DE710006C - Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen ZelleInfo
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J40/00—Photoelectric discharge tubes not involving the ionisation of a gas
- H01J40/02—Details
- H01J40/04—Electrodes
- H01J40/06—Photo-emissive cathodes
Description
- Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle Die bekannten photoelektrischen Zellen mit einer Kathode aus einem photoelektrischen Stoff, der bei Bestrahlung Elektronen emittiert, besitzen im allgemeinen nur eine geringe Empfindlichkeit.
- Zweck der Erfindung ist, ein Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle anzugeben, die eine gesteigerte Elektronenemission und :eine vergrößerte Empfindlichkeit besitzt. Zu diesem Zweck wird gemäß der Erfindung in der Zelle, nachdem diese entlüftet worden ist, durch Niederschlagen eines Oxyds oder eines Halogenids aus der Dampfphase eine adsorbierende Schicht gebildet, auf welcher der photoelektrische Stoff angebracht wird. Die adsorbierende Schicht wird auf einer Unterlage angebracht, die z. B. aus Glas oder aus einem anderen Stoff bestehen kann. Die auf diese Weise aus der chemischen Verbindung gebildete Schicht hat eine zum Adsorbieren des photoelektrischen Stoffes verfügbare sehr große Oberfläche, so daß von ihr .eine große Menge des photoelektrischen Stoffes adsorbiert wird. Dadurch wird eine große Empfindlichkeit der Zelle und eine gut zusammenhängende Schicht des photoelektrischen Stoffes erhalten. Außerdem weist die adsorbierende Schicht auch einen- sehr regelmäßigen Aufbau auf, was dazu beiträgt, eine Zelle mit großer Konstanz herzustellen.
- In der Zeichnung ist eine gemäß der Erfindung hergestellte photoelektrische Zelle schematisch dargestellt.
- Fig. i zeigt eine photoelektrische Zelle nach der Erfindung im Schnitt und Fig. z einen Einzelteil dieser Zelle.
- Die photoelektrische Zelle, die eine Gasfüllung, z. B. Neon enthalten oder zu :einem möglichst hohen Grad entlüftet sein kann, hat eine Wandung i, die z. B. aus Glas besteht, auf der sich .ein Cäsiumhäutchen z befindet. Dieser Stoff ist jedoch nicht unmittelbar auf der Zellenwand aufgebracht, sondern auf einer Zwischenlage 3, die aus Calciumfluorid besteht. Die so gebildete photoelektrische Elektrod,e, in der ein Fenster io ausgespart ist, steht mit einem Stromzuführungsdraht ,4 in Verbindung. Unter Umständen ist es erwünscht. die Anordnung so zu treffen, daß die photoelektrische Schicht aus der Zwischenlage vorspringt und daß im vorspringenden Teil die Verbindung mit dem Zuführungsdraht hergestellt wird.
- Bei der Herstellung der Zelle wird, nachdem diese entlüftet worden ist, mit Hilfe der Stromzuführungsdrähte 7 und ä für die nahezu ringförmige und auf der Quetschstelle 5 angeordnete Anode 6 durch letztere ein solcher Heizstrom geführt, daß :eine gewisse Menge Calciumfluorid, die vor dem Einbringen der Anode 6 auf diese gespritzt worden ist, verdampft. Das Calciumfluorid schlägt sieh dann aus der Dampfphase auf der Zellenwandung i nieder und bildet dort die adsorbierende Zwisch@enschicht 3.
- Danach wird auf dieser Zwischenschicht 3 die Cäsiumschicht z gebildet, wozu eine Menge Cäsium in die Zelle gebracht wird, z. B. durch C:. berdestillieren aus einem Seitenrohr, das an der Stelle 9 angeschlossen sein kann. Um eine nur wenige Atome dicke oder sogar eine einatomige Cäsiumschicht zu bilden und das außerhalb der photoelektrischen Elektrode niedergeschlagene Cäsium zu entfernen, kann die Zelle, während sie mittels des Röhrchens i i mit einer Vakuumpumpe in Verbindung steht, auf eine geeignete Temperatur, z. B. auf etwa 3oo" C, erhitzt werden.
Claims (1)
- PATENTAINTSPRUCH: Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle. dadurch gekennzeichnet, daß in .der Zelle, nachdem diese entlüftet worden ist, durch Niederschlagen einer aus einem Halogenid, z. B. Calciumfluorid, oder einem Oxyd bestehenden chemischen Verbindung aus der Dampfphase eine adsorbierende Schicht gebildet wird, auf welcher der photoelektrische Stoff angebracht wird.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL710006X | 1928-09-25 | ||
NL319650X | 1928-09-25 | ||
NL1906448X | 1929-01-12 | ||
NL347660X | 1929-01-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE710006C true DE710006C (de) | 1941-09-01 |
Family
ID=27483731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEN30935D Expired DE710006C (de) | 1928-09-25 | 1929-09-20 | Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US1906448A (de) |
DE (1) | DE710006C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1234873B (de) * | 1952-12-13 | 1967-02-23 | Zeiss Ikon Ag | Verfahren zur Herstellung einer Photokathode |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2562887A (en) * | 1945-01-04 | 1951-08-07 | Westinghouse Electric Corp | Vapor lamp and system |
US2676282A (en) * | 1951-04-09 | 1954-04-20 | Rca Corp | Photocathode for multiplier tubes |
US2768318A (en) * | 1952-10-03 | 1956-10-23 | Philco Corp | Screen structure for cathode ray tubes |
US2779888A (en) * | 1952-12-16 | 1957-01-29 | Rca Corp | Photosensitive electrode and method for producing same |
-
1929
- 1929-09-20 DE DEN30935D patent/DE710006C/de not_active Expired
-
1930
- 1930-01-11 US US420085A patent/US1906448A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1234873B (de) * | 1952-12-13 | 1967-02-23 | Zeiss Ikon Ag | Verfahren zur Herstellung einer Photokathode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US1906448A (en) | 1933-05-02 |
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