DE756649C - Elektrolyt zum anodischen AEtzen von Tiefdruckzylindern - Google Patents
Elektrolyt zum anodischen AEtzen von TiefdruckzylindernInfo
- Publication number
- DE756649C DE756649C DEL105701D DEL0105701D DE756649C DE 756649 C DE756649 C DE 756649C DE L105701 D DEL105701 D DE L105701D DE L0105701 D DEL0105701 D DE L0105701D DE 756649 C DE756649 C DE 756649C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrolyte
- copper
- chloride
- gravure cylinders
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/02—Etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
AUSGEGEBEN AM
6. AUGUST 1951
6. AUGUST 1951
REICHS PATE NTAMT
PATENTSCHRIFT
KLASSE 48a GRUPPE 1o4
L 105701 VI a/48 a
sind als Erfinder genannt worden
Langbein-Pfannhauser-Werke A. G.r Wiesbaden
Elektrolyt zum anodisdien Ätzen von Tiefdruckzylindern
Patentiert im Deutschen Reich vom 25. Oktober 1941 an Patenterteilung bekanntgemacht am 12. Oktober 1944
Die Erfindung bezieht sich auf Elektrolyte zum anodischen Ätzen von Tiefdruckzylindern
aus Kupfer oder kupferhaltigen Legierungen und bezweckt, die Schwierigkeiten, die bisher
der Ätzung von nicht reinem Kupfermaterial entgegenstanden, zu überwinden. Bei der Herstellung
von Tiefdruckzylindern werden dem Kupfer oft verschiedene Härtezusätze, in der Hauptsache Arsen, zugegeben, die bei den
bisher bekannten elektrolytischen Ätzverfahren so störend wirken, daß eine ordnungsgemäße
Ätzung nicht durchzuführen ist. Die Ursache dieser Störung besteht darin, daß das Arsen, das im Kupfer als Kupferarsenid
enthalten ist, auf dem als Anode geschalteten zu ätzenden Material als festhaftender Belag
zurückbleibt, der den ungehinderten Stromdurchgang zum Material unterbindet, Stromkonzentrationen
auf einzelne Stellen bewirkt und die Lackdeckschicht zerstört.
Bisher wurden als Ätzelektrolyte meist Alkalichloridlösungen mit mehr oder minder
großem Gehalt an freier Säure verwendet. Wenn man in einem solchen Elektrolyten das
anodische Verhalten eines arsenhaltigen Kupfers durch Aufnahme einer Sfrornspannungskurve
verfolgt, so zeigt sich, daß diese bei einer bestimmten Stromdichte einen
Knick aufweist, oberhalb dessen die Spannung stark ansteigt, während die Stromstärke zurückgeht.
Gleichzeitig sieht man, daß sich unterhalb des Knickpunktes der störende Belag
ausbildet, während dies oberhalb desselben nicht der Fall ist. Es würde nun naheliegen,
mit so hoher Stromdichte zu arbeiten, daß der kritische Punkt von vornherein überwunden
wird, was aber nicht ohne weiteres
ίο durchführbar ist, z. B. beim Ätzen von Druckzylindern,
welche nur zu einem Drittel eintauchend sich in dem Elektrolyten drehen, so daß der größte Teil des Zylinders ständig
außerhalb des Bades liegt. Hierdurch sinkt natürlich die Stromdichte an den aus dem
Bade heraus- und hereinlaufenden Stellen bedeutend, weil dort der dünne Flüssigkeitsfilm
zu großen Widerstand besitzt.
Es hat sich nun gezeigt, daß bei Anwendung von schwach salzsauren Elektrolyten,
die Alkalichlorid, Ammoniumchlorid und Kupferchlorür enthalten, erstens die Leitfähigkeit
stark heraufgesetzt und zweitens der obenerwähnte Knickpunkt in der Strom-Spannungskurve
so weit herabgesetzt wird, daß eine einwandfreie Ätzung auch von arsenhaltigen
Tiefdruckzylindern möglich ist. Besonders gute Ergebnisse konnten bei Anwendung eines Elektrolyten der vorgenannten
Zusammensetzung mit einem pH-Wert von 3,5 bis 3 erzielt werden.
Das Kupferchlorür liegt in dem den Gegenstand der Erfindung bildenden Elektrolyten
in komplexer Form vor. Gegenüber der bekannten Verwendung von gemischten Cuprisalzlösungen
bietet die Erfindung den Vorteil, daß die Löslichkeit der Cuprokomplexsalze
bei Anwesenheit von wenig Salzsäure wesentlich größer ist als die der gemischten.
Cuprisalzlösungen. Die Löslichkeit von Cuprichlorid nimmt nämlich bei Zugabe von wenig
Salzsäure zunächst stark ab. Auch ist der Cuprisalzkomplex weitgehend in die Einzelsalze
gespalten, so daß beim Arbeiten mit höheren Stromdichten leicht Übersättigungserscheinungen an der Anode eintreten und
schwerlösliche Kupfersalze ausfallen. Eine stärkere Ansäuerung könnte diese Nachteile
zwar beheben, jedoch tritt dann der Nachteil einer starken Unterätzung der Haschuren
auf. Die vorliegende Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß die erwünschten Eigenschaften
eines Ätzelektrolyten bei sehr niedrigem Säuregehalt am sichersten durch Cuproalkalichlorid-Komplexsalze erreicht werden
können.
Ein Bad, mit dem gute Erfolge erzielt werden, hat z. B. folgende Zusammensetzung:
200 g Chlorkalium, 100 g Ammonchlorid, 30 g Kupferchlorür und 1 g Salzsäure im Liter
Badflüssigkeit.
Ein weiterer Vorteil eines solchen Elektrolyten ist, daß keine chemische Einwirkung
auf das zu ätzende Material ausgeübt wird, sowie die Tatsache, daß infolge des hohen Gehaltes
an komplexen Schwermetallsalzen kein Wasserstoff an der Kathode abgeschieden wird, wodurch die Bildung lästiger Badnebel
vermieden wird.
Claims (7)
1. Alkali- und Kupfersalze enthalten der Elektrolyt zum anodischen Ätzen von
Tiefdruckzylindern aus Kupfer oder kupferhaltigen Legierungen, dadurch gekennzeichnet,
daß der schwach salzsaure Elektrolyt Alkalichlorid, Ammoniumchlorid
und Kupferchlorür enthält.
2. Elektrolyt nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen pH-Wert von 3,5
bis 3.
3. Elektrolyt nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Gehalt von 200 g
KCl, loog NH4Cl, 30g CuCl und ig
H Cl im Liter Badflüssigkeit.
Zur Abgrenzung des Erfindungsgegenstands vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren
folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden:
USA.-Patentschriften Nr. 1 291 310,
ι 376 367.
ι 376 367.
969
7.Sl
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEL105701D DE756649C (de) | 1939-11-25 | 1941-10-25 | Elektrolyt zum anodischen AEtzen von Tiefdruckzylindern |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE231075X | 1939-11-25 | ||
DE241041X | 1941-10-24 | ||
DEL105701D DE756649C (de) | 1939-11-25 | 1941-10-25 | Elektrolyt zum anodischen AEtzen von Tiefdruckzylindern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE756649C true DE756649C (de) | 1951-08-06 |
Family
ID=27185108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEL105701D Expired DE756649C (de) | 1939-11-25 | 1941-10-25 | Elektrolyt zum anodischen AEtzen von Tiefdruckzylindern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE756649C (de) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1291310A (en) * | 1917-04-04 | 1919-01-14 | Jackson S Weeks | Composition for electrolytes for electrical etching. |
US1376367A (en) * | 1918-05-16 | 1921-04-26 | Gotthold E Wertheimer | Solution or bath for use in electrically preparing stencil-plates, die-plates, and the like |
-
1941
- 1941-10-25 DE DEL105701D patent/DE756649C/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1291310A (en) * | 1917-04-04 | 1919-01-14 | Jackson S Weeks | Composition for electrolytes for electrical etching. |
US1376367A (en) * | 1918-05-16 | 1921-04-26 | Gotthold E Wertheimer | Solution or bath for use in electrically preparing stencil-plates, die-plates, and the like |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE832982C (de) | Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer | |
DE661266C (de) | Verfahren zur Erhoehung des Rueckstrahlungsvermoegens der Oberflaechen von Aluminiumund Aluminiumlegierungen | |
DE616812C (de) | ||
DE2943049C2 (de) | ||
DE1250712B (de) | Galvanisches Nickelsulfamatbad und Verfahren zum Abscheiden von Nickeluberzugen | |
DE756649C (de) | Elektrolyt zum anodischen AEtzen von Tiefdruckzylindern | |
DE882168C (de) | Bad und Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Zinkueberzuegen | |
DE898383C (de) | Zinkcyanidbad und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung glaenzender Zinkueberzuege | |
DE1771734A1 (de) | Verfahren zur Elektroplattierung mit Rhenium und ein Bad zur Ausfuehrung dieses Verfahrens | |
DE813914C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Niederschlagung von Rhodium | |
DE2247840B2 (de) | Galvanisches chrombad | |
DE608757C (de) | Verfahren zur Erzeugung elektrolytischer Chromueberzuege | |
DE690603C (de) | Verfahren zur Erzeugung von Schutzschichten auf Leichtmetallen und Leichtmetallegierungen | |
DE2147257A1 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung halbglanzender Nickeluber züge | |
DE1135727B (de) | Anoden zum kathodischen Schutz | |
DE615909C (de) | Bad fuer die galvanische Kobaltabscheidung | |
DE1174127B (de) | Saures galvanisches Zinn-Nickel-Bad | |
DE748266C (de) | Verfahren zur Erzeugung galvanischer Niederschlaege von Goldlegierungen | |
DE692124C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Oxydation von Eisen und Stahl | |
DE815882C (de) | Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen auf Metallflaechen durch Elektrolyse | |
DE519268C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Gold oder Silber | |
DE654270C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von UEberzuegen aus Wolframlegierungen | |
DE823791C (de) | Verfahren zur Entfernung von Kobalt aus Zinkelektrolyten | |
DE692122C (de) | Rhodiumbad | |
DE743331C (de) | Elektrolytisches AEtzen von Tiefdruckzylindern und -platten |