ARTICULO MICROREPLICADO CON SUPERFICIE REDUCTORA DE DEFECTOS
CAMPO DE LA INVENCIÓN La descripción de refiere generalmente al moldeo continuo de un material encima de una trama, y más específicamente al moldeo de articulos que tienen una superficie reductora de defectos y un alto grado de registro entre los patrones moldeados en los lados opuestos de la trama . ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN En la fabricación de muchos articulos, desde la impresión de periódicos hasta la fabricación de dispositivos ópticos y electrónicos sofisticados, es necesario aplicar algún material que esté al menos temporalmente en forma liquida a los lados opuestos de un sustrato. Es a menudo el caso que el material aplicado al sustrato se aplique en un patrón predeterminado; en el caso de por ejemplo impresión, la tinta se aplique en el patrón de letras e imágenes. Es común en tales casos que haya al menos un requerimiento minimo para registro entre los patrones en los lados opuestos de un sustrato. Cuando el sustrato es un articulo discreto tal como un tablero de circuitos, los aplicadores de un patrón pueden usualmente apoyarse en un borde para ayudar en lograr el registro. Pero cuando el sustrato es una trama y no es
Ref.: 185987 posible apoyarse en el borde del sustrato para referirlo periódicamente en la conservación del registro, el problema se vuelve un poco más difícil. Todavía, incluso en el caso de tramas, cuando el requerimiento para registro no es severo, por ejemplo una variación lenta fuera del registro perfecto de más de 100 micrómetros es tolerable, se conocen artificios mecánicos para controlar la aplicación de material a ese grado. La técnica de la impresión está repleta de dispositivos que pueden satisfacer tal estándar. Sin embargo, en algunos productos que tienen patrones sobre los lados opuestos de un sustrato, se requiere un registro mucho más preciso entre los patrones. En tal caso, si la trama no está en movimiento continuo, se conocen aparatos que pueden aplicar material hasta tal estándar. Y si la trama está en movimiento continuo, si es tolerable, como en por ejemplo algunos tipos de circuiteria flexible, para restablecer los rodillos formadores de patrones hasta dentro de 100 micrómetros, o incluso 5 micrómetros, de registro perfecto una vez por revolución de los rodillos formadores de patrones, la técnica todavía da lineamientos sobre como proceder . Sin embargo, en por ejemplo articulos ópticos tal como peliculas intensificadoras del brillo, se requiere que los patrones en el polimero ópticamente transparente aplicado a los lados opuestos de un sustrato que esté fuera de registro por no más de una tolerancia muy pequeña en cualquier punto en la rotación de la herramienta. Hasta ahora, la técnica no menciona sobre la manera de fundir una superficie con patrones sobre los lados opuestos de una trama que está en movimiento continuo de manera que los patrones se mantienen continuamente, más que intermitentemente, en registro dentro de 100 micrómetros. Un problema con el uso de peliculas en una pantalla es que los requerimientos cosméticos para una pantalla pretendida para visión cercana, tal como una pantalla de computadora, son muy altos. Esto se debe a que tales pantallas se ven cercanamente por periodos prolongados de tiempo, y asi se pueden detectar incluso defectos muy pequeños por el ojo desnudo, y provocar distracción al observador. La eliminación de tales defectos puede ser costosa tanto en tiempo de inspección como en materiales. Los defectos se manifiestan en diversas formas diferentes. Existen defectos físicos tal como manchas, partículas de fibras, rayas, imperfecciones etc., y también defectos que son fenómenos ópticos. Entre los fenómenos ópticos más comunes están el "empapado". El empapado sucede cuando dos superficies ópticamente están con contacto una con la otra, retirando asi efectivamente el cambio en el Índice de refracción para la luz que se propaga desde una película a la siguiente. Esto es particularmente problemático para películas que usan una superficie estructurada para su efecto óptico, ya que las propiedades de refracción de la superficie estructurada se nulifican. El efecto de "empapado" es crear una apariencia manchada y variable en la pantalla. Se han seguido diversas metodologías para superar el problema de defectos en ensambles de pantallas. Una es simplemente aceptar un bajo rendimiento de ensambles de pantallas aceptables producidos por el proceso convencional de manufactura. Esto es obviamente inaceptable en un mercado competitivo. Una segunda metodología es adoptar procedimientos de manufactura muy limpios y cuidadosos, e imponer estándares de control de calidad rígidos. Aunque esto puede mejorar el rendimiento, el costo de producción se incrementa para cubrir el costo de instalaciones limpias e inspección. Otro método para reducir defectos es introducir un difusor a la pantalla, ya sea un difusor de superficie o un difusor de volumen. Tales difusores pueden ocultar muchos defectos, e incrementar el rendimiento de manufactura a un bajo costo adicional. Sin embargo, el difusor dispersa la luz y disminuye el brillo de la luz sobre el eje percibido por el observador, reduciendo así el desempeño. BREVE DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN Un aspecto de la presente descripción se dirige a un artículo microreplicado que tiene una superficie reductora de defectos. El artículo microreplicado incluye un sustrato flexible que tiene primera y segunda superficies opuestas, un primer patrón microreplicado recubierto sobre la primera superficie, y un segundo patrón microreplicado recubierto sobre la segunda superficie. El primer patrón microreplicado recubierto y segundo patrón microreplicado recubierto se registran hasta dentro de 10 micrómetros. La superficie reductora de empapado o reductora -de defectos incluye una altura variable a lo largo de una longitud de al menos los elementos del patrón seleccionado del primer patrón microreplicado recubierto o segundo patrón microreplicado recubierto. La altura variable incluye una pluralidad de altura local máxima y altura local mínima localizadas a lo largo de la longitud de los al menos elementos del patrón seleccionado. La altura variable tiene una diferencia de altura promedio entre la altura local máxima y altura local mínima de menos de un primer valor. En algunas modalidades, el primer valor está en un intervalo desde 0.5 a 5 micrómetros. La característica reductora de defectos o reductora de empapado incluye una separación promedio entre altura local máxima a lo largo de la longitud de altura variable en un intervalo de 50 a 100 micrómetros. Los métodos de elaboración de un articulo microreplicado que tiene una superficie reductora de defectos también se describen. Los métodos incluyen las etapas de suministrar un sustrato, en forma de trama, que tiene primera y segunda superficies opuestas, y pasar el sustrato a través de un aparato de moldeo de rodillo a rodillo para formar un primer patrón microreplicado recubierto sobre la primera superficie y un segundo patrón microreplicado recubierto sobre la segunda superficie. El primer patrón microreplicado recubierto y el segundo patrón microreplicado recubierto se registran hasta dentro de 10 micrómetros. Definiciones En el contexto de esta descripción, "registro, " significa la colocación de estructuras sobre una superficie de la trama en una relación definida a otras estructuras sobre el lado opuesto de la misma trama. En el contexto de esta descripción, "trama" significa una lámina de material que tiene una dimensión fija en una dirección y ya sea una longitud predeterminada o indeterminada en la dirección ortogonal. En el contexto de esta descripción, "registro continuo, " significa que en todo momento durante la rotación del primero y segundo rodillos con patrones el grado de registro entre estructuras sobre los rodillos es mejor que un límite especificado. En el contexto de esta descripción, "microreplicado" o "microreplicación" significa la producción de una superficie microestructurada a través de un proceso donde las características de la superficie estructurada conservan una fidelidad de aspectos individuales durante la manufactura, de producto a producto, que varia por no más de alrededor de 100 micrómetros. BREVE DESCRIPCIÓN DE LAS FIGURAS En las diversas figuras de las figuras anexas, partes similares llevan números de referencia similares, y: FIG. 1 ilustra una vista en sección transversal esquemática de una pantalla ilustrativa; FIG. 2 ilustra una vista en sección transversal esquemática de una película microreplicada de acuerdo con la presente descripción; FIG. 3 ilustra una vista en perspectiva de una película microreplicada ilustrativa de acuerdo con la presente descripción FIG. 4 ilustra una vista en sección transversal esquemática de la película microreplicada ilustrativa de FIG. 3 tomada a lo largo de la linea 4-4; FIG. 5 ilustra una vista en perspectiva de una modalidad de ejemplo de un sistema que incluye un sistema de acuerdo con la presente descripción; FIG. 6 ilustra una vista en acercamiento de una porción del sistema de FIG. 5 de acuerdo con la presente descripción; FIG. 7 ilustra otra vista en perspectiva del sistema de FIG. 5 de acuerdo con la presente descripción; FIG. 8 ilustra una vista esquemática de una modalidad de ejemplo de un aparato de moldeo de acuerdo con la presente descripción; FIG. 9 ilustra una vista en acercamiento de una sección del aparato de moldeo de FIG. 8 de acuerdo con la presente descripción; FIG. 10 ilustra una vista esquemática de una modalidad de ejemplo de una configuración de montaje de rodillos de acuerdo con la presente descripción; FIG. 11 ilustra una vista esquemática de una modalidad de ejemplo de una configuración de montaje para un par de rodillos con patrones de acuerdo con la presente descripción;
FIG. 12 ilustra una vista esquemática de una modalidad de ejemplo de una configuración de motor y rodillo de acuerdo con la presente descripción; FIG. 13 ilustra una vista esquemática de una modalidad de ejemplo de un medio para el control del registro entre rodillos de acuerdo con la presente descripción; y FIG. 14 ilustra un diagrama de bloques de una modalidad de ejemplo de un método y aparato para controlar registro de acuerdo con la presente descripción. DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LA INVENCIÓN Generalmente, la descripción de la presente descripción se dirige a un sustrato flexible recubierto con estructuras con patrones microreplicados sobre cada lado. Los artículos microreplicados se registran con respecto uno del otro hasta un alto grado de precisión. Preferiblemente, las estructuras sobre los lados opuestos cooperan para darle al artículo cualidades ópticas como sea deseable, y más preferiblemente, las estructuras son una pluralidad de lentes que incluyen una caracteristica reductora de defectos o de empapado. FIG. 1 ilustra una vista en sección transversal esquemática de una pantalla ilustrativa 1. En la modalidad ilustrada, la pantalla 1 incluye una o más fuentes de luz 10a, 10b al suministrar luz a una película óptica 14. La pantalla 1 puede incluir uno o más componentes ópticos adicionales, como sea deseable. Componentes ópticos adicionales pueden incluir, por ejemplo, una guia de luz 12 dispuesta entre una o más fuentes de luz 10a, 10b y la película óptica 14 y a celda de cristal líquido 16 dispuesta adyacente a la película óptica 14. En algunas modalidades, la película óptica 14 tiene características (descrito a continuación) que reducen la presencia del "empapado" entre la película óptica 14 y los elementos ópticos adicionales que están adyacentes a la película óptica 14. En algunas modalidades, la película óptica 14 tiene características
(descritas a continuación) que reducen la visibilidad d los defectos de la película óptica 14. La película óptica 14 aqui descrita se puede usar en una variedad de aplicaciones, como sea deseable. En algunas modalidades, la película óptica 14 se puede usar en pantallas estereoscópicas de cristal liquido. Una pantalla estereoscópica de cristal liquido ilustrativa se describe en "Dual Directional Backlight for Stereoscopic LCD," Sasagawa et al., 1-3, SID 03 Digest, 2000. Como se muestra En la FIG. 1, la pantalla 1 incluye una fuente de luz del ojo derecho 10a y una fuente de luz del ojo izquierdo 10b. En la modalidad ilustrada, las fuentes de luz 10a, 10b operan a una relación de campo de 120 Hz y una relación de marco de 60 Hz, así se despliegan separadamente las imágenes en paralaje al ojo derecho cuando la fuente de luz del ojo derecho 10a se ilumina y al ojo izquierdo cuando la fuente de luz del ojo izquierdo 10b se ilumina, provocando que la imagen percibida aparezca en tres dimensiones. FIG. 2 ilustra una vista en sección transversal esquemática de una película óptica microreplicada ilustrativa 14 de acuerdo con la presente descripción. La película óptica 14 incluye un sustrato de trama 20 que tiene una primera superficie 22 y una segunda superficie opuesta 24. Un primer patrón microreplicado recubierto o estructura 25 está dispuesto sobre la primera superficie 22 del sustrato 20. Un segundo patrón microreplicado recubierto o estructura 35 está dispuesto sobre la segunda superficie 24 del sustrato 20. En la modalidad ilustrada, el primer patrón microreplicado recubierto o estructura 25 comprende una pluralidad de lentes cilindricos o curvados y el segundo primer patrón microreplicado recubierto o estructura 35 comprende una pluralidad de lentes de prisma. La película óptica 14 puede tener algunas dimensiones útiles. En algunas modalidades, la película óptica 14 tiene una altura T desde 50 a 500 micrómetros, o desde 75 a 400 micrómetros, o desde 100 a 200 micrómetros. El primer patrón microreplicado recubierto 25 y el segundo patrón microreplicado 35 pueden tener la misma separación o periodo de repetición P. En algunas modalidades, la separación o periodo de repetición P puede ser 25 a 200 micrómetros, o 50 a 150 micrómetros, como sea deseable. La separación o periodo de repetición P pueden formar una pluralidad de elementos de lente. Cada elemento de lentes puede unir un elemento de lente adyacente en un primer punto de unión 26 y un segundo punto de unión 36. En algunas modalidades, el primer punto de unión 26 y segundo punto de unión 36 son adyacentes al sustrato 20 y en registro. En otras modalidades, el primer punto de unión 26 y segundo punto de unión 36 se registran en una relación geométrica definida que puede no estar adyacente una con otra a través de (dirección "z") la trama 20. El sustrato 20 puede tener cualquier grosor útil Ti tal como por ejemplo, 10 a 150 micrómetros, o desde 25 a 125 micrómetros. El primer patrón microreplicado 25 puede tener cualquier grosor T6, tal como por ejemplo, desde 10 a 50 micrómetros y un grosor de característica o estructura T3 desde 5 a 50 micrómetros. El segundo patrón microreplicado 35 puede tener cualquier grosor T5, tal como por ejemplo, desde 25 a 200 micrómetros y un grosor de caracteristica o estructura T2 desde 10 a 150 micrómetros. Un grosor de punto de unión T4 puede ser cualquier cantidad útil tal como, por ejemplo, desde 10 a 200 micrómetros. Los lentes curvados pueden tener cualquier radio útil R tal como por ejemplo, desde 25 a 150 micrómetros, o desde 40 a 70 micrómetros. En la modalidad de ejemplo mostrada, las características de microreplicado opuestas 25, 35 cooperan para formar una pluralidad de elementos de lente. Ya que el desempeño de cada elemento de lente es una función de la alineación de las caracteristicas opuestas 25, 35 que forman cada elemento de lentes, es preferible la alineación o registro de precisión de las características de los lentes. Generalmente, la película óptica 14 de la presente descripción puede hacerse por un sistema y método, descrito a continuación, para producir estructuras microreplicadas por dos lados con registro de mejor que alrededor de 10 micrómetros, o mejor que 5 micrómetros, o mejor que 3 micrómetros, o mejor que 1 micrómetro. El sistema generalmente incluye un ensamble de moldeo de rodillo a rodillo y incluye un primer ensamble de formación de patrones y un segundo ensamble de formación de patrones. Cada ensamble respectivo crea un patrón de microreplicado sobre una superficie respectiva de una trama que tiene una primera y una segunda superficie. Un primer patrón se crea sobre el primer lado de la trama y un segundo patrón se crea sobre la segunda superficie de la trama. Una característica reductora de defectos o reductora de "empapado" puede incluirse con el primero y/o segundo patrón microreplicado. FIG. 3 ilustra una vista en perspectiva de una película microreplicada ilustrativa 14 de acuerdo con la presente descripción. Un primer patrón o estructura microreplicados 25 y un segundo patrón microreplicado o estructura 35 se coloca sobre los lados opuestos de un sustrato de trama 20. Una característica reductora de defectos o reductora de "empapado" se muestra en el segundo patrón microreplicado o estructura 35. En la modalidad ilustrada, la caracteristica reductora de defectos o reductora de "empapado" incluye una altura variable del elemento del patrón T5 a lo largo del eje "Y" de la película óptica 14. En algunas modalidades, los elementos del patrón son sustancialmente paralelos con el eje
\\ / r?
FIG. 4 ilustra una vista en sección transversal esquemática de la película microreplicada ilustrativa 14 de
FIG. 3 tomada a lo largo de la linea 4-4. La modalidad ilustrada muestra una característica reductora de defectos o reductora de "empapado" en ambos, el primer patrón microreplicado 25 y el segundo patrón microreplicado 35. El segundo patrón microreplicado 35 tiene una pluralidad de altura local máxima 27 y altura local mínima 28 localizadas a lo largo de una longitud (eje "y") al menos elementos de patrones seleccionados, y la altura variable tiene una diferencia de altura promedio entre la altura local máxima 27 y la altura local minima 28 que es menor que un valor predeterminado. Este valor predeterminado puede ser cualquier distancia útil tal como, por ejemplo, desde 0.5 a 5 micrómetros, o desde 1 a 2 micrómetros, como sea deseable. El segundo patrón microreplicado 35 tiene un periodo Pi
(nominal) entre la altura local máxima 27 o la altura local mínima 28 de cualquier distancia útil tal como, por ejemplo, desde 20 a 400 micrómetros, o desde 50 a 250 micrómetros o desde 50 a 100 micrómetros. El primer patrón microreplicado 25 puede alternativamente o además, tener un periodo P2 (nominal) entre altura local máxima o altura local mínima de cualquier distancia útil, que pueda ser igual o diferente a Pi tal como, por ejemplo desde 20 a 400 micrómetros, o desde 50 a 250 micrómetros o desde 50 a 100 micrómetros. La característica reductora de defectos o reductora de "empapado" puede ser un patrón regular o aleatorio que se puede formar por el aparato y método de moldeo de rodillo a rodillo descrito a continuación. La característica reductora de defectos o reductora de "empapado" se puede formar sobre rodillos maestros descritos a continuación por cualquier método. En una modalidad, la caracteristica reductora de defectos o reductora de "empapado" se forma sobre los rodillos maestros con técnicas conocidas de torneado con punta de diamante. Los maestros para las herramientas (rodillos) usados para la manufactura de las películas ópticas moldeadas de rodillo a rodillo aquí descrita, se pueden hacer por técnicas conocidas de torneado con punta de diamante. Típicamente las herramientas se hacen por torneado con punta de diamante sobre una base cilindrica conocida como un rodillo. La superficie del rodillo es tipicamente de cobre duro, aunque se pueden usar otros materiales. Las estructuras de microreplicación se forman en patrones continuos alrededor de la circunferencia del rodillo. Si las estructuras a producirse tienen una separación constante, la herramienta se moverá a velocidad constante. A una máquina tipica de torneado con punta de diamante proporcionará el control independiente de la profundidad a la que la herramienta penetra el rodillo, los ángulos horizontales y verticales que hace la herramienta al rodillo y la velocidad transversal de la herramienta. Con objeto de producir estructuras microreplicadas reductoras de "empapado" y reductoras de defectos de la descripción un servoaccionador de herramienta sujeta a prensa se puede agregar al aparato de torneado con diamante . Un servoaccionador de herramienta sujeta a prensa ilustrativo se describe en US 6,354,709. Esta referencia describe una herramienta de diamante soportada por un bloque piezoeléctrico. Cuando el bloque piezoeléctrico se estimula por una señal eléctrica variable, provoca que la herramienta de diamante se mueva de manera tal que la distancia que se extiende desde la envolvente cambia. Es posible que se estimule el bloque piezoeléctrico por una señal de frecuencia constante o programada, pero generalmente se prefiere usar una frecuencia aleatoria o pseudo-aleatoria . Como se usa en la presente, el término aleatorio se entenderá que incluye pseudo-aleatorio. La herramienta maestra (rodillo) así producida luego se puede usar en los procesos de cura y de moldeo de rodillo a rodillo descrito a continuación para producir la película óptica aquí descrita. La película óptica reductora de defectos 14 antes descrita se puede hacer al usar un aparato y método para producir estructuras microreplicadas precisamente alineadas sobre las superficies opuestas de la trama, el aparato y métodos los cuales se describen en detalle a continuación. En una modalidad la trama o sustrato se hace desde polietilen tereftalato (PET), 0.0049 pulgadas (0.124 mm) de grosor. En otras modalidades, otros materiales de trama se pueden usar, por ejemplo, policarbonato. Una primera estructura microreplicada se puede hacer sobre un primer rodillo con patrones por moldeo y curado de un liquido curable sobre el primer lado de la trama, En una modalidad, el primer liquido curable puede ser una solución de resina de acrilato fotocurable que incluye fotómero 6010, disponible de Cognis Corp., Cincinnati, Ohio; SR385 tetrahidrofurfuril acrilato y SR238 (70/15/15 %) 1,6-hexanediol diacrilato, ambos disponibles de Satomer Co., Expon, Pennsylvania; Canforquinona, disponible de Hanford Research Inc., Stratford, Connecticut; y Etil-4-dimetilamino Benzoato (0.75/0.5 %), disponible de Aldrich Chemical Co . , Milwaukee, Wisconsin. La segunda estructura microreplicada se puede hacer sobre un segundo rodillo con patrones al moldear y curar un liquido fotocurable encima del segundo lado de la trama. El segundo líquido curable puede ser igual como el primer líquido curable. Después de que cada estructura respectiva se moldea en un patrón, cada patrón respectivo se cura al usar una fuente de curado de luz que incluye una fuente de luz ultravioleta. Luego se puede usar un rodillo de pala para remover el artículo microreplicado desde el rodillo del segundo patrón. Opcionalmente, un agente de liberación o recubrimiento se puede usar para ayudar en la remoción de las estructuras con patrones desde las herramientas con patrones.
Los parámetros de proceso ilustrativos usados para crear un articulo antes descrita son como siguen. Una velocidad de trama de alrededor de 1.0 pie (0.305 m) por minuto con una tensión de trama dentro y fuera del aparato de moldeo de alrededor de 2.0 libras fuerza (0.9 kg fuerza). Una relación de retiro del rodillo de pala de alrededor de 5% para tirar de la trama fuera de la segunda herramienta con patrones. Una presión de rodillo de presión de alrededor de 4.0 libras fuerza (1.8 kg fuerza). Un espacio entre el primero y segundo rodillos con patrones de alrededor de 0.010 pulgadas (0.254 mm) . La resina se puede suministrar a la primera superficie de la trama al usar un aparato de recubrimiento por goteo y la resina se puede suministrar a la segunda superficie a una relación de alrededor de 1.35 ml/min, al usar una bomba de jeringa. El curado de la primera estructura microreplicada se puede lograr con una lámpara de arco de mercurio Oriel 200-500 a potencia máxima y un Fostec DCR II a potencia máxima, con todos los componentes montados secuencialmente. El curado de la segunda estructura microreplicada se puede lograr con una fuente de luz UV de energía espectral, un Fostec DCR II a potencia máxima, y una bomba de luz RSLI Inc.150 MHS, con todos los componentes montados secuencialmente. El primer rodillo con patrones pueden incluir una serie de imágenes negativas para formar lentes cilindricos con una separación de 75 micrómetros. El rodillo del segundo patrón incluyó una serie de imágenes negativas que forman una pluralidad de prismas simétricos a 75 micrómetros de separación . Cada ensamble de formación de patrones incluye medios para aplicar un recubrimiento, un miembro formador de patrones, y un miembro de curado. Típicamente, los ensambles formadores de patrones incluyen rodillos formadores de patrones y una estructura de soporte para sostener e impulsar cada rodillo. Los medios de recubrimiento del primer ensamble de formación de patrones dosifica un primer material de recubrimiento curable sobre una primera superficie de la trama. Los medios de recubrimiento del segundo ensamble de formación de patrones dosifican un segundo material de recubrimiento curable sobre una segunda superficie de la trama, en donde la segunda superficie está opuesta a la primera superficie. Típicamente, el primero y segundo materiales de recubrimientos son de la misma composición. Después de que el primer material de recubrimiento se coloca sobre la trama, la trama pasa sobre un primer miembro con formación de patrones, en donde se crea un patrón en el primer material de recubrimiento. El primer material de recubrimiento luego se cura o enfría para formar el primer patrón. Posteriormente, después de que el segundo material de recubrimiento se coloca sobre la trama, la trama pasa sobre un segundo miembro con patrones, en donde se crea un patrón en el segundo material de recubrimiento. El segundo material de recubrimiento luego se cura para formar el segundo patrón. Típicamente, cada miembro con patrones es una herramienta de microreplicado y cada herramienta típicamente tiene un miembro de curado dedicado para curar el material. Sin embargo, es posible tener un miembro de curado sencillo que cure tanto al primero como al segundo materiales que forman patrones. También, es posible colocar los recubrimientos sobre las herramientas con patrones. El sistema también incluye medios para girar el primero y segundo rodillos con patrones tal que sus patrones se transfieran a los lados opuestos de la trama mientras está en movimiento continuo, y los patrones se mantienen en registro continuo sobre los lados opuestos de la trama hasta mejor que alrededor de 10 micrómetros. Una ventaja de la presente descripción es que una trama que tiene una estructura microreplicada sobre cada superficie opuesta de la trama se puede fabricar al hacer que la estructura microreplicada sobre cada lado de la trama se forme continuamente mientras se mantienen las estructuras microreplicadas sobre los lados opuestos registrados generalmente hasta dentro de 10 micrómetros uno del otro, o dentro de 5 micrómetro, o dentro de 3 micrómetro, o dentro de 1 micrómetro.
Con referencia ahora a las FIGS. 5-6, una modalidad de ejemplo de un sistema 110 que incluye un aparato de moldeo de rodillo a rodillo 120 se ilustra. En el aparato de moldeo detallado 120, una trama 122 se suministra al aparato de moldeo 120 desde un carrete principal de desenrollado (no se muestra) . La naturaleza exacta de la trama 122 puede variar ampliamente, dependiendo del producto que se produzca. Sin embargo, cuando el aparato de moldeo 120 se usa para la fabricación de artículos ópticos es usualmente conveniente para la trama 122 que sea translúcida o transparente, para permitir el curado a través de la trama 122. La trama 122 se dirige alrededor de los diversos rodillos 126 dentro del aparato de moldeo 120. El control preciso de la tensión de la trama 122 es benéfico para lograr resultados óptimos, de manera que la trama 122 se puede dirigir sobre un dispositivo sensor de tensión (no se muestra) . En situaciones en donde es deseable usar una trama de revestimiento interno para proteger la trama 122, la trama de revestimiento interno se separa tipicamente en el carrete de desenrollado y se dirige sobre un carrete de enrollado de la trama de revestimiento interno
(no se muestra) . La trama 122 se puede dirigir por medio de un rodillo con rueda de guía hasta un rodillo oscilante para control de precisión en la tensión. Rodillos con rueda de guía pueden dirigir la trama 122 hasta una posición entre el rodillo de presión 154 y primer cabezal de recubrimiento 156. Se puede emplear una diversidad de métodos de recubrimiento. En la modalidad ilustrada, primer cabezal de recubrimiento 156 es un cabezal de recubrimiento por troquel. La trama 122 luego pasa entre el rodillo de presión 154 y el primer rodillo con patrones 160. El primer rodillo con patrones 160 tiene una superficie con patrones 162, y cuando la trama 122 pasa entre el rodillo de presión 154 y el primer rodillo con patrones 160 el material dosificado sobre la trama 122 por el primer cabezal de recubrimiento 156 se forma en un negativo de superficie con patrones 162. Aunque la trama 122 está en contacto con el primer rodillo con patrones 160, el material se dosifica desde segundo cabezal de recubrimiento 164 sobre la otra superficie de trama 122. En paralelo con la discusión anterior con respecto al primer cabezal de recubrimiento 156, el segundo cabezal de recubrimiento 164 es también una configuración de recubrimiento por troquel que incluye un segundo extrusor (no se muestra) y un segundo troquel de recubrimiento (no se muestra) . En algunas modalidades, el material dosificado por el primer cabezal de recubrimiento 156 es una composición que incluye un precursor de polimero y y que se pretende curar a un polímero sólido con la aplicación de energía de curado tal como, por ejemplo, radiación ultravioleta. El material que se ha dosificado sobre la trama 122 por el segundo cabezal de recubrimiento 164 luego se pone en contacto con el segundo rodillo con patrones 174 con una segunda superficie con patrones 176. En paralelo con la discusión anterior, en algunas modalidades, el material dosificado por el segundo cabezal de recubrimiento 164 es una composición que incluye un precursor de polimero y y que se pretende curar a un polímero sólido con la aplicación de energía de curado tal como, por ejemplo, radiación ultravioleta . En este punto, la trama 122 ha tenido un patrón aplicado a ambos lados. Un rodillo de pala 182 puede estar presente para ayudar en la remoción de la trama 122 desde el segundo rollo con patrones 174. En algunos casos, la tensión de la trama dentro y fuera del aparato de moldeo de rodillo a rodillo es casi constante. La trama 122 que tiene un patrón microreplicado por dos lados luego se dirige a un carrete de enrollado (no se muestra) por medio de diversos rodillo con rueda de guías. Si se desea una película de distribución alterna para proteger la trama 122, se puede suministrar desde un carrete de desenrollado secundario (no se muestra) y la trama y película de distribución alterna se enrollan en conjunto sobre el carrete de enrollado a una tensión adecuada. Con referencia a la FIGS. 5-7, el primero y segundo rodillos con patrones se acoplan al primero y segundo ensambles de motor 210, 220, respectivamente. El soporte para los ensambles de motor 210, 220 se logra al montar los ensambles a un armazón 230, ya sea directa o indirectamente. Los ensambles de motor 210, 220 se acoplan al armazón al usar configuraciones de montaje de precisión. En la modalidad de ejemplo mostrada, primer ensamble de motor 210 se monta fijamente al armazón 230. El segundo ensamble del motor 220, el cual se coloca en posición cuando la trama 122 se enrosca a través del aparato de moldeo 120, puede necesitar colocarse repetidamente y por lo tanto es móvil, tanto en la dirección transversal y de la máquina. La configuración móvil del motor 220 se puede acoplar a reglas lineales 222 para ayudar en una colocación precisa repetida, por ejemplo, cuando se intercambia entre patrones sobre los rodillos. La segunda la configuración del motor 220 también incluye una segunda configuración de montaje 225 sobre la parte posterior del armazón 230 para colocar el rodillo del segundo patrón 174 lado a lado con relación al primer rodillo con patrones 160. En algunos casos, la segunda configuración de montaje 225 incluye reglas lineales 223 que permiten una colocación precisa en la dirección transversal de las máquinas. Con referencia a la FIG. 8, una modalidad de ejemplo de un aparato de moldeo 420 para producir una trama de dos lados 422 con estructuras microreplicadas registradas en las superficies opuestas se ilustra. El ensamble incluye primero y segundo medios de recubrimiento 456, 464, un rodillo de presión 454, y primero y segundo rodillos con patrones 460, 474. Trama 422 se presenta al primer medio de recubrimiento 456, en este ejemplo un primer troquel de extrusión 456. El primer troquel 456 dosifica un primer recubrimiento de capa líquida curable 470 encima de la trama 422. El primer recubrimiento 470 se presiona dentro del primer rodillo con patrones 460 por medio de un rodillo de presión 454, típicamente un rodillo recubierto con hule. Aunque sobre el primer rodillo con patrones 460, el recubrimiento se cura al usar una fuente de curado 480, por ejemplo, una lámpara, de luz de longitud de onda adecuada, tal como, por ejemplo, una fuente de luz ultravioleta. Una segunda capa liquida curable 481 se recubre sobre el lado opuesto de la trama 422 al usar un segundo troquel de extrusión lateral 464. La segunda capa 481 se presiona dentro del segundo rodillo de herramienta con patrones 474 y se repite el proceso de curado para la segunda capa de recubrimiento 481. El registro de los dos patrones de recubrimiento se logra al mantener los rodillos con herramientas 460, 474 en una relación angular precisa una con la otra, como se describirá posteriormente. Con referencia a la FIG. 9, una vista en acercamiento de una porción de primero y segundo rodillos con patrones 560, 574 se ilustra. Primer rodillo con patrones 560 tiene un primer patrón 562 para formar una superficie de microreplicado. El segundo rodillo de patrón 574 tiene un segundo patrón microreplicado 576. En la modalidad de ejemplo mostrada, el primero y segundo patrones 562, 576 son del mismo patrón, aunque los patrones pueden ser diferentes. En la modalidad ilustrada, el primer patrón 562 y el segundo patrón 576 se muestran como estructuras de prisma, sin embargo, cualesquiera estructuras útiles sencillas o múltiples pueden formar el primer patrón 562 y el segundo patrón 576. En una modalidad ilustrativa, primer patrón 562 puede ser una estructura de lente cilindrica y el segundo patrón 576 puede ser una estructura de lente de prisma, o viceversa . Cuando una trama 522 pasa sobre el primer rodillo 560, un primer líquido curable (no se muestra) sobre una primera superficie 524 se cura por una fuente de curado de luz 525 cerca de una primera región 526 sobre el primer rodillo con patrones 560. Una primera estructura de patrón microreplicado 590 se forma en el primer lado 524 de la trama 522 cuando el líquido se cura. La primera estructura con patrones 590 es un negativo del patrón 562 sobre el primer rodillo con patrones 560. Después de que se forma la primera estructura con patrones 590, un segundo líquido curable 581 se dosifica sobre una segunda superficie 527 de la trama 522. Para asegurar que el segundo líquido 581 no se cura prematuramente, el segundo liquido 581 se puede aislar desde la primera luz de curado 525, al localizar la primera luz de curado 525 de manera que no caiga sobre el segundo líquido 581. Alternativamente, medios de protección 592 se pueden colocar entre la primera luz de curado 525 y el segundo líquido 581. También, las fuentes de curado se pueden localizar dentro de sus respectivos rodillos con patrones donde es impráctico o difícil curar a través de la trama. Después de que se forma la primera estructura con patrones 590, la trama 522 continua a lo largo del primer rodillo 560 hasta que entra a la región de espacio 575 entre el primero y segundo rodillos con patrones 560, 574. El segundo líquido 581 luego se acopla con el segundo patrón 576 sobre el rodillo del segundo patrón y se forma en una segunda estructura microreplicada, la cual luego se cura por una segunda luz de curado 535. Cuando la trama 522 pasa dentro del espacio 575 entre primero y segundo rodillos con patrones 560, 574, la primera estructura con patrones 590, la cual está para este momento sustancialmente curada y enlazada a la trama 522, restringe la trama 522 del deslizamiento mientras la trama 522 comienza a moverse dentro del espacio 575 y alrededor de el rodillo del segundo patrón 574. Esto elimina deslizamientos y estiramientos de la trama como una fuente de error de registro entre la primera y segunda estructuras con patrones formadas sobre la trama.
Al soportar la trama 522 sobre el primer rodillo con patrones 560 mientras el segundo liquido 581 entra en contacto con el rodillo del segundo patrón 574, el grado de registro entre la primera y segunda estructuras microreplicadas 590, 593 formada sobre lados opuestos 524, 527 de la trama 522 se convierte en una función de control de la relación de posición entre las superficies del primero y segundo rodillos con patrones 560, 574. La envolvente en "S" de la trama alrededor del primero y segundo rodillos con patrones 560, 574 y entre el espacio 575 formado por los rodillos minimiza los efectos de tensión, cambios en el estiramiento de la trama, temperatura, microdeslizamientos provocados por la mecánica de oprimir una trama, y control de posición lateral. Tipicamente, la envolvente en "S" conserva la trama 522 en contacto con cada rodillo sobre un ángulo de envoltura de 180 grados, aunque el ángulo de envoltura pueda ser más o menos dependiendo de los requerimientos particulares . Para incrementar el grado de registro entre los patrones formados sobre superficies opuestas de una trama, se prefiere tener una variación de separación de baja frecuencia alrededor del diámetro medio de cada rodillo. Típicamente, los rodillos con patrones son del mismo diámetro medio, aunque esto no se requiere. Está dentro de la experiencia y conocimiento de alguien que tiene experiencia ordinaria en la técnica, seleccionar el rodillo adecuado para cualquier aplicación en particular. Con referencia a la FIG. 10, una configuración de montaje de motor se ilustra. Un motor 633 para impulsar una herramienta o rodillo con patrones 662 se monta al armazón de la máquina 650 y se conecta a través de un acoplamiento 640 a una flecha rotatoria 601 del rodillo con patrones 662. El motor 633 se acopla a un codificador primario 630. Un codificador secundario 651 se acopla a la herramienta para suministrar el control de registro angular preciso del rodillo con patrones 662. Los codificadores primario 630 y secundario 651 para suministrar control del rodillo con patrones 662 para mantenerlo en registro con uní rodillo del segundo patrón, como se describirá además más adelante. La reducción o eliminación de resonancia de la flecha es importante ya que esta es una fuente de error de registro lo que permite un control de posición del patrón dentro de los límites especificados. Al usar un acoplamiento 640 entre el motor 633 y la flecha 650 que es mayor que las cédulas de especificación de tamaño general, también reducirá resonancia de la flecha provocada por acoplamientos más flexibles. Ensambles de rodamientos 660 se localizan en diversas ubicaciones para suministrar soporte rotativo para la configuración del motor. En la modalidad de ejemplo mostrada, el diámetro del rodillo de la herramienta 662 puede ser más pequeño que su diámetro del motor 633. Para ajustar esta configuración, los rodillos con herramientas se pueden instalar en pares configurados en imagen al espejo. En la FIG. 11 dos ensambles de los rodillos con herramientas 610 y 710 se instalan como imágenes al espejo con objeto de poder traer los dos rodillos con herramientas 662 y 762 juntos. Con referencia también a la FIG. 3, la primera la configuración del motor se coloca tipicamente de manera fija al armazón y la segunda la configuración del motor se coloca al usar reglas lineales de calidad óptica móviles. Ensamble de rodillo con herramientas 710 es bastante similar al ensamble de rodillo con herramientas 610, e incluye un motor 733 para impulsar una herramienta o rodillo con patrones 762 se monta al armazón de la máquina 750 y se conecta a través de un acoplamiento 740 a una flecha rotatoria 701 del rodillo con patrones 762. El motor 733 se acopla a un codificador primario 730. Un codificador secundario 751 se acopla a la herramienta para suministrar el control de registro angular preciso del rodillo con patrones 762. Los codificadores primario 730 y secundario 751 cooperan para suministrar control del rodillo con patrones 762 para mantenerlo en registro con el rodillo del segundo patrón, como se describirá además más adelante. La reducción o eliminación de resonancia de la flecha es importante ya que esta es una fuente de error de registro lo que permite un control de posición del patrón dentro de los limites especificados. Al usar un acoplamiento 740 entre el motor 733 y la flecha 750 que es mayor que las cédulas de especificación de tamaño general, también reducirá resonancia de la flecha provocada por acoplamientos más flexibles. Ensambles de rodamientos 760 se localizan en diversas ubicaciones para suministrar soporte rotativo para la configuración del motor. Debido a que los tamaños de las características sobre las estructuras microreplicadas sobre ambas superficies de una trama se desea que estén dentro de registro fino una de la otra, los rodillos con patrones se deben controlar con un alto grado de precisión. El registro de trama transversal dentro de los límites aquí descritos se puede lograr al aplicar las técnicas usadas para controlar el registro en luna dirección de la máquina, como se describe posteriormente. Por ejemplo, para lograr una colocación de alrededor de 10 micrómetros de un aspecto de extremo a extremo sobre un rodillo con patrón en circunferencia de 10 pulgadas (25.4 cm) , cada rodillo debe mantenerse dentro de una precisión rotatoria de ± 32 arco-segundos por revolución. El control de registro se vuelve más difícil a medida que se incrementa la velocidad que recorre la trama a través del sistema.
Los solicitantes han construido y demostrado un sistema que tiene rodillos con patrón circular de 10 pulgadas (25.4 cm) que puede crear una trama que tiene caracteristicas con patrones sobre superficies opuestas de la trama que se registran hasta dentro de 2.5 micrómetros. Con la lectura de esta descripción y la aplicación de los principios aquí enseñados, alguien experto ordinario en la técnica apreciará como lograr el grado de registro para otras superficies microreplicadas . Con referencia a la FIG. 12, un esquema de una la configuración del motor 800 se ilustra. La configuración del motor 800 incluye un motor 810 que incluye un codificador primario 830 y a la flecha de impulso 820. La flecha de impulso 820 se acopla a una flecha impulsada 840 del rodillo con patrones 860 a través de un acoplamiento 825. Un codificador secundario, o de carga 850 se acopla a la flecha impulsora 840. Al usar dos codificadores en la configuración del motor descrita permite que la posición del rodillo con patrones se mida más precisamente al localizar el dispositivo de medición (codificador) 850 cerca del rodillo con patrones 860, así reduciendo o eliminando los efectos de perturbaciones del torque cuando la configuración del motor 800 está operando. Con referencia a la FIG. 13, un esquema de la configuración del motor de FIG. 12, se ilustra como colocado a los componentes de control. En el aparato del ejemplo mostrado en FIGS. 5- 7, un ajuste similar controlaría cada una de la configuración del motor 210 y 220. De esta manera, la configuración del motor 900 incluye un motor 910 que incluye un codificador primario 930 y a la flecha de impulso 920. La flecha de impulso 920 se acopla a una flecha impulsada 940 del rodillo con patrones 960 a través de un acoplamiento 930. Un codificador secundario, o de carga 950 se acopla a la flecha impulsora 940. La configuración del motor 900 se comunica con una configuración de control 965 para permitir el control con precisión del rodillo con patrones 960. Configuración de control 965 incluye un módulo de impulso 966 y un módulo de programa 975. El módulo de programa 975 se comunica con el módulo de impulso 966 por medio de una linea 977, por ejemplo, una red de fibra SERCOS. El módulo de programa 975 se usa para introducir parámetros, tal como puntos de ajuste, al módulo de impulso 966. Módulo de impulso 966 recibe la entrada de 480 voltios, corriente de 3 fases 915, la rectifica a CD, y la distribuye por medio de una conexión de energía 973 para controlar el motor 910. El codificador del motor 912 alimenta una señal de posición al módulo de control 966. El codificador secundario 950 sobre el rodillo con patrones 960 también alimenta una señal de posición de nuevo al módulo de impulso 966 por medio de la línea 971. El módulo de impulso 966 utiliza las señales del codificador para colocar con precisión el rodillo con patrones 960. El diseño de control para lograr el grado de registro se describe en detalle a continuación. En las modalidades ilustrativas mostradas, cada rodillo con patrones se controla por una configuración de control dedicado. Las configuraciones de control dedicado cooperan para controlar el registro entre primero y segundo rodillos con patrones. Cada módulo de impulso se comunica con y controla su ensamble de motor respectivo. La configuración de control en el sistema construido y demostrado por los solicitantes se describe de aqui en adelante. Para impulsar cada uno de los rodillos con patrones, un motor de torque de bajo desbaste y alto desempeño con una retroalimentación de codificador sinoidal de alta resolución (512 ciclos sinoidales x 4096 interpolación de impulso » 2 millones de partes por revolución) se usó, modelo MHD090B- 035 -NGO-UN, disponible de Bosch-Rexroth (Indramat). También el sistema incluye motores síncronos, modelo MHD090B-035-NG0-UN, disponible de Bosch-Rexroth (Indramat), pero otros tipos, tal como motores de inducción también se pueden usar. Cada motor se acopló directamente (sin caja de engranes o reducción mecánica) a través de un acoplamiento de fuelles extremadamente rígido, modelo BK5-300, disponible de R/W Corporation. Se pueden usar diseños de acoplamiento alternos, pero el estilo de fuelles generalmente combina rigidez mientras se proporciona alta precisión rotativa. Cada acoplamiento se dimensionó de manera que se seleccionara un acoplamiento sustancialmente mayor que el que recomendarían las especificaciones típicas del fabricante. Adicionalmente, se prefieren anillos metálicos con asimetría nula o bujes de cierre con estilo comprimido entre el acoplamiento y las flechas. Cada flecha del rodillo se colocó a un codificador a través de un codificador del lado de carga de flecha hueca, modelo RON255C, disponible de Heidenhain Corp., Schaumburg, IL. La selección del codificador debe tener la mayor precisión y resolución posibles, tipicamente una precisión mayor que 32 arco-segundos. El diseño de los solicitantes, 18000 ciclos sinoidales por revolución se emplearon, los cuales en conjunto con la interpolación de impulso con resolución de 4096 bitios resultó en exceso de 50 millones de partes por revolución de resolución, dando una resolución sustancialmente mayor que la precisión. El codificador del lado de la carga tuvo una precisión de +/- 2 arc-seg; la desviación máxima en las unidades suministradas fue menor de +/- 1 arc-seg. En algunos casos, cada flecha se puede diseñar para ser del mayor diámetro que sea posible y tan corta como sea posible para maximizar la rigidez, lo que resulta en la frecuencia resonante más alta posible. Se desea la alineación de precisión de todos los componentes rotatorios para asegurar un error de registro mínimo debido a esta fuente de error de registro. Con referencia a la FIG. 14, en el sistema de los solicitantes, los comandos de referencia de posición idéntica se presentaron para cada eje simultáneamente a través de una red de fibra SERCOS a una relación de actualización de 2 ms . Cada eje interpola la referencia de la posición con una ranura cúbica, a la relación de actualización del circuito de posición de intervalos de 250 microsegundos. El método de interpolación no es crítico, ya que la velocidad constante resulta en una constante sencilla multiplicada por la trayectoria del intervalo de tiempo. La resolución es crítica para eliminar algunos errores de redondeo o representación numérica. También se debe atender el bloqueo del eje. En algunos casos, es importante que cada ciclo de control del eje se sincronice en la relación de ejecución del circuito de corriente (intervalos de 62 microsegundos). La trayectoria superior 1151 es la sección anterior de alimentación de control. La estrategia de control incluye un circuito de posición 1110, un circuito de velocidad 1120, y un circuito de corriente 1130. La referencia de posición llll se diferencia, una vez para generar los términos de adelanto de velocidad 1152 y una segunda vez para generar el término del adelanto de la aceleración 1155. La trayectoria de adelanto 1151 ayuda al desempeño durante los cambios de velocidad en la línea y corrección dinámica. El comando de posición llll se resta desde la posición de corriente 1114, generando una señal de error 1116. El error 1116 se aplica a un controlador proporcional 1115, al generar la referencia del comando de velocidad 1117. La retroalimentación de velocidad 1167 se resta desde el comando 1117 para generar la señal de error de velocidad 1123, la cual luego se aplica a un controlador PID. La retroalimentación de velocidad 1167 se genera al diferenciar la señal de posición del codificador del motor 1126. Debido a la diferenciación y límites numéricos de resolución, un filtro de bajo paso Butterworth 1124 se aplica para remover componentes de ruido de alta frecuencia desde la señal de error 1123. Un filtro de banda de paro estrecha (ranura) 1129 se aplica al centro de la frecuencia resonante del motor-rodillo. Esto permite ganancias sustancialmente superiores para aplicarse al controlador de velocidad 1120. La resolución aumentada del codificador del motor también mejoraría el desempeño. La ubicación exacta de los filtros en el diagrama de control no es crítica; son aceptables cualesquiera de las trayectorias de adelanto o en reversa, aunque los parámetros de sintonización dependen de la ubicación. Un controlador PID también se puede usar en el circuito de posición, pero el retraso de la fase adicional del integrador hace más difícil la estabilización. El circuito de corriente es un controlador tradicional de Pl; las ganancias se establecen por los parámetros del motor. El circuito de corriente de ancho de banda más alta posible permitirá un desempeño óptimo. También, se desea una ondulación minima del torque . La minimización de las perturbaciones externas es importante para obtener un máximo registro. Esto incluye la construcción del motor y la conmutación del circuito de corriente como se discutió previamente, pero la minimización de las perturbaciones mecánicas también es importante. Ejemplos incluyen control de tensión extremadamente uniforme en entrada y salida del espacio de la trama, rodamiento uniforme y avance lento del sello, minimización de los desajustes por tensión desde la separación de la trama del rodillo, rodillo de presión con hule uniforme. En el diseño actual, se proporciona un tercer eje engranado a los rodillos de las herramientas como un rodillo de tiro para ayudar a remover la estructura curada desde la herramienta. El material de la trama puede ser cualquier material adecuado sobre el cual se pueda crear una estructura de patrón microreplicado. Ejemplos de materiales de trama son polietilen tereftalato, polimetil metacrilato, o policarbonato. La trama también puede ser multi-capas. Ya que el líquido se cura típicamente por una fuente de curado sobre el lado opuesto que sobre el cual se creó la estructura con patrones, el material de la trama debe ser al menos parcialmente translúcido para la fuente de curado usada. Ejemplos de fuentes de energía para curado son la radiación infrarroja, radiación ultravioleta, radiación con luz visible, microondas, o rayos "e". Alguien experto ordinario en la técnica apreciará que otras fuentes de curado se puede usar, y la selección de una combinación particular de material de trama/fuente de curado dependerá del artículo en particular (que tiene estructura microreplicadas en registro) a crearse. Una alternativa para curar el liquido a través de la trama seria usar una cura de reactivo en dos partes, por ejemplo, un epoxi, el cual seria útil para tramas que son difíciles de curar a lo largo, tal como tramas de metal o tramas que tienen una capa metálica. El curado se puede lograr por mezclado en linea de componentes o rocío de catalizador sobre una porción del rodillo con patrones, lo cual curarla el liquido para formar la estructura microreplicada cuando el recubrimiento y catalizador entren en contacto. El liquido desde el cual se crean las estructuras microreplicadas puede ser un material fotopolimerizable curable , tal como acrilatos que se curan por luz UV . Alguien experto ordinario en la técnica apreciará que otros materiales de recubrimiento se puede usar , y la selección de un material dependerá de las caracteristicas particulares deseadas para las estructuras microreplicadas . Similarmente, el método de curado en particular empleado está dentro de la habilidad y conocimiento de alguien experto ordinario en la técnica . Ejemplos de métodos de curado son curado reactivo, curado térmico, o curado por radiación. Ejemplos de medios de recubrimiento que son útiles para suministro y control del liquido a la trama son, por ejemplo, recubrimiento con troquel o navaja, acoplado con cualquier bomba adecuada tal como una bomba de jeringa o peristáltica . Alguien experto ordinario en la técnica apreciará que otros medios de recubrimiento se puede usar, y la selección de un medio en particular dependerá de las caracteristicas particulares del liquido a suministrarse a la trama. Diversas modificaciones y alteraciones de la presente descripción serán evidentes para aquellos expertos en la técnica sin alejarse del espíritu y alcance de esta descripción , y se entenderá que esta descripción no se limita a las modalidades ilustrativas establecidas en la presente . Se hace constar que con relación a esta fecha , el mej or método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención , es el que resulta de la presente descripción de la invención .