルなどの任意の有用な厚さＴ1を有することができる。第１の微細複製パターン２５は例えば１０〜５０マイクロメートルなどの任意の厚さＴ6と、５〜５０マイクロメートルの特徴または構造厚さＴ3とを有することができる。第２の微細複製パターン３５は例えば２５〜２００マイクロメートルなどの任意の厚さＴ5と、１０〜１５０マイクロメートルの特徴または構造厚さＴ2とを有することができる。接合点厚さＴ4は例えば１０〜２００マイクロメートルなどの任意の有用な量であり得る。湾曲レンズは例えば２５〜１５０マイクロメートル、または４０〜７０マイクロメートルなどの任意の有用な半径Ｒを有することができる。
図示の例示的実施形態において、対向微細複製特徴２５、３５は協働して複数のレンズ特徴を形成する。各レンズ要素の性能は各レンズ要素を形成する対向特徴２５、３５のアラインメントの関数であるため、レンズ特徴の精密なアラインメントまたは位置合わせが好ましい。
一般的に、本開示の光学フィルム１４を以下に開示する、約１０マイクロメートルより良好、または５マイクロメートルより良好、または３マイクロメートルより良好、または１マイクロメートルより良好な位置合わせで、両面微細複製構造を作製するシステムおよび方法により作製することができる。システムは一般にロールツーロール成形アセンブリを含むとともに、第１のパターニングアセンブリと第２のパターニングアセンブリとを含む。各それぞれのアセンブリは第１および第２の表面を有するウェブのそれぞれの表面上に微細複製パターンを作製する。第１のパターンをウェブの第１の側に作製するとともに、第２のパターンをウェブの第２の表面上に作製する。欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴を第１および／または第２の微細複製パターンと共に含むことができる。
図３は本開示による例示的微細複製フィルム１４の斜視図を図示する。第１の微細複製パターンまたは構造２５および第２の微細複製パターンまたは構造３５はウェブ基板２０の対向側に配置されている。欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴は、第２の微細複製パターンまたは構造３５内に示されている。図示の実施形態において欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴は、光学フィルム１４のｙ軸に沿ったパターン要素変動高さＴ5を含む。ある実施形態において、パターン要素は実質的にｙ軸と平行である。
図４は線４−４に沿った図３の例示的微細複製フィルム１４の概略的断面図を図示する。図示の実施形態は第１の微細複製パターン２５および第２の微細複製パターン３５の両方内の欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴を示す。第２の微細複製パターン３５は、少なくとも選択されたパターン要素の長さ（ｙ軸）に沿って位置する複数の局所高さ最大値２７と局所高さ最小値２８とを備えるとともに、変動高さは所定の値未満の局所高さ最大値２７と局所高さ最小値２８との間の高さの差の平均値を有する。この所定の値は、必要に応じて、例えば０．５〜５マイクロメートル、または１〜２マイクロメートルの範囲などの任意の有用な距離であり得る。第２の微細複製パターン３５は、例えば２０〜４００マイクロメートル、または５０〜２５０マイクロメートル、または５０〜１００マイクロメートルなどの任意の有用な距離の、局所高さ最大値２７または局所高さ最小値２８間の周期Ｐ1（公称）を有する。第１の微細複製パターン２５は、代替的にまたは追加的に、例えば２０〜４００マイクロメートル、または５０〜２５０マイクロメートル、または５０〜１００マイクロメートルなどのＰ1と同じまたは異なり得る、任意の有用な距離の、局所高さ最大値または局所高さ最小値間の周期Ｐ2（公称）を有する。
欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴は、以下に説明するロールツーロール成形装置および方法により形成することができる規則的またはランダムパターンであり得る。欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴を任意の方法により以下に説明するマスターロール上に形成することができる。一実施形態において、欠陥低減または「ウェットアウト」低減特徴は既知のダイアモンド旋削技術でマスターロール上に形成される。
本明細書に記載するロールツーロール成形光学フィルムを製造するために用いられるツール（ロール）用原型は、既知のダイアモンド旋削技術により作製し得る。通例ツールはロールとして既知の円筒ブランク上にダイアモンド旋削により作製される。ロールの表面は通例硬銅であるが他の材料も用い得る。微細複製構造はロールの外周の周囲に連続パターン状に形成される。作製される構造が一定のピッチを有する場合には、ツールは一定の速度で移動する。典型的なダイアモンド旋盤は、ツールがロールを貫通する深さ、ツールがロールに対してなす水平および垂直角度、およびツールの横断速度の独立制御を提供する。開示の欠陥低減および「ウェットアウト」低減微細複製構造を作製するために、高速ツールサーボアクチュエータを、ダイアモンド旋盤に追加することができる。
例示的高速ツールサーボアクチュエータは米国特許第６，３５４，７０９号明細書に記載されている。この参考文献は圧電スタックにより支持されるダイアモンド工具を記載している。圧電スタックが変動電気信号により刺激されると、ケースから延びる距離が変化するようにダイアモンド工具が移動される。圧電スタックが一定のまたはプログラムされた周波数の信号により刺激されることが可能であるが、一般にランダムまたは擬似ランダム周波数を用いることが好ましい。本明細書で用いられるように、用語ランダムは擬似ランダムを含むと理解される。そしてそのように作製された原型ツール（ロール）を以下に説明するロールツーロール成形および硬化プロセスで用いて、本明細書で説明する光学フィルムを作製する。
上述した欠陥低減光学フィルム１４は、ウェブの対向面上に精密に位置合わせされた微細複製構造を作製する装置および方法を用いて作製することができ、その装置および方法を以下に詳細に説明する。一実施形態において、ウェブまたは基板は０．００４９インチ厚さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）から作製される。他の実施形態において他の材料、例えばポリカーボネートを用いることができる。
硬化性液体をウェブの第１の側上に成形および硬化させることにより、第１の微細複製構造を第１のパターン化ロール上に作製することができる。一実施形態において、第１の硬化性液体は、オハイオ州シンシナティ（Ｃｉｎｃｉｎｎａｔｉ，Ｏｈｉｏ）のコグニス・コーポレーション（Ｃｏｇｎｉｓ Ｃｏｒｐ．）から入手可能なフォトマー（Ｐｈｏｔｏｍｅｒ）６０１０、共にペンシルバニア州エクストン（Ｅｘｔｏｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）のサートマー・カンパニー（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．）から入手可能なＳＲ３８５テトラヒドロフルフリル・アクリレートおよびＳＲ２３８（７０／１５／１５％）１，６−ヘキサンジオール・ジアクリレート、コネチカット州ストラトフォード（Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，Ｃｏｎｎｅｔｉｃｕｔ）のハンフォード・リサーチ・インコーポレーテッド（Ｈａｎｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ．）から入手可能なカンファーキノン（Ｃａｍｐｈｏｒｑｕｉｎｏｎｅ）、ウィスコンシン州ミルウォーキー（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，Ｗｉｎｃｏｎｓｉｎ）のアルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）から入手可能なエチル１−４−ジメチルアミノ・ベンゾアート（０．７５／０．５％）などの任意の光硬化性アクリレート樹脂溶液であり得る。光硬化性液体をウェブの第２の側上に成形および硬化させることにより、第２の微細複製構造を第２のパターン化ロール上に作製することができる。第２の硬化性液体は、第１の硬化性液体と同じであり得る。
各それぞれの構造がパターンに成形された後、各それぞれのパターンは紫外光源を始めとする硬化光源を用いて硬化される。その後、剥離ロールを用いて第２のパターン化ロールから微細複製物品を取り外すことができる。任意に、剥離剤またはコーティングを用いてパターン化ツールからのパターン化構造の取り外しを助けることができる。
上記の物品を作製するために用いた図示のプロセス設定は以下の通りである。約２ポンド力の成形装置内外のウェブ張力で約１．０フィート／分のウェブ速度。ウェブを第２のパターン化ツールから引っ張るため約５％の剥離ロール延伸比。約４ポンド力のニップ圧力。約０．０１０インチの第１および第２のパターン化ロール間の間隙。滴下塗布装置を用いてウェブの第１の表面に樹脂を供給することができるとともに、シリンジポンプを用いて約１．３５ｍｌ／分の速度で第２の表面に樹脂を供給することができる。
第１の微細複製構造の硬化は、すべての構成要素が連続載置された状態で、最大出力のオリエル（Ｏｒｉｅｌ）２００−５００Ｗの水銀灯および最大出力のフォステック（Ｆｏｓｔｅｃ）ＤＣＲＩＩで達成することができる。第２の微細複製構造の硬化は、スペクトラル・エネルギーＵＶライト・ソース（Ｓｐｅｃｔｇｒａｌ Ｅｎｅｒｇｙ ＵＶ Ｌｉｇｈｔ Ｓｏｕｒｃｅ）、最大出力のフォステック（Ｆｏｓｔｅｃ）ＤＣＲＩＩ、ＲＳＬＩインコーポレーテッド（Ｉｎｃ．）、ライト・ポンプ（Ｌｉｇｈｔ Ｐｕｍｐ）１５０ＭＨＳで、すべての構成要素が連続載置された状態で達成することができる。
第１のパターン化ロールは７５マイクロメートルピッチを有する円筒レンズを形成する一連のネガ画像を含むことができる。第２のパターン化ロールは７５マイクロメートルピッチで複数の対称プリズムを形成する一連のネガ画像を含んでいた。
各パターンニングアセンブリは、コーティングを塗布する手段と、パターンニング部材と、硬化部材とを含む。通例パターンニングアセンブリは、パターン化ロールと、各ロールを保持するとともに駆動する支持構造とを含む。第１のパターンニングアセンブリの塗布手段は、第１の硬化性コーティング材料をウェブの第１の表面上に分注する。第２のパターンニングアセンブリの塗布手段は、第２の硬化性コーティング材料をウェブの第２の表面上に分注し、第２の表面は第１の表面の反対側にある。通例第１および第２のコーティング材料は同じ組成である。
第１のコーティング材料がウェブ上に配置された後、ウェブは第１のパターン化部材上を通過し、第１のコーティング材料内にパターンが作製される。その後、第１のコーティング材料を硬化または冷却して第１のパターンを形成する。続いて、第２のコーティング材料がウェブ上に配置された後、ウェブは第２のパターン化部材上を通過し、第２のコーティング材料内にパターンが作製される。その後、第２のコーティング材料を硬化させて第２のパターンを形成する。通例、各パターン化部材は微細複製ツールであるとともに、各ツールは通例材料を硬化させる専用の硬化部材を有する。しかし、第１および第２のパターン化材料の両方を硬化させる単一の硬化部材を有することが可能である。また、コーティングをパターン化ツール上に配置することが可能である。
システムはウェブが連続移動されつつパターンがウェブの両側に転写されるように、第１および第２のパターン化ロールを回転させる手段も含み、パターンはウェブの両側に約１０マイクロメートルより良好に連続位置合わせされた状態に維持される。
本開示の利点は、両側の微細複製構造を互いに概して１０マイクロメートル以内に、または５マイクロメートル以内に、または３マイクロメートル以内に、または１マイクロメートル以内に位置合わせされた状態に保持しつつ、連続形成された微細複製構造をウェブの各側に有することにより、ウェブの各対向面上に微細複製構造を有するウェブを製造することができるということである。
図５〜６を参照すると、ロールツーロール成形装置１２０を含むシステム１１０の例示的実施形態が図示されている。図示の成形装置１２０において、ウェブ１２２が主巻出スプール（図示せず）から成形装置１２０に提供される。ウェブ１２２の本質は作製される製品によって大きく異なり得る。しかし、成形装置１２０が光学物品の作製に用いられる場合、ウェブ１２２を介する硬化を可能にするために通常ウェブ１２２は半透明または透明である。ウェブ１２２は様々なローラ１２６を回って成形装置１２０内に向けられる。
ウェブ１２２の正確な張力制御は最適な結果を達成するのに有利であるため、ウェブ１２２を張力検知装置（図示せず）上に方向付けてもよい。ライナウェブを用いてウェブ１２２を保護ことが望ましい場合には、ライナウェブは通例巻出スプールにおいて分離されるとともにライナウェブ巻取スプール（図示せず）上に方向付けられる。ウェブ１２２をアイドラーロールを介してダンサーロールに方向付けて精密な張力制御を行うことができる。アイドラーローラはウェブ１２２をニップローラ１５４と第１のコーティングヘッド１５６との間の位置に向けることができる。
様々な塗布方法を採用し得る。図示の実施形態において、第１のコーティングヘッド１５６はダイコーティングヘッドである。その後、ウェブ１２２はニップロール１５４と第１のパターン化ロール１６０との間を通過する。第１のパターン化ロール１６０はパターン化表面１６２を有するとともに、ウェブ１２２がニップローラ１５４と第１のパターン化ロール１６０との間を通過する際、第１のコーティングヘッド１５６によってウェブ１２２に分注された材料がパターン化表面１６２のネガの形状に形作られる。
ウェブ１２２が第１のパターン化ロール１６０と接している間、材料が第２のコーティングヘッド１６４からウェブ１２２の他方の表面上に分注される。第１のコーティングヘッド１５６に対して上記した説明と平行して、第２のコーティングヘッド１６４も第２の押出機（図示せず）と第２のコーティングダイ（図示せず）とを含むダイコーティング装置である。ある実施形態において、第１のコーティングヘッド１５６によって分注された材料は高分子前駆体を含むとともに、例えば紫外線などの硬化エネルギーの印加で固体高分子に硬化しようとする組成物である。
第２のコーティングヘッド１６４によってウェブ１２２上に分注された材料はその後、第２のパターン化表面１７６を有する第２のパターン化ロール１７４と接触する。上記の説明と平行してある実施形態において、第２のコーティングヘッド１６４によって分注された材料は高分子前駆体を含むとともに、例えば、紫外線などの硬化エネルギーの印加で固体高分子に硬化しようとする組成物である。
この時点でウェブ１２２は両面に貼付されたパターンを有している。剥離ロール１８２は第２のパターン化ロール１７４からのウェブ１２２の除去を助けるために存在し得る。ある例では、ロールツーロール成形装置内外へのウェブ張力はほぼ一定である。
両面微細複製パターンを有するウェブ１２２はその後、様々なアイドラーロールを介して巻取スプール（図示せず）に向けられる。介在フィルムがウェブ１２２を保護することが望ましい場合には、介在フィルムが第２の巻出スプール（図示せず）から提供され得るとともに、ウェブと介在フィルムとが適当な張力で巻取スプール上に一緒に巻き取られる。
図５〜７を参照すると、第１および第２のパターン化ロールが、それぞれ第１および第２のモータアセンブリ２１０、２２０に結合されている。モータアセンブリ２１０、２２０の支持は、直接または間接的にアセンブリを枠２３０に載置することにより達成される。モータアセンブリ２１０、２２０は精密載置装置を用いて枠に結合される。図示の例示的実施形態において、第１のモータアセンブリ２１０は枠２３０に固定的に載置されている。ウェブ１２２が成形装置１２０中に通される際の位置に配置された第２のモータアセンブリ２２０は、横方向および流れ方向の両方に繰り返し位置決めされる必要があり、そのため移動可能であり得る。移動可能なモータ装置２２０は直線スライド２２２に結合されて、例えばロール上のパターン間で切り替える場合に繰り返し正確な位置決めを助け得る。第２のモータ装置２２０は枠２３０の後側に、第２のパターン化ロール１７４を第１のパターン化ロール１６０に対して並んで位置決めする第２の載置装置２２５も含む。ある場合には、第２の載置装置２２５は横方向の正確な位置決めを可能にする直線スライド２２３を含む。
図８を参照すると、対向面上に位置合わせされた微細複製構造を有する両面ウェブ４２２を作製する成形装置４２０の例示的実施形態が図示されている。アセンブリは第１および第２の塗布手段４５６、４６４と、ニップローラ４５４と、第１および第２のパターン化ロール４６０、４７４とを含む。ウェブ４２２は第１の塗布手段４５６、この例では第１の押出ダイ４５６に提示される。第１のダイ４５６は第１の硬化性液体層コーティング４７０をウェブ４２２上に分注する。第１のコーティング４７０はニップローラ４５４、通例、ゴム被覆ローラにより第１のパターン化ローラ４６０内に押し込まれる。第１のパターン化ロール４６０上にある間に、コーティングは例えば紫外光源などの適当な波長光の硬化源４８０、例えば、ランプを用いて硬化される。
第２の硬化性液体層４８１は第２の側押出ダイ４６４を用いてウェブ４２２の反対側に塗布される。第２の層４８１は第２のパターン化ツールローラ４７４内に押し込まれるとともに、硬化プロセスが第２のコーティング層４８１に対して繰り返される。以下に説明するように、ツールローラ４６０、４７４を互いに精密な角度関係に維持することにより、２つのコーティングパターンの位置合わせが達成される。
図９を参照すると、第１および第２のパターン化ロール５６０、５７４の一部の近接図が図示されている。第１のパターン化ロール５６０は微細複製表面を形成する第１のパターン５６２を有する。第２のパターン化ロール５７４は第２の微細複製パターン５７６を有する。図示の例示的実施形態において、第１および第２のパターン５６２、５７６は同じパターンであるが、パターンは異なっていてもよい。図示の実施形態において、第１のパターン５６２および第２のパターン５７６はプリズム構造として示されているが、任意の単一または多数の有用な構造が第１のパターン５６２および第２のパターン５７６を形成することができる。図示の実施形態において、第１のパターン５６２は円柱レンズ構造であり得るとともに、第２のパターン５７６はプリズムレンズ構造であり得る、またはその反対であり得る。
ウェブ５２２が第１のロール５６０上を通過する際、第１の表面５２４上の第１の硬化性液体（図示せず）は、第１のパターンロール５６０上の第１の領域５２６付近で、硬化光源５２５により硬化される。第１の微細複製パターン化構造５９０が、液体が硬化されるとウェブ５２２の第１の側５２４に形成される。第１のパターン化構造５９０は、第１のパターン化ロール５６０上のパターン５６２のネガである。第１のパターン化構造５９０が形成された後、第２の硬化性液体５８１がウェブ５２２の第２の表面５２７上に分注される。第２の液体５８１が早期に硬化されないようにするために第２の液体５８１は、第２の液体５８１に当たらないように第１の硬化光５２５を配置することによって、第１の硬化光５２５から隔離することができる。代替的には、遮蔽手段５９２を第１の硬化光５２５と第２の液体５８１との間に配置することができる。また、ウェブを介して硬化することが実用的ではないまたは困難である場合、硬化源をそれぞれのパターン化ロール内に配置することができる。
第１のパターン化構造５９０が形成された後、ウェブ５２２は第１と第２のパターン化ロール５６０、５７４間の間隙領域５７５に進入するまで第１のロール５６０に沿って続く。そして、第２の液体５８１が第２のパターン化ロール上の第２のパターン５７６と係合するとともに第２の微細複製構造に形作られ、その後、第２の硬化光５３５により硬化される。ウェブ５２２が第１と第２のパターン化ロール５６０、５７４間の間隙５７５に入ると、このときまでに実質的に硬化されるとともにウェブ５２２に接着された第１のパターン化構造５９０は、ウェブ５２２が間隙５７５内および第２のパターン化ローラ５７４の周囲で移動し始める間、ウェブ５２２が滑らないようにする。これによりウェブ上に形成された第１および第２のパターン化構造間の位置合わせエラーの原因としてのウェブ伸張および滑りを除去する。
第２の液体５８１が第２のパターン化ロール５７４と接する間ウェブ５２２を第１のパターンロール５６０上に支持することにより、ウェブ５２２の両側５２４、５２７上に形成された第１と第２の微細複製構造５９０、５９３間の位置合わせ度は、第１と第２のパターン化ロール５６０、５７４の表面間の位置関係を制御する関数になる。第１および第２のパターン化ロール５６０、５７４の周囲およびロールにより形成される間隙５７５間のウェブのＳ巻き（Ｓ−ｗｒａｐ）は、張力、ウェブ歪み変化、温度、ウェブを挟む機構により生じる微細滑り、および横方向位置制御の影響を最小限にする。通例、Ｓ巻きはウェブ５２２を１８０度の巻き角にわたって各ロールに接するように維持するが、巻き角は特定の要件に応じてより大きくてもより小さくてもよい。
ウェブの対向面上に形成されたパターン間の位置合わせ度を増すために、各ロールの平均直径ほどの低周波数ピッチ変化を有することが好ましい。通例、パターン化ロールは同じ平均直径であるがこれは必須ではない。任意の特定の用途に対して適当なロールを選択することは当業者の技術および知識の範囲内である。
図１０を参照すると、モータ載置装置が図示されている。ツールまたはパターン化ロール６６２を駆動するモータ６３３が、機枠６５０に載置されるとともに、結合器６４０を介してパターン化ローラ６６２の回転シャフト６０１に接続されている。モータ６３３は主エンコーダ６３０に結合されている。副エンコーダ６５１は、パターン化ロール６６２の精密な角度位置合わせ制御を提供するようにツールに結合されている。主６３０および副６５１エンコーダは協働してパターン化ロール６６２の制御を提供し、以下にさらに説明するように、パターン化ロール６６２を第２のパターン化ロールと位置合わせした状態に保つ。
シャフト共振の低減または解消は重要であるが、それはこれが指定限界内のパターン位置制御を許す位置合わせエラーの原因になるからである。モータ６３３と指定する一般的なサイジング計画より大きいシャフト６５０との間で結合器６４０を使用すると、より柔軟性のある結合器によって生じるシャフト共振も低減することができる。軸受けアセンブリ６６０は様々な箇所に配置されてモータ装置に対する回転支持を提供する。
図示の例示的実施形態において、ツールローラ６６２の直径はそのモータ６３３の直径より小さくてもよい。この装置を収容するためにツールローラを対で鏡像状に配置し得る。図１１において、２つのツールローラアセンブリ６１０および７１０は、２つのツールローラ６６２および７６２を１つにすることができるように鏡像として装着されている。図３も参照すると、第１のモータ装置は通例枠に固定的に取り付けられているとともに、第２のモータ装置は移動可能な光学的品質直線スライドを用いて位置決めされる。
ツールローラアセンブリ７１０はツールローラアセンブリ６１０と非常に類似しているとともに、ツールまたはパターン化ロール７６２を駆動するモータ７３３を含み、モータ７３３は機枠７５０に載置されているとともに結合器７４０を介してパターン化ローラ７６２の回転シャフト７０１に接続されている。モータ７３３は主エンコーダ７３０に結合されている。副エンコーダ７５１は、パターン化ロール７６２の正確な角度位置合わせ制御を提供するようにツールに結合されている。主７３０および副７５１エンコーダは協働してパターン化ロール７６２の制御を提供し、以下にさらに説明するようにパターン化ロール７６２を第２のパターン化ロールと位置合わせした状態に保つ。
シャフト共振の低減または解消は重要であるが、それはこれが指定限界内のパターン位置制御を許す位置合わせエラーの原因になるからである。モータ７３３と指定する一般的なサイジング計画より大きいシャフト７５０との間で結合器７４０を使用すると、より柔軟性のある結合器によって生じるシャフト共振も低減することができる。軸受けアセンブリ７６０は様々な箇所に配置されてモータ装置に対する回転支持を提供する。
ウェブの両面上の微細複製構造上の特徴サイズは互いに微細な位置合わせにあることが望ましいため、パターン化ロールを高精度で制御しなければならない。本明細書に記載された限度内の横方向位置合わせを、以下に説明するように流れ方向位置合わせを制御する際に用いられる技術を適用することにより達成することができる。例えば、１０インチ外周パターン化ローラ上に約１０マイクロメートルの終端間特徴配置を達成するためには、各ローラを±３２秒角／回転の回転精度内に維持しなければならない。ウェブがシステム中を進行する速度が増すにつれて位置合わせの制御はより困難になる。
出願人は、ウェブの対向面に２．５マイクロメートル以内に位置合わせされたパターン化特徴を有するウェブを作製できる、１０インチ円形パターン化ロールを有するシステムを構築するとともに例示した。この開示を読むとともに本明細書に教示する原理を適用すれば、当業者には他の微細複製表面に対する位置合わせ度を達成する方法が理解できよう。
図１２を参照すると、モータ装置８００の概略が図示されている。モータ装置８００は主エンコーダ８３０と駆動シャフト８２０とを含むモータ８１０を含む。駆動シャフト８２０は結合器８２５を介してパターン化ロール８６０の駆動シャフト８４０に結合されている。副または負荷エンコーダ８５０は駆動シャフト８４０に結合されている。２つのエンコーダを上記したモータ装置内で用いることにより、測定装置（エンコーダ）８５０をパターン化ロール８６０付近に配置することによってパターン化ロールの位置をより正確に測定することができるため、モータ装置８００が動作している際のトルク外乱の影響を低減または解消することができる。
図１３を参照すると、制御部品に取り付けられているように図１２のモータ装置の概略が図示されている。図５〜７に示された例示的装置において、同様な構成は各モータ装置２１０および２２０を制御する。したがって、モータ装置９００は主エンコーダ９３０と駆動シャフト９２０とを含むモータ９１０を含む。駆動シャフト９２０は結合器９３０を介してパターン化ロール９６０の駆動シャフト９４０に結合されている。副または負荷エンコーダ９５０は駆動シャフト９４０に結合されている。
モータ装置９００は制御装置９６５と通信することにより、パターン化ロール９６０の正確な制御を可能にする。制御装置９６５は駆動モジュール９６６とプログラムモジュール９７５とを含む。プログラムモジュール９７５はライン９７７、例えばサーコス（ＳＥＲＣＯＳ）ファイバネットワークを介して駆動モジュール９６６と通信する。プログラムモジュール９７５を用いて設定点などのパラメータを駆動モジュール９６６に入力する。駆動モジュール９６６は入力４８０ボルト、３相電力９１５を受け取り、それを直流に整流して、それを電力接続９７３を介して配電し、モータ９１０を制御する。モータエンコーダ９１２は位置信号を制御モジュール９６６に供給する。パターン化ロール９６０上の副エンコーダ９５０も位置信号をライン９７１を介して駆動モジュール９６６に戻すように供給する。駆動モジュール９６６はエンコーダ信号を用いてパターン化ロール９６０を正確に位置決めする。位置合わせ度を達成するための制御設計を以下に詳細に説明する。
図示の例示的実施形態において、各パターン化ロールは専用の制御装置により制御される。専用の制御装置は協働して第１と第２のパターン化ロール間の位置合わせを制御する。各駆動モジュールはそのそれぞれのモータアセンブリと通信するとともに制御する。
出願人により構築されるとともに例示されたシステム内の制御装置を以下に説明する。パターン化ロールの各々を駆動するために、高分解能正弦エンコーダフィードバック（５１２正弦周期×４０９６駆動補間＞＞２００万部／回転）を有する高性能、低コギングトルクモータ、ボッシュ・レックスロス（Ｂｏｓｃｈ−Ｒｅｘｒｏｔｈ）（インドラマット（Ｉｎｄｒａｍａｔ））から入手可能なモデルＭＨＤ０９０Ｂ−０３５−ＮＧ０−ＵＮを用いた。また、システムは同期モータ、ボッシュ・レックスロス（Ｂｏｓｃｈ−Ｒｅｘｒｏｔｈ）（インドラマット（Ｉｎｄｒａｍａｔ））から入手可能なモデルＭＨＤ０９０Ｂ−０３５−ＮＧ０−ＵＮを含んでいたが、誘導モータなどの他のタイプを用いることもできる。
各モータを非常に剛性なベロー結合器、Ｒ／Ｗコーポレーション（Ｒ／Ｗ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能なモデルＢＫ５−３００を介して直接結合した（変速機または機械的減速なしに）。代替的結合器設計を用いることもできるが、ベロー式は概して高回転精度を提供しつつ剛性を兼ね備える。各結合器を代表的な製造業者の仕様が推奨するものより大幅に大きい結合器が選択されるような大きさに形成した。
さらに、結合器とシャフトとの間のゼロ緩みコレットまたは圧縮式係止ハブが好ましい。各ローラシャフトを中空シャフト負荷側エンコーダ、イリノイ州ショウンバーグ（Ｓｃｈａｕｍｂｕｒｇ，ＩＬ）のハイデンハイン・コーポレーション（Ｈｅｉｄｅｎｈａｉｎ Ｃｏｒｐ．）から入手可能なモデルＲＯＮ２５５Ｃを介してエンコーダに取り付けた。エンコーダ選択は、通例、３２秒角精度より大きい可能な最高精度および分解能を有さなければならない。出願人の設計、１８０００正弦周期／回転を採用したが、これは４０９６ビット分解能駆動補間と併せて、精度より大幅に高い分解能を与える５０００万部／回転の分解能を超えた。負荷側エンコーダは±２秒角の精度を有し、伝達単位の最大偏移は±１秒角未満であった。
ある例では、各シャフトを可能な限り直径が大きく且つ可能な限り短くなるように設計して剛性を最大にすることにより、可能な最高共振周波数を得る。すべての回転要素の精密アラインメントはこの位置合わせエラーという原因による最小位置合わせエラーを保証することが望ましい。
図１４を参照すると、出願人のシステムにおいて同一の位置参照コマンドが、２ミリ秒更新速度でサーコス（ＳＥＲＣＯＳ）ファイバネットワークを介して各軸に同時に提示された。各軸は２５０マイクロ秒間隔の位置ループ更新速度で、三次スプラインで位置参照を補間する。一定速度は単純な一定時間間隔経路を生じるため、補間方法は決定的なものではない。分解能はいかなる丸めまたは数値化誤差も解消するために重要なものである。軸転倒も対処されなければならない。ある場合には、各軸の制御周期が電流ループ実行速度（６２マイクロ秒間隔）で同期していることが重要である。
上部経路１１５１は制御のフィードフォワード部である。制御ストラテジーは位置ループ１１１０と、速度ループ１１２０と、電流ループ１１３０とを含む。位置参照１１１１は微分されて、一度速度フィードフォワード項１１５２を生成して２度目に加速度フィードフォワード項１１５５を生成する。フィードフォワード経路１１５１はライン速度変更および動的補正時の動作を助ける。
位置コマンド１１１１は現在位置１１１４から減算されてエラー信号１１１６を生成する。エラー１１１６は比例コントローラ１１１５に印加されて、速度コマンド参照１１１７を生成する。速度フィードバック１１６７はコマンド１１１７から減算されて速度エラー信号１１２３を生成し、それはその後ＰＩＤコントローラに印加される。速度フィードバック１１６７はモータエンコーダ位置信号１１２６を微分することにより生成される。微分および数値分解能限界により、ローパスバターワースフィルタ１１２４が適用されて、エラー信号１１２３から高周波ノイズ成分を除去する。狭いストップバンド（ノッチ）フィルタ１１２９がモータ−ローラ共振周波数の中心で適用される。これにより大幅に高い利得を速度コントローラ１１２０に適用することができる。モータエンコーダの分解能の上昇は性能も改善する。制御図内のフィルタの厳密な場所は決定的なものではなく、順方向または逆方向経路が許容可能であるが、同調パラメータは場所に依存する。
ＰＩＤコントローラを位置ループ内で用いることもできるが、積分器のさらなる位相ずれは安定化をより困難にする。電流ループは従来のＰＩコントローラであり、利得はモータパラメータによって確立される。可能な最高帯域電流ループは最適性能を可能にする。また、最小トルクリップルが望ましい。
外乱の最小限化は最大位置合わせを得るために重要である。これは前述したようにモータ構成および電流ループ通信を含むが、機械的外乱を最小限にすることも重要である。例には、ウェブスパンを入るおよび出る際の非常に平滑な張力制御、均一な軸受けおよびシール抗力、ローラからのウェブ剥離による張力混乱の最小化、均一ゴムニップローラがある。現在の設計において、ツールロールに噛合した第３の軸がプルロールとして設けられて、硬化構造をツールから取り外す際に助ける。
ウェブ材料はその上に微細複製パターン化構造を作製することができる上記したような任意の適当な材料であればよい。ウェブ材料の例はポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、またはポリカーボネートである。ウェブを多層化することもできる。液体は通例パターン化構造が作製される側と反対側の硬化源によって硬化されるため、ウェブ材料は使用される硬化源に対して少なくとも部分的に透明でなければならない。硬化エネルギー源の例は赤外線、紫外線、可視光線、マイクロ波、またはｅビームである。当業者には、他の硬化源を用いることができるとともに、特定のウェブ材料／硬化源の組み合わせの選択が、作製される特定の物品（位置合わせされた微細複製構造を有する）に依存することは理解できよう。
ウェブを介して液体を硬化させる代替例は、金属ウェブまたは金属層を有するウェブなどを介する硬化が困難であるウェブに有用である、二液反応型硬化、例えばエポキシを用いることであろう。硬化は成分のインライン混合またはパターン化ロールの一部上に触媒を噴霧することによっても達成可能であり、コーティングおよび触媒が接触すると液体を硬化させて微細複製構造を形成する。
微細複製構造が作製される液体は、ＵＶ光により硬化可能なアクリレート類などの硬化性光重合性材料であればよい。当業者には、他のコーティング材料を用いることができるとともに、材料の選択が微細複製構造に望ましい特定の特性に依存することは理解できよう。同様に採用される特定の硬化方法は、当業者の技術および知識の範囲内である。硬化方法の例は反応硬化、熱硬化、または放射線硬化である。
液体をウェブへ送達および制御するために有用な塗布手段の例は、例えばシリンジまたは蠕動ポンプなどの任意の適当なポンプと結合されたダイまたはナイフコーティングである。当業者には、他の塗布手段を用いることができるとともに、特定の手段の選択がウェブに送達される液体の特定の特性に依存することは理解できよう。
当業者には、本開示の範囲と趣旨とから逸脱することなく本開示の様々な変更例および代替例が明らかであるとともに、この開示が本明細書に記載された図示の実施形態に限定されないことは理解されよう。
例示的ディスプレイの概略断面図を図示する。 本開示による微細複製フィルムの概略断面図を図示する。 本開示による例示的微細複製フィルムの斜視図を図示する。 線４−４に沿った図３の例示的微細複製フィルムの概略的断面図を図示する。 本開示によるシステムを含むシステムの例示的実施形態の斜視図を図示する。 本開示による図５のシステムの一部の近接図を図示する。 本開示による図５のシステムの他の斜視図を図示する。 本開示による成形装置の例示的実施形態の概略図を図示する。 本開示による図８の成形装置の一部の近接図を図示する。 本開示によるロール載置装置の例示的実施形態の概略図を図示する。 本開示による１対のパターン化ロールの載置装置の例示的実施形態の概略図を図示する。 本開示によるモータおよびロール装置の例示的実施形態の概略図を図示する。 本開示によるロール間の位置合わせを制御する手段の例示的実施形態の概略図を図示する。 本開示による位置合わせを制御する方法および装置の例示的実施形態のブロック図を図示する。

Claims (8)

  1. 互いに対して反対側の第１および第２の対向表面を有する可撓性基板と、
    前記第１の対向表面上の第１の塗布微細複製パターンと、
    前記第２の対向表面上の第２の塗布微細複製パターンと、を備え、
    前記第１の塗布微細複製パターンと第２の塗布微細複製パターンとが１０マイクロメートル以内に位置合わせされているとともに、前記第１の塗布微細複製パターンまたは第２の塗布微細複製パターンが、前記第１の塗布微細複製パターンまたは前記第２の塗布微細複製パターンの少なくとも選択されたパターン要素の長さに沿った変動高さを備え、前記変動高さが前記少なくとも選択されたパターン要素の前記長さに沿って位置する複数の局所高さ最大値と局所高さ最小値とを備えるとともに、前記変動高さが第１の値未満の前記局所高さ最大値と局所高さ最小値との間の高さの差の平均値を有し、前記第１の値が０．５〜５マイクロメートルの範囲である微細複製物品。
  2. 前記第１の塗布微細複製パターンまたは前記第２の塗布微細複製パターンが、５０〜１００マイクロメートルの範囲の、前記変動高さ長さに沿った局所高さ最大値間の平均間隔を備える、請求項１に記載の微細複製物品。
  3. 前記第１の塗布微細複製パターンが複数のプリズムを備えるとともに、前記第２の塗布微細複製パターンが複数の円柱レンズを備え、前記第１の塗布微細複製パターンと前記第２の塗布微細複製パターンとが、５０〜１５０マイクロメートルの範囲の繰り返し周期を有する、請求項１又は２に記載の微細複製物品。
  4. 互いに対して反対側の第１および第２の対向表面を有する、ウェブ形状の基板を設けるステップと、
    前記第１の対向表面上に第１の塗布微細複製パターンと前記第２の対向表面上に第２の塗布微細複製パターンとを形成するために、前記基板をロールツーロール成形装置を通過させるステップとを含み、
    前記第１の塗布微細複製パターンと前記第２の塗布微細複製パターンとが１０マイクロメートル以内に位置合わせされているとともに、前記第１の塗布微細複製パターンと第２の塗布微細複製パターンとが複数のレンズ要素を形成し、前記レンズ要素が、前記第１の塗布微細複製パターンまたは第２の塗布微細複製パターンの少なくとも選択されたレンズ要素の長さに沿った変動高さを備え、前記変動高さが前記少なくとも選択されたレンズ要素の前記長さに沿って位置する複数の局所高さ最大値と局所高さ最小値とを備えるとともに、前記変動高さが０．５〜５マイクロメートルの範囲の前記局所高さ最大値と局所高さ最小値との間の高さの差の平均値を有する、複数の微細複製レンズ要素を含む微細複製物品を作製する方法。
  5. 前記通過させるステップが、前記基板をロールツーロール成形装置を通過させて複数のレンズ要素を形成するステップを含む、請求項４に記載の方法。
  6. 前記通過させるステップが、前記基板をロールツーロール成形装置を通過させて複数のレンズ要素を形成するステップを含み、前記第１の塗布微細複製パターンまたは前記第２の塗布微細複製パターンが、５０〜１００マイクロメートルの範囲の局所高さ最大値間の平均間隔を備え、前記第１の塗布微細複製パターンが複数のプリズムを備えるとともに、前記第２の塗布微細複製パターンが複数の円柱レンズを備える、請求項５に記載の方法。
  7. 光源と、
    光学フィルムであって、
    互いに対して反対側の第１および第２の対向表面を有する可撓性基板と、
    前記第１の対向表面上の第１の塗布微細複製パターンと、
    前記第２の対向表面上の第２の塗布微細複製パターンとを備え、前記第１および前記第２のパターンが１０マイクロメートル以内に位置合わせされているとともに、前記第１の塗布微細複製パターンまたは第２の塗布微細複製パターンが、前記第１の塗布微細複製パターンまたは前記第２の塗布微細複製パターンの少なくとも選択されたパターン要素の長さに沿った変動高さを備え、前記変動高さが前記少なくとも選択されたパターン要素の前記長さに沿って位置する複数の局所高さ最大値と局所高さ最小値とを備えるとともに、前記変動高さが第１の値未満の前記局所高さ最大値と局所高さ最小値との間の高さの差の平均値を有し、前記第１の値が０．５〜５マイクロメートルの範囲である、光学フィルムと、
    前記第１の塗布微細複製パターンまたは前記第２の塗布微細複製パターンと対向する表面を有する光学要素と、を備え、前記光源からの光が前記光学フィルムと前記光学要素とを通過する光ディスプレイ。
  8. 前記光学フィルムまたは前記光学要素から光を受けるように配置された液晶ディスプレイセルをさらに備える、請求項７に記載の光ディスプレイ。
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