DE958410C - Elektrolumineszenzzelle - Google Patents

Description

AUSGEGEBEN AM 21. FEBRUAR 1957

KLASSE 21f GRUPPE INTERNAT. KLASSE H 05b; C 09c

G 16731 VIII c/2if

Elektrolumineszenzzelle

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Emission von Licht, welches durch die Lumineszenz eines Leuchtstoffs in einem elektrischen Wechselfeld erzeugt wird. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf Elektrolumineszenzvorrichtungen, in welchen die lichtemittierende Substanz die Form eines kontinuierlichen, nicht granulierten Films aufweist; gleichfalls bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Vorrichtung.

Es sind Vorrichtungen auf der Grundlage der Elektrolumineszenz bekannt, bei denen die lichtemittierende Substanz zwischen zwei leitenden Elektroden vorgesehen ist, und bei denen das lichtemittierende Medium die Form von diskreten Partikelchen aufweist, welche in einem dielektrischen Medium eingebettet sind. Solche Elektrolumineszenzvorrichtungen sind schwierig herzustellen und haben nur eine relativ niedrige Leuchtstärke. Diese niedrige Leuchtstärke ist offenbar unter anderem durch die Lichtabsorption bedingt, welche für die meisten dielektrischen Medien charakteristisch ist; ein anderer Teil des Lichtverlustes ist durch die Diffusions- und Streuwirkungen bedingt, welche sich aus der besonderen Beschaffenheit und der Lage der diskreten Leuchtstoffpartikelchen im Dielektrikum ergeben.

Die Erfindung befaßt sich mit der Ausbildung einer Elektrolumineszenzzelle, welche die Absorptions- und Streuverluste der Leuchtstoffpartikelchen vermeidet. Diese Elektrolumineszenzzellen bestehen aus einer lichtemittierenden Anordnung, die

aus einem kontinuierlichen, nicht granulierten Film eines Leuchtstoffs und einer hiervon getrennten Schicht dielektrischen Materials zusammengesetzt ist, welche einen innigen Kontakt mit dem Film der Leuchtsubstanz aufweist. Bei diesen Elektrolumineszenzzellen wird die Lumineszenz des Leuchtstoffilms durch eine Spannungsquelle erregt, welche mittels geeigneter Elektroden an verschiedenen Oberflächenteilen der lichtemittierenden ίο Anordnung angebracht werden. Die aus dem dielektrischen Material bestehende Schicht wird bei diesen Vorrichtungen vorgesehen, weil eine einfache kontinuierliche, nicht granulierte Schicht eines Leuchtstoffs einen zu geringen Widerstand aufweist. Infolge des geringen elektrischen Widerstandes ist es sehr schwierig, Elektrolumineszenzerscheinungen bei Spannungen auszulösen, die unter der Durchschlagsspannung der Zelle liegen. Durch die Hinzufügung des dielektrischen Films wird der Widerstand der Anordnung genügend erhöht, um eine Elektrolumineszenz bei Spannungen zu erzielen, welche unter der Durchschlagsspannung der Zelle liegen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Ausbildung einer Elektrolumineszenzzelle, welche eine kontinuierliche, nicht granulierte Schicht der Leuchtstoffsubstanz als lichtemittierendes Medium aufweist, ohne daß eine zusätzliche Schicht eines dielektrischen Materials erforderlich wäre. Eine weitere Aufgabenstellung der Erfindung besteht darin, die Elektrolumineszenzzelle so auszubilden, daß sie einen hohen Widerstand aufweist, wodurch die Lumineszenz bereits bei Spannungen auftritt, die wesentlich niedriger als die Durchschlagsspannungen der Zelle sind.

Eine Elektrolumineszenzzelle, die diesen Bedingungen genügt, besteht aus einem Leuchtstofnlm und zwei Elektroden, von denen wenigstens eine transparent ist, wobei die Elektroden mit verschiedenen Oberflächenteilen des Leuchtstoffilms Kontakt geben. Erfindungsgemäß besteht dieser Leuchtstoffilm aus einer Mehrzahl von benachbarten kontinuierlichen Leuchtstoffschichten, welche aus einem in nicht granulierter Form vorliegenden elektrolumineszierendem Material bestehen, wobei die übereinanderliegenden Schichten jeweils geglättete Schichtflächen aufweisen.

Andere erfindungsgemäße Vorteile werden im nachfolgenden an Hand der Zeichnungen und der zugehörigen Beschreibung erläutert.

Fig. ι zeigt einen Vertikalschnitt durch die Lumineszenzvorrichtung gemäß der Erfindung;

Fig. 2, 3 und 4 zeigen Anordnungen, in denen die erfindungsgemäßen Lumineszenzzelle hergestellt werden kann.

Mit anderen Worten besteht die erfindungsgemäße Elektrolumineszenzzelle aus einem dünnen Film eines Leuchtstoffs, der seinerseits wieder aus einer Mehrzahl von nacheinander getrennt aufgetragenen Schichten besteht. Diese verschiedenen Schichten weisen vorzugsweise eine kontinuierliche, nicht granulierte und transparente Form auf. Jede einzelne Schicht wird vor der Auftragung auf die darunterliegende Schicht einer besonderen Behandlung unterworfen. Ein solcher mehrschichtiger Film weist einen viel größeren elektrischen Widerstand auf als ein Film der gleichen Dicke, der nur aus einer einzigen Schichtlage besteht. Dieser erhöhte elektrische Widerstand ermöglicht es, die Elektrolumineszenzzelle gemäß der Erfindung ohne die Verwendung einer zusätzlichen dielektrischen Schicht bei Spannungen zu betreiben, die unter der Durchbruchsspannung der Zelle liegen.

In Fig. ι ist die erfindungsgemäße Elektrolumineszenzzelle 10 im vertikalen Querschnitt dargestellt. Sie ist auf einer Glasplatte 11 aufgebaut. Die Zelle 10 besteht aus einer transparenten Elektrode 12 von leitendem Titandioxyd sowie einer Mehrzahl von nacheinander aufgebrachten transparenten Leuchtstoff schichten 13, 15 und 17, welche als dielektrische Filme ausgebildet sind. Als Abschluß ist eine metallische Elektrode 18 vorgesehen.

Die Mittel zur Herstellung der verschiedenen Schichten der erfindungsgemäßen auf einer Glasplatte aufgebrachten Elektrolumineszenzzelle sollen im nachfolgenden näher erläutert werden:

Bei der Herstellung der in Fig. 1 veranschaulichten Zelle wird eine dünne Schicht 12 von ungefähr 0,1 μ Dicke auf die Platte 11 aufgebracht. Als eine solche dünne Schicht kann z. B. ein transparentes leitendes Material, wie z. B. Titandioxyd Verwendung finden. Die Auftragung der Titandioxydschicht kann mittels einer der nachfolgend beschriebenen Verfahren erfolgen. Auf die Schicht 12 wird eine etwas dickere Schicht 13 aus einem aktivierten Zink- oder Kadmiumsulfid oder einem Gemisch dieser beiden Substanzen aufgetragen. Die Schicht 13 kann in ihrer Dicke variieren, liegt aber in der Größenordnung von 2 bis 3 μ. Um die Schicht 13 anzubringen, wird die Glasplatte, welche mit dem Titandioxydfilm versehen ist, in einen evakuierten Raum hineingebracht und einem erhitzten Zink- oder Kadmiumdampf oder einer Mischung beider Dämpfe in einer gasförmigen Atmosphäre einer Schwefelverbindung, z. B. Schwefelwasserstoff, ausgesetzt. Die Reaktion findet hierbei unter reduzierenden Bedingungen statt; die Reduktion wird durch die Gegenwart des Schwefelwasserstoffs bewirkt. Ein geeigneter Zink- oder Kadmiumdampf, z. B. dampfförmiges, metallisches Zink oder Kadmium oder ein dampfförmiges Zinkbzw. Kadmiumchlorid wird mit der Schwefelwasserstoffatmosphäre oder der Atmosphäre einer sonstigen reduzierenden Schwefelsubstanz Reaktionstemperaturen unterworfen, welche den gewünschten Reduktionsbedingungen entsprechen. Durch die Auftragung der Zinksulfidschicht sinkt der elektrische Widerstand der Titandioxydschicht 12, der anfänglich in der Größenordnung von io⁹ Ohm pro Quadratfläche liegt, auf etwa · 10^s Ohm pro Quadratfläche; die Widerstands erniedrigung kann sogar noch weiter gehen. Hierdurch wird der Titandioxydfilm genügend leitend, um als eine der Elektroden der Elektrolumineszenzzelle dienen zu können.

Die aufgetragene Schicht des Leuchtstoffs weist ohne eine besondere Behandlung noch einen zu niedrigen elektrischen Widerstand auf, um in der Elektroluraineszenzzelle seine Funktion als Dielektrikum erfüllen zu können. Gemäß einem Kennzeichen der vorliegenden Erfindung wird ein hoher elektrischer Widerstand des dielektrischen Films durch eine besondere Behandlung des auf die Titandioxydschicht aufgetragenen Leuchtstoffs erzielt. Diese Behandlung kann in einem Polieren bzw. Ätzen der Schicht bestehen. Es können aber auch sämtliche bewährten Verfahren Verwendung finden, welche eine glatte Oberfläche der Schicht zu erzielen gestatten. Durch die Beseitigung der

is Oberflächenunregelmäßigkeiten, welche die Leitfähigkeit der Schicht erhöhen, wird eine sehr geringe Leitfähigkeit der Schicht des Leuchtstoffs erzielt. Diese Wirkung wird noch durch die Hinzufügung weiterer Schichten erhöht. Gemäß einer be-

ao vorzugten Ausführungsform der Erfindung wird ein transparenter, mehrschichtiger Leuchtstoffilm so hergestellt, daß mehrere lichtemittierende Sehrditen, von denen jede einer besonderen Behandlung unterworfen worden ist, bevor die dar

as auffolgende Schicht aufgebracht wird, übereinandergelagert werden. So wird in Fig. ι die Oberfläche der Schicht 13 des aktivierten Leuchtstoffs durch Polieren oder Ätzen od. dgl. in eine glatte Fläche 14 verwandelt. Auf diese Zwischenfläche 14 wird dann eine zweite Schicht eines aktivierten Leuchtstoffs übertragen, wobei dasselbe bereits oben beschriebene Verfahren zur Anwendung kommt. Die zweite Schicht 15 des Leuchtstoff s wird dann ebenfalls durch Polieren, Ätzen od. dgl. wieder mit einer glatten Oberfläche 16 versehen, auf welche eine dritte Schicht 17 der Leuchtsubstanz aufgetragen werden kann.

Nach Beendigung des Auftragens.der einzelnen Schichten der Leuchtsubstanz wird eine Schicht 18 aus einem geeigneten leitenden Material auf die letzte Leuchtstoffschicht aufgebracht; die Dicke dieser leitenden Schicht beträgt 0,1 μ. Vorzugsweise besteht die leitende Schicht 18 aus einem leicht zu verflüchtigenden Material, z. B. Aluminium, Silber, Gold oder Kupfer. Die Aufbringung des Metalls kann mittels einer der bewährten

-Methoden, z. B. durch Auf dampf ung, vorgenommen werden. Die Verwendung von Metallen mit hohem Reflexionsfaktor, z. B. Aluminium,,ist der Verwendung von Metallen mit niedrigem Reflexionsfaktor, z. B. Kupfer, vorzuziehen. Insbesondere bei transparenten Leuchtstoffilmen ist es sehr wichtig, wenn das Metall der Schicht 18 ausgezeichnet reflektiert. In Verbindung mit solchen transparenten Filmen kann eine gut reflektierende Metallelektrode eine zweifache Aufgabe erfüllen: Sie erfüllt sowohl die Funktion einer leitenden Elektrode als auch die Funktion eines Reflektors, da beim Nichtvorhandensein der reflektierenden Eigenschaf ten das Licht, welches in Richtung auf die Elektrode 18 ausgesendet wird, verloren ginge.

Wird mittels der Leiter 19 und 20 eine Wechselspannung von der Spannungsquelle 21 an die als Elektroden dienenden Schichten 12 und 18 angelegt, so findet infolge einer Lumineszenzerscheinung eine Lichtemission in den aus Leuchtstoff bestehenden Schichten statt. Träger der Lichtemission sind also gemäß Fig. 1 die Schichten 13, 15 und 17. Die Intensität des emittierten Lichtes (Helligkeit) wächst exponentiell mit der angelegten Spannung.

Ein Herstellungsverfahren der erfindungsgemäßen Elektrolumineszenzzelle ist beispielsweise an Hand der Fig. 2, 3 und 4 veranschaulicht.

Die Elektrolumineszenzzelle kann auf eine geeignete Glasplatte 11 aufgetragen werden, welche zunächst mit einer dünnen leitenden Schicht von Titandioxyd versehen wird. Eine geeignete Titandioxydschicht kann z. B. durch eine chemische Reaktion von Wasserdampf mit Titantetrachloriddampf unter atmosphärischem Druck in einem abgeschlossenen Raum hergestellt werden. Diese beiden Dämpfe werden in der Nähe der Glasplatte einer innigen Durchmischung unterzogen, während die Glasplatte selber auf eine Temperatur im Bereiche von 200 bis 250⁰ C erhitzt wird. In Fig. 2 ist gezeigt, wie die mit einer dünnen Titandioxydschicht zu überziehende Glasplatte 11 auf einer Heizplatte 22 aufgelegt wird, welche von einem kuppeiförmigen Reaktionsgefäß 23 überdeckt ist. In den Reaktionsraum 23 wird mittels des Einlasses 24 trockener Stickstoff oder ein anderes geeignetes Füllmittel eingeführt, welches teilweise oder vollständig mit Titantetrachloriddampf gesättigt ist. Mittels des Einlasses 25 wird ein gleiches oder ähnliches Füllgas eingeleitet, welches teilweise oder vollständig mit Wasserdampf gesättigt ist. Die zwischen diesen beiden Dämpfen stattfindende Reaktion bewirkt die Ausbildung eines dünnen Films von Titandioxyd 12 auf der Glasplatte 11; die Dicke dieser Schicht soll etwa 0,1 μ ioo betragen.

Auf diese Titandioxydschicht wird eine Mehrzahl von aktivierten Zinksulfidschichten aufgetragen, Welche die Leuchtstoffsubstanz bilden. Die Aufbringung des Leuchtstoffs kann auf verschie- 105. dene Weise vorgenommen werden. Gemäß einem bevorzugten Verfahren wird die Zinksulfidschicht dadurch erzielt, daß metallisches Zink in einer Schwefelwasserstoffatmosphäre verdampft wird, so daß eine Reaktion zwischen dem Zinkdampf und dem Schwefelwasserstoff stattfindet, wobei sich eine dünne Schicht von Zinksulfid auf der Platte bildet. Bei diesem Verfahren ist es jedoch notwendig, einen Aktivator getrennt zuzuführen. Die getrennte Zuführung eines aktivierenden Mangans wird im nachfolgenden beschrieben.

Gemäß Fig. 3 wird die Glasplatte 11, nachdem sie mit einer Titandioxydschicht versehen ist,· auf einer'Konsole 26 aufgelegt, welche sich in der Glocke 31 befindet, die ihrerseits wieder auf der Dichtungsscheibe 32 aufgesetzt ist. Die Glocke wird über eine bei 33 angeschlossene Vakuumpumpe evakuiert. Eine kleine Menge Mangan befindet sich in dem Molybdäntigel 27, der direkt unter der Glasplatte 11 angeordnet ist. Dieser Tiegel kann ebenfalls aus Wolfram oder Tantal

hergestellt werden, wobei lediglich auf die chemische Stabilität bei niedrigen bzw. -mittleren Temperaturen geachtet werden muß, um Verunreinigung des als Aktivators dienenden Mangans mit dem Metall zu verhindern, aus dem der Tiegel besteht. Von einer genügend leistungsfähigen Stromquelle 30 wird durch die Zuleitungen 28 und 29 ein Strom durch den Tiegel 27 geleitet. Die Glocke wird so lange evakuiert, bis sich ein Vakuumdruck von weniger als 0,1 μ Hg einstellt. Nach der Schließung des Stromkreises der Stromquelle 30 geht der Strom durch den Tiegel 27 und heizt ihn bis zur Weißglut auf. Das im Tiegel befindliche Mangan wird vollständig verdampft und

schlägt sich auf die dünne Titandioxydschicht der Glasplatte nieder. Diese Manganschicht ist äußerst dünn und ihre Dicke kann durch die Lichtdurchlässigkeit dieser Schicht gemessen werden. Eine geeignete Dicke der Schicht liegt im vorliegenden

ao Fall dann vor, wenn dieselbe ungefähr 40 % des auffallenden Lichtes durchläßt, wenn sie zwischen eine der üblichen Lichtquellen und eine Photozelle zwischengeschaltet wird. Um diese gewünschte Dicke der Manganschicht sicherzustellen, kann eine geeignete Meßvorrichtung in das Vakuum hineingebracht werden und der Aufdampfungsprozeß so lange fortgesetzt werden, bis die Lichtdurchlässigkeit auf den genannten Wert gesunken ist. Die Versuche haben jedoch gezeigt, daß sich ein Manganfilm von 40⁰/oiger Lichtdurchlässigkeit dann ergibt, wenn 3 mg gepulverten Mangans in den Molybdäntiegel eingefüllt werden und die Platte 11 etwa 14 cm über dem Tiegel 27 liegt. Diese Werte schwanken natürlich bei verschiedenen Apparaturen und sind leicht durch Versuche zu ermitteln. Nachdem das aktivierende Mangan auf der Glasplatte niedergeschlagen ist_; besteht der nächste Verfahrensschritt in der Auftragung einer aktivierten Zinksulfidschicht. Die Fig. 4 veranschaulicht eine Vorrichtung, welche für die Auftragung einer Zinksulfidschicht auf einer Glasplatte geeignet ist. Die Vorrichtung besteht aus einem zylindrischen Gehäuse 40, welches einen sich erweiternden kappenförmigen Ansatz 41 aufweist, welcher vakuumdicht ausgebildet sein kann. Ein ringförmiger, konsolenartiger Vorsprung 42 befindet sich in der Mittelhöhe der Innenseite des Gehäuses, Ein kleiner zylindrischer Ansatz 43 ist am Bodenteil des Gehäuses 40 angeordnet und erstreckt sich über den Boden hinaus nach unten, wo der Ansatz von einer Heizspirale 38 umgeben ist, um eine Aufheizung des Inhalts des Ansatzes zu ermöglichen. Eine kleine Menge metallisches Zink, z. B. 700 mg, werden in den Ansatz 43 eingefüllt.

und die mit der Schicht zu überziehende Glasplatte wird auf den ringförmigen, konsölenartigen Vorsprung aufgelegt. Der sich erweiternde, kappenförmige Verschluß wird dann vakuumdicht abgeschlossen und das Gehäuse 40 so lange evakuiert, bis sich ein Druck von etwa 50 μ Hg ergibt. Die Evakuierung wird mittels einer Vakuumpumpe vorgenommen, die an die Leitung 37 angeschlossen ist. Wenn das gewünschte Vakuum vorhanden ist, wird Schwefelwasserstoffgas durch das Ventil 36 des Rohres 35 in das Gehäuse 40 eingeleitet, bis sich ein Druck von '300 μ Hg einstellt. Eine Heizvorrichtung, welche aus den Heizspulen 38 und 39 besteht, ist an dem unteren Ende des Gehäuses 40 angeordnet. Zunächst wird der Heizkreis der Heizspule 39 angeschlossen. Wenn durch die Heizspule 39 die Platte 11 eine Temperatur angenommen hat, die zwischen 500 und 600° C liegt, so wird der Heizkreis der Spule 38 ebenfalls geschlossen, wobei das metallische Zink 34 auf eine Temperatur erhitzt wird, die über dem Schmelzpunkt liegt (ungefähr 419⁰ C). Über dem geschmolzenen Zink, welches im Ansatz 43 befindet, bildet sich Zinkdampf. Der Zinkdampf und der Schwefelwasserstoff reagieren miteinander unter Bildung einer Schicht 13 von Zinksulfid auf der Platte 11. Die sich auf der Platte niederschlagende Schicht von Zinksulfid absorbiert den darunterliegenden dünnen Manganüberzug, welcher in das Zinksulfid hineindiffundiert und die Leuchtsubstanz aktiviert.

Nach genügender Abkühlung wird die Glas-¹ platte 11 entfernt und der Zinksulfidüberzug 13, der ein ausgezeichneter Phosphor ist, einer Behandlung unterzogen, welche die Erzielung einer glatten Oberfläche 14 ermöglicht. Im vorliegenden Fall kann zu diesem Zweck ein im Handel befindliches Produkt verwendet werden, welches unter der Markenbezeichnung »Precisionite« bekannt ist. Dieses zum Glattschleifen geeignete Produkt besteht im wesentlichen aus Aluminiumoxyd (Al₂ O₃). Zur Durchführung des Polierverfahrens wird angefeuchtetes »Precisionite« auf die Oberfläche der zu glättenden Schicht gestreut und mit einer .flachen, kreisförmigen Scheibe verrieben, indem dieselbe- in einer kreisförmigen Bewegung längs des Umfangs der Glasscheibe geführt wird, wie dies bei der Technik des Linsenabschleifens üblich ist.

Nachdem die Zitiksulfidschicht in dieser Weise geglättet worden ist, wird die Platte 11 gewaschen, getrocknet und wieder in das Gehäuse 40 der Fig. 4 hineingebracht, um eine zweite Lage der Zinksulfidleuchtschicht aufzubringen, wie dies oben feschrieben worden ist. Danach wird die Platte 11 wieder entfernt und auch die zweite Zinksulfidschicht 15 einem Glättungsprozeß unterzogen. Dieser Vorgang kann mehrmals wiederholt werden, so daß eine Mehrzahl von übereinanderliegen den Leuchtschichten entsteht, welche durch geglättete Zwischenflächen voneinander getrennt sind.

Gemäß dem speziellen Ausführungsbeispiel der Erfindung werden drei Zinksulfidschichten in Form eines dünnen Films übereinander aufgetragen. Nach der Glättung und Reinigung der letzten Schicht wird ein dünner Überzug von metallischem Aluminium (ungefähr 0,1 μ) auf die Zinksulfidleuchtstoffschicht aufgetragen, was mit den wohl- iao bekannten Aufdampfungsverfahren erfolgen kann.

Die speziell im Ausführungsbeispiel beschriebene Ausführungsform der Erfindung -hat eine Gesamtfilmdicke von etwa 10 μ. Diese aus drei Schichten bestehende Ausführungsform wurde Feldstärken der Größenordnung 5· 10⁵V je Zentimeter aus-

gesetzt. Bei diesen Feldstärken ergaben sich Elektrolumineszenzerscheinungen. Messungen des Widerstands dieses dreischichtigen Films bei den genannten Feldstärken ergaben Werte von mehr als io⁹ Ohm. Für diesen mehrschichtigen Film ergibt sich daraus ein spezifischer elektrischer Widerstand von io¹² Ohm · Zentimeter. Ein einschichtiger Film der gleichen Dicke und gleichen Leuchtsubstanz ergibt jedoch nur einen Widerstand der Größenordnung io⁸ Ohm · Zentimeter.

Das oben beschriebene Ausführungsbeispiel einer Elektrolumineszenzzelle greift auf die übliche Ausbildung solcher Zellen zurück, bei denen ein Dielektrikum zwischen den beiden Elektroden angeordnet ist, welche auf dem Dielektrikum an zwei gegenüberliegenden Oberflächenteilen angeordnet sind. Es können jedoch auch andersartige Konfigurationen Verwendung finden. So können z. B. die beiden Elektroden auf derselben Oberfläche des dielektrischen Leuchtstoffs angeordnet und voneinander isoliert sein, so daß ein longitudinales Feld zwischen den beiden Elektroden eine stärkere Erregung des Leuchtstoffs bewirkt als ein transversales Feld in der Vorrichtung gemäß Fig. 1.

Obwohl das Herstellungsverfahren der Elektrolumineszenzzelle gemäß dem Ausführungsbeispiel so erfolgt, daß zuerst die transparente Elektrode schichtförmig aufgetragen wird und danach die Auftragung der Leuchtstoffschichten und schließlieh die Aufdampfung der metallischen Elektrode vorgenommen wird, ist es ohne weiteres klar, daß diese Reihenfolge umgekehrt werden kann, wobei die zuletzt aufgetragene transparente Elektrode durchaus nicht die Form eines leitenden,»dünnen Films zu haben braucht. Es ist lediglich erforderlich, daß die Leitfähigkeit oder die Transparenz der Elektrode ausreichend ist. Bei der letztgenannten Reihenfolge des Herstellungsverfahrens ist es deshalb möglich, ohne die Glasplatte auszukommen, auf der die verschiedenen Schichten aufgetragen werden.

Claims (6)

1. Patentansprüche:

   i. Elektrolumineszenzzelle, bestehend aus einem Leuchtstoffilm und zwei Elektroden, von denen wenigstens eine transparent ist, wobei die Elektroden mit verschiedenen Oberflächenteilen des Leuchtstoffilms Kontakt geben, dadurch gekennzeichnet, daß der Leuchtstoffilm aus einer Mehrzahl von benachbarten kontinuierlichen Leuchtstoffschichten besteht, welche aus einem in nicht granulierter Form vorliegenden elektrolumineszierenden Material bestehen, wobei die übereinanderliegenden Schichten jeweils geglättete Schichtflächen aufweisen.
2. 2. Elektrolumineszenzzelle gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jede der einzelnen Leuchtstoffschichten mit einer polierten Oberfläche versehen ist.
3. 3. Elektrolumineszenzzelle gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Mehrzahl der übereinanderliegenden kontinuierlichen, in nicht granulierter Form vorliegenden Schichten des elektrolumineszierenden Materials aus einem aktivierten Kadmium- oder Zinksulfid oder einer Mischung dieser beiden Substanzen bestehen.
4. 4. Elektrolumineszenzzelle gemäß Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der zusammengesetzte Leuchtstoffilm einen Widerstand 7» von ιo¹² Ohm · cm bei einer Gesamtdicke von 10—³ cm und bei einer Feldstärke in der Größenordnung von 5 · io⁵ V je Zentimeter aufweist.
5. 5. Verfahren zur Herstellung einer Elektrolumineszenzzelle gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine leitende Fläche ein kontinuierlicher, in nicht granulierter Form vorliegender Leuchtstoff schichtförmig aufgetragen wird, daß die Oberfläche der Leuchtstoffschicht geglättet wird und daß der Vorgang der Auftragung und Glättung der Schicht wiederholt wird, um eine Mehrzahl von Leuchtstoffschichten zu erzeugen, und daß die letzte aufgetragene Leuchtstoffschicht mit einer Elektrode versehen wird.
6. 6. Verfahren zur Herstellung einer Elektrolumineszenzzelle nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die einzelnen Schichten ebenso wie der Aktivator aufgedampft werden und jedesmal vor der Aufdampfung oder Bildung der folgenden Schicht einer Glättung durch Polieren unterzogen werden.

   Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

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