DE717413C - Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von SiebdruckschablonenInfo
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Classifications
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Description
- Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen Zum photomechanischen Herstellen vgn Siebüruck.schablonen wird bekanntlich .eine Schicht aus Gelatine, Leim, Gummiarabicum usw. in Mischung mit Bichr omaten auf aufgespannte SchabIonengaze (Seiden- oder Bronzedrahtgewebe) aufgebracht und nach dem Trocknen durch ein Negativ hindurch belichtet. Die belichteten Stellen werden unlöslich, so daß beim nachfolgenden Auswaschen nur die abgedeckten Stellen der Zeichnung aus der Schicht herausgelöst werden und ein Positiv der Zeichnung als Schablone zurückbleibt. Die Schicht der so erhaltenen Schablone ist für den Textildruck noch nicht verwendbar, weil sie gegen mechanische Beanspruchung und gegen die Einwirkung von Chemikalien, besonders Alkalien, in den Druckfarben nicht beständig ist. Um die Widerstandsfähigkeit der musterbildenden Schicht gegen mechanische und chemische Beanspruchung zu erhöhen, wird sie üblicherweise mit einem widerstandsfähigen Lack überzogen. Dieses Verstärken der Schablonen ist nicht nur zeitraubend, sondern bedingt auch eine gewissse Begrenzung der Möglichkeit, feine Zeichnungen zu drucken, weil trotz sorgfältiger Arbeit beim Verstärken sehr dünne Linien und feine Punkte der Musterzeichnung durch den Lack zugedeckt werden.
- Es wurde gefunden, daß Filmschablonen von größter Feinheit in der Zeichnung und hervorragender Widerstandsfähigkeit erhalten werden, wenn man .als Schichtmaterial Poly-,znyl.alkobol oder seine noch wasserlöslichen Derivate verwendet und nach der Mustererzeugung auf photomechanischem Wege die Schicht noch -zusätzlich durch Einwirkung von Aldehyden härtet. Man geht beispielsweise so vor, daß man auf ein Gazegewebe Polyvinylalkohol zusammen mit Chromaten oder
liclironiatcn in v;äßriger Lösung aufbringt, durch ein -Negativ hindurch belichtet, dann die l##;licli gc#hliebenen Teile der Schicht aus- wäscht umd s@-,liließlicli das auf der Schablone cr zeugte Musrer durch Einwirkung voll Foy::l- <llde@yd unter Acetalisierunghärtet. Im Ge@e@i- satz zu den bisher veru-endeten ScIlichttnate- tialien ist die erhaltene Schblone bereits so @viderstandsfä hig, daß eine nachfolgende Lak- hie rung unterbleiben kann. Abgesehen von (-h-i- ;,: eseatliclien Ersparnis all Zeit und Arbeit iiifol;e des @t`egfalls der Lackierung wird die musterbildende Schicht in der gleichen Fein- heit der Zeichnung erhalten, wie sie das Ori- ginal aufweist, weil ein Verlaufen bzu. Ab- decken der feinsten Teile durch Lack nicht eintreten kann. Außerdem sind die so erhal- tenen Schablonen außerordentlich bestfindig g°gen alkalische Drut kfarben und me!-ha.- lasche Beanspruchung. B-i dem bisher üblichen `=F'1'ft?.hl'r'tl. h,-iliilit es 11:1tiilg vor, daß sich die 1-ackschicln von der Gelatineschicht ablsist. Bei d##-rii vorliegenden Verfahren erhält nian eine ei.nlieitliche Schicht, bei welcher der allge- zeite übelstand nicht auftreten kann. All Stelle von Polyvill@l<illcoliol kölinellauch dessen @i'asserlösliclie, noch alkoholische Hydrozylgruppen enthaltenden Derivate ver- Wendet werden, beispielsweise teill=eise ver- esterter oder teilweise acetalisierter Polyvinyl- :ilkohol, ferner Verseifungsprodukte von Misch- organischer Vinylester mit ande- reit po,ly merisierbaren Verbindungen. Die Acetali:sierung der Schicht nach dem belichten und -zusv:aschen erfolgt durch Ein- von Aldehyden, insliesotidere F-rrni- addehyd oder Acetaldeliyd. Man kann aber auch höhere Aldehyde oder Substitutionspr-i- dukte von Aldehyden, z. B. Dim,ethylolacetald,e- hyd oder Aldehyde abgebende Substanzen, wie Hesanl@@th3-lentctramin, oder auch Kaolie, @'yclr@liesanon, vern-enden. Die Acetalisiertut, wird z%%-eclzmäßig bei Gegenv:art kleiner en ;morganischer oder organischer Sätn'eit, saitrrr oder Säure abspaltender Verl)indungen orgenommeit. plan kann die Aldehyde in r°;äßriger Lösung oder im dampfförmigen Zu- stand bei gel.-öhnlicher oder erh@-@litcr Tempe- ratur zur Ein<<: irkung bringen. Auf eine in der üblichen Wci-#e auf I@ahi-arn aufgespannte Seidengaze wird eine Mischung Volt ; Teilen einer ioofoigen wäßrig:-n L ösilng Von Polyvinylall#:ohol und i Teil einer "i-en Lösung von Ammoiiiuml?ichromat in dünnci- Schicht aufgebracht, im Dunkeln gü- tro(-lznet, durch ein aufgelegtes Nega.tir hin- durch belichtet, mit Heißem Wasser ausgc- @#.asc@rn und "etrocknet. Hierauf v'ird dir Schicht aiuf hc@iden Seiten mit einer 1_@@sitt: i-on 2 Teilen Oxalsäure in c9$ Teilen einer ..lo'i-oigen wäßrigen Lösung von @ormalde113'cl bestrichen und nach dem Trocknen i o Minuten auf iao- erhitzt oder io Minuten in einem Kessel bei einem Druck von 1,5 Aun. _ge- dämpft. Dann u-ird mit einer stark verdünnten Sodalösung neutralisiert, gewaschen und ge- trocknet.
Claims (1)
-
PA-r>>N-r_lxSPRUCl1: Verfahren zum Herstü 11en < < @n Siel)- dr uckschabloi:ell, dadurch gehennzei,,htict, clrtß man als Schichtmaterial Polyvin3-1- alkoliol oder seine noch n=asserl;@sliclie ti Derivate versendet und die in all sich 1_r;.- kannter Weise auf pliotomeclianisclietii Wege erhaltenen Schablonen noch zu- sätzlich durch Eimt=irlzung von @ldrli3#dcii härtet.
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