EP0122416A1 - Bad zur galvanischen Dispersionsabscheidung - Google Patents
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D15/02—Combined electrolytic and electrophoretic processes with charged materials
Definitions
- Experiment 1 is repeated with the exception that 100 g / l titanium carbide particles, TiC, with a particle size of 0.4 ⁇ m are now used instead of the SiC particles. An optimal installation rate of 5% by weight of the particles in the deposited Ni matrix is achieved.
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Abstract
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf ein Bad bzw. einen Elektrolyten zur galvanischen Abscheidung von Metallschichten mit eingelagerten Partikeln nichtmetallischer Substanz, wobei das Bad einen Suspensionsstabilisator für die in der Badflüssigkeit suspendierten, einzulagernden Partikel aufweist.
- Die galvanische Abscheidung von Metallschichten mit einge- lagerten Partikeln fremder Substanzen - kurz galvanische Dispersionsabscheidung genannt - ist ein bequemer Weg zur Herstellung von Dispersionswerkstoffen. Während der Elektrolyse scheiden sich die im Bad suspendierten Partikel zusammen mit dem Matrixmetall auf der Kathode ab und werden von diesem umwachsen und eingebaut.
- Eine wesentliche Rolle für die Güte einer galvanischen Dispersionsabscheidung spielt dabei die Art und Beschaffenheit des im Bad enthaltenen, als Suspensionsstabilisator wirkenden, oberflächenaktiven Mittels, welches die im Elektrolyten suspendierten Partikel einwandfrei benetzen muß. Ist diese Bedingung nicht oder nur unvollkommen erfüllt, so setzen sich die Partikel im Elektrolyten, selbst wenn man diesen umrührt oder in anderer Weise bewegt, zu rasch ab mit dem Ergebnis, daß sich die Konzentration des Bades an suspendierten Teilchen während der Elektrolyse ändert und die Partikelverteilung im abgeschiedenen Matrixmetall uneinheitlich wird.
- Gemäß der DE-PS 26 44 035 läßt sich eine galvanische Dispersionsabscheidung erfolgreich durchführen, wenn man dem Elektrolyten als Suspensionsstabilisator ganz speziell Imidazolinderivate zusetzt, welchen durch angegliederte Carboxylgruppen und/oder Sulfonsäuregruppen ein amphoterer Charakter verliehen worden ist. Kationenaktive Suspensionsstabilisatoren kennt die genannte Patentschrift nicht.
- Kationenaktive Substanzen sind zwar auch schon auf ihre Brauchbarkeit als Suspensionsstabilisatoren untersucht worden, doch lehrt die US-PS 42 22 828, daß nur solche kationenaktiven Substanzen für den genannten Zweck geeignet sind, wenn sie längerkettige Fluorkohlenstoffreste enthalten.
- Nunmehr wurde überraschenderweise gefunden, daß entgegen der Lehre der genannten US-PS dennoch gewisse kationenaktive Stoffe, welche kein Fluor enthalten, hervorragende Suspensionsstabilisatoren bei der galvanischen Dispersionsabscheidung sind. Diese neu aufgefundenen Stoffe sind gewisse kationenaktive Imidazolinderivate. Es war dies um so weniger vorhersehbar, als in Kenntnis der Lehre der DE-PS 26 44 035 zu erwarten war, daß Imidazolinderivate, um als Suspensionsstabilisator brauchbar zu sein, einen amphoteren Charakter besitzen müßten.
- Demgemäß ist Gegenstand der Erfindung, ein einen Suspensionsstabilisator enthaltendes Bad zur galvanischen Dispersionsabscheidung, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß der Suspensionsstabilisator ein kationenaktives Imidazolinderivat der allgemeinen Formel:
- Suspensionsstabilisatoren, bei denen in der obigen allgemeinen Formel R1 ein Gemisch von alipathischen, gesättigten und ungesättigten Kohlenwasserstoffresten mit 8 bis 18 C-Atomen, vorzugsweise mit 16 bis 18 C-Atomen (Talgreste), insbesondere ein Heptadecenylrest; R2 eine Äthylengruppe; und X eine primäre Aminogruppe oder eine Hydroxylgruppe ist, sind besonders bevorzugt.
- Die Erfindung sei nunmehr unter Bezugnahme auf die nachfolgenden Versuchsdurchführungen näher erläutert:
- In entionisiertem Wasser werden aufgelöst:
- 630 ml/l wässrige Nickelsulfamatlösung einer Konzentration von 600 bis 680 g festem Sulfamat je Liter,
- 5 g/1 Nickelchlorid NiCl2 - 6H20 und
- 40 g/l Borsäure H3BO3.
- 2,5 1 der obigen Lösung werden als Basiselektrolyt angewandt und dieser wird während der Versuchsdurchführung mittels eines mechanischen Rührers in Bewegung gehalten. Als Anode dient eine Platte aus carbonisierten Nickel (DIN 1702), als Kathode eine Platte aus Nickellegierung X10 CrNiTi 189 der Abmessungen 50 x 100 mm. Vor der Versuchsdurchführung wurde die Kathode in an sich bekannter Weise elektrolytisch entfettet, anodisch geätzt und vorvernickelt.
- In den obigen Basiselektrolyten werden nun 150 g/l Siliciumcarbid, SiC, einer Partikelgröße von etwa 2 µm eingerührt und 0,8 g/l Suspensionsstabilisator hinzugegeben. Dieser Stabilisator ist im vorliegenden Falle ein 1-Aminoäthyl-2-alkyl-alkenyl-imidazolin, wobei hier unter "-alkyl-alkenyl-" ein Gemisch von Alkyl- und Alkenylresten mit 16 bis 18 C-Atomen verstanden werden soll, wie diese insbesondere im tierischen Talg vorkommen.
- Nun wird die galvanische Dispersionsabscheidung von SiC bei einer Badtemperatur von 50 ± 1 °C durchgeführt. Der pH-Wert des Bades beträgt dabei etwa 3,8 bis 4,0.
- Es werden mehrere Einzelversuche mit verschiedenen kathodischen Stromdichten durchgeführt, wobei man die Elektrolysedauer so wählt, daß kathodisch eine Schichtdicke von etwa 20 µm abgeschieden wird. Als Richtlinie sei hierzu angegeben, daß eine solche Schichtdicke von etwa 20 µm bei einer kathodischen Stromdichte von 2A/dm2 in etwa einer Stunde aufgetragen wird, während man die gleiche Schichtdicke bei 10A/dm2 in etwa 10 Minuten erreicht. Die in den Einzelversuchen angewandten Stromdichten und die dabei erzielten Einbauraten an suspendierten SiC-Teilchen in die abgeschidene Ni-Matrix (in Gew.-%), ist in der nachstehenden Tabelle I angegeben:
- Die gewonnenen Dispersionsabscheidungen wurden durch Biegen der Kathodenbleche um 90° auf ihre Haftfestigkeit am Substrat geprüft. Es zeigte sich, daß die Haftfestigkeit in allen Fällen ausgezeichnet war. Eine Versprödung der Abscheidungen wurde in keinem Fall beobachtet.
- Es wird der Versuch 1 wiederholt mit der Ausnahme, daß als Suspensionsstabilisator' anstelle des 1-Aminoäthyl-2-alkyl-alkenyl-imidazolins, nunmehr 1-Hydroxyäthyl-2-heptadecenyl- imidazolin verwendet wird. Auch hier erzielt man eine Partikeleinbaurate von optimal 7,3 Gew.-% bei guthaftenden, nicht versprödenden Dispersionsabscheidungen.
- Es wird der Versuch 1 wiederholt mit der Ausnahme, daß man anstelle der SiC-Partikel nunmehr 100 g/l Titancarbidpartikel, TiC, einer Teilchengröße von 0,4 µm verwendet. Man erzielt eine Einbaurate von optimal 5 Gew.-% der Partikel in die abgeschiedene Ni-Matrix.
- Der Versuch 1 wird wiederholt mit der Ausnahme, daß man anstelle der SiC-Partikel nunmehr 100 g/l Aluminiumoxydpartikel, Al2O3, einer Teilchengröße von 0,6 µm verwendet. Man erzielt eine Einbaurate von optimal 6 Gew.-% der Partikel in die abgeschiedene Ni-Matrix.
- Der Versuch 1 wird wiederholt mit der Ausnahme, daß man anstelle der SiC-Partikel nunmehr 100 g/l Titandioxydpartikel, TiO2, einer Teilchengröße von 3 - 5 um verwendet. Man erzielt eine Einbaurate von optimal 8 Gew.-% der Partikel in die abgeschiedene Ni-Matrix.
- Man verwendet einen Basiselektrolyten aus:
-
-
- Es wird die Abhängigkeit der Partikeleinbaurate von der Partikelkonzentration im Bad untersucht. Badzusammensetzung und Versuchsbedingungen entsprechen im wesentlichen denjenigen des Versuchs 1 mit Ausnahme der in Tabelle II angegebehen Abweichungen:
-
- Wie aus vorstehender Tabelle II ersichtlich, steigt die Partikeleinbaurate mit der Partikelkonzentration im Bad an.
- Es wird die Abhängigkeit der Partikeleinbaurate in die Matrix in Abhängigkeit von der Konzentration an Suspensionsstabilisator im Bad untersucht. Badzusammensetzung und Versuchsbedingungen entsprechen im wesentlichen denjenigen des Versuchs 1 mit Ausnahme der in Tabelle III angegebenen Abweichungen:
- Wie aus vorstehender Tabelle III ersichtlich, steigt die Partikeleinbaurate mit der Stabilisatorkonzentration im Bad an, wobei bei einer Konzentrationssteigerung von 0,6 auf 0,8 g Stabilisator je Liter, der größte Einbauratenzuwachs zu verzeichnen ist.
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