WO1997035049A1 - Electroplating solution and method of depositing semi-bright nickel plate from the solution - Google Patents

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WO1997035049A1
WO1997035049A1 PCT/EP1997/001260 EP9701260W WO9735049A1 WO 1997035049 A1 WO1997035049 A1 WO 1997035049A1 EP 9701260 W EP9701260 W EP 9701260W WO 9735049 A1 WO9735049 A1 WO 9735049A1
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gloss
semi
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nickel layer
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PCT/EP1997/001260
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Gregor Brodt
Norbert Wagner
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Basf Aktiengesellschaft
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • C25D3/14Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
    • C25D3/16Acetylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
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    • C25D3/14Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
    • C25D3/18Heterocyclic compounds

Definitions

  • the invention relates to an improved bath and an improved method for the electrodeposition of semi-glossy nickel, which is distinguished by its ductility, its potential difference to high-gloss nickel, its leveling and its absence of sulfur.
  • nickel can be electrodeposited on various base metals to produce a shiny nickel surface.
  • a highly leveling, semi-shiny and as fine as possible nickel layer is deposited.
  • a so-called duplex process can be used to deposit a high-gloss, less noble nickel layer that ensures the desired surface appearance. The greatest possible potential difference between the two nickel layers guarantees correspondingly good corrosion protection.
  • a very thin, so-called sacrificial nickel layer with an extremely low potential is inserted between the semi-gloss and high-gloss nickel layer in order to draw the corrosion that may occur into the depth of the overall system and thus to ensure a permanently good surface appearance.
  • These duplex and triplex nickel layers can in a further process step with a chrome layer, in particular with a micro-cracked chrome layer.
  • DE-A 22 15 738 describes a galvanic bath for the deposition of semi-shiny nickel, which a) at least one nickel compound which supplies nickel ions for the electrolytic deposition of nickel, b) as the first cooperating semi-gloss additive, the aliphatic, acetylenic compound 3-hexyne-2,5-diol and c) as the second cooperating semi-gloss additive contains an aliphatic aldehyde selected from formaldehyde, chloral, chloral hydrate, bromal or bromal hydrate.
  • This DE-A describes that largely sulfur-free layers are obtained.
  • the process has the disadvantage that the gloss is not uniform over the entire current density range. There are problems with milky deposits, particularly in the high current density range. This bath is therefore particularly unsuitable for the rapid deposition of semi-shiny nickel.
  • the milky nature of the precipitation shows that the base metal may not be completely covered by semi-shiny nickel and thus problems with corrosion protection arise.
  • 3,677,913, US 3,719,568 and US 3,795,592 disclose coumarin as an additive in electroplating baths for the deposition of semi-gloss Nickel plating can be used. It is also known that the leveling is significantly improved with increasing coumarin concentration. The best leveling is found at a very high coumarin concentration. However, the high coumarin concentration leads to a high concentration of breakdown products, which leads to dull gray deposits that can only be removed by regeneration of the bath using activated carbon treatment and / or hydrogen peroxide treatment. This is a process that is very time-consuming and thus has a cost-burden on production. If the treatment is not carried out in time, these matt gray deposits lead to adhesion problems of the layers above and to major problems in corrosion protection.
  • No. 3,677,912 describes the addition of haloalkyl-N-heterocycles to high-gloss nickel baths containing butynediol or butmediol ethoxylates. In the manner described there, these baths are only suitable for producing a cover layer in the system. But excellent leveling, ductility, gloss and coverage are achieved. Due to the content of basic gloss agents containing sulfonate groups in the bath, the potential of these layers produced with them is very low, and therefore these layers alone cannot be used for corrosion protection.
  • the object of the invention was therefore to remedy the deficiencies of the prior art, particularly with regard to use in corrosion-protective duplex and triplex nickel systems.
  • galvanic semi-gloss nickel deposition should be made possible, with which high ductility, high potential difference to high-gloss nickel and good leveling with no sulfur are achieved.
  • This object is achieved by a process for the galvanic deposition of a semi-glossy nickel layer on a support, in which the support is electroplated with nickel in an aqueous acidic, electroplating bath containing a gloss agent, characterized in that an aqueous acidic electroplating bath is used which a) contains one or more cyclic N-allyl or N-vinylammonium compounds according to the general formula (I) as a brightening agent
  • Ring system is, which additionally one or two
  • R, R ", R” represent hydrogen or C ⁇ - to C 4 alkyl
  • R ' is hydrogen or methyl
  • m is a number from 0 to 4
  • n is a number from 1 to 4
  • x- denotes an n-valent inorganic or organic anion which promotes water solubility
  • the invention thus relates to the use of the compounds of the formula (I), in particular the pyridinium compounds, in semi-glossy nickel baths.
  • the bath is free of sulfur with a value of 4 or lower; in particular, it is free of sulfo or sulfonate groups.
  • the bath may contain sulfate groups, and this is preferred.
  • noble nickel layers or semi-gloss nickel layers are formed on the carrier, which have a high potential compared to a reference electrode compared to the potential of an overlying high-gloss layer, in particular a high-gloss nickel layer.
  • potential differences are achieved compared to a high-gloss nickel layer located thereover.
  • a further solution to the problem is a process for the production of coated molded parts, in which an optionally cleaned, electrically conductive surface area of the molded part is provided with a semi-glossy nickel layer from an aqueous acidic galvanic bath, characterized in that the semi-glossy nickel layer is electrolytically coated from a bath - as defined below in its composition - is applied, the surface area preferably being a metallic conductive surface area, in particular a surface area made of copper, iron, brass, steel, stainless steel, cast iron, preferably copper or steel and a carrier made of metal or a carrier made of plastic is used as the carrier, with at least one electrically conductive surface area being located on the carrier.
  • a support is used for the deposition of the semi-gloss nickel layer, the surface (or surface coating) of which is essentially made of metals, Metal alloys, metallized plastics, preferably Cu, Fe, brass, steel, cast iron or chemically copper-plated or chemically nickel-plated plastics, in particular steel and copper surfaces.
  • the nickel electrolyte baths described above can be used to produce, in particular, semi-gloss nickel coatings on molded parts made of steel or copper surfaces, but also on molded parts made of other materials, for example brass, which have been customarily pretreated. This is usually done at temperatures of 30 to 80 ° C, preferably 40 to 60 ° C.
  • the Cp to C 4 alkyl radicals in the general formula (I) are generally n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, see. -Butyl, tert-butyl and especially methyl and ethyl into consideration as halogen substituent, especially chlorine or bromine.
  • alkyl or halogen-substituted heterocyclic ring systems for (I) are:
  • Unsubstituted pyridinium is preferred.
  • the radicals R, R 'and R' "preferably represent hydrogen.
  • the variable m preferably represents 1.
  • Suitable x-valent anions X " are the customary inorganic or organic anions which normally promote the water solubility of organic compounds, in particular chloride, bromide, fluoride, sulfate, hydrogen sulfate, nitrate, tetrafluoroborate, perchlorate, 1-hydroxyethane 1,1-diphosphonate, dihydrogen phosphate, phosphate, formate, acetate, oxalate and tartrate.
  • the number of charges corresponds to (1 to 4) the number of N + in the ring system, ie there are 2 negative charges of the anion or anions, for example 2N + .
  • cyclic N-allylammonium (pyridinium) compounds of the general formula (Ia) are used,
  • Acetylenically unsaturated compounds which carry at least one polar functional group, preferably in the ⁇ -position of Cp to C 4 -alkyl radicals, can be used as a further component in the brightening agent.
  • Unfunctionalized acetylenically unsaturated hydrocarbons are unsuitable mainly because of their low solubility in aqueous media and their high volatility.
  • the preferred compounds have the general formula (L1)
  • radicals R TM and R v are identical or different and droxyl by Hy ⁇ , amino, C r -C 4 - alkylamino or di (C r to C 4 alkyl) amino-substituted C r to C 4 alkyl denote where hydroxyl groups can be reacted with 1 to 10 moles of a C 2 to C 4 alkylene oxide or a mixture of such alkylene oxides and one of the radicals R TM or R v can also be hydrogen or C r to C 4 alkyl.
  • Suitable C 2 to C 4 alkylene oxides are ethylene oxide, propylene oxide or butylene oxide or a mixture of such alkylene oxides.
  • the degree of alkoxylation is preferably 1 to 3, in particular 1.
  • acetylenically unsaturated compounds are used in which the radicals R TM and R v are identical or different and denote methyl or ethyl substituted by hydroxyl or dimethyl or diethylamino, hydroxyl groups having 1 to 3 mol of a C 2 - bis C 4 alkylene oxide, in particular a C 2 to C 3 alkylene oxide, or a mixture of such alkylene oxides can be reacted and one of the radicals R TM or R v can also be hydrogen, methyl or ethyl. - 10 -
  • Ethoxylate, monoethoxylate, diethoxylate, propoxylate, monopropoxylate and dipropoxylate are to be understood here as meaning the reaction products with 1 mol of alkylene oxide per hydroxyl group in the compounds of the general formula (II).
  • hex-3-in-2,5-diol or the combination of hex-3-in-2,5-diol with one or more further compounds from the above group is preferred.
  • acetylenically unsaturated compounds it is preferred that, based on the sum of i and ii as 100% by weight, the brightener i) 2 to 98% by weight of compounds of the general formula (I) and ii ) 98 to 2% by weight of at least one acetylenically unsaturated compound which carries at least one polar functional group.
  • the cyclic N-allyl or N-vinylammonium compounds can be used alone or in a mixture with the acetylenically unsaturated compounds together with one or more other brighteners.
  • Examples include chloral, chloral hydrate, bromal, bromal hydrate, aliphatic aldehydes or dialdehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, glutaraldehyde or glyoxal, formic acid or acetic acid.
  • the aqueous-acidic electroplating bath is, in particular, essentially free of base gloss agents.
  • the aqueous acidic nickel electrolyte baths normally also contain one or usually more nickel salts, e.g. Nickel sulphate and nickel chloride, one or more inorganic acids, preferably boric acid and sulfuric acid, further customary brightening agents and optionally further customary auxiliaries and additives in the concentrations customary for this, e.g. Wetting agents and pore prevention agents.
  • nickel salts e.g. Nickel sulphate and nickel chloride
  • inorganic acids preferably boric acid and sulfuric acid
  • further customary brightening agents and optionally further customary auxiliaries and additives in the concentrations customary for this, e.g. Wetting agents and pore prevention agents.
  • Wetting agents and pore prevention agents e.g. Wetting agents and pore prevention agents.
  • the pH value of the electrolyte baths is usually between 3 and 6, preferably between 4 and 5.
  • a strong mineral acid, preferably sulfuric acid, is expediently used to set this pH value.
  • the components i and ii mentioned are present in the electrolyte baths in low concentrations, generally from 0.01 to 1.0 g / 1, preferably from 0.05 to 0.7 g / 1.
  • concentrations of further brighteners are normally in the range from 0.1 to 10 g / 1, in particular 0.1 to 2.0 g / 1.
  • the invention preferably uses such (aqueous-acidic) electroplating baths, suitable for the deposition of the semi-glossy nickel layers, which contain the following components in g / 1 in the specified quantity range, in particular consisting of:
  • the bath composition according to the invention is distinguished by an extremely noble potential for electroplated nickel layers.
  • the use of the compounds of the formula (I) according to the invention surprisingly leads to this high potential. This leads to extremely favorable corrosion behavior when used in duplex or triplex nickel coatings and especially in connection with a further, if possible, micro-cracked chrome layer, as is shown in the application examples.
  • the gloss of the nickel layers produced according to the invention is outstanding over the entire current density range, and the leveling is markedly improved compared to the prior art.
  • the invention further relates to a method for producing coated molded parts, in particular nickel-plated or chrome-plated molded parts.
  • a method for producing coated molded parts in particular nickel-plated or chrome-plated molded parts.
  • an optionally cleaned, electrically conductive surface area of the molded part is galvanically provided with a semi-glossy nickel layer from an aqueous acidic semi-glossy nickel bath.
  • an aqueous acid bath is used, as is defined in more detail here.
  • such electrically conductive surfaces and such molded parts as are defined above are used in the method for producing the coated molded parts. It is also preferred here to coat a surface made of copper or steel.
  • the electrically conductive surface areas of the molded parts either consist of the metal of the molded part itself or are metallized surfaces of non-conductive molded parts, in particular metallized surfaces on a plastic area of the molded part. It is preferred according to the invention to apply a high-gloss nickel layer to the surface area of the molded part provided with the semi-gloss nickel layer. A sacrificial layer can also be applied between the semi-gloss nickel layer and the high-gloss nickel layer in a manner known per se.
  • the aqueous nickel electrolyte used had the following composition:
  • the respective concentrations of brighteners are given in the respective tables.
  • the pH of the electrolytes was adjusted to 4.2 using sulfuric acid or sodium hydroxide solution.
  • Galvanized iron sheets were used to assess the gloss and other properties of the deposited semi-gloss nickel layers the coating with semi-gloss nickel in a hydrochloric acid solution was freed of zinc and degreased cathodically in an alkaline electrolyte according to the usual methods.
  • the nickel deposition was carried out in a 250 ml Hull cell at 55 ° C. and a current of 2 A over a period of 10 minutes. The sheets were then rinsed with water and dried with compressed air.
  • the gloss was assessed optically, with grades from 1 to 5 being awarded.
  • the grading scheme is composed as follows:
  • the leveling was assessed optically. To do this, the iron sheet is scratched at the bottom using a glass fiber brush approx. 1 cm high. Starting from the highest current density range (I range), the percentage of the leveled range is given.
  • the veils were assessed optically and described according to the following table.
  • the sheet was then immersed in an aqueous solution which contained 50 g / 1 KCl and 0.26 g / 1 CuCl 2 and was adjusted to a pH of 3.2 by means of acetic acid, and the potential by means of a high-resistance voltmeter measured against the standard electrode.
  • the corrosion protection values were determined using a salt spray test.
  • a galvanized iron sheet which had been freed of zinc in a hydrochloric acid solution prior to coating and cathodically degreased in an alkaline electrolyte by the usual methods, was first used for 10 minutes at 2 A / dm 2 and 55 ° using the baths according to the invention or the comparison baths C coated with semi-gloss nickel. It was then coated for a further 10 minutes at 2 A / dm 2 and 55 ° C. in a commercially available high-gloss nickel bath. In a second series of experiments, a commercially available chrome bath with a micro-cracked 0.3 ⁇ m thick chrome layer was then used.
  • the sheets treated in this way were placed in a salt spray tester in accordance with DIN 50021.
  • the sheets were removed once a week and the degree of rust was assessed optically in accordance with DIN 53210.
  • the values given are the mean values for two iron plates treated in the same way.

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Abstract

For the galvanic deposition of semi-bright nickel plate on a substrate, the invention calls for an aqueous acid elctroplating solution which (a) contains one or more cyclic N-allyl or N-vinyl ammonium compounds, in particular N-allylpyridinium compounds, as brightener and (b) is essentially free of sulfphur which can be reduced under the electrolysis conditions used.

Description

Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von Halbglanznickel Bath and process for the electrodeposition of semi-gloss nickel
Die Erfindung betrifft ein verbessertes Bad und ein verbessertes Verfahren zur galvanischen Abscheidung von halbglänzendem Nickel, welches sich durch seine Duktilität, seine PotentialdifFerenz zu hochglänzendem Nickel, seine Einebnung und seine Schwefelfreiheit auszeichnet.The invention relates to an improved bath and an improved method for the electrodeposition of semi-glossy nickel, which is distinguished by its ductility, its potential difference to high-gloss nickel, its leveling and its absence of sulfur.
Es ist allgemein bekannt, daß Nickel auf verschiedenen Grundmetallen elektrolytisch abgeschieden werden kann, um eine glänzende Nickeloberfläche herzustellen. Um zu gewährleisten, daß die Oberfläche glänzend und der Korrosionsschutz des Gesamtsystems inklusive des Grundmetalls gewährleistet ist, wird zuerst eine hocheinebnende, halbglänzende und möglichst edle Nickelschicht abgeschieden. Darauf kann man im sogenannten Duplex-Ver- fahren eine hochglänzende, weniger edle Nickelschicht abscheiden, die das gewünschte Oberflächenaussehen sicherstellt. Durch eine möglichst große Potentialdiiferenz zwischen den beiden Nickelschichten ist der entsprechend gute Korrosionsschutz garantiert. In anderen Verfahren wird eine sehr dünne, sogenannte Opfernickelschicht mit extrem niedrigem Potential zwischen halbglänzende und hochglänzende Nickelschicht eingeschoben, um die eventu¬ ell stattfindende Korrosion in die Tiefe des Gesamtsystems zu ziehen und damit ein dauerhaft gutes Oberflächenaussehen zu gewährleisten. Diese Duplex- und Triplex-Nickelschichten können in einem weiteren Prozeßschritt mit einer Chromschicht, insbesondere mit einer mikrorissigen Chromschicht, versehen werden.It is well known that nickel can be electrodeposited on various base metals to produce a shiny nickel surface. In order to ensure that the surface is shiny and that the entire system, including the base metal, is protected against corrosion, a highly leveling, semi-shiny and as fine as possible nickel layer is deposited. A so-called duplex process can be used to deposit a high-gloss, less noble nickel layer that ensures the desired surface appearance. The greatest possible potential difference between the two nickel layers guarantees correspondingly good corrosion protection. In other processes, a very thin, so-called sacrificial nickel layer with an extremely low potential is inserted between the semi-gloss and high-gloss nickel layer in order to draw the corrosion that may occur into the depth of the overall system and thus to ensure a permanently good surface appearance. These duplex and triplex nickel layers can in a further process step with a chrome layer, in particular with a micro-cracked chrome layer.
Es ist weiterhin bekannt, daß zur Erzeugung von Halbglanz-Nickelschichten verschiedene chemische Verbindungen im galvanischen Bad eingesetzt werden können. Immer sind aber mindestens ein bis zwei, eventuell auch mehr, Nickelsalze wie Nickelsulfat, Nickelchlorid, Nickelfluorid und andere, und mindestens eine anorganische Säure, wie Schwefelsäure oder Borsäure, in den Bädern enthalten.It is also known that various chemical compounds can be used in the galvanic bath to produce semi-gloss nickel layers. However, there are always at least one or two, possibly more, nickel salts such as nickel sulfate, nickel chloride, nickel fluoride and others, and at least one inorganic acid, such as sulfuric acid or boric acid, in the baths.
DE-A 22 15 738 beschreibt ein galvanisches Bad zur Abscheidung von halb¬ glänzendem Nickel, das a) mindestens eine Nickelverbindung, die Nickel¬ ionen für die elektrolytische Abscheidung von Nickel liefert, b) als ersten zusammenarbeitenden Halbglanzzusatz die aliphatische, acetylenische Ver- bindung 3-Hexin-2,5-diol und c) als zweiten zusammenarbeitenden Halbglanz¬ zusatz einen aliphatischen Aldehyd, der aus Formaldehyd, Chloral, Chloral- hydrat, Bromal oder Bromalhydrat ausgewählt ist, enthält. Diese DE-A beschreibt, daß weitgehend schwefelfreie Schichten erhalten werden. Das Verfahren hat jedoch den Nachteil, daß der Glanz über den ganzen Strom- dichtebereich nicht gleichmäßig ist. Besonders im hohen Stromdichtebereich gibt es Probleme mit milchigen Abscheidungen. Dieses Bad ist deshalb insbesondere bei schnellem Abscheiden von halbglänzendem Nickel nicht einsetzbar. Weiterhin zeigt die Milchigkeit des Niederschlags, daß es mögli¬ cherweise nicht zur vollständigen Bedeckung des Grundmetalls durch halb- glänzendes Nickel kommt und damit Probleme beim Korrosionsschutz ent¬ stehen.DE-A 22 15 738 describes a galvanic bath for the deposition of semi-shiny nickel, which a) at least one nickel compound which supplies nickel ions for the electrolytic deposition of nickel, b) as the first cooperating semi-gloss additive, the aliphatic, acetylenic compound 3-hexyne-2,5-diol and c) as the second cooperating semi-gloss additive contains an aliphatic aldehyde selected from formaldehyde, chloral, chloral hydrate, bromal or bromal hydrate. This DE-A describes that largely sulfur-free layers are obtained. However, the process has the disadvantage that the gloss is not uniform over the entire current density range. There are problems with milky deposits, particularly in the high current density range. This bath is therefore particularly unsuitable for the rapid deposition of semi-shiny nickel. Furthermore, the milky nature of the precipitation shows that the base metal may not be completely covered by semi-shiny nickel and thus problems with corrosion protection arise.
Durch US 3 111 466, US 3 367 854, US 3 414 491, US 3 556 959, USBy U.S. 3,111,466, U.S. 3,367,854, U.S. 3,414,491, U.S. 3,556,959, U.S.
3 677 913, US 3 719 568 und US 3 795 592 ist bekannt, daß Cumarin als ein Additiv in galvanischen Bädern zur Abscheidung von halbglänzenden Nickelüberzügen eingesetzt werden kann. Es ist weiterhin auch bekannt, daß die Einebnung mit zunehmender Cumarinkonzentration deutlich verbessert wird. Die beste Einebnung wird bei sehr hoher Cumarinkonzentration festge¬ stellt. Die hohe Cumarinkonzentration führt aber zu einer hohen Konzen- tration an Abbauprodukten, welche zu mattgrauen Abscheidungen führt, die nur durch eine Regeneration des Bades mittels Aktivkohlebehandlung und/- oder Wasserstofrperoxidbehandlung beseitigt werden können. Dies ist ein Vorgang, der sehr zeitintensiv ist und damit kostenbelastend auf die Produk¬ tion wirkt. Wenn die Behandlung nicht rechtzeitig durchgeführt wird, führen diese mattgrauen Abscheidungen zu Haftungsproblemen der darüberliegenden Schichten und zu großen Problemen im Korrosionsschutz. In DE-A 33 10 881 wird die Cumarinkonzentration durch die Zugabe von aromatischen Hydroxycarbonsäuren, wasserlöslichen Acetylenalkoholen und deren Ethylen¬ oxid-, Propylenoxid- und Propansulton-Derivaten auf ein niedrigeres Konzen- trationsniveau bei gleichen Schichteigenschaften herabgesetzt. Dies führt zu deutlich verlängerten Wartungsintervallen der Bäder und damit zu deutlichen Kosteneinsparungen. Trotzdem kommt es gegen Ende der Lebensdauer des Bades noch zu mattgrauen Abscheidungen, die wiederum zu Korrosions¬ problemen führen. Die dann zu erfolgende Regeneration führt zu Kosten und auch Problemen mit der Beseitigung des Abfalls.3,677,913, US 3,719,568 and US 3,795,592 disclose coumarin as an additive in electroplating baths for the deposition of semi-gloss Nickel plating can be used. It is also known that the leveling is significantly improved with increasing coumarin concentration. The best leveling is found at a very high coumarin concentration. However, the high coumarin concentration leads to a high concentration of breakdown products, which leads to dull gray deposits that can only be removed by regeneration of the bath using activated carbon treatment and / or hydrogen peroxide treatment. This is a process that is very time-consuming and thus has a cost-burden on production. If the treatment is not carried out in time, these matt gray deposits lead to adhesion problems of the layers above and to major problems in corrosion protection. In DE-A 33 10 881 the coumarin concentration is reduced to a lower concentration level with the same layer properties by the addition of aromatic hydroxycarboxylic acids, water-soluble acetylene alcohols and their ethylene oxide, propylene oxide and propane sultone derivatives. This leads to significantly longer maintenance intervals for the bathrooms and thus to significant cost savings. Nevertheless, towards the end of the bath's service life, there are still dull gray deposits, which in turn lead to corrosion problems. The regeneration to be carried out then leads to costs and also problems with the disposal of the waste.
Weitere mögliche Glanzzusätze für Halbglanz-Nickelbäder sind in verschiede¬ nen Literaturstellen erwähnt. Dabei werden zum Beispiel Essigsäure in Met. Finishing, £3, April 1965, S. 67, Sulfosalicylsäure in SU-A 238 982 (zitiert aus CA 071/45117a), und Kaliumbiphthalat in US 3 556 959 erwähnt. Bei all diesen Komponenten läßt aber die Duktilität der abgeschiedenen Halb¬ glanz-Nickelschicht deutlich zu wünschen übrig. Dies kann bei Belastung der beschichteten Teile zu Rissen und eventuell sogar zum Abplatzen der Be¬ schichtung und damit zum Korrodieren des Grundmaterials führen. Der Korrosionsschutz kann für die beschichteten Teile somit nicht gewährleistet werden.Further possible gloss additives for semi-gloss nickel baths are mentioned in various references. Examples include acetic acid in Met. Finishing, £ 3, April 1965, p. 67, sulfosalicylic acid in SU-A 238 982 (cited from CA 071 / 45117a), and potassium biphthalate in US 3,556,959. With all of these components, however, the ductility of the deposited semi-gloss nickel layer leaves much to be desired. When the coated parts are loaded, this can lead to cracks and possibly even to flaking off of the coating and thus to corroding of the base material. The Corrosion protection cannot be guaranteed for the coated parts.
US 3 677 912 beschreibt den Zusatz von Halogenalkyl-N-heterocyclen zu Butindiol oder Butmdiolethoxylate enthaltenden Hochglanz-Nickelbädern. Diese Bäder eignen sich in der dort beschriebenen Weise nur zur Erzeugung einer Deckschicht im System. Dabei werden aber ausgezeichnete Einebnung, Duktilität, Glanz und Bedeckungsgrad erreicht. Durch den Gehalt von Sulfonatgruppen enthaltenden Grundglanzbildnern im Bad liegt das Potential dieser damit hergestellten Schichten bei sehr niedrigen Werten, und damit können diese Schichten alleine nicht zum Korrosionsschutz eingesetzt werden.No. 3,677,912 describes the addition of haloalkyl-N-heterocycles to high-gloss nickel baths containing butynediol or butmediol ethoxylates. In the manner described there, these baths are only suitable for producing a cover layer in the system. But excellent leveling, ductility, gloss and coverage are achieved. Due to the content of basic gloss agents containing sulfonate groups in the bath, the potential of these layers produced with them is very low, and therefore these layers alone cannot be used for corrosion protection.
Der Einsatz von substituierten Allyl- oder Vinyl-Pyridinium-, -Chinolinium- oder -Isochinolύήumverbindungen in Kombination mit acetylenisch ungesättig- ten Verbindungen wird in WO 93/15241 beschrieben. Die hiermit beschrie¬ benen Rezepturen dienen der Abscheidung von hochglänzenden Nickelschich¬ ten. Als besonderer Vorteil werden dazu die erzielten Glanzgrade und die Einebnung beschrieben. Zusätzlich läßt sich durch dieses Verfahren noch eine gewisse Menge an Chemikalien einsparen. Die so hergestellten Nickel- schichten sind nun aber aufgrund der gemäß den Beispielen zusätzlich zugegebenen Komponenten von der Potentiallage so ungünstig, daß sie nur als Deckschichten in Duplexnickelsystemen eingesetzt werden können.The use of substituted allyl or vinyl pyridinium, quinolinium or isoquinolium compounds in combination with acetylenically unsaturated compounds is described in WO 93/15241. The formulations described herewith serve for the deposition of high-gloss nickel layers. A particular advantage is that the degrees of gloss achieved and the leveling are described. In addition, this method can save a certain amount of chemicals. However, the nickel layers produced in this way are so unfavorable due to the additional components added according to the examples that they can only be used as cover layers in duplex nickel systems.
Der Erfindung lag daher als Aufgabe zugrunde, den geschilderten Mängeln des Standes der Technik, vor allem in bezug auf den Einsatz in korrosions- schützenden Duplex- und Triplex-Nickelsystemen, abzuhelfen. Insbesondere soll eine galvanische Halbglanz-Nickelabscheidung ermöglicht werden, bei der hohe Duktilität, hohe PotentialdifFerenz zu hochglänzendem Nickel und gute Einebnung bei Schwefelfreiheit erzielt wird. Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur galvanischen Abschei¬ dung einer Halbglanz-Nickelschicht auf einem Träger, bei dem der Träger in einem wäßrig-sauren, Glanzmittel enthaltenden galvanischen Bad galvanisch mit Nickel beschichtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß ein wäßrig-saures galvanisches Bad eingesetzt wird, das a) als Glanzmittel eine oder mehrere cyclische N-Allyl- oder N-Viny- lammoniumverbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I) enthältThe object of the invention was therefore to remedy the deficiencies of the prior art, particularly with regard to use in corrosion-protective duplex and triplex nickel systems. In particular, galvanic semi-gloss nickel deposition should be made possible, with which high ductility, high potential difference to high-gloss nickel and good leveling with no sulfur are achieved. This object is achieved by a process for the galvanic deposition of a semi-glossy nickel layer on a support, in which the support is electroplated with nickel in an aqueous acidic, electroplating bath containing a gloss agent, characterized in that an aqueous acidic electroplating bath is used which a) contains one or more cyclic N-allyl or N-vinylammonium compounds according to the general formula (I) as a brightening agent
Figure imgf000007_0001
Figure imgf000007_0001
in der das N+ Bestandteil eines Pyridin-, Chinolin- oder Isochinolin-in which the N + component of a pyridine, quinoline or isoquinoline
Ringsystems ist, welches zusätzlich ein oder zweiRing system is, which additionally one or two
Halogen- und/oder Cr bis C4-Alkylsubstituenten tragen kann,Can carry halogen and / or C r to C 4 alkyl substituents,
R, R", R" für Wasserstoff oder Cγ- bis C4-Alkyl stehen,R, R ", R" represent hydrogen or C γ - to C 4 alkyl,
R' Wasserstoff oder Methyl bedeutet, m für eine Zahl von 0 bis 4 steht, n für eine Zahl von 1 bis 4 steht, und x- ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, bezeichnet,R 'is hydrogen or methyl, m is a number from 0 to 4, n is a number from 1 to 4, and x- denotes an n-valent inorganic or organic anion which promotes water solubility,
und das b) im wesentlichen frei von unter den angewandten Elektrolysebedin¬ gungen reduzierbarem Schwefel ist. Die Erfindung betrifft also die Verwendung der Verbindungen der Formel (I), insbesondere der Pyridiniumverbindungen, in Halbglanz-Nickelbädern.and b) is essentially free of sulfur which can be reduced under the electrolysis conditions used. The invention thus relates to the use of the compounds of the formula (I), in particular the pyridinium compounds, in semi-glossy nickel baths.
Insbesondere ist das Bad frei von Schwefel mit einer Wertigkeit von 4 oder niedriger; speziell ist es frei von Sulfo- bzw. Sulfonatgruppen. Das Bad kann dagegen Sulfatgruppen enthalten, und dies ist bevorzugt.In particular, the bath is free of sulfur with a value of 4 or lower; in particular, it is free of sulfo or sulfonate groups. In contrast, the bath may contain sulfate groups, and this is preferred.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden edle Nickelschichten bzw. Halbglanz-Nickelschichten auf dem Träger ausgebildet, die ein hohes Potenti- al zu einer Bezugselektrode im Vergleich zu dem Potential einer darüber¬ liegenden Hochglanzschicht, insbesondere einer Hochglanz-Nickelschicht, haben. Insbesondere werden Potentialdifferenzen von mehr als etwa 80 mV, vorzugsweise mehr als etwa 100 mV, zu einer darüber befindlichen Hoch¬ glanz-Nickelschicht erzielt.In the method according to the invention, noble nickel layers or semi-gloss nickel layers are formed on the carrier, which have a high potential compared to a reference electrode compared to the potential of an overlying high-gloss layer, in particular a high-gloss nickel layer. In particular, potential differences of more than about 80 mV, preferably more than about 100 mV, are achieved compared to a high-gloss nickel layer located thereover.
Eine weitere Lösung der Aufgabe ist ein Verfahren zur Herstellung von beschichteten Formteilen, bei dem ein gegebenenfalls gereinigter, elektrisch leitender Oberflächenbereich des Formteils galvanisch aus einem wäßrig¬ sauren galvanischen Bad mit einer Halbglanz-Nickelschicht versehen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbglanz-Nickelschicht elektrolytisch aus einem Bad - wie es weiter unten in seiner Zusammensetzung definiert wird - aufgebracht wird, wobei bevorzugt als Oberflächenbereich ein metal¬ lisch leitender Oberflächenbereich, insbesondere ein Oberflächenbereich aus Kupfer, Eisen, Messing, Stahl, Edelstahl, Gußeisen, bevorzugt Kupfer oder Stahl, eingesetzt wird und als Träger ein Träger aus Metall oder ein Träger aus Kunststoff eingesetzt wird, wobei sich auf dem Träger zumindest ein elektrisch leitfähiger Oberflächenbereich befindet.A further solution to the problem is a process for the production of coated molded parts, in which an optionally cleaned, electrically conductive surface area of the molded part is provided with a semi-glossy nickel layer from an aqueous acidic galvanic bath, characterized in that the semi-glossy nickel layer is electrolytically coated from a bath - as defined below in its composition - is applied, the surface area preferably being a metallic conductive surface area, in particular a surface area made of copper, iron, brass, steel, stainless steel, cast iron, preferably copper or steel and a carrier made of metal or a carrier made of plastic is used as the carrier, with at least one electrically conductive surface area being located on the carrier.
Bei der Abscheidung der Halbglanz-Nickelschicht wird ein Träger eingesetzt, dessen Oberfläche (bzw. Oberflächenabschmtt) im wesentlichen aus Metallen, Metallegierungen, metallisierten Kunststoffen, bevorzugt Cu, Fe, Messing, Stahl, Gußeisen oder chemisch verkupfertem oder chemisch vernickeltem Kunststoff, insbesondere Stahl und Kupferoberflächen, besteht.A support is used for the deposition of the semi-gloss nickel layer, the surface (or surface coating) of which is essentially made of metals, Metal alloys, metallized plastics, preferably Cu, Fe, brass, steel, cast iron or chemically copper-plated or chemically nickel-plated plastics, in particular steel and copper surfaces.
Mit den beschriebenen Nickelelektrolyt-Bädern können vor allem Halbglanz- Nickelüberzüge auf Formteilen aus Stahl oder Kupferoberflächen, daneben aber auch auf Formteilen aus anderen Materialien, beispielsweise Messing, die üblich vorbehandelt worden sind, galvanisch erzeugt werden. Hierzu arbeitet man in der Regel bei Temperaturen von 30 bis 80 °C, vorzugs- weise 40 bis 60 °C.The nickel electrolyte baths described above can be used to produce, in particular, semi-gloss nickel coatings on molded parts made of steel or copper surfaces, but also on molded parts made of other materials, for example brass, which have been customarily pretreated. This is usually done at temperatures of 30 to 80 ° C, preferably 40 to 60 ° C.
Als Cp bis C4- Alkylreste in der allgemeinen Formel (I) kommen generell n-Propyl, iso-Propyl, n-Butyl, iso-Butyl, see. -Butyl, tert.-Butyl und vor allem Methyl und Ethyl in Betracht, als Halogensubstituent insbesondere Chlor oder Brom.The Cp to C 4 alkyl radicals in the general formula (I) are generally n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, see. -Butyl, tert-butyl and especially methyl and ethyl into consideration as halogen substituent, especially chlorine or bromine.
Als alkyl- oder halogensubstituierte heterocyclische Ringsysteme für (I) seien beispielhaft genannt:Examples of alkyl or halogen-substituted heterocyclic ring systems for (I) are:
2-, 3- oder 4-Methylpyridinium,2-, 3- or 4-methylpyridinium,
2-, 3- oder 4-Chlorpyridinium,2-, 3- or 4-chloropyridinium,
2-, 3- oder 4-Brompyridinium,2-, 3- or 4-bromopyridinium,
2-, 3- oder 4-Ethylpyridinium,2-, 3- or 4-ethylpyridinium,
3- oder 4-n-Propylpyridinium, 3- oder 4-iso-Propylpyridinium,3- or 4-n-propylpyridinium, 3- or 4-iso-propylpyridinium,
3- oder 4-n-Butylpyridinium,3- or 4-n-butylpyridinium,
4-tert.-Butylpyridinium,4-tert-butylpyridinium,
2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6- 3,4- oder 3,5-Dimethrylpyridimum,2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6- 3,4- or 3,5-dimethryl pyridimum,
3-Methyl-4-isopropylpyridinium, 4-tert.-Butyl-3-meLhylpyridinium, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Methylchinolinium, 2- oder 6-Bromchinolinium, 2 ,4-Dichlorchinolinium, 2,4-, 2,8- oder 5,8-Djmetlτylchinolinium und 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Memyliscκ;hinolinium.3-methyl-4-isopropylpyridinium, 4-tert-butyl-3-methylpyridinium, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-methylquinolinium, 2- or 6-bromoquinolinium, 2, 4-dichloroquinolinium, 2,4-, 2,8- or 5,8-dymetylquinolinium and 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-Memyliscκ; hinolinium.
Bevorzugt wird unsubstituiertes Pyridinium. Die Reste R, R' und R'" stehen vorzugsweise für Wasserstoff. Die Variable m steht vorzugsweise für 1.Unsubstituted pyridinium is preferred. The radicals R, R 'and R' "preferably represent hydrogen. The variable m preferably represents 1.
Als x-wertige Anionen X" kommen die üblichen, normalerweise die Wasser¬ löslichkeit von organischen Verbindungen fördernden anorganischen oder organischen Anionen in Betracht, so vor allem Chlorid, Bromid, Fluorid, Sulfat, Hydrogensulfat, Nitrat, Tetrafluoroborat, Perchlorat, 1-Hydroxyethan- 1,1-diphosphonat, Dihydrogenphosphat, Phosphat, Formiat, Acetat, Oxalat und Tartrat.Suitable x-valent anions X " are the customary inorganic or organic anions which normally promote the water solubility of organic compounds, in particular chloride, bromide, fluoride, sulfate, hydrogen sulfate, nitrate, tetrafluoroborate, perchlorate, 1-hydroxyethane 1,1-diphosphonate, dihydrogen phosphate, phosphate, formate, acetate, oxalate and tartrate.
Hiervon werden ein- oder zweifach (x = 1 oder 2) geladene Anionen, vor allem Fluorid, Sulfat, Nitrat und Tetrafluoroborat, insbesondere jedoch Chlorid und Bromid, bevorzugt. Die Zahl der Ladungen entspricht (1 bis 4) der Zahl der N+ im Ringsystem, d.h. auf 2 negative Ladungen des oder der Anionen kommen z.B. 2N+.Of these, single or double (x = 1 or 2) charged anions, especially fluoride, sulfate, nitrate and tetrafluoroborate, but especially chloride and bromide, are preferred. The number of charges corresponds to (1 to 4) the number of N + in the ring system, ie there are 2 negative charges of the anion or anions, for example 2N + .
In einer bevorzugten Ausführungsform setzt man cyclische N-Allylammoni- um(pyridinium)verbindungen der allgemeinen Formel (la) ein,In a preferred embodiment, cyclic N-allylammonium (pyridinium) compounds of the general formula (Ia) are used,
(la)
Figure imgf000010_0001
in der R\ n und X" die oben genannten Bedeutungen haben.
(la)
Figure imgf000010_0001
in which R \ n and X "have the meanings given above.
Als weitere Komponente im Glanzmittel kann man acetylenisch ungesättigte Verbindungen einsetzen, die mindestens eine polare funktionelle Gruppe, vorzugsweise in der α-Position von Cp bis C4-Alkylresten, tragen. Nicht funktionalisierte acetylenisch ungesättigte Kohlenwasserstoffe sind hauptsäch¬ lich wegen ihrer geringen Löslichkeit in wäßrigen Medien und ihrer hohen Flüchtigkeit ungeeignet. Die bevorzugten Verbindungen haben die allgemeine Formel (Ll),Acetylenically unsaturated compounds which carry at least one polar functional group, preferably in the α-position of Cp to C 4 -alkyl radicals, can be used as a further component in the brightening agent. Unfunctionalized acetylenically unsaturated hydrocarbons are unsuitable mainly because of their low solubility in aqueous media and their high volatility. The preferred compounds have the general formula (L1)
R™ - C ■ C - Rv 01)R ™ - C ■ C - R v 01)
in der die Reste R™ und Rv gleich oder verschieden sind und durch Hy¬ droxyl, Amino, Cr bis C4- Alkylamino oder Di(Cr bis C4-alkyl)amino substituiertes Cr bis C4-Alkyl bezeichnen, wobei Hydroxylgruppen mit 1 bis 10 Mol eines C2- bis C4-Alkylenoxids oder einer Mischung solcher Alkylen- oxide umgesetzt sein können und einer der Reste R™ oder Rv auch Wasser¬ stoff oder Cr bis C4-Alkyl sein kann.in which the radicals R ™ and R v are identical or different and droxyl by Hy¬, amino, C r -C 4 - alkylamino or di (C r to C 4 alkyl) amino-substituted C r to C 4 alkyl denote where hydroxyl groups can be reacted with 1 to 10 moles of a C 2 to C 4 alkylene oxide or a mixture of such alkylene oxides and one of the radicals R ™ or R v can also be hydrogen or C r to C 4 alkyl.
Geeignete C2- bis C4-Alkylenoxide sind Ethylenoxid, Propylenoxid oder Butylenoxid oder eine Mischung solcher Alkylenoxide. Der Alkoxylierungs¬ grad beträgt vorzugsweise 1 bis 3, insbesondere 1.Suitable C 2 to C 4 alkylene oxides are ethylene oxide, propylene oxide or butylene oxide or a mixture of such alkylene oxides. The degree of alkoxylation is preferably 1 to 3, in particular 1.
In einer bevorzugten Ausführungsform setzt man acetylenisch ungesättigte Verbindungen ein, bei denen die Reste R™ und Rv gleich oder verschieden sind und durch Hydroxyl oder Dimethyl- oder Diethylamino substituiertes Methyl oder Ethyl bezeichnen, wobei Hydroxylgruppen mit 1 bis 3 Mol eines C2- bis C4-Alkylenoxids, insbesondere eines C2- bis C3-Alkylenoxids, oder einer Mischung solcher Alkylenoxide umgesetzt sein können und einer der Reste R™ oder Rv auch Wasserstoff, Methyl oder Ethyl sein kann. - 10 -In a preferred embodiment, acetylenically unsaturated compounds are used in which the radicals R ™ and R v are identical or different and denote methyl or ethyl substituted by hydroxyl or dimethyl or diethylamino, hydroxyl groups having 1 to 3 mol of a C 2 - bis C 4 alkylene oxide, in particular a C 2 to C 3 alkylene oxide, or a mixture of such alkylene oxides can be reacted and one of the radicals R ™ or R v can also be hydrogen, methyl or ethyl. - 10 -
Als Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel (II) lassen sich nennen:Examples of compounds of the general formula (II) are:
Prop-2-in-l-ol, But-2-in-l,4-diol,Prop-2-in-l-ol, but-2-in-l, 4-diol,
Hex-3-in-2,5-diol,Hex-3-in-2,5-diol,
2,5-Dimethyl-hex-3-in-2,5-diol,2,5-dimethyl-hex-3-in-2,5-diol,
Prop-2-in- 1 -ol-ethoxylat,Prop-2-in-1-ol ethoxylate,
Prop-2-in- 1 -ol-propoxylat, But-2-in-l,4-diol-monoethcκylat,Prop-2-in-1-ol-propoxylate, but-2-in-l, 4-diol-monoethoxylate,
But-2-in- 1 ,4-diol-diethαxylat,But-2-in-1,4-diol-diethαxylate,
But-2-in-l ,4-diol-monopropαxylat,But-2-in-l, 4-diol-monopropαxylate,
But-2-in-l ,4-diol-dipropcκylat,But-2-in-l, 4-diol-dipropylate,
1 -Dimethylamino-prop-2-in, l-Diethylamino-prop-2-in, l-Diethylamino-pent-2-in-4-ol, l-Ammo-l,l-dimethylprop-2-in und1-dimethylamino-prop-2-in, l-diethylamino-prop-2-in, l-diethylamino-pent-2-in-4-ol, l-ammo-l, l-dimethylprop-2-in and
3-Methyl-but-l-in-3-ol.3-methyl-but-l-in-3-ol.
Unter Ethoxylat, Monoethoxylat, Diethoxylat, Propoxylat, Monopropoxylat und Dipropoxylat sind hier jeweils die Umsetzungsprodukte mit 1 Mol Alkylenoxid pro Hydroxylgruppe in den Verbindungen der allgemeinen Formel (II) zu verstehen.Ethoxylate, monoethoxylate, diethoxylate, propoxylate, monopropoxylate and dipropoxylate are to be understood here as meaning the reaction products with 1 mol of alkylene oxide per hydroxyl group in the compounds of the general formula (II).
Bevorzugt wird der Einsatz vom Hex-3-in-2,5-diol oder die Kombination von Hex-3-in-2,5-diol mit einer oder mehreren weiteren Verbindungen aus der vorstehenden Gruppe. Falls acetylenisch ungesättigte Verbindungen eingesetzt werden, ist es bevor¬ zugt, daß, bezogen auf die Summe aus i und ii als 100 Gew.-%, das Glanzmittel i) 2 bis 98 Gew.-% Verbindungen der allgemeinen Formel (I) und ii) 98 bis 2 Gew.-% mindestens einer acetylenisch ungesättigten Verbin¬ dung, die mindestens eine polare funktionelle Gruppe trägt, enthält.The use of hex-3-in-2,5-diol or the combination of hex-3-in-2,5-diol with one or more further compounds from the above group is preferred. If acetylenically unsaturated compounds are used, it is preferred that, based on the sum of i and ii as 100% by weight, the brightener i) 2 to 98% by weight of compounds of the general formula (I) and ii ) 98 to 2% by weight of at least one acetylenically unsaturated compound which carries at least one polar functional group.
Weiterhin können die cyclischen N-Allyl- oder N-Vinylammoniumverbindun- gen alleine oder in Mischung mit den acetylenisch ungesättigten Verbindun¬ gen noch zusammen mit einem oder mehreren anderen Glanzmitteln einge¬ setzt werden. Beispielhaft seien genannt Chloral, Chloralhydrat, Bromal, Bromalhydrat, aliphatische Aldehyde oder Dialdehyde wie Formaldehyd, Acetaldehyd, Glutaraldehyd oder Glyoxal, Ameisensäure oder Essigsäure.Furthermore, the cyclic N-allyl or N-vinylammonium compounds can be used alone or in a mixture with the acetylenically unsaturated compounds together with one or more other brighteners. Examples include chloral, chloral hydrate, bromal, bromal hydrate, aliphatic aldehydes or dialdehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, glutaraldehyde or glyoxal, formic acid or acetic acid.
Das wäßrig-saure galvanische Bad ist insbesondere im wesentlichen frei von Grundglanzbildnern.The aqueous-acidic electroplating bath is, in particular, essentially free of base gloss agents.
Die eingesetzten wäßrig-sauren Nickelelektrolyt-Bäder enthalten weiterhin normalerweise ein oder meist mehrere Nickelsalze, z.B. Nickelsulfat und Nickelchlorid, eine oder mehrere anorganische Säuren, vorzugsweise Borsäure und Schwefelsäure, weitere übliche Glanzmittel sowie gegebenenfalls weitere übliche Hilfsmittel und Zusätze in den hierfür üblichen Konzentrationen, z.B. Netzmittel und Porenverhütungsmittel. Gebräuchlich wäßrig-saure Nickelelek- trolyte ("Watts-Elektrolyte") haben in der Regel die folgende Grundzusam¬ mensetzung:The aqueous acidic nickel electrolyte baths normally also contain one or usually more nickel salts, e.g. Nickel sulphate and nickel chloride, one or more inorganic acids, preferably boric acid and sulfuric acid, further customary brightening agents and optionally further customary auxiliaries and additives in the concentrations customary for this, e.g. Wetting agents and pore prevention agents. Commonly aqueous acidic nickel electrolytes ("Watts electrolytes") generally have the following basic composition:
200 bis 350 g/1 NiSO4 7H2O 30 bis 150 g/1 NiCl2 6H2O 30 bis 50 g/1 H3BO3. Der pH-Wert der Elektrolyt-Bäder liegt üblicherweise zwischen 3 und 6, vorzugsweise zwischen 4 und 5. Zur Einstellung dieses pH-Wertes dient zweckmäßigerweise eine starke Mineralsäure, vorzugsweise Schwefelsäure.200 to 350 g / 1 NiSO 4 7H 2 O 30 to 150 g / 1 NiCl 2 6H 2 O 30 to 50 g / 1 H 3 BO 3 . The pH value of the electrolyte baths is usually between 3 and 6, preferably between 4 and 5. A strong mineral acid, preferably sulfuric acid, is expediently used to set this pH value.
Die genannten Komponenten i und ii liegen in den Elektrolyt-Bädern in niedrigen Konzentrationen, in der Regel von 0,01 bis 1,0 g/1, vorzugsweise von 0,05 bis 0,7 g/1, vor. Die Konzentrationen weiterer Glanzmittel liegen normalerweise im Bereich von jeweils 0,1 bis 10 g/1, insbesondere 0,1 bis 2,0 g/1.The components i and ii mentioned are present in the electrolyte baths in low concentrations, generally from 0.01 to 1.0 g / 1, preferably from 0.05 to 0.7 g / 1. The concentrations of further brighteners are normally in the range from 0.1 to 10 g / 1, in particular 0.1 to 2.0 g / 1.
Die Erfindung setzt vorzugsweise solche (wäßrig-sauren) galvanischen Bäder, geeignet für die Abscheidung der Halbglanz-Nickelschichten ein, die folgende Komponenten im angegebenen Mengenbereich in g/1 enthalten, insbesondere daraus bestehen:The invention preferably uses such (aqueous-acidic) electroplating baths, suitable for the deposition of the semi-glossy nickel layers, which contain the following components in g / 1 in the specified quantity range, in particular consisting of:
Komponente von-bis bevorzugtComponent from-to preferred
(1) NiSO4 • 7 H2O 250-350 g/1 280-320 g/1(1) NiSO 4 • 7 H 2 O 250-350 g / 1 280-320 g / 1
(2) NiCl2 • 6 H2O 40-80 g/1 50-70 g/1(2) NiCl 2 • 6 H 2 O 40-80 g / 1 50-70 g / 1
(3) Borsäure 30-60 g/1 40-50 g/1 (4) Verbindungen der allgemeinen(3) boric acid 30-60 g / 1 40-50 g / 1 (4) compounds of the general
Formel (I) 0,01-1,0 g/1 0,04-0,10 g/1Formula (I) 0.01-1.0 g / 1 0.04-0.10 g / 1
(5) - (8) Verbindungen der allgemeinen Formel (II)(5) - (8) compounds of the general formula (II)
(5) Hex-l-in-2,5-diol 0-1 g/1 0,2-0,4 g/1(5) Hex-l-in-2,5-diol 0-1 g / 1 0.2-0.4 g / 1
(6) l-Diethylamino-prop-2-in 0-0,05 g/1 0,01-0,02 g/1(6) 1-Diethylamino-prop-2-in 0-0.05 g / 1 0.01-0.02 g / 1
(7) Prop-2-in-l-ol-ethoxylat 0-0,2 g/1 0,04-0,06 g/1(7) Prop-2-in-1-ol ethoxylate 0-0.2 g / 1 0.04-0.06 g / 1
(8) But-2-in- 1 ,4-diol-dipropαxylat 0-0,3 g/1 0,02-0,03 g/1(8) But-2-in 1,4-diol dipropαxylate 0-0.3 g / 1 0.02-0.03 g / 1
(9) Formaldehyd oder Glyoxal 0,2-1 g/1 0,5-0,6 g/1(9) Formaldehyde or Glyoxal 0.2-1 g / 1 0.5-0.6 g / 1
(10) Chloralhydrat 0,5-2 g/1 1,0-1,4 g/1(10) Chloral hydrate 0.5-2 g / 1 1.0-1.4 g / 1
(11) Ameisensäure 0,1-0,5 g/1 0,15-0,25 g/1 (12) Natriumsalz eines(11) formic acid 0.1-0.5 g / 1 0.15-0.25 g / 1 (12) sodium salt one
Fettalkoholethersulfates 0,1-1 g/1 0,4-0,6 g/1 Derartige Bäder sind ebenfalls Gegenstand der Erfindung.Fatty alcohol ether sulfates 0.1-1 g / 1 0.4-0.6 g / 1 Such baths are also the subject of the invention.
Die erfindungsgemäße Badzusammensetzung zeichnet sich durch ein für galvanisch erzeugte Nickelschichten extrem edles Potential aus. Der erfin- dungsgemäße Einsatz der Verbindungen der Formel (I) führt überraschen¬ derweise zu diesem hohen Potential. Dies führt beim Einsatz in Duplex- oder Triplex-Nickelüberzügen und vor allem in Verbindung mit einer weite¬ ren möglichst mikrorissigen Chromschicht zu extrem günstigem Korrosions¬ verhalten, wie in den Anwendungsbeispielen gezeigt wird. Zusätzlich ist der Glanz der erfindungsgemäß erzeugten Nickelschichten über den ganzen Stromdichtebereich hervorragend, und die Einebnung ist im Vergleich zum Stand der Technik deutlich verbessert.The bath composition according to the invention is distinguished by an extremely noble potential for electroplated nickel layers. The use of the compounds of the formula (I) according to the invention surprisingly leads to this high potential. This leads to extremely favorable corrosion behavior when used in duplex or triplex nickel coatings and especially in connection with a further, if possible, micro-cracked chrome layer, as is shown in the application examples. In addition, the gloss of the nickel layers produced according to the invention is outstanding over the entire current density range, and the leveling is markedly improved compared to the prior art.
Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf ein Verfahren zur Herstellung von beschichteten Formteilen, insbesondere von vernickelten bzw. verchromten Formteilen. Bei diesem erfindungsgemäßen Verfahren wird ein gegebenenfalls gereinigter elektrisch leitender Oberflächenbereich des Formteils galvanisch aus einem wäßrig-sauren Halbglanz-Nickelbad mit einer Halbglanz-Nickel¬ schicht versehen. Erfindungsgemäß wird dabei ein wäßrig-saures Bad einge- setzt, wie es hierin näher definiert ist.The invention further relates to a method for producing coated molded parts, in particular nickel-plated or chrome-plated molded parts. In this method according to the invention, an optionally cleaned, electrically conductive surface area of the molded part is galvanically provided with a semi-glossy nickel layer from an aqueous acidic semi-glossy nickel bath. According to the invention, an aqueous acid bath is used, as is defined in more detail here.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung werden bei dem Verfahren zur Herstellung der beschichteten Formteile solche elektrisch leitenden Oberflächen und solche Formteile eingesetzt, wie sie weiter oben definiert wurden. Bevorzugt ist auch hier, eine Oberfläche aus Kupfer oder Stahl zu beschichten. Die elektrisch leitenden Oberflächenbereiche der Form¬ teile bestehen entweder aus dem Metall des Formteils selbst, oder sind metallisierte Oberflächen von nichtleitenden Formteilen, insbesondere metalli¬ sierte Oberflächen auf einem Kunststoffbereich des Formteils. Es ist erfindungsgemaß bevorzugt, auf dem mit der Halbglanz-Nickelschicht versehenen Oberflächenbereich des Formteils eine Hochglanz-Nickelschicht aufzubringen. Es kann zwischen der Halbglanz-Nickelschicht und der Hoch¬ glanz-Nickelschicht außerdem in an sich bekannter Weise eine Opferschicht aufgebracht werden. Schließlich ist es erfindungsgemäß bevorzugt, die Hochglanz-Nickelschicht dann noch mit einer Chromschicht elektrolytisch zu versehen. Dadurch werden Formteile mit einer korrosionsbeständigen hoch¬ glänzenden Chromoberfläche, wie sie in vielen Anwendungsgebieten der Technik eingesetzt werden, hergestellt.In a preferred embodiment of the invention, such electrically conductive surfaces and such molded parts as are defined above are used in the method for producing the coated molded parts. It is also preferred here to coat a surface made of copper or steel. The electrically conductive surface areas of the molded parts either consist of the metal of the molded part itself or are metallized surfaces of non-conductive molded parts, in particular metallized surfaces on a plastic area of the molded part. It is preferred according to the invention to apply a high-gloss nickel layer to the surface area of the molded part provided with the semi-gloss nickel layer. A sacrificial layer can also be applied between the semi-gloss nickel layer and the high-gloss nickel layer in a manner known per se. Finally, it is preferred according to the invention to then electrolytically provide the high-gloss nickel layer with a chrome layer. As a result, molded parts are produced with a corrosion-resistant, high-gloss chrome surface, as are used in many areas of application of technology.
Beispiele Bl bis B7 und Vergleichsbeispiele VI bis VllExamples B1 to B7 and Comparative Examples VI to VIII
Die in den folgenden Tabellen aufgeführten Mischungen und Vergleichs- mischungen wurden als Glanzmittel in schwach sauren galvanischen Bädern zur Abscheidung von Nickel eingesetzt.The mixtures and comparative mixtures listed in the following tables were used as brighteners in weakly acidic electroplating baths for the deposition of nickel.
Der dabei verwendete wäßrige Nickelelektrolyt hatte folgende Zusammen¬ setzung:The aqueous nickel electrolyte used had the following composition:
300,0 g/1 NiSO4 • 7H2O 60,0 g/1 NiCl2 • 6H2O 45,0 g/1 H3BO3 300.0 g / 1 NiSO 4 • 7H 2 O 60.0 g / 1 NiCl 2 • 6H 2 O 45.0 g / 1 H 3 BO 3
Die jeweiligen Konzentrationen an Glanzbildnern sind in den jeweiligen Tabellen angegeben. Der pH-Wert der Elektrolyten wurde mit Schwefelsäure oder mit Natronlauge auf 4,2 eingestellt.The respective concentrations of brighteners are given in the respective tables. The pH of the electrolytes was adjusted to 4.2 using sulfuric acid or sodium hydroxide solution.
Zur Beurteilung von Glanz und sonstigen Eigenschaften der abgeschiedenen Halbglanz-Nickelschichten wurden verzinkte Eisenbleche verwendet, die vor der Beschichtung mit halbglänzendem Nickel in einer salzsauren Lösung von Zink befreit und in einem alkalischen Elektrolyten nach den üblichen Metho¬ den kathodisch entfettet wurden. Die Nickelabscheidung erfolgte in einer 250 ml Hull-Zelle bei 55 °C und einer Stromstärke von 2 A während eines Zeitraums von 10 Minuten. Anschließend wurden die Bleche mit Wasser gespült und mit Preßluft getrocknet.Galvanized iron sheets were used to assess the gloss and other properties of the deposited semi-gloss nickel layers the coating with semi-gloss nickel in a hydrochloric acid solution was freed of zinc and degreased cathodically in an alkaline electrolyte according to the usual methods. The nickel deposition was carried out in a 250 ml Hull cell at 55 ° C. and a current of 2 A over a period of 10 minutes. The sheets were then rinsed with water and dried with compressed air.
Der Glanz wurde optisch begutachtet, wobei Noten von 1 bis 5 vergeben werden. Das Benotungsschema setzt sich wie folgt zusammen:The gloss was assessed optically, with grades from 1 to 5 being awarded. The grading scheme is composed as follows:
5 = hervorragender Glanz5 = excellent gloss
4 = guter Glanz4 = good gloss
3 = mäßiger Glanz3 = moderate gloss
2 = schlechter Glanz 1 = kein Glanz2 = poor gloss 1 = no gloss
Die Beurteilung der Einebnung wurde optisch vorgenommen. Dazu wird das Eisenblech am unteren Rand mittels einer Glasfaserbürste ca. 1 cm hoch mit Kratzern versehen. Ausgehend vom höchsten Stromdichtebereich (I-Bereich) wird die Prozentzahl eingeebneten Bereichs angegeben.The leveling was assessed optically. To do this, the iron sheet is scratched at the bottom using a glass fiber brush approx. 1 cm high. Starting from the highest current density range (I range), the percentage of the leveled range is given.
Die Schleier wurden optisch beurteilt und gemäß folgender Tabelle beschrie¬ ben.The veils were assessed optically and described according to the following table.
1 = kein Schleier1 = no veil
2 = sehr schwacher Schleier2 = very weak veil
3 = schwacher Schleier3 = faint veil
4 = mittelstarker Schleier4 = medium veil
5 = starker Schleier 6 = sehr starker Schleier Die Potentialwerte wurden gegen eine Kalomel-Elektrode bestimmt. Dazu wurde ein verzinktes Eisenblech, das vor der Beschichtung in einer salzsau¬ ren Lösung von Zink befreit und in einem alkalischen Elektrolyten nach den üblichen Methoden kathodisch entfettet wurde, 30 Minuten lang in das entsprechende Halbglanz-Nickelbad oder das Vergleichsbad eingetaucht und bei 3,2 A/dm2 und 55 °C Nickel abgeschieden. Das Blech wurde anschlie¬ ßend in eine wäßrige Lösung, die 50 g/1 KCl und 0,26 g/1 CuCl2 enthielt und mittels Essigsäure auf einen pH-Wert von 3,2 eingestellt war, getaucht und das Potential mittels eines hochohmigen Voltmeters gegen die Standard- elektrode gemessen.5 = strong veil 6 = very strong veil The potential values were determined against a calomel electrode. For this purpose, a galvanized sheet of iron, which was freed of zinc in a hydrochloric acid solution before coating and degreased cathodically in an alkaline electrolyte by the customary methods, was immersed in the corresponding semi-glossy nickel bath or the comparative bath for 30 minutes and at 3.2 A / dm 2 and 55 ° C nickel deposited. The sheet was then immersed in an aqueous solution which contained 50 g / 1 KCl and 0.26 g / 1 CuCl 2 and was adjusted to a pH of 3.2 by means of acetic acid, and the potential by means of a high-resistance voltmeter measured against the standard electrode.
Die Korrosionsschutzwerte wurden mittels eines Salzsprühtestes bestimmt. Dazu wurde ein verzinktes Eisenblech, das vor der Beschichtung in einer salzsauren Lösung von Zink befreit und in einem alkalischen Elektrolyten nach den üblichen Methoden kathodisch entfettet worden war, zuerst mittels der erfindungsgemäßen Bäder oder der Vergleichsbäder 10 Minuten bei 2 A/dm2 und 55 °C mit Halbglanznickel beschichtet. Anschließend wurde weitere 10 Minuten bei 2 A/dm2 und 55 °C in einem handelsüblichen Hochglanz-Nickelbad beschichtet. In einer zweiten Versuchsreihe wurde anschließend mittels eines handelsüblichen Chrombades mit einer mikrorissi¬ gen 0,3 μm dicken Chromschicht gearbeitet. Die so behandelten Bleche wurden in einen Salzsprühtester gemäß DIN 50021 eingelegt. Einmal pro Woche wurden die Bleche entnommen und der Rostgrad optisch gemäß DIN 53210 beurteilt. Die angegebenen Werte sind die Mittelwerte für jeweils zwei gleichbehandelte Eisenbleche.The corrosion protection values were determined using a salt spray test. For this purpose, a galvanized iron sheet, which had been freed of zinc in a hydrochloric acid solution prior to coating and cathodically degreased in an alkaline electrolyte by the usual methods, was first used for 10 minutes at 2 A / dm 2 and 55 ° using the baths according to the invention or the comparison baths C coated with semi-gloss nickel. It was then coated for a further 10 minutes at 2 A / dm 2 and 55 ° C. in a commercially available high-gloss nickel bath. In a second series of experiments, a commercially available chrome bath with a micro-cracked 0.3 μm thick chrome layer was then used. The sheets treated in this way were placed in a salt spray tester in accordance with DIN 50021. The sheets were removed once a week and the degree of rust was assessed optically in accordance with DIN 53210. The values given are the mean values for two iron plates treated in the same way.
Die folgenden Tabellen zeigen die Ergebnisse der durchgeführten Versuche. Es ist deutlich zu erkennen, daß die erfindungsgemäß hergestellten, halb¬ glänzenden Nickelschichten bessere Potentialwerte und Korrosionsschutzwerte von Duplex-Nickelschichten als der Stand der Technik aufweisen. Dies gilt bei für Halbglanz-Nickelschichten extrem guten Glanz- und Einebnungswer- ten.The following tables show the results of the tests carried out. It can be clearly seen that the semi-glossy nickel layers produced according to the invention have better potential values and corrosion protection values for duplex nickel layers than the prior art. this applies with extremely good gloss and leveling values for semi-gloss nickel layers.
TabeUe 1TabeUe 1
Zusammensetzung der Glanzmittelnuschungen in Beispiel Nr. (B) und Vergleichsbeispiel Nr. (V); Angaben in mg/1Composition of the gloss agent deposits in Example No. (B) and Comparative Example No. (V); Figures in mg / 1
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Tabelle 2Table 2
Beurteilung der MusterblecheAssessment of the sample sheets
Versuch Glanz 1 Einebnung SchleierTrial gloss 1 leveling veil
B 1 1 5% 5 ä_2 2 25% 4B 1 1 5% 5 ä_2 2 25% 4
B_2 3 50% 3B_2 3 50% 3
B 4 4 10% 2B 4 4 10% 2
B 5 4 50% 2B 5 4 50% 2
B 6 4 40% 2B 6 4 40% 2
B_7 4 20% 2B_7 4 20% 2
V 1 5 90% 1V 1 5 90% 1
V 2 5 85% 1V 2 5 85% 1
V 3 1 0% 6V 3 1 0% 6
V 4 2 5% 4V 4 2 5% 4
V 5 3 40% 3V 5 3 40% 3
V 6 4 20% 2V 6 4 20% 2
V 7 4 20% 2V 7 4 20% 2
Y_S 1 5% 6Y_S 1 5% 6
V 9 1 0% 5V 9 1 0% 5
V 10 5 25 % 2 V 10 5 25% 2
Tabelle 3Table 3
Ermittelte PotentialwerteDetermined potential values
Versuch Wert in mVTrial value in mV
B 1 + 30B 1 + 30
B 2 + 19B 2 + 19
!L2 - 20! L2 - 20
B 7 - 40B 7 - 40
V 1 - 128V 1 - 128
V 2 - 180V 2 - 180
V 5 - 48V 5 - 48
VJ7 - 66VJ7-66
Tabelle 4Table 4
Ermittelte Korrosionsschutzwerte in Rostgrad nach ZeitCorrosion protection values determined in degree of rust over time
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Tabelle 5
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Table 5
Ermittelte Korrosionsschutzwerte der verchromten Bleche in Rostgrad nach ZeitDetermined corrosion protection values of the chrome-plated sheets in degree of rust over time
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Figure imgf000023_0001

Claims

Patentansprüche claims
1. Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer Halbglanz-Nickelschicht auf einem Träger, bei dem der Träger in einem wäßrig-sauren, Glanz¬ mittel enthaltenden galvanischen Bad galvanisch mit Nickel beschichtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß ein wäßrig-saures galvanisches Bad eingesetzt wird, das a) als Glanzmittel eine oder mehrere cyclische N-Allyl- oder N-Viny- lammoniumverbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I) enthält1. A method for the electrodeposition of a semi-glossy nickel layer on a support, in which the support is electroplated with nickel in an aqueous acidic, glossy electroplating bath, characterized in that an aqueous acidic electroplating bath is used which a) contains one or more cyclic N-allyl or N-vinylammonium compounds according to the general formula (I) as a brightening agent
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in der das N+ Bestandteil eines Pyridin-, Chinolin- oder Isochinolin-in which the N + component of a pyridine, quinoline or isoquinoline
Ringsystems ist, welches zusätzlich ein oder zweiRing system is, which additionally one or two
Halogen- und/oder Cr bis C4-Alkylsubstituenten tragen kann,Can carry halogen and / or C r to C 4 alkyl substituents,
R, R", R" für Wasserstoff oder Cp bis C4-Alkyl stehen,R, R ", R" represent hydrogen or Cp to C 4 alkyl,
R' Wasserstoff oder Methyl bedeutet, m für eine Zahl von 0 bis 4 steht, n für eine Zahl von 1 bis 4 steht, undR 'is hydrogen or methyl, m is a number from 0 to 4, n is a number from 1 to 4, and
X ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, bezeichnet, und das b) im wesentlichen frei von unter den angewandten Elektrolysebedin¬ gungen reduzierbarem Schwefel ist.X denotes an n-valent inorganic or organic anion which promotes water solubility, and b) is essentially free of sulfur which can be reduced under the electrolysis conditions used.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Glanz¬ mittel eine N-Allylpyridinium-Verbindung enthält, bei der in der all¬ gemeinen Formel (I) R, R" und R'" Wasserstoff und m = 1 sind.2. The method according to claim 1, characterized in that the gloss agent contains an N-allylpyridinium compound, in which in the general formula (I) R, R "and R '" are hydrogen and m = 1.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß, bezogen auf die Summe aus i und ii als 100 Gew.-%, des Glanzmittel i) 2 bis 98 Gew.-% Verbindungen der allgemeinen Formel (I) und ii) 98 bis 2 Gew.-% mindestens einer acetylenisch ungesättigten Ver- bindung, die mindestens eine polare funktionelle Gruppe trägt, enthält.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that, based on the sum of i and ii as 100 wt .-%, of the gloss agent i) 2 to 98 wt .-% of compounds of general formula (I) and ii) 98 to 2% by weight of at least one acetylenically unsaturated compound which carries at least one polar functional group.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Glanz¬ mittel als acetylenisch ungesättigte Verbindung eine oder mehrere Ver- bindungen der allgemeinen Formel (II) enthält,4. The method according to claim 3, characterized in that the gloss agent as one acetylenically unsaturated compound contains one or more compounds of the general formula (II),
R™ - C ■ C - Rv (II)R ™ - C ■ C - R v (II)
in der die Reste R™ und Rv gleich oder verschieden sind und durch Hydroxyl, Amino, Cr bis C4-Alkylamino oder Di(Cj_- bis C4-alkyl)ami- no substituiertes Cr bis C4-Alkyl bezeichnen, wobei Hydroxylgruppen mit 1 bis 10 Mol eines C2- bis C4-Alkylenoxids oder einer Mischung solcher Alkylenoxide umgesetzt sein können und einer der Reste Rw oder Rv auch Wasserstoff oder Cr bis C4-Alkyi sein kann. in which the radicals R ™ and R v are the same or different and are substituted by hydroxyl, amino, C r to C 4 alkylamino or di (C j _ to C 4 alkyl) amino C r to C 4 alkyl denote where hydroxyl groups can be reacted with 1 to 10 mol of a C 2 - to C 4 -alkylene oxide or a mixture of such alkylene oxides and one of the radicals R w or R v can also be hydrogen or C r to C 4 -alkyi.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das wäßrig-saure galvanische Bad im wesentlichen frei von Grund¬ glanzbildnern ist.5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the aqueous-acidic galvanic bath is substantially free of Grund¬ shine.
6. Galvanisches Bad, geeignet für die Abscheidung einer Halbglanz-Nickel¬ schicht auf einer leitfähigen Oberfläche, gekennzeichnet durch einen Gehalt der folgenden Komponenten im angegebenen Mengenbereich in g/16. Galvanic bath, suitable for the deposition of a semi-gloss nickel layer on a conductive surface, characterized by a content of the following components in the specified quantity range in g / 1
Komponente von-bis bevorzugtComponent from-to preferred
(1) NiSO4 7 H2O 250-350 g/1 280-320 g/1(1) NiSO 4 7 H 2 O 250-350 g / 1 280-320 g / 1
(2) NiCl2 6 H2O 40-80 g/1 50-70 g/1(2) NiCl 2 6 H 2 O 40-80 g / 1 50-70 g / 1
(3) Borsäure 30-60 g/1 40-50 g/1(3) boric acid 30-60 g / 1 40-50 g / 1
(4) Verbindungen der allgemeinen Formel (I) 0,01-1,0 g/1 0,04-0,10 g/1(4) Compounds of the general formula (I) 0.01-1.0 g / 1 0.04-0.10 g / 1
(5) - (8) Verbindungen der allgemeinen Formel (ü)(5) - (8) compounds of the general formula (ü)
(5) Hex-l-in-2,5-diol 0-1 g/1 0,2-0,4 g/1(5) Hex-l-in-2,5-diol 0-1 g / 1 0.2-0.4 g / 1
(6) l-Diethylamino-prop-2-in 0-0,05 g/1 0,01-0,02 g/1(6) 1-Diethylamino-prop-2-in 0-0.05 g / 1 0.01-0.02 g / 1
(7) Prop-2-in-l-ol-ethoxylat 0-0,2 g/1 0,04-0,06 g/1 (8) But-2-in-l,4-diol-dipropoxylat 0-0,3 g/1 0,02-0,03 g/1(7) Prop-2-in-1-ol ethoxylate 0-0.2 g / 1 0.04-0.06 g / 1 (8) but-2-in-1, 4-diol-dipropoxylate 0- 0.3 g / 1 0.02-0.03 g / 1
(9) Formaldehyd oder Glyoxal 0,2-1 g/1 0,5-0,6 g/1(9) Formaldehyde or Glyoxal 0.2-1 g / 1 0.5-0.6 g / 1
(10) Chloralhydrat 0,5-2 g/1 1,0-1,4 g/1(10) Chloral hydrate 0.5-2 g / 1 1.0-1.4 g / 1
(11) Ameisensäure 0,1-0,5 g/1 0,15-0,25 g/1(11) Formic acid 0.1-0.5 g / 1 0.15-0.25 g / 1
(12) Natriumsalz eines Fettalkoholethersulfates 0,1-1 g/1 0,4-0,6 g/1(12) Sodium salt of a fatty alcohol ether sulfate 0.1-1 g / 1 0.4-0.6 g / 1
7. Wäßrig-saures galvanisches Bad, das aus den folgenden Komponenten im angegebenen Mengenbereich in g/1 besteht7. Aqueous, acidic galvanic bath consisting of the following components in the specified quantity range in g / 1
Komponente von-bis bevorzugtComponent from-to preferred
(1) NiSO4 7 H2O 250-350 g/1 280-320 g/1 (2) NiCl2 • 6 H2O 40-80 g/1 50-70 g/1(1) NiSO 4 7 H 2 O 250-350 g / 1 280-320 g / 1 (2) NiCl 2 • 6 H 2 O 40-80 g / 1 50-70 g / 1
(3) Borsäure 30-60 g/1 40-50 g/1(3) boric acid 30-60 g / 1 40-50 g / 1
(4) Verbindungen der allgemeinen(4) compounds of general
Formel (I) 0,01-1,0 g/1 0,04-0,10 g/1Formula (I) 0.01-1.0 g / 1 0.04-0.10 g / 1
(5) - (8) Verbindungen der allgemeinen Formel (II)(5) - (8) compounds of the general formula (II)
(5) Hex-l-in-2,5-diol 0-1 g/1 0,2-0,4 g/1(5) Hex-l-in-2,5-diol 0-1 g / 1 0.2-0.4 g / 1
(6) l-Diethylamino-prop-2-in 0-0,05 g/1 0,01-0,02 g/1(6) 1-Diethylamino-prop-2-in 0-0.05 g / 1 0.01-0.02 g / 1
(7) Prop-2-in-l-ol-ethoxylat 0-0,2 g/1 0,04-0,06 g/1(7) Prop-2-in-1-ol ethoxylate 0-0.2 g / 1 0.04-0.06 g / 1
(8) But-2-in- 1 ,4-diol-dipropαxylat 0-0,3 g/1 0,02-0,03 g/1(8) But-2-in 1,4-diol dipropαxylate 0-0.3 g / 1 0.02-0.03 g / 1
(9) Formaldehyd oder Glyoxal 0,2-1 g/1 0,5-0,6 g/1(9) Formaldehyde or Glyoxal 0.2-1 g / 1 0.5-0.6 g / 1
(10) Chloralhydrat 0,5-2 g/1 1,0-1,4 g/1(10) Chloral hydrate 0.5-2 g / 1 1.0-1.4 g / 1
(11) Ameisensäure 0,1-0,5 g/1 0,15-0,25 g/1(11) Formic acid 0.1-0.5 g / 1 0.15-0.25 g / 1
(12) Natriumsalz eines(12) sodium salt one
Fettalkoholethersulfates 0,1-1 g/1 0,4-0,6 g/1.Fatty alcohol ether sulfates 0.1-1 g / 1 0.4-0.6 g / 1.
8. Verfahren zur Herstellung von beschichteten Formteilen, bei dem ein gegebenenfalls gereinigter, elektrisch leitender Oberflächenbereich des Formteils galvanisch aus einem wäßrig-sauren galvanischen Bad mit einer Halbglanz-Nickelschicht versehen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbglanz-Nickelschicht elektrolytisch aus einem Bad gemäß8. A process for the production of coated molded parts, in which an optionally cleaned, electrically conductive surface area of the molded part is galvanically provided from an aqueous-acidic galvanic bath with a semi-glossy nickel layer, characterized in that the semi-glossy nickel layer is electrolytically produced from a bath
Anspruch 6 oder 7 aufgebracht wird, wobei bevorzugt als Oberflächen¬ bereich ein metallisch leitender Oberflächenbereich, insbesondere ein Oberflächenbereich aus Kupfer, Eisen, Messing, Stahl, Edelstahl, Gu߬ eisen, bevorzugt Kupfer oder Stahl, eingesetzt wird, und als Träger ein Träger aus Metall oder ein Träger aus Kunststoff eingesetzt wird, wobei sich auf dem Träger zumindest ein elektrisch leitfähiger Ober¬ flächenbereich befindet.Claim 6 or 7 is applied, wherein preferably a metallically conductive surface area, in particular a surface area made of copper, iron, brass, steel, stainless steel, cast iron, preferably copper or steel, is used as the surface area, and a carrier made of Metal or a carrier made of plastic is used, at least one electrically conductive surface area being located on the carrier.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß auf zumindest einem Teil des die Halbglanz-Nickelschicht tragenden Oberflächenbe¬ reichs des Trägers elektrolytisch eine Hochglanz-Nickelschicht aufge- bracht wird, wobei bevorzugt zwischen der Halbglanz-Nickelschicht und der Hochglanz-Nickelschicht eine Opferschicht aufgebracht wird.9. The method according to claim 8, characterized in that a high-gloss nickel layer is electrolytically applied to at least a part of the surface area of the support bearing the semi-gloss nickel layer. is brought, wherein a sacrificial layer is preferably applied between the semi-gloss nickel layer and the high-gloss nickel layer.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß auf zumindest einem Teil des die Hochglanz-Nickelschicht tragenden Oberflächenbe¬ reichs des Trägers elektrolytisch eine Chromschicht aufgebracht wird. 10. The method according to claim 9, characterized in that a chromium layer is applied electrolytically to at least part of the surface area of the support bearing the high-gloss nickel layer.
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