DE955480C

DE955480C - Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen fuer den Rakeltiefdruck

Info

Publication number: DE955480C
Application number: DE1952B0026564
Authority: DE
Original assignee: Dr Bekk und Kaulen Chemische Fabrik GmbH
Current assignee: Dr Bekk und Kaulen Chemische Fabrik GmbH
Priority date: 1952-10-18
Filing date: 1952-10-18
Publication date: 1957-01-03

Description

Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen für den Rakeltiefdruck Bei der photomechanischen Herstellung von Druckformen für den Rakeltiefdruck ist es bereits bekannt, Halbtonbild und Raster nacheinander auf eine unmittelbar auf die Metallunterlage aufgebrachte lichtempfindliche Kolloidschicht zu kopieren und in üblicher Weise weiter zu behandeln. Um nun zu erreichen, daß bei der Atzung die Rakelstege erhalten bleiben, muß natürlich dafür Sorge getragen werden, daß die lichtempfindliche Schicht an den unter dem Raster belichteten Stellen bis zu ihrem Grund durchgehärtet wird; denn andernfalls könnte es leicht geschehen, daß die Ätzlösung von der Seite her unter die beim Kopieren des Rasters gehärteten Stellen eindringt und so ein Durchätzen an diesen Stellen eintritt, d. h. eine mehr oder weniger weitgehende Zerstörung der für die Führung des Rakels nötigen.Stege.
Es hat sich aber gezeigt, daß das normale Durchhärten der lichtempfindlichen Schicht an den unter dem Raster belichteten Stellen zur sicheren Erzielung dieser Wirkung noch nicht ausreicht, daß vielmehr selbst dann, wenn die lichtempfindliche Schicht an den unter dem Raster belichteten Stellen bis zu ihrem Grund nur in der sonst üblichen Weise durchgehärtet wird, die Rakelstege bei der Atzung nicht immer genügend oder vollkommen zur Aus- Bildung gelangen. Vielmehr hat es sich als nötig erwiesen, beim Kopieren des Rasters wesentlich länger bzw. stärker zu belichten, als zur Durchhärtung erforderlich ist und als dies sonst zum Herstellen ätzbeständiger Kopien nötig und üblich ist, und es bedarf einer wesentlich längeren Kopierzeit für den Raster, um eine während des ganzen Aizprozesses standhaltende Härtung an den Stellen der Rakelstege zu erreichen. Während es sonst für die Herstellung ätzbeständiger Schichten, z. B. beim Kopieren eines .Rasternegativs auf einer Kupferplatte, genügt, 2o Sekunden lang zu belichten, ist hier bei Anwendung einer Kopierschicht von gleicher Lichtempfindlichkeit und gleicher Dicke und bei Anwendung einer - gleich starken Lichtquelle eine Kopierzeit von beispielsweise etwa 1o Minuten. erforderlich, um die gewünschte Wirkung mit Sicherheit zu erreichen. Die Notwendigkeit einer so langen Belichtungsdauer war natürlich in keiner Weise vorauszusehen.
Wie lang die Kopierzeit im einzelnen Falle sein muß, um das angestrebte Ziel zu erreichen, kann erforderlichenfalls durch einen Vorversuch leicht festgestellt werden.

Claims

PATENTANSPRUCH: Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen für den Rakeltiefdruck, wobei das Halbtonbild und dar Rastar in bekannter Weise nacheinander auf eine unmittelbar auf die Metallunterlage aufgebrachte lichtempfindliche Schicht an den unter dem Raster belichteten Stellen bis zu ihrem Grund durchgehärtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß beim Kopieren des Rasters erheblich stärker oder länger belichtet wird, als zur Durchhärtung der lichtempfindlichen Schicht nötig ist. In Betracht gezogene Druckschriften: E d e r, Handbuch der Photographie, Bd. IV, Teil 3, I922, S. 138 bis 142; deutsche Patentschriften Nr. 5o8 853, 536 328, 5o6603.