EP0122416A1 - Bath for the electrodeposition of composite coatings - Google Patents

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EP0122416A1 EP84102202A EP84102202A EP0122416A1 EP 0122416 A1 EP0122416 A1 EP 0122416A1 EP 84102202 A EP84102202 A EP 84102202A EP 84102202 A EP84102202 A EP 84102202A EP 0122416 A1 EP0122416 A1 EP 0122416A1
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Martin Dr. Rer. Nat. Thoma
Paul Dipl.-Ing. Bünger (FH)
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MTU Aero Engines GmbH
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MTU Motoren und Turbinen Union Muenchen GmbH
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    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D15/00—Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
    • C25D15/02—Combined electrolytic and electrophoretic processes with charged materials

Definitions

  • Experiment 1 is repeated with the exception that 100 g / l titanium carbide particles, TiC, with a particle size of 0.4 ⁇ m are now used instead of the SiC particles. An optimal installation rate of 5% by weight of the particles in the deposited Ni matrix is achieved.

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Abstract

A bath or electrolyte for the galvanic deposition of a metal matrix layer having embedded therein particles of a non-metallic substance, comprises a stabilizer for keeping such non-metallic substances uniformly suspended in the bath for the duration of the electrolysis. The suspension stabilizer is a cation active imidazole derivative satisfying the general formula <IMAGE> wherein R1 is preferably a monovalent, saturated or unsaturated hydrocarbon radical having at least four aliphatically bound C-atoms, R2 is a methylene (carbene), or ethylene, or propylene or isopropylene group, and wherein X is selected from -NH2, -NHR3, -NR3R4, -OH, or OR5, whereby R3, R4 and R5 are methyl, ethyl, or propyl or polyglycolether radicals having up to five -O-CH2-CH2 groups.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Bad bzw. einen Elektrolyten zur galvanischen Abscheidung von Metallschichten mit eingelagerten Partikeln nichtmetallischer Substanz, wobei das Bad einen Suspensionsstabilisator für die in der Badflüssigkeit suspendierten, einzulagernden Partikel aufweist.The invention relates to a bath or an electrolyte for the electrodeposition of metal layers with embedded particles of non-metallic substance, the bath having a suspension stabilizer for the particles to be stored suspended in the bath liquid.

Die galvanische Abscheidung von Metallschichten mit einge- lagerten Partikeln fremder Substanzen - kurz galvanische Dispersionsabscheidung genannt - ist ein bequemer Weg zur Herstellung von Dispersionswerkstoffen. Während der Elektrolyse scheiden sich die im Bad suspendierten Partikel zusammen mit dem Matrixmetall auf der Kathode ab und werden von diesem umwachsen und eingebaut.Abbreviated galvanic dispersion deposition - - the electrodeposition of metal layers with einge- la g Erten particles of foreign substances is a convenient way for the production of dispersion materials. During the electrolysis, the particles suspended in the bath are deposited on the cathode together with the matrix metal and are overgrown and incorporated by it.

Eine wesentliche Rolle für die Güte einer galvanischen Dispersionsabscheidung spielt dabei die Art und Beschaffenheit des im Bad enthaltenen, als Suspensionsstabilisator wirkenden, oberflächenaktiven Mittels, welches die im Elektrolyten suspendierten Partikel einwandfrei benetzen muß. Ist diese Bedingung nicht oder nur unvollkommen erfüllt, so setzen sich die Partikel im Elektrolyten, selbst wenn man diesen umrührt oder in anderer Weise bewegt, zu rasch ab mit dem Ergebnis, daß sich die Konzentration des Bades an suspendierten Teilchen während der Elektrolyse ändert und die Partikelverteilung im abgeschiedenen Matrixmetall uneinheitlich wird.The type and nature of the surface-active agent contained in the bath, acting as a suspension stabilizer, which contains the particles suspended in the electrolyte, plays an important role in the quality of a galvanic dispersion deposition must moisten wall-free. If this condition is not or only incompletely fulfilled, the particles in the electrolyte, even if stirred or moved in some other way, set off too quickly with the result that the concentration of the bath of suspended particles changes during the electrolysis and the Particle distribution in the deposited matrix metal becomes non-uniform.

Gemäß der DE-PS 26 44 035 läßt sich eine galvanische Dispersionsabscheidung erfolgreich durchführen, wenn man dem Elektrolyten als Suspensionsstabilisator ganz speziell Imidazolinderivate zusetzt, welchen durch angegliederte Carboxylgruppen und/oder Sulfonsäuregruppen ein amphoterer Charakter verliehen worden ist. Kationenaktive Suspensionsstabilisatoren kennt die genannte Patentschrift nicht.According to DE-PS 26 44 035, galvanic dispersion deposition can be carried out successfully if the electrolyte is added as a suspension stabilizer, especially imidazoline derivatives which have been given an amphoteric character by attached carboxyl groups and / or sulfonic acid groups. Cation-active suspension stabilizers are not known from the patent mentioned.

Kationenaktive Substanzen sind zwar auch schon auf ihre Brauchbarkeit als Suspensionsstabilisatoren untersucht worden, doch lehrt die US-PS 42 22 828, daß nur solche kationenaktiven Substanzen für den genannten Zweck geeignet sind, wenn sie längerkettige Fluorkohlenstoffreste enthalten.Cation-active substances have already been examined for their usefulness as suspension stabilizers, but US Pat. No. 4,222,828 teaches that only such cation-active substances are suitable for the stated purpose if they contain longer-chain fluorocarbon residues.

Nunmehr wurde überraschenderweise gefunden, daß entgegen der Lehre der genannten US-PS dennoch gewisse kationenaktive Stoffe, welche kein Fluor enthalten, hervorragende Suspensionsstabilisatoren bei der galvanischen Dispersionsabscheidung sind. Diese neu aufgefundenen Stoffe sind gewisse kationenaktive Imidazolinderivate. Es war dies um so weniger vorhersehbar, als in Kenntnis der Lehre der DE-PS 26 44 035 zu erwarten war, daß Imidazolinderivate, um als Suspensionsstabilisator brauchbar zu sein, einen amphoteren Charakter besitzen müßten.It has now surprisingly been found that, contrary to the teaching of the US patent mentioned, certain cation-active substances which do not contain fluorine are nevertheless excellent suspension stabilizers in the galvanic dispersion deposition. These newly found substances are certain cation-active imidazoline derivatives. This was all the less predictable, given the knowledge of the teaching of DE-PS 26 44 035 that it could be expected that imidazoline derivatives would have to be amphoteric in order to be useful as a suspension stabilizer.

Demgemäß ist Gegenstand der Erfindung, ein einen Suspensionsstabilisator enthaltendes Bad zur galvanischen Dispersionsabscheidung, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß der Suspensionsstabilisator ein kationenaktives Imidazolinderivat der allgemeinen Formel:

Figure imgb0001
ist, in welcher R1 ein einwertiger, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit mindestens vier aliphatisch gebundenen C-Atomen oder ein Gemisch mehrerer _ solcher Kohlenwasserstoffreste ist; R2 eine Methylen-, Äthylen-, Propylen- oder Isopropylengruppe bedeutet; und X gleich - NH2, -NHR3, -NR3R4, oder -OR5 ist, wobei R 3, R 4 und R Methyl-, Äthyl- oder Propylreste oder Polyglycolätherreste mit bis zu fünf -O-CH2-CH2-Einheiten bedeuten.Accordingly, the invention relates to a bath containing a suspension stabilizer for the galvanic dispersion deposition, which is characterized in that the suspension stabilizer is a cation-active imidazoline derivative of the general formula:
Figure imgb0001
 is in which R 1 is a monovalent, saturated or unsaturated hydrocarbon radical having at least four aliphatically bound carbon atoms or a mixture of several such hydrocarbon radicals; R 2 represents a methylene, ethylene, propylene or isopropylene group; and X is - NH 2 , -NHR 3 , -NR 3 R 4 , or -OR 5 , where R 3 , R 4 and R are methyl, ethyl or propyl residues or polyglycol ether residues with up to five -O-CH 2 - CH 2 units mean.

Suspensionsstabilisatoren, bei denen in der obigen allgemeinen Formel R1 ein Gemisch von alipathischen, gesättigten und ungesättigten Kohlenwasserstoffresten mit 8 bis 18 C-Atomen, vorzugsweise mit 16 bis 18 C-Atomen (Talgreste), insbesondere ein Heptadecenylrest; R2 eine Äthylengruppe; und X eine primäre Aminogruppe oder eine Hydroxylgruppe ist, sind besonders bevorzugt.Suspension stabilizers in which, in the general formula R 1 above, a mixture of aliphatic, saturated and unsaturated hydrocarbon radicals with 8 to 18 carbon atoms, preferably with 16 to 18 carbon atoms (valley residues), in particular a He p tadecenyl radical; R 2 is an ethylene group; and X is a primary amino group or a hydroxyl group are particularly preferred.

Die Erfindung sei nunmehr unter Bezugnahme auf die nachfolgenden Versuchsdurchführungen näher erläutert:The invention will now be explained in more detail with reference to the following experiments:

Versuch 1Trial 1

In entionisiertem Wasser werden aufgelöst:

  • 630 ml/l wässrige Nickelsulfamatlösung einer Konzentration von 600 bis 680 g festem Sulfamat je Liter,
  • 5 g/1 Nickelchlorid NiCl2 - 6H20 und
  • 40 g/l Borsäure H3BO3.
The following are dissolved in deionized water:
  • 630 ml / l aqueous nickel sulfamate solution with a concentration of 600 to 680 g solid sulfamate per liter,
  • 5 g / 1 nickel chloride NiCl 2 - 6H 2 0 and
  • 40 g / l boric acid H 3 BO 3 .

2,5 1 der obigen Lösung werden als Basiselektrolyt angewandt und dieser wird während der Versuchsdurchführung mittels eines mechanischen Rührers in Bewegung gehalten. Als Anode dient eine Platte aus carbonisierten Nickel (DIN 1702), als Kathode eine Platte aus Nickellegierung X10 CrNiTi 189 der Abmessungen 50 x 100 mm. Vor der Versuchsdurchführung wurde die Kathode in an sich bekannter Weise elektrolytisch entfettet, anodisch geätzt und vorvernickelt.2.5 l of the above solution are used as the base electrolyte and this is kept in motion during the test by means of a mechanical stirrer. A plate made of carbonized nickel (DIN 1702) serves as the anode, and a plate made of nickel alloy X10 CrNiTi 189 measuring 50 x 100 mm serves as the cathode. Before the experiment was carried out, the cathode was degreased electrolytically, anodically etched and pre-nickel-plated in a manner known per se.

In den obigen Basiselektrolyten werden nun 150 g/l Siliciumcarbid, SiC, einer Partikelgröße von etwa 2 µm eingerührt und 0,8 g/l Suspensionsstabilisator hinzugegeben. Dieser Stabilisator ist im vorliegenden Falle ein 1-Aminoäthyl-2-alkyl-alkenyl-imidazolin, wobei hier unter "-alkyl-alkenyl-" ein Gemisch von Alkyl- und Alkenylresten mit 16 bis 18 C-Atomen verstanden werden soll, wie diese insbesondere im tierischen Talg vorkommen.150 g / l silicon carbide, SiC, with a particle size of about 2 μm, are then stirred into the above base electrolytes and 0.8 g / l suspension stabilizer is added. In the present case, this stabilizer is a 1-aminoethyl-2-alkyl-alkenyl-imidazoline, with "-alkyl-alkenyl" here being understood to mean a mixture of alkyl and alkenyl radicals having 16 to 18 carbon atoms, as is particularly the case occur in animal sebum.

Nun wird die galvanische Dispersionsabscheidung von SiC bei einer Badtemperatur von 50 ± 1 °C durchgeführt. Der pH-Wert des Bades beträgt dabei etwa 3,8 bis 4,0.Now the galvanic dispersion deposition of SiC is carried out at a bath temperature of 50 ± 1 ° C. The pH of the bath is about 3.8 to 4.0.

Es werden mehrere Einzelversuche mit verschiedenen kathodischen Stromdichten durchgeführt, wobei man die Elektrolysedauer so wählt, daß kathodisch eine Schichtdicke von etwa 20 µm abgeschieden wird. Als Richtlinie sei hierzu angegeben, daß eine solche Schichtdicke von etwa 20 µm bei einer kathodischen Stromdichte von 2A/dm2 in etwa einer Stunde aufgetragen wird, während man die gleiche Schichtdicke bei 10A/dm2 in etwa 10 Minuten erreicht. Die in den Einzelversuchen angewandten Stromdichten und die dabei erzielten Einbauraten an suspendierten SiC-Teilchen in die abgeschidene Ni-Matrix (in Gew.-%), ist in der nachstehenden Tabelle I angegeben:

Figure imgb0002
Wie ersichtlich, werden über den gesamten Stromdichtebereich von 1 bis 20 A/dm2 sehr gute Einbauarten erzielt, wobei die besten Ergebnisse mit einer Rate von 7,3 Gew.-% bei einer Stromdichte von 5 A/dm2 liegen.Several individual tests are carried out with different cathodic current densities, the electrolysis time being selected so that a layer thickness of approximately 20 μm is deposited cathodically. As a guideline, it should be stated that such a layer thickness of approximately 20 μm is applied in about one hour at a cathodic current density of 2 A / dm 2 , while the same layer thickness is achieved at 10A / dm 2 in approximately 10 minutes. The current densities used in the individual tests and the installation rates of suspended SiC particles achieved in the deposited Ni matrix (in% by weight) are given in Table I below:
Figure imgb0002
 As can be seen, very good types of installation are achieved over the entire current density range from 1 to 20 A / dm 2 , the best results being at a rate of 7.3% by weight with a current density of 5 A / dm 2 .

Die gewonnenen Dispersionsabscheidungen wurden durch Biegen der Kathodenbleche um 90° auf ihre Haftfestigkeit am Substrat geprüft. Es zeigte sich, daß die Haftfestigkeit in allen Fällen ausgezeichnet war. Eine Versprödung der Abscheidungen wurde in keinem Fall beobachtet.The dispersion deposits obtained were tested for their adhesive strength to the substrate by bending the cathode sheets by 90 °. It was found that the adhesive strength was excellent in all cases. No embrittlement of the deposits was observed.

Versuch 2Trial 2

Es wird der Versuch 1 wiederholt mit der Ausnahme, daß als Suspensionsstabilisator' anstelle des 1-Aminoäthyl-2-alkyl-alkenyl-imidazolins, nunmehr 1-Hydroxyäthyl-2-heptadecenyl- imidazolin verwendet wird. Auch hier erzielt man eine Partikeleinbaurate von optimal 7,3 Gew.-% bei guthaftenden, nicht versprödenden Dispersionsabscheidungen.The experiment 1 is repeated with the exception that 1-hydroxyethyl-2-heptadecenyl imidazoline is now used as the suspension stabilizer instead of the 1-aminoethyl-2-alkyl-alkenyl-imidazoline. Here too, a particle incorporation rate of optimally 7.3% by weight is achieved with well-adhering, non-embrittling dispersion deposits.

Versuch 3Trial 3

Es wird der Versuch 1 wiederholt mit der Ausnahme, daß man anstelle der SiC-Partikel nunmehr 100 g/l Titancarbidpartikel, TiC, einer Teilchengröße von 0,4 µm verwendet. Man erzielt eine Einbaurate von optimal 5 Gew.-% der Partikel in die abgeschiedene Ni-Matrix.Experiment 1 is repeated with the exception that 100 g / l titanium carbide particles, TiC, with a particle size of 0.4 μm are now used instead of the SiC particles. An optimal installation rate of 5% by weight of the particles in the deposited Ni matrix is achieved.

Versuch 4Trial 4

Der Versuch 1 wird wiederholt mit der Ausnahme, daß man anstelle der SiC-Partikel nunmehr 100 g/l Aluminiumoxydpartikel, Al2O3, einer Teilchengröße von 0,6 µm verwendet. Man erzielt eine Einbaurate von optimal 6 Gew.-% der Partikel in die abgeschiedene Ni-Matrix.Experiment 1 is repeated with the exception that 100 g / l of aluminum oxide are now used instead of the SiC particles particle, Al 2 O 3 , a particle size of 0.6 microns used. An optimal installation rate of 6% by weight of the particles in the deposited Ni matrix is achieved.

Versuch 5Trial 5

Der Versuch 1 wird wiederholt mit der Ausnahme, daß man anstelle der SiC-Partikel nunmehr 100 g/l Titandioxydpartikel, TiO2, einer Teilchengröße von 3 - 5 um verwendet. Man erzielt eine Einbaurate von optimal 8 Gew.-% der Partikel in die abgeschiedene Ni-Matrix.The experiment 1 is repeated with the exception that 100 g / l titanium dioxide particles, TiO 2 , with a particle size of 3-5 μm are now used instead of the SiC particles. An optimal installation rate of 8% by weight of the particles in the deposited Ni matrix is achieved.

Versuch 6Trial 6

Man verwendet einen Basiselektrolyten aus:

Figure imgb0003
mit einem Zusatz von 100 g/1 Aluminiumoxydpartikeln und 0,8 g/l 1-Aminoäthyl-2-alkyl-alkenyl-imidazolin als Suspensionsstabilisator. Der Elektrolyt besitzt einen pH-Wert von 4,3 bis 5,0. Man führt die Dispersionsabscheidung mit Kobaltelektroden bei 50 °C durch und erzielt eine Einbaurate von optimal 5 Gew.-% der Al2O3-Partikel in die Co-Matrix.A base electrolyte from:
Figure imgb0003
 with the addition of 100 g / 1 aluminum oxide particles and 0.8 g / l 1-aminoethyl-2-alkyl-alkenyl imidazoline as a suspension stabilizer. The electrolyte has a pH of 4.3 to 5.0. Dispersion deposition is carried out with cobalt electrodes at 50 ° C. and an installation rate of optimally 5% by weight of the Al 2 O 3 particles is achieved in the co-matrix.

Versuch 7Trial 7

Es wird eine Dispersionsabscheidung von Partikeln selbstschmierenden Polytetrafluoräthylens (PTFE, FlounL 170) aus folgendem Bad mit den nachstehenden Bedingungen durchgeführt:

Figure imgb0004
A dispersion separation of particles of self-lubricating polytetrafluoroethylene (PTFE, FlounL 170) performed from the following bath with the following conditions:
Figure imgb0004

Versuch 8Trial 8

Es wird eine Dispersionsabscheidung von Partikeln selbstschmierenden Bornitrids (BN) aus folgendem Bad unter den nachstehenden Bedingungen durchgeführt:

Figure imgb0005
Figure imgb0006
 Dispersion separation of particles of self-lubricating boron nitride (BN) from the following bath is carried out under the following conditions:
Figure imgb0005
Figure imgb0006

Versuch 9Trial 9

Es wird die Abhängigkeit der Partikeleinbaurate von der Partikelkonzentration im Bad untersucht. Badzusammensetzung und Versuchsbedingungen entsprechen im wesentlichen denjenigen des Versuchs 1 mit Ausnahme der in Tabelle II angegebehen Abweichungen:The dependence of the particle incorporation rate on the particle concentration in the bath is examined. Bath composition and test conditions essentially correspond to those of test 1 with the exception of the deviations listed in Table II:

Figure imgb0007
Figure imgb0007

Wie aus vorstehender Tabelle II ersichtlich, steigt die Partikeleinbaurate mit der Partikelkonzentration im Bad an.As can be seen from Table II above, the particle incorporation rate increases with the particle concentration in the bath.

Versuch 10Trial 10

Es wird die Abhängigkeit der Partikeleinbaurate in die Matrix in Abhängigkeit von der Konzentration an Suspensionsstabilisator im Bad untersucht. Badzusammensetzung und Versuchsbedingungen entsprechen im wesentlichen denjenigen des Versuchs 1 mit Ausnahme der in Tabelle III angegebenen Abweichungen:

Figure imgb0008
The dependence of the particle incorporation rate in the matrix as a function of the concentration of suspension stabilizer in the bath is examined. Bath composition and test conditions essentially correspond to those of test 1 with the exception of the deviations specified in Table III:
Figure imgb0008

Wie aus vorstehender Tabelle III ersichtlich, steigt die Partikeleinbaurate mit der Stabilisatorkonzentration im Bad an, wobei bei einer Konzentrationssteigerung von 0,6 auf 0,8 g Stabilisator je Liter, der größte Einbauratenzuwachs zu verzeichnen ist.As can be seen from Table III above, the particle incorporation rate increases with the stabilizer concentration in the bath, with the greatest increase in installation rate being recorded when the concentration increases from 0.6 to 0.8 g of stabilizer per liter.

Claims (12)

1. Bad zur galvanischen Dispersionsabscheidung, welches einen Suspensionsstabilisator enthält, dadurch gekennzeichnet, daß der Suspensionsstabilisator ein kationenaktives Imidazolinderivat der allgemeinen Formel:
Figure imgb0009
ist, in welcher R1 ein einwertiger, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit mindestens vier aliphatisch gebundenen C-Atomen oder ein Gemisch mehrerer solcher Kohlenwasserstoffreste ist; R2 eine Methylen-, Äthylen, Propylen- oder Isopropylengruppe bedeutet; und X gleich -NH2,-NHR3, -NR3R4, -OH oder OR ist, wobei R3, R4 und R5 Methyl-, Äthyl- oder Propylreste oder Polyglycolätherreste mit bis zu fünf -O-CH2-CH2-Gruppen bedeuten.1. Bath for galvanic dispersion deposition, which contains a suspension stabilizer, characterized in that the suspension stabilizer is a cation-active imidazoline derivative of the general formula:
Figure imgb0009
 is in which R 1 is a monovalent, saturated or unsaturated hydrocarbon radical having at least four aliphatically bonded carbon atoms or a mixture of several such hydrocarbon radicals; R 2 represents a methylene, ethylene, propylene or isopropylene group; and X is -NH 2 , -NHR 3 , -NR 3 R 4 , - OH or OR, where R 3 , R 4 and R 5 are methyl, ethyl or propyl residues or polyglycol ether residues with up to five -O-CH 2 -CH 2 mean groups. 2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnete daß im der Formel R 1 einen Kohlenwasserstoffrest oder ein Gemisch mehrerer Kohlenwasserstoffreste mit bis zu 20 aliphatisch gebundenen C-Atomen bedeutet.2. Bath according to claim 1, characterized in that in the formula R 1 is a hydrocarbon radical or a mixture of several hydrocarbon radicals having up to 20 aliphatically bonded carbon atoms. 3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Formel R1 Alkyl-, Alkenyl-, Alkaryl-, Aralkyl- oder Aralkenylreste sind.3. Bath according to claim 1 and 2, characterized in that in the formula R 1 are alkyl, alkenyl, alkaryl, aralkyl or aralkenyl radicals. 4. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Formel die Rest R1 Chlor, Brom oder Jod als Substituenten tragen.4. Bath according to one of the preceding claims, characterized in that in the formula the radical R 1 carry chlorine, bromine or iodine as substituents. 5. Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß in der Formel R1 ein Gemisch von aliphatischen, gesättigten und ungesättigten Kohlenwasserstoffresten mit 8 bis 18 C-Atomen, insbesondere mit 16 bis 18 C-Atomen (Talgreste) ist, R2 eine Äthylengruppe bedeutet und X eine primäre Aminogruppe ist.5. Bath according to one of claims 1 to 4, characterized in that in the formula R 1 is a mixture of aliphatic, saturated and unsaturated hydrocarbon radicals having 8 to 18 carbon atoms, in particular having 16 to 18 carbon atoms (valley residues), R 2 represents an ethylene group and X is a primary amino group. 6. Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß in der Formel R ein Heptadecenylrest, R2 eine Äthylengruppe und X eine HO-Gruppe ist.6. Bath according to one of claims 1 to 4, characterized in that in the formula R is a heptadecenyl radical, R 2 is an ethylene group and X is a HO group. 7. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es als Suspensions-Hilfsstabilisator einen Gehalt an Natriumlaurylsulfat aufweist.7. Bath according to one of the preceding claims, characterized in that it has a content of sodium lauryl sulfate as auxiliary suspension stabilizer. 8. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es als Basiselektrolyt 300 - 650 ml Nickelsulfamatlösung (einer Konzentration von 550 - 700 g festen Sulfamats (NH2SO3)2Ni je Liter) 5 - 35 g Nickelchlorid, NiCl2 · 6H20 und 25 - 45 g Borsäure, H3BO3 je Liter entionisierten Wassers aufweist. 8. Bath according to one of the preceding claims 1 to 7, characterized in that it is used as the base electrolyte 300 - 650 ml nickel sulfamate solution (a concentration of 550 - 700 g solid sulfamate (NH 2 SO 3 ) 2 Ni per liter) 5 - 35 g nickel chloride, NiCl 2 · 6H 2 0 and 25 - 45 g boric acid, H 3 BO 3 per liter of deionized water. 9. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es als Basiselektrolyt 400 - 500 g Kobaltsulfat CoSO4 - 7H20 10 - 30 g Natriumchlorid, NaCl und 20 - 40 g Borsäure, H3BO3 je Liter Wasser aufweist. 9. Bath according to one of the preceding claims 1 to 7, characterized in that it is used as the base electrolyte 400 - 500 g cobalt sulfate CoSO 4 - 7H 2 0 10 - 30 g sodium chloride, NaCl and 20 - 40 g boric acid, H 3 BO 3 per liter water. 10. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es als disperse Phase Partikel aus Metall-Carbiden, Oxiden, Boriden, Siliciden, Sulfiden, Nitriden, Sulfaten, Kunststoffen, Hartstoffen aufweist, vorzugsweise SiC, TiC, Al2O3, TiO2, Diamant, Glimmer, Graphit, Bornitrid, Polytetraflouräthylen oder ein Gemisch zweier oder mehrerer dieser Substanzen aufweist.10. Bath according to one of the preceding claims, characterized in that it comprises, as the disperse phase, particles of metal carbides, oxides, borides, silicides, sulfides, nitrides, sulfates, plastics, hard materials, preferably SiC, TiC, Al 2 O 3 , TiO 2 , diamond, mica, graphite, boron nitride, polytetrafluoroethylene or a mixture of two or more of these substances. 11. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikelgröße etwa 0,3 bis 15 µm, insbesondere 0,4 bis 10 µm beträgt.11. Bath according to claim 10, characterized in that the particle size is about 0.3 to 15 µm, in particular 0.4 to 10 µm. 12. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es einen pH-Wert von etwa 3,5 - 5 aufweist.12. Bath according to one of the preceding claims, characterized in that it has a pH of about 3.5 - 5.
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