DE706980C - Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern - Google Patents
Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen HalbleiternInfo
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 6
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000009996 mechanical pre-treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02565—Oxide semiconducting materials not being Group 12/16 materials, e.g. ternary compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02614—Transformation of metal, e.g. oxidation, nitridation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/16—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising cuprous oxide or cuprous iodide
- H01L21/161—Preparation of the foundation plate, preliminary treatment oxidation of the foundation plate, reduction treatment
- H01L21/167—Application of a non-genetic conductive layer
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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- Biotechnology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Description
Im Hauptpatent ist ein Verfahren beschrieben, durch welches sehr weitgehend sperrschichtfreie
Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern dadurch hergestellt werden, daß unter Vermeidung jeglicher mechanischer Vorbehandlung
der Halbleiteroberfläche ein Metall durch thermisches Verdampfen auf die Halbleiteroberfläche
aufgebracht wird, welches mit dem Halbleiter oder mit einem in ihm gelösten
Stoff chemisch, nicht reagiert. Als Material für die Metallkontakte kommt nach dem
Hauptpatent vorzugsweise ein Edelmetall, z. B. Silber, in Frage.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird das genannte Verfahren zur Herstellung von
Kupferoxydulgleichrichtern für sehr hohe Frequenzen (vorzugsweise über 1 Megahertz)
verwendet. Es hat sich nämlich gezeigt, daß die bisher gebräuchlichen Kupferoxydulgleichrichter
zur Gleichrichtung von Hochfrequenzströmen dieser Größenordnung ungeeignet sind, da ihr innerer Widerstand verhältnismäßig
hoch ist und in Verbindung mit der Kapazität der Sperrschicht einen unerwünscht
hohen und zeitlich unkonstanten Spannungs- »5 abfall hervorruft. Bringt man jedoch unmittelbar
auf der Kupferoxydulschicht nach dem Verfahren des Hauptpatents durch thermisches
Aufdampfen eine Schicht eines Edelmetalls, also eines mit der Kupferoxydul-
schicht chemisch nicht reagierenden Metalls auf, so ergibt sich ein wesentlich geringerer
Spannungsabfall und ein entsprechend verringerter Leistungsbedarf.
Besonders gute Ergebnisse werden bei Frequenzen im Bereich von ι bis 50 Megahertz
erzielt, wenn die auf thermischem Wege aufgedampfte Metallschicht aus Silber besteht.
Als wichtiger Nebenvorteil ergibt sich in diesem Falle eine besonders hohe Konstanz
des Kupferoxydulgleichrichters.
Claims (1)
- Patentanspruch: Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern durch thermisches Aufdampfen eines Edelmetalls auf die Halbleiteroberfläche nach Patent 660^8:22, gekennzeichnet durch Anwendung dieses Verfahrens zur Herstellung von Kupferoxydulgleichrichtern für sehr hohe ao Frequenzen (vorzugsweise über 1 Megahertz).Ii)-ZDK [."CKT IS DKK
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES104193D DE660822C (de) | 1932-04-15 | 1932-04-15 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
DES129124D DE706980C (de) | 1932-04-15 | 1937-10-14 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES104193D DE660822C (de) | 1932-04-15 | 1932-04-15 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
DES0129124 | 1937-10-13 | ||
DES129124D DE706980C (de) | 1932-04-15 | 1937-10-14 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE706980C true DE706980C (de) | 1941-06-10 |
Family
ID=34811572
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES104193D Expired DE660822C (de) | 1932-04-15 | 1932-04-15 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
DES129124D Expired DE706980C (de) | 1932-04-15 | 1937-10-14 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES104193D Expired DE660822C (de) | 1932-04-15 | 1932-04-15 | Verfahren zur Herstellung sehr weitgehend sperrschichtfreier Metallkontakte auf elektrischen Halbleitern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE660822C (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE968125C (de) * | 1951-09-24 | 1958-01-16 | Licentia Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines sperrschichtfreien Kontaktes mit Germanium |
DK84631C (da) * | 1954-12-01 | 1958-03-24 | Philips Nv | Fremgangsmåde til anbringelse af en ohmsk kontakt på en halvleder af et divalent metals tellurid med P-type-ledningsevne. |
-
1932
- 1932-04-15 DE DES104193D patent/DE660822C/de not_active Expired
-
1937
- 1937-10-14 DE DES129124D patent/DE706980C/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE660822C (de) | 1938-06-03 |
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