DE710006C - Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle

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DE710006C
DE710006C DEN30935D DEN0030935D DE710006C DE 710006 C DE710006 C DE 710006C DE N30935 D DEN30935 D DE N30935D DE N0030935 D DEN0030935 D DE N0030935D DE 710006 C DE710006 C DE 710006C
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photoelectric
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photoelectric cell
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J40/00Photoelectric discharge tubes not involving the ionisation of a gas
    • H01J40/02Details
    • H01J40/04Electrodes
    • H01J40/06Photo-emissive cathodes

Description

  • Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle Die bekannten photoelektrischen Zellen mit einer Kathode aus einem photoelektrischen Stoff, der bei Bestrahlung Elektronen emittiert, besitzen im allgemeinen nur eine geringe Empfindlichkeit.
  • Zweck der Erfindung ist, ein Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle anzugeben, die eine gesteigerte Elektronenemission und :eine vergrößerte Empfindlichkeit besitzt. Zu diesem Zweck wird gemäß der Erfindung in der Zelle, nachdem diese entlüftet worden ist, durch Niederschlagen eines Oxyds oder eines Halogenids aus der Dampfphase eine adsorbierende Schicht gebildet, auf welcher der photoelektrische Stoff angebracht wird. Die adsorbierende Schicht wird auf einer Unterlage angebracht, die z. B. aus Glas oder aus einem anderen Stoff bestehen kann. Die auf diese Weise aus der chemischen Verbindung gebildete Schicht hat eine zum Adsorbieren des photoelektrischen Stoffes verfügbare sehr große Oberfläche, so daß von ihr .eine große Menge des photoelektrischen Stoffes adsorbiert wird. Dadurch wird eine große Empfindlichkeit der Zelle und eine gut zusammenhängende Schicht des photoelektrischen Stoffes erhalten. Außerdem weist die adsorbierende Schicht auch einen- sehr regelmäßigen Aufbau auf, was dazu beiträgt, eine Zelle mit großer Konstanz herzustellen.
  • In der Zeichnung ist eine gemäß der Erfindung hergestellte photoelektrische Zelle schematisch dargestellt.
  • Fig. i zeigt eine photoelektrische Zelle nach der Erfindung im Schnitt und Fig. z einen Einzelteil dieser Zelle.
  • Die photoelektrische Zelle, die eine Gasfüllung, z. B. Neon enthalten oder zu :einem möglichst hohen Grad entlüftet sein kann, hat eine Wandung i, die z. B. aus Glas besteht, auf der sich .ein Cäsiumhäutchen z befindet. Dieser Stoff ist jedoch nicht unmittelbar auf der Zellenwand aufgebracht, sondern auf einer Zwischenlage 3, die aus Calciumfluorid besteht. Die so gebildete photoelektrische Elektrod,e, in der ein Fenster io ausgespart ist, steht mit einem Stromzuführungsdraht ,4 in Verbindung. Unter Umständen ist es erwünscht. die Anordnung so zu treffen, daß die photoelektrische Schicht aus der Zwischenlage vorspringt und daß im vorspringenden Teil die Verbindung mit dem Zuführungsdraht hergestellt wird.
  • Bei der Herstellung der Zelle wird, nachdem diese entlüftet worden ist, mit Hilfe der Stromzuführungsdrähte 7 und ä für die nahezu ringförmige und auf der Quetschstelle 5 angeordnete Anode 6 durch letztere ein solcher Heizstrom geführt, daß :eine gewisse Menge Calciumfluorid, die vor dem Einbringen der Anode 6 auf diese gespritzt worden ist, verdampft. Das Calciumfluorid schlägt sieh dann aus der Dampfphase auf der Zellenwandung i nieder und bildet dort die adsorbierende Zwisch@enschicht 3.
  • Danach wird auf dieser Zwischenschicht 3 die Cäsiumschicht z gebildet, wozu eine Menge Cäsium in die Zelle gebracht wird, z. B. durch C:. berdestillieren aus einem Seitenrohr, das an der Stelle 9 angeschlossen sein kann. Um eine nur wenige Atome dicke oder sogar eine einatomige Cäsiumschicht zu bilden und das außerhalb der photoelektrischen Elektrode niedergeschlagene Cäsium zu entfernen, kann die Zelle, während sie mittels des Röhrchens i i mit einer Vakuumpumpe in Verbindung steht, auf eine geeignete Temperatur, z. B. auf etwa 3oo" C, erhitzt werden.

Claims (1)

  1. PATENTAINTSPRUCH: Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle. dadurch gekennzeichnet, daß in .der Zelle, nachdem diese entlüftet worden ist, durch Niederschlagen einer aus einem Halogenid, z. B. Calciumfluorid, oder einem Oxyd bestehenden chemischen Verbindung aus der Dampfphase eine adsorbierende Schicht gebildet wird, auf welcher der photoelektrische Stoff angebracht wird.
DEN30935D 1928-09-25 1929-09-20 Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle Expired DE710006C (de)

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NL710006X 1928-09-25
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DE1234873B (de) * 1952-12-13 1967-02-23 Zeiss Ikon Ag Verfahren zur Herstellung einer Photokathode

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