DE745107C - Verfahren zum Herstellen latenter Rasteraufzeichnungen - Google Patents
Verfahren zum Herstellen latenter RasteraufzeichnungenInfo
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- DE745107C DE745107C DEK157770D DEK0157770D DE745107C DE 745107 C DE745107 C DE 745107C DE K157770 D DEK157770 D DE K157770D DE K0157770 D DEK0157770 D DE K0157770D DE 745107 C DE745107 C DE 745107C
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F5/00—Screening processes; Screens therefor
- G03F5/02—Screening processes; Screens therefor by projection methods
- G03F5/04—Screening processes; Screens therefor by projection methods changing the screen effect
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Rasteraufzeichnungen auf
lichtempfindlichen Schichten, und zwar insbesondere von hochwertigen Halbtonrastern,
welche im Kontakt verwendet werden können und welche eine abgestufte Dichteverteilung
über jeden Punkt aufweisen.
. Bei bestimmten Halbtonverfahren wird der Film oder die Platte zunächst unter einem
. Bei bestimmten Halbtonverfahren wird der Film oder die Platte zunächst unter einem
ίο Halbtonraster, vorzugsweise von der Rückseite
aus, belichtet, und später wird 'dann der eigentliche Aufnahmegegenstand aufgezeichnet.
Nach der Entwicklung ergibt sich ein von einem Halbtonraster überlagertes Bild.
Es ist bekannt, latente Rasteraufzeichnungen für das obengenannte und andere Verfahren
herzustellen.
Während aber bei den bekannten Rasteraufzeichnungen die Aufbelichtung· des latenten
Rasterbildes in unterbrochener Weise vor- ao genommen wird, erfolgt sie nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren ununterbrochen.
Das neue Verfahren besteht darin, daß auf eine bewegte, lichtempfindliche Schicht
von einem davor feststehenden Raster mittels entgegengesetzt bewegten Lichtschleusen ein
latentes Rasterbild ununterbrochen aufbelichtet wird, das auf dem Film mit dessen Geschwindigkeit
und Bewegungsrichtung wandert, und daß das Belichtungsfeld auf dem Film durch die Öffnung einer Maske so· begrenzt
ist, daß das Rasterbild in diesem Feld überall unverändert bleibt und daß durch eine
Öffnung,- in einer Maske die Randstrahlen
der Lichtschleusen., welche die Verzerrung des
Rasterbildes herbeiführen würden, abgeblendet werden, wobei die Abmessungen der Verfahrenseinriclüung
aut an sich bekannte Weise durch die geometrischen Verhältnisse bestimmt sind.
Der Fortschritt, welcher durch das erfindungsgemäläe
Verfahren ^gegenüber der bekannten Herstellung von Rastern erzielt wird,
ίο besteht in der Vereinfachung der Herstellung,
die eine wirtschaftliche Massenerzeugung der Raster zur Folge hat.
Auf der Zeichnung sind mehrere Ausführungsformen des Erfindungsgegenstandes
dargestellt, und zwar zeigt
Abb. ι die schauweise Gesamtanordnung
einer Ausführungsform,
Abb. 2 einen Längsschnitt, Abb. 2 a und 2 b eine bzw. zwei Reihen von Licht schleusen,
Abb. 2 einen Längsschnitt, Abb. 2 a und 2 b eine bzw. zwei Reihen von Licht schleusen,
Abb. 3 eine Vorrichtung zur Darstellung einer kontinuierlichen Lichtschleusenreihe,
Abb. 4 und 5 zwei weitere Aiisführungsformeii
kontinuierlicher Lichtschleusen und Abb. 6 verschiedene Möglichkeiten der Verteilung
der Dichten in den Halbtonpunkten. Gemäß Abb. 1 und 2 wird ein photographischer
Film 10 durch ein Raster 12 belichtet, welches sich im Abstand Z)1 befindet.
Die Beleuchtung erfolgt durch die als Lichtschleusen wirksamen Öffnungen 20 in einem
Band 14, hinter welchem die Mattscheibe 15
liegt, welche ihr Licht von einer Lichtquelle 16 erhält. Die optische Achse des Systems
ist durch die strichpunktierte Linie 18 angedeutet. Es ist zweckmäßiger, den Film 10
von der Rückseite aus zu belichten, um z. B. die Rasterau'fzeiclmung durch den Schichtträger
besser zu schützen, oder weil später ein Bild auf die lichtempfindliche Schicht von der Emulsionsseite her aufgezeichnet
wird.
Erfindungsgemäß wird dieser Film 10 in seiner eigenen Ebene mittels der Walzen 11
mit einer Geschwindigkeit Va fortbewegt. Damit nun die Schatten des Rasters 12 immer
auf die gleiche Stelle des Films 10 fallen, werden die Lichtschleusen 20, die sich im
Abstand D2 von dem Raster 12 befinden, mit
der zu Va entgegengesetzten Geschwindigkeit Vh fortbewegt, wobei Vo = -fr-· Vn ist.
Diese Geschwindigkeitsverhältnisse können
durch geeignete Kupplung des Antriebes des Filmbandes 10 und des Maskenbandes 14 etwa
mit Hilfe des Kegelradgetriebes 21 bis 29 verwirklicht
werden.
Um scharfe Rasterbilder zu erhalten, wird der Belichtungsbereich auf dem Film 10 begrenzt.
Zu diesem Zwecke befinden sich vor dem Film und der Lichtschleuse Masken 17
und 13, und zwar muß die öffnung 19 in der Maske 13 größer als eine einzige Lichtschleuse
20 sein. Andernfalls würde die Punktbildung unvollkommen sein. Jedoch soll im allgemeinen die Seite der Maskenöünung
19 nicht größer sein als der doppelte Abstand zwischen zwei aufeinanderfolgenden
Lichtschleusen 20, da andernfalls etwas von dem Licht, welches durch das Raster 12 auf den Film 10 in einem derart
großen Winkel einfällt, daß Differenzen durch die Beugungswirkung des Rasters 12 entstehen
würden.
Wie aus Abb. 2 ersichtlich ist, sollte der Abstand CE zwischen aufeinanderfolgenden
Lichtschleusenmittelpunkten, geteilt durch den Abstand AC (der Lichtschleuse vom Film 10),
gleich der Rasterteilung BF des Rasters 12 durch den Rasterabstand AB sein. Bei
Einhaltung dieser Bedingung fallen die Schatten, welche von jeder Lichtschleuse gebildet
sind, untereinander zusammen. Es braucht natürlich nicht eine einzige Serie von Lichtschleusen verwendet zu werden., wie
Abb. 2a zeigt, vielmehr können auch zwei (Abb. 2b) oder mehr nebeneinanderliegcnde
Gruppen vorgesehen sein, wenn die gleichen geometrischen Bedingungen in der Horizontalwie
in der Vertikalebene eingehalten sind. Wenn ein Strichraster mit 24 Strichen auf
ι cm verwendet wird, so beträgt der Abstand BF V24 cm· Βεί einer bevorzugten Ausfiihrungsform
der Erfindung soll das Raster 12 sich in einem Abstand Z)1 von dem Film befinden,
welcher zwischen dem 20- und 200-fachen der Rasterteilung BF beträgt, und die
Lichtschleusen 20 sollen sich in einem Abstand Z)2 von dem Raster 12 befinden, welcher
zwischen dem 10- und 5oofachen von Z)1 liegt. Wird also beispielsweise ein 24er-Strichraster
verwendet, so ergeben sich gute Resultate mit den Maßen D1 — 1,9 cm und
Z)2 = 81,3 cm. Die Verhältnisse sind in der
Zeichnung natürlich übertrieben dargestellt. In der Praxis kann eine. Reproduktionskamera
mit oder ohne Objektiv verwendet werden. In diesem Falle ist die Maske 13 die Kamerablende,
und der Kameraausuzg ist D1-J-D2.
Bei der dargestellten Anordnung ist die Abmessung der Öffnung 19 genau gleich dem
Intervall zwischen zwei aufeinanderfolgenden Lichtschleusen. Dieser Abstand braucht je-,
doch nicht genau eingehalten werden. Der Abstand von aufeinanderfolgenden Licht- 11S
schleusen CE muß gleich—~—---· BF sein.
In dem obigen Zahlenbeispiel würde also CE = 1,8 cm werden.
Die obige Beschreibung wurde auf den Normalfall beschränkt, wo keine Verzerrung
der Rasterung erzielt wird. Soll jedoch aus
irgendeinem Grunde (Entzerrung verzerrter Bilder) eine bestimmte Verzerrung erhalten
werden, so können verschiedene Faktoren geändert werden, beispielsweise kann der Film
io in einer Ebene liegen, welche nicht genau dem Raster 12 parallel ist;-desgleichen können
auch die .Lichtschleusen 20 in einer zwischen Raster 12 nicht parallel liegenden
Ebene beweglich sein. Auch können die Relativgeschwindigkeiten der Lichtschleuaen
12 und des Films 10 etwas von ihrem theoretischen Wert abweichen. ' Auch kann das
Intervall zwischen aufeinanderfolgenden Lichtschleusen
nicht mit dem erforderlichen Wert übereinstimmen. Schließlich kann auch die Seite jeder Lichtschleuse nicht genau gleich
dem projizieren Abstand der Rasterteile 12 sein. Bei dieser letzteren Variation kann die
Abweichung auch nur in einer Richtung erfolgen. Werden quadratische Lichtschleusen
und Gitter verwendet, so wird die Verzerrung bei Verwendung einer runden Öffnung 19 vernachlässigbar
klein, vorausgesetzt, daß die Öffnung 19 auch genügenden Durchmesser besitzt.
Wird eine wiederkehrende Verzerrung gewünscht, so können auch die aufeinanderfolgenden
Lichtschleusen unterschiedliche Größen aufweisen. Schließlich können auch Filme und Lichtschleusen in Richtungen bewegt
werden, welche sich nicht genau gegenüberliegen.
Indessen werden brauchbare Ergebnisse auch dann erzielt, wenn die Bedingungen
nur annäherungsweise erfüllt werden, wenn nicht eine bestimmte Verzerrung erzielt werden
soll. Der Film und die Lichtschleusen müssen also wenigstens näherungsweise in parallelen Ebenen und näherungsweise in entgegengesetzter
Richtung und angenähert in die gleiche Winkelgeschwindigkeit, bezogen
auf das Gitter 12, bewegt werden. Im übrigen müssen -die übrigen Verhältnisse ebenfalls
näherungsweise den theoretischen Vierhältnissen gleichkommen.
Gemäß Abb. 3, 4 und 5 bestehen verschiedene Möglichkeiten zur Erzeugung kontinuierlich
bewegter Lichtschleusen. Gemäß Abb. 3 befinden sich die aufeinanderfolgenden Öffnungen
in der Wandung eines Zylinders 30, welcher die Lich.tschleuse 16 und die Mattscheibe
15 umschließt, während sich die Öffnungen bei Abb. 4 am Umfang einer Scheibe
31 befinden.
. Gemäß Abb. 5 sind die beweglichen Lichtschleusen .durch ein optisches System ersetzt,
welches aus einem drehbaren Achteckprisma
32 besteht, bei welchem die'Flächen 33 dunkel
und die dazwischenliegenden Flächen 34 diffus sind.. Wenn dieser Glasblock 32 vor
einer beleuchteten Mattscheibe 15 rotiert, so tritt das Licht durch die durchleuchtenden
Flächen 34 auf der Rückseite ein, während die vorn liegenden durchleuchtenden Flächen
34 als Lichtschleusen in der Öffnung 19 wirksam sind. Wie in den vorhergehenden Ausführungsbeispielen
ist auch dieser Prismenblock mit der Film schalteinrichtung in geeigneter Weise gekuppelt.
Die Dichteverteilung bei jedem Halbtonpunkt auf den Film hängt von der Form der
Öffnungen in dem Gitter 12 und der Gestalt der Lichtschleusen 20 ab. Abb. 6A bis 6F
erläutern die verschiedenen Lichtverteilungen, und zwar ohne Berücksichtigung der Brechung.
Die Höhe dieser Diagramme entspricht der Dichte.
Die Verteilung des Lichtes unmittelbar hinter dem Gitter 12 zeigt Abb. 6 F. Für
Kontaktraster ist eine derartige Verteilung bekanntlich nicht geeignet. Sind die Lichtschleusen
20 klein im Vergleich mit den dunklen Stellen des Gitters 12, so ergibt sich eine
Lichtverteilung etwa gemäß Abb. 6D. Bei zu großen Abmessungen der Lichtschleusen tritt
eine Überlappung der Breite gemäß Abb. 6E ein. Sind dagegen die relativen Abmessungen
der Lichtschleusen und der Gitteröffnungen richtig gewählt, so ergibt sich eine Punktbildung
etwa gemäß Abb. 6A.
Bei Verwendung von kreisförmigen Lichtschleusen in Verbindung mit quadratischen
Öffnungen ergibt sich eine Punktbildung etwa gemäß Abb. 6B, und bei Verwendung
eines Gitters mit runden Öffnungen in Verbindung mit quadratischen Lichtschleusen
wird die Verteilung etwa gemäß Abb. GC ausfallen. Es ist also offensichtlich, daß die
Dichteverteilung in großem Umfange beeinflußt werden kann, um besonders den Eigenschaften
des verwendeten photographischen Materials und der Lage der Schwelle der Gradationskurve gerecht zu werden.
Claims (4)
- Patentansprüche:i. Verfahren zum Herstellen latenter Rasteraufzeichnungen auf lichtempfindlichen Schichten, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine bewegte lichtempfindliche Schicht =( 10) von einem davor feststehenden Raster (12) mittels entgegengesetzt bewegten Lichtschleusen (20,34) ein latentes Rasterbild ununterbrochen aufbelichtet wird, das auf dem Film mit dessen Geschwindigkeit und Bewegungsrichtung wandert, und daß das Belichtungsfeld auf dem Film (10) durch die Öffnung einer Maske (17) so begrenzt ist, daß das Rasterbild in diesem Feld überall unverändert bleibt und daß durch eine Öffnung in einer Maske (13) die Randstrahlen der Lichtschleusen, .welche die Verzerrungdes Rasterbildes herbeiführen würden, abgeblendet werden, wobei die Abmessungen der Verfahrenseinrichtung auf an sich bekannte Weise durch die geometrischen Verhältnisse bestimmt sind.
- 2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch I3 dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtschleusen aus Öffnungen (20) in einem endlosen Band (14), in einer Trommel (30) oder in einer Scheibe (31) oder aus lichtdurchlässigen Stellen (34) in einer Glastrommel bestehen.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Fördereinrichtung (11) des lichtempfindlichen Schichtträgers (10) zwangsläufig· mittels ineinandergreifender Elemente (21 bis 29) mit der Bewegungseinrichtung" der Lichtschleusen (20) so verbunden ist, daß eine zur Filmbewegung entgegengesetzte, den geometrischen Verhältnissen angepaßte Bewegung der Schleusen (20) entsteht.
- 4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Reproduktionskamera mit oder ohne Objektiv, bei welcher die beweglichen Lichtschleusen (20) als Kamerablende dienen und wobei der Kameraauszug gleich der Entfernung der Lichtschleusen (20) von der lichtempfindlichen Schicht ist, zur Erzeugung der latenten Rasterbilder dient.Zur Abgrenzung des Anmeldungsgegen-Standes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden:Eder, Handbuch der Photographic, 2. Bd.,4. Teil, 1928, S. 29 bis 35;
Eder, Handbuch der Photographic, 4. Bd.,3. Teil, 1922, S. 89, Zeile 6 bis 9;
Krüger, Illustrationsverfahren, 1929, S. 237, Abs. 2.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
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US276847A US2211345A (en) | 1939-06-01 | 1939-06-01 | Halftone screen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE745107C true DE745107C (de) | 1944-02-26 |
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ID=23058309
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