DE684446C - Verfahren zur Herstellung von Trockenplattengleichrichtern - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Trockenplattengleichrichtern

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DE684446C
DE684446C DEA79662D DEA0079662D DE684446C DE 684446 C DE684446 C DE 684446C DE A79662 D DEA79662 D DE A79662D DE A0079662 D DEA0079662 D DE A0079662D DE 684446 C DE684446 C DE 684446C
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/06Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form other than as impurities in semiconductor bodies of other materials

Description

  • Verfahren zur Herstellung vgzy-Trockenplattengleichrichtern Die Erfindung bezieht sich auf die serienmäßige Herstellung von Trockenplattengleichrichtern, bei denen die Halbleiterschicht durch Aufdampfen des Halbleiters auf die Grundplatte aufgebracht wird. Wenn man -das Herstellungsverfahren derartiger Gleichrichter dadurch wirtschaftlich gestalten will, daß man den Halbleiter auf ein fortlaufendes Metallband aufdampft, so ergeben sich beim Ausschneiden oder Ausstanzen der einzelnen Gleichrichterelemente aus diesem Band dadurch Schwierigkeiten, daß die Halbleiterschicht infolge der mechanischen Beanspruchung abspringt oder an den Schnitt- bzw. Stanzstellen gelockert wird.
  • Diese Schwierigkeiten lassen sich gemäß der Erfindung dadurch beheben, daß das Band der Grundelektrode, auf das die Halbleiterschicht durch Aufdampfen in einem laufenden Arbeitsgang aufgebracht wird und danach die einzelnen Gleichrichterelemente von der bandförmigen Grundelektrode abgeschnitten werden, an den Schnittstellen auf der an der <Alufdampfvorrichtung vorbeigeführten Fläche der Grundelektrode so abgedeckt wird, daß sich auf diesen Stellen kein Halbleiter niederschlagen kann, so daß die Abtrennung der einzelnen Gleichrichterelemente an diesen Stellen erfolgen kann, ohne daß die Halbleiterschicht beschädigt wird. Zweckmäßig wird die Führungsleiste des Metallbandes als Abdeckschablone benutzt. Besonders vorteilhaft ist es ferner, schon vor dem Aufbringen der Halbleiterschicht das Metallband so vorzustanzen, daß nachher nur noch kleine Verbindungsstücke zwischen den einzelnen Elementen zu durchschneiden sind.
  • Ausführungsbeispiele sind in Abb. i und 2 - dargestellt.
  • Abb. i zeigt das gestanzte Metallband für kreisförmige Gleichrichterelemente. Bei diesen Elementen ist die Selenschicht durch Schraffur a gekennzeichnet. Bei b wird das Metallband durch die Schablone der Führungsleiste abgedeckt, so daß das Grundinaterial frei bleibt. Die einzelnen Elemente lassen sich in einfachster Weise durch Durchschneiden der Verbindungsstücke trennen.
  • Abb. a zeigt ein Metallband für rechteckige Gleichrichterelemente, wobei a und b die gleichen Bedeutungen haben.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCIiE: i. Verfahren zur Herstellung von Trol,#-kenplattengleichrichtern, bei dem die Halbleiterschicht durch Aufdampfen des Halbleiters auf eine z. B. bandförmige Grundelektrode in einem laufenden Arbeitsgang aufgebracht wird und danach die .einzelnen Gleichrichterelemente von der bandförmigen Grundelektrode abgeschnitten werden,-dadurch gekennzeichnet, daß die Schnittstellen der an der Aufdampfvorrichtung vorbeigeführten Fläche der Grundelektrode so abgedeckt werden, daß auf diesen Stellen kein Halbleiter niedergeschlagen wird, so daß die Abtrennung der einzelnen Gleichrichterelemente an diesen Stellen erfolgen kann, ohne daß die Halbleiterschicht beschädigt wird. a. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Abdeckung durch die Führungseinrichtung des laufenden metallischen Bandes vorgenommen wird. 3. Verfahren nach Anspruch i oder :2, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem Metallband an den Schnittstellen bereits vor dem Aufdampfen Teile ausgestanzt sind, so daß einzelne Gleichrichterelemente entstehen.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE887380C (de) * 1941-02-13 1953-08-24 Siemens Ag Elektrodensystem mit unsymmetrischer Leitfaehigkeit
DE966387C (de) * 1942-10-02 1957-08-01 Erich Holz Elektrische Gleichrichteranordnung mit Germanium als Halbleiter und Verfahren zur Herstellung von Germanium fuer eine solche Gleichrichteranordnung
DE974194C (de) * 1953-04-02 1960-10-13 Standard Elek K Lorenz Ag Verfahren zur Herstellung von Sperrschichtzellen sehr kleiner wirksamer Flaeche

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