DE7027615U - Vorrichtung zum galvanisieren - Google Patents

Vorrichtung zum galvanisieren

Info

Publication number
DE7027615U
DE7027615U DE7027615U DE7027615U DE7027615U DE 7027615 U DE7027615 U DE 7027615U DE 7027615 U DE7027615 U DE 7027615U DE 7027615 U DE7027615 U DE 7027615U DE 7027615 U DE7027615 U DE 7027615U
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
strip
width
anode
electroplating
station
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE7027615U
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GTE Sylvania Inc
Original Assignee
Sylvania Electric Products Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sylvania Electric Products Inc filed Critical Sylvania Electric Products Inc
Publication of DE7027615U publication Critical patent/DE7027615U/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0671Selective plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

Priorität: 24. Juli 1969 - Vereinigte Staates iron Aaerika Serial Ko. 8 A4 323
Die Srf incLung bezieiai: sich su£ eine Yorricii-fezng zua Galvanisieren eines Metalls auf einen kontirmierlichen Streifen aus elektrisch leitfähigea Material. Insbesondere besieSit sich die Erfindung auf eine Vorrichtung, sit der kontiimieriich ■and. selektiv ein Metall auf den Streifen eines elelrsrisch ieitfähigen Substrats in eines ge-*-ünschten i&tster galvasisisx*t werden kancu
Bei der Herstellung verschiedener Materialien, Insbesondere "bei der herstellung von Teilen für die elektronische I-önstrie, ist es oft erwünscht, ein besonderes Auster eines Se tails zu arhalten, das auf einer Basis 3us elektrisch leitfäblgam. Material im allgemeinen metallischem Kateriai, niedergeschlagen ist* Sas Substrat ist oft ein lange** kerntinui&rIiober Fetal!streifen t d«r \ in besonderer Weise gefornjt sein kann, ura in besonderer Ä Perforationen aufzuweisen» oder der ein fester !^ontir'aie Materialstreifen sein kann. Ss ist oft ^rwünsclit, ein Auster mit verschiedenem oder gleichartigem Metall zu haben, das in einem Muster auf dem Streifen niedergeschlagen ist, z.B. einem Streifen eines Metallniederschiags, der sich längs des Streifens erstreckt, jedoch nur eine geringe Breite des gesagten Metalil-Streifens bedeckt» Die hierzu bisher verwendeten Verfahren haben verschiedene Machteile. Ein Verfahren verdienet et z.B. eir> rotierendes Rad, das einen Behälter mit Galvanisierlösung enthält, der siuh in derselben Richtung mit derselben Geschwindigkeit wie der sich kontinuierlich vorschiebende Streifen dreht. Die GaI-vanisierlösung wird auf den Metallstreifen über öffnungen in dem Rad aufgebracht5 eine Anode wird in die Lösung eingetaucht «ad der siciivorschiebende Streifen dient als Kathode. Während das gebildete Muster für einige Z-weeKe geeignet ist, hat das oben beschriebene Verfahren einige wesentliche Nachteile. Eine intensive gleichfcnsige Berührung zwischen dem rotierenden Rad und dem sich vorschiebenden Metallstreifen ist z.3» schwer aufreel·tzuerhalten. Das Ergebnis ist, daß ein gleichförmiges Muster nicht erreicht wird, d.h., daß sich das Muster in der Dicke und in der Breite snöern kana. Eine Gleichförmigkeit ist a"ber sowohl unter fimktxonelles als auch unter wirtschaftlichem Gesichtspunkt erf&rder= lies.
Ändere Verfahren»die versucht worden sind, aber auch wesentliche Nachteile hab«ii, enthalten den Siederschlag des Metalls oder eine lösung über ein größeres Siuster als gewünscht, woraufhin die unervsfiinsehtea Teile des Musters estferst werden * Die antfernung kann auf verschiedenen 'A'egen ausgeführt werders, oe~ öoch wird in der Praxis ein ungleichförmiges Muster erhalten oder die Haftung ist schlecht oder die Hersteiiungsgeschvfindig«» keiten sind gering. In vielen Fällen kann eins sechanische Beschädigung dies Baslsiaäterials auftreten. Diese Mängel werden durch eine Anzahl von Gründen verursacht. Oft Tcird s-8. die GaI-vanisierlösung an einer Station zugeführt, der ?5berschu3teil an einer anderen Station entfernt und an der dritten Station galvanisiert. Die Zuführungs-.Bntfernungs- oder Oal^^nisierschritte können jeweils das fertige Produkt "beeinflussen.
Sin Zweck der Erfindung besteht darin, ein verbessertes ^erfahren zum Galvanisieren eines vorbestimmten sSusters eines Metalls auf eines elektrisch leitfähigen Substrat -zu schaffen.
Ein weiterer Zweck der Erfindung besteht darin, eine Vorrichtung sus Ausführen eines verbesserten jalvanisierverfahrens zu schaffen,
Sin weiterer Zweck der Erfindung besteht darin, eine Vorrichtung zu schaffen j die verwendet- werden kann, us ein gleichförmiges Muster auf einem sich kontinuierlich vorschiebenden Sirreifen eines elektrisch leitiäiiigen Substrats zu schaffen.
Bis weiterer Zweck der Erfindung besteht öaxin. eine Vorri z-a schaffen, die bei Substrate?= angewendet ^eTäen ~k&rm, di weöer fest oder cerforiert sind.
- 5 Zusammenfassung der Srfindung
Die Erfindung sieht ein Verfahren vor, bei dem eine Potential— differenz zwischen einer Anode und einer Kathode, die ein sich kontinuierlich vorschiebender Streifen aus elektrisch leitfä-
,, » _ «W_ JL I T Λ J— t _ ^J __^ Λ ..α\·. *» £ JA Λ **. O JL ·*^«·*«».«3 -i *m\*·^ ^m. *V ι ,ι,
Π.3.{ζ5ΠΙ. FlciT>GX-XJiX ΧΪ51/j Bi'ÄSUg I/ WXX'U. j WUUCJ- XXX1C u^iUKUiuuoc ucx.
Zachode wenigstens etwa 0,32 A/cm pro 30 cm/min des Vorschubs des Streifens oder der Kathode ist, und bei dem eine Galvanisierlösung, die das niederzuschlagende Metall enthält, zwischen der Anode und der Kathode mit einer Geschwindigkeit von wenigstens etwa 2 m/s an der Kathode umläuft. Die Erfindung sieht des weiteren eine Vorrichtung zum kontinuierlichen Mederschlagen eines relativ gleichförmigen Metallmusters auf einem Streifen aus elek-J trisch leitfähigem Material vor, wobei die Vorrichtung folgende I Teile enthält: (a) Einrichtungen zum kontinuierlichen Vorschie-I ben eines Streifens aus elektrisch leitfähigem Material, (b) wenig— ϊ; stens eine Galvanisierstation» die ein Gehäuse aus einem elektrisch I isolierenden Material aufweist, deesen eine fläche in Berührung I »it dem Materialstreifen ist, eine in das Gehäuse eingelassene I Anode, einen die Anode und den Streifen verbindenden £anal, des-S een Breite etwa gleich der Breite des gewünschten Musters ist unr 3 dessen länge vorzugsweise etwa gleich der Länge der Anode ist» |i und einen ersten und einen zweiten Durchlas für die Galvanisier— I lösung an den gegenüberliegenden Endendes Kanals enthält« wobei I ein 2nöe Jedes Durchlasses in unmittelbarer Sähe mit den entspre=- I säenden Endendes KkprI s abschließt und da*3 andere Ende iedes } Durchlasses an einer der Flächen abschließt, die nicht die 3fiä— S ehe ist, die in Berührung mit dem Streifen ist, (c) einen Behäl— I ter für eine Galvanisierlösung, (d) Einrichtungen stm Umlaufen I der Salvanisierlösang von dem Behälter und zu den folgenden j Elementen in Seihe, nämlich dem ersten Durchlaß, dem "g»-n»T und ! dem zweiten Jiure!üa3s und (e) Einrichtungen zus Aufnehmen des I galvanisierten Steifens, nachdem dieser die Galvanisierstation I verlassen hat.
-6-
·■» ·ΐΐ»
ί -6 I
Kurse Beschreibung der Zeichnungen
Pig. ~> 1st eine Ansicht der erf indungsgemä£er Vorrichtung t zum Teil geschnitten,
Fig. 2 ist ein Querschnitt der Galvanisierstatior. längs äer Linie 2-2 der Fig. 1 f
Fig. 3 ist ein Querschnitt einer anderer Ausführangsfon einer Galvanisierstation zur 7er?/entitii:g beim G_:tsnisieren eines festen Streifens aus elektrisch leitfäbigem Materialt
Pig- 4 eine Ansicht eines Ausschnittes aus einen: vorgeformten Streifen, der gemäß der Erfindung behandelt worden ist,
?ig. 5 eine Ansicht eines Ausschnittes eines festers Streifens, der gemäß der Erfindung behandelt werden ist.
Bes'hreibung der bevorzugten Ausführungsfonsen
';** '-.foigend werden beispielhafte A.usführur.g3fcrin-:n cer Erf in · St,ng beschrieben.
hin verbessertes selektives Verfahren zum Galvanisieren auf einem sich kontinuierlich vorschiebenden Streifen aus elektrisch ieitfähigeai Material wird dadurch erreicht, daß eine relativ hohe Stromdichte an der Kathode (auf dem Streifen) in Beziehung zur Geschwindigkeit der Bewegung des Streifens aufrechterhalten wir«,und ÖaS eine relativ höhe Geschwindigkeit der Galvanisier- '*-. .~zen ar der kathode vorbei aufrechterhalten wird.
Bei dein Verfahren nach der Erfindung läuft eine Galvanisierlösung mit relativ hoher Geschwindigkeit zwischen einer Kathode und einer Anode um. Das Volumen zwischen der Anode und der Kathode wird auf einem Minimum gehalten. Die Stromdichte an der Kathode wird dadurch für ein gegebenes Potential maxiaal gemacht Es ist zu bemerken, daß das Volumen zwischen der Kathode und aer Anode gegenüber dem verringert wird, das im allgemeinen verwendet wird, und daß dadurch die Stromdichte für ein gegebenes Potential erhöht wird. In vielen Fällen ist es jedoch aus praktischen and Konstruktionsgründen notwendig, da3 Volumen auf einem ??ert zu halten, um den Druckabfall in desümlaufsystem der Galvanisierlösung auf einem vernünftigen Stand zu halten.
Die verwendete Kathode ist der sich kontinuierlich vorschiebende elektrisch leitfähige Streifen, auf dem ein Muster aus Metall niedergeschlagen werden soll. Ia allgemeinen kann das Verfahren zum Galvanisieren irgendeir.es elektrisch leitfähigen Materials verwendet werden. Solche für Substra-e geeignete Materi aiieu sind bekamst, Materialien, die bisher galvanisiert wurden und zufriedenstellende Kathodenaateriaiien sind, enthalten rostfreie Stähle. Kupfer. Nickel, verschiedene legierungen, setalxiseh ! überzogene Kunststoffe u.dgi.
Die Anoden sind la allgemeinen nicht verbrauchbar, d.h. die Anode liefert nicht das Metall für den ubevzjg. Eie Auswahl des Ma terials für die Anode bangt von dea Jcetall ab, das auf den Uateriaistreifen niedergeschlagen wird, Trooei diese sÄaterialien in <!er Galvanisiörtechnilc bekannt sind. Die Fora der Anode hängt von verschiedenen Faktoren ab, wie der Breite des Güsters, der länge dies ^iö 4nede und die Kathode verMndeiidea Kanals ü'sd anderen der
• Ik » «
8 -
Sine reiati? hohe Stromdichte wird verwendet. Stromdichte!? von mehr als 0,32 A/ce pro 30 nm/inin des Vorschubs des Materialstreifens werden verwendet. Vorzugsweise wird eine Stromdichte von wenigstens etwa 0.36 A/cm~ für 30 cm/min des Yoi3f?hubs des Materialstreifens verwendet, wenn Silber nieder= Jj geschlagen wird, und wenigstens etwa 0,325 A/cm^ pro 30 cm/iain
£3 j rr ι 3-«. w _ n Ii λ .4-A «,.= -: ι : ^> _ ^i_-j : _ j Λβ^»"»
|| wird, und zwar aus den in* Handel erhältlichen Gold und Sii'oergalvanisierlösungen. Obwohl eine höhere Stromdichte verwendet
_ ρ
den kann, ist es selten notwendig, etws 'S,O?? A/gib" pro 30 . s VDrschub des Streifens zu überschreiten,
Die Galvanisierlösung wird auf einer relativ hohen Geschwindigkeit an de2 Kathode vorbeijgehaiten, d.h. eine Geschwindigkeit von wenigstens etwa 2 in/s wird aufrechterhalten. Ie allgenieinen werden Geschwindigkeiten von etwa 2,1 bis 3,0 m/s verwendet. Geringere Geschwindigkeiten führen zu ungleichfUreigen Niederschlägen und geringen Herstellungsgeschwindigkeit.en. Höhere Geschwindigkeiten können verwendet werden, jedoch werden kein*? zusätzlichen vorteilhaften Ergebnisse erreicht, wa3 sosit nur zu erhöhten Snergieko3ten führt.
Ll" Vorzugsweise fließt die Strömung der Galvanisier lösung in entgegengesetzter Richtung oder im Gegen3troin zur Richtung der Be w-?gung des eich kontinuierlich vorschiebenden Materials^reifecs. '< Auf diese «"eise können die gewünschten Geschwindigkeiten der Gai- Λ vanisierlösung rait niedrigeren Suergiekosten erhalten v/erden und eine etwas bessere Gleichförmigkeit und Haftung v/erden erreicht.
Die Galvanisier!O3üög:enr die für das Verfahren der Srfindurig
sind, sirid bekannt» Goidmt/ster τ/erden 2.B« aus einer
Galvanisierlösung mit einer Goldkonzentraticn von etv?a 6 "bis 7,5 g/dm im allgemeinen in der Form einer "basischen wässrigen Lösung von Xalimn-Gold—Zyanid niedergeschlagen. Sin Beispiel einer geeigneten Gold-Galvanisierlösung ist unter des Handels= nassen "Teiaperex" der Pinna Sel-Eez Corporation erhiT tlieh. Eine geeignete wässrige Silber-Galvanisierlosung enthält etwa 19 bis etwa 22,5 g/am Silber, etwa 6,75 sis et??3 9 g/äs>Sa liumzvanid und etwa 1,5 "bis etwa 3 g/di»"' KaiiuEhydroayd. Irgendein Metall, wie Siekel, Zinn u = dgi5, das im allgemeinen airf einem Basi3metali durch Galvanisieren niedergeschlagen wird, kann bei dem Verfahren nach der ürfindung niedergeschlagen werden.
Wie vorstehend erwähnt worden ist, ist die verwendete Stromdichte abhängig von der Geschwindigkeit des Vorschubs des Kateriaistreifens an der Gaxvanisierstation vorbei, ifenn z.3, Silber auf einem Basisicetall-Material3treifen niedergeschlagen wird und wenn sich der iiaterialstreifen ^i t etwa >5 cs/tnin bewegt, beträgt die bevorzugte Stromdichte etwa 0,2'5 A/^a*" und bei 30 cis/ni etwa 0,43 A/cs . Obwohl isa allgemeinen die Bewegun^sgeschwiEdigfceit des Kateriaistreifens auf irgendeinsa Äerx so lange erhöht werden kann, als eis entsprechender Anstieg der Stromdichte vorhanden ist. UE die vsrtestiniste Beziehung der Variablen aufrecht- ZV rbaltsr». wird au3 praktischen se-hanisehen -·Γύΐϊά»η die Vcrsr"r bgesfhirir^lgkeit unter etwa 2,4 a/oii.i urd .- a cene'ner, bei ^t.*-.! '.5 s-s:n gehabten. In den inei3ter räii«: is* <?s prwr.scbt, siren ''aterialatreifen zu haben, der sich sit ir.°' }eer'.windigkeit v>n WeHIgS+SnS etwa 15 ci/nin vorsohie'ct. i/aher wird cie Str'-adichte innerhalb des entsprechenden »ertea gehalten.
Obwohl eine eingelne Galvanisierstatioö in vielen ?<illen 1er werfen kann, können auch cehrere Stationen in Selbe oder pa-
wprien. Cor-, eir "elativ 3ir?ces Auster «re-
irl. '" ■ ■*" '?''-·' ·'■', ■ -. r.e. ■.•»■Borde" sprier. fe*.Ti
wendet werden. Zusätzlich können beide Seiten eines Material Streifens durrs als Verwendung ^2« zwei 6si.vanisi«?rstation?n rt werden.
η P £. ' ".st eine "4 sführungsfors: einer Oai^am 5 .ervErrichtung 3argasteJUt. Sine Galvanisierlösung ist in dem Behälter 10 ge^agerr. Biese läuft zn der Galvaaisierstaticn ? um, die ein Gehäuse ** enthält, das eir.s Aoodie 16 süffelst, <lie von der Fläche 1S eingelassen ist, die sieb in Berührung nit dem sich kontinuierlich vorschiebendes Sästerialstreifen 20 aus elektrisch le.tfahiireD Material* das als Kathode dient* befindet, Sie Gaivanisierlosusg ströat vo» der LSsasgsuiBlauf&iiiriebtxing: 22 su e--nesG ersten Durch la© 24 in dem Gehäuse 14. Bis Lästm*? fließt danr liber einen Ka^aI 2ot der die Anode "6 mit deia Sea*sria!streifen 20 verbindet. Die Lösung tfird bsi einsr Saschwindigkeit von wenigstens 2 n/s an des Streifen oder dar Kathode 20 vörbsigeiührt.Ble Gaivanisierlösusg tritt voa der andiarea Fläche 2? der Galvanisierstatioa 12 über einan zweiten Swrcblaß 2B ams t»nö kehrtsu dea Lagerhehälter 10 zuriiclcJier Materialstreifes 20 wird! an dar Galvanisierstation 12 vorbei öarch die YarscnubeiariciitnKig 29 ^or— geschoben« Der Sontalct zwischen öeE Materialstreifen 20 und der GaivaRisieratation 12 wird ctarca die FubrusgseinrichtiingeB 30 und durch die Platte J safreehtersaitfcs. Bsr Streifes ^fIra-, sachtes p- -.r: IT ä'.?.:1T 12 £3.ί"&Ώ±3ΐΒ?Ζ »Orden XSt, VO~· 3-S 4"2 c τ- c '•■'•-"ig "2 - üf s- - -1US1 ■ η.
Fig. ? seigt eineE ^iers-bsitt der Salvssisierstatior "2 lasgs der Linie 2-2 der Fig. 1. Sie Breite des Kanals 26 Is-t iis wes liehen dieselbe Breite wie das Muster, das auf den Materialstrai-20 gewünscht wird.
In Fig. 3 ist eine Gal?aiii3ierstatioii 12 geseigt» öle für axe Yer= wsBd^Eg b*»is Gaivasisisres eines Tssven (sich^ )
St-reifens 33 arigepaEt ist.
Die Station ist im wesentlichen dieselbe wie die unter Bezugnahme auf Pig. 1 beschriebene Station mit der Ausnahme, daß dort eine Platte nicht vorgesehen ist und die Porn der fläche leicht gekrümmt ist.
In den Pig. 4 und 5 sind zwei Arten von elektrisch, ieitfähigen Streifen gezeigt, die durch die Erfindung erzeugt werden können. In Pig. 4 ist ein vorgeformter elektrisch, leitfähiger Strei fen 34 gezeigt und ein streifenförmiges Muster 35 ist auf äeis vorgeformten Streifen 34 niedergeschlagen. Die Srsite des strei fenförmigen Musters 35 entspricht etwa der Breite des Kanals 26 (Zfig, 2), In Pig. 5 ist ein fester elektrisch, leitfähiger Strei fen 36 gezeigt, auf dem ein Muster 38 niedergeschlagen ist.
Bachfolgend werden Beispiele beschrieben, t?obei sich, alle Teile, Prozente und Verhältnisse auf das Gewicht beziehen, wenn nichts anderes angegeben ist.
Beispiel I
Sin aickelstreifes mit et«sa 2,9 ce Breite srirl an einsr Gal^anis^erstafeicn mit einer Grescawizuiigkeit von 60 cm/mir vorbei versobobsn-Sine wässrige Silber— IaIv^Tiisi3r-~8s'aag ει:.« ex-wa 15 Silber τάχα eines Syaniägeixalt von 8"c«a 15,75 g/äsi'y bei eir^er 2eai— pera^nr -023 etva 82°G läuft in der Salvanisierstation 123. Die Lösg läuft iEit einer genügenden Geschwindigkeit ύοώ. etwa 2 „44 τα/s des Streifen, der als ^.thode dient, vorbei. Die Stromdichte
an der Eathode beträgt etwa 0.86 A/cm mit einer Geschwindigkeit öes StreifeirvorsehiLbs you etwa 60 cm/min. Ein Silberstreifen von 3-ssa Os35 es Breite xmd etwa O5OOObI em Dicke %-±rd in einem lgsiL ISssteir nieäergesclila.gea.
27615-8.^.71
Proben des Streifens mit dem niedergeschlagenen Hnster werden auf einer heißen Platte "bei 4öÖ° C auge bracht, ua festzustellen, o"b irgendeine Blasenbildung auftritt. Die BrobeXi werden zusätzlich einer SO^Biegungsprüfung unterworfen.
dis wartung des rfxederscalägs i€»tsu»vsllsH. Bei M die in der vorstehenden Weise hergestellt und geprüft worden sind, ist keine Blasen- oder Jlockenbildung beobachtet worden.
iohartige, Jiersuchg wurden unter Yerwendtuag dar folgenden Tor— schubgaschwindigkeiten und Stroadichten alt glelcharmaBexi denstellenden Ergebnissen ausgeführte
Torschubgesch^indigkeit Stromdichts an Dicke des Efieder-(cm/min)
15*25 45,75
der Kathode schiags
(A/cm2) ψ.)
Or215 610
0,43 610
0,645 610
1.115 610
Il
vrirä das verfahren nach Beispiel I mit der Ausnahme ausgeführt;, daB eine Golä-Salvanisier-läsung anstelle der Silber-^Salvanisisr=- -Lösung yerv/endst s/ird und äaS der Streifen s?it einer C-sscb^Iraigkeit "or. etwa 60 cffi/sin ?orge se hoben wird unc daS t=: ss Strosdiohte ν on 0fS L/gzT verwendet wird. Die ISsaEg läuft üiit etwa 2,44 e/s um« Bin. gleichförmiger niederschlag Von etsa 0,00051 cm wird erhalten» Proben des Streifens zeigen, wenn sie Blasen?- und Biegtffigsprüfungen nach Beispiel I unterzogen werden, keine Blasen- oder IPloclcenbUdung,
7027615-8.4.71 JIf _

Claims (2)

  1. * · » Uli IS
    • 1 * * J
    - * S » I IS
    se ?i05
    Ansuruciie
    1, vorrichtung zum kontinuierlichen Niederschlagen eines relativ gleichförmigen Metallausters auf einem Streifen S.I2S elektrisch ieitfahigeis Materials, gekennzeich— set eurch eine Einrichtung zum kontimjierlAchen YorscMel?en eines Streifens aus elektrisch leitfäni-gem Material, durcn leresigstens eine Galvaiiisierstation, die ein Gei2äu£3 aus eisen» elektrisch isolierenden i€aterial lait einer Heäsrzahl von Fl'ächant von denen eina für die Berübrsng 2it des 2'iaterialstreifen Destimmt ist; eine in des Gehäuse eingeiassene Anode 5 einen die Anode imd den Streifen verbindenden Kanal, dessen Breite etwa gleich der Breite des gevünschtan Musters ist, einen ersten Bureblaß für eine Galvanisierlösiajg, der sich von des einen 3nde des Kanals zu einer Fläche des Gehäuses erstreckt, die nicht zur Beraibrung _ait der: Streifsin be- ^tiramt ist, und einen, zweiten Burc^ilaS an des gegsnürerliegenden Ende res Xanals enthält, der sich ~a einer Flä^L*. ?.'^trec-cts die r-icht in Berühnaig mit dem Streifen ist, durrn f«&«r* Bk- luv e.\ne C'f.OLvaiiisier.iösting; durcn
    Iialaufen der Galvanifcierlcε'^lag vor. dem Eehälter ^u. deti fclgenäen !lementen d.^r Galvani a.ierstation ir. P-eihe, r-salxcii des ersten Durchlaß, dem Kanal inid dem zweiten Durchlaß, tmd durch eina Sinriciitung zum Aufnehmen des galvanisierter. Streifens» nachdem dieser an der Galvanisierstation vorbei vorgeschoben
    _ 2 —
  2. 2... Torrichturig nach Anspruch 1S dadurch. g e k e η η -> zeichnet, daß die Galvanisier-station eins alt dem Rücken :aaeh öbsn zeigende Plairte aufweist, die as der Fläche angebracht ist. die in Berührung mit dem Streifen in eines Ahstsnd von der Platte angeordnet ist, der in etwa gleich der Dicke des Streifens ist,
    3, Galvanisierstation für eine Vorrichtung n&.c\. Ansprucii 1 oder 2, gekennzeichnet durch elü GehRuse aus eines* elektrisch isolierenden Material iait einer Mehrzahl von Flächen, von denen eir>e für die Eeruhr-cng mit äsm. Matsrialstrsifen OestlEist ist, durch eise in dem Gehäuse eingeJLsssens Anods, durch einen die Äzioda ohC den Streifen vsr=- t tndenden Kar al, dessen Breite etv?a gleich dsr Breite des gewünschten Hustsrs ist und dessen Länge etwa gleich der Laxige der Anode iöt, durch eines ernten BtirchlaB für eine Gal^tfanisiarlösyssgj der sich von eines Eßde des Kanals zu eine·^ Flache des Gehäuses erstreckt, die nicht für die Berührung sit des Streifen cestiHsrt ist, aaä durch eixtan zweites 2ji2rchlaB as dem. gegamToerliegenden üsnde des Kanals, der sich zu einer Fläche erstreckt^ die nicht in Berührung sit dem 5 keifen 3ieiit,
DE7027615U 1969-07-24 1970-07-22 Vorrichtung zum galvanisieren Expired DE7027615U (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US84432369A 1969-07-24 1969-07-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE7027615U true DE7027615U (de) 1971-04-08

Family

ID=25292388

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702036387 Pending DE2036387A1 (de) 1969-07-24 1970-07-22 Verfahren zum Galvanisieren und Vorrichtung zur Durchfuhrung des Verfahrens
DE7027615U Expired DE7027615U (de) 1969-07-24 1970-07-22 Vorrichtung zum galvanisieren

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702036387 Pending DE2036387A1 (de) 1969-07-24 1970-07-22 Verfahren zum Galvanisieren und Vorrichtung zur Durchfuhrung des Verfahrens

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3644181A (de)
DE (2) DE2036387A1 (de)
FR (1) FR2053128B3 (de)
NL (1) NL7010904A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2944852A1 (de) * 1978-11-09 1980-05-22 Cockerill Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen, elektrolytischen abscheidung eines metalls auf einem blech

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2140310B1 (de) * 1971-06-09 1974-03-08 Anvar
US3894918A (en) * 1973-12-20 1975-07-15 Western Electric Co Methods of treating portions of articles
JPS5116236A (en) * 1974-07-31 1976-02-09 Daiichi Denshi Kogyo Denkaishorihoho narabini sochi
US3994786A (en) * 1975-06-13 1976-11-30 Gte Sylvania Incorporated Electroplating device and method
US4001093A (en) * 1975-08-06 1977-01-04 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Method of electroplating precious metals in localized areas
US4110190A (en) * 1975-08-11 1978-08-29 Ultra Centrifuge Nederland N.V. Apparatus for machining electrically conducting substances by electrochemical attack
US4030999A (en) * 1975-10-06 1977-06-21 National Semiconductor Corporation Stripe on strip plating apparatus
US4033844A (en) * 1975-11-03 1977-07-05 National Semiconductor Corporation Apparatus for selectively plating lead frames
US4093520A (en) * 1976-02-17 1978-06-06 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Process for gold plating
JPS5524141Y2 (de) * 1976-10-16 1980-06-09
US4367125A (en) * 1979-03-21 1983-01-04 Republic Steel Corporation Apparatus and method for plating metallic strip
US4224117A (en) * 1979-04-18 1980-09-23 Western Electric Company, Inc. Methods of and apparatus for selective plating
DE3000408A1 (de) * 1980-01-08 1981-07-09 Walter 5413 Bendorf Mindt Verringerung von waermebadarf in prozesslinien
DE3015282C2 (de) * 1980-04-21 1986-07-17 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Vorrichtung zum partiellen Galvanisieren von leitenden oder leitend gemachten Oberflächen
US4401523A (en) * 1980-12-18 1983-08-30 Republic Steel Corporation Apparatus and method for plating metallic strip
JPS5891184A (ja) * 1981-11-25 1983-05-31 Masami Kobayashi メツキ装置
GB2147009B (en) * 1983-09-07 1987-11-18 Sumitomo Metal Ind Method and apparatus for continuous electroplating of alloys
DE3439750A1 (de) * 1984-10-31 1986-04-30 Inovan-Stroebe GmbH & Co KG, 7534 Birkenfeld Galvanisierverfahren
GB8802393D0 (en) * 1988-02-03 1988-03-02 Gen Electric Co Plc Apparatus for selectively coating part of member
EP0327298A3 (de) * 1988-02-03 1990-06-27 THE GENERAL ELECTRIC COMPANY, p.l.c. Apparat zum selektiven Beschichten eines Teilstücks
US6991717B2 (en) * 2002-04-05 2006-01-31 3M Innovative Properties Company Web processing method and apparatus
TW201104023A (en) * 2009-07-29 2011-02-01 John Peng Flat pin of network jack and method for gilding the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2944852A1 (de) * 1978-11-09 1980-05-22 Cockerill Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen, elektrolytischen abscheidung eines metalls auf einem blech
DE2944852C2 (de) * 1978-11-09 1992-01-16 Cockerill, Seraing, Be

Also Published As

Publication number Publication date
NL7010904A (de) 1971-01-26
FR2053128A7 (de) 1971-04-16
DE2036387A1 (de) 1971-02-25
FR2053128B3 (de) 1973-04-27
US3644181A (en) 1972-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE7027615U (de) Vorrichtung zum galvanisieren
DE4229403C2 (de) Vorrichtung zum Galvanisieren dünner, ein- oder beidseits mit einer leitfähigen Beschichtung versehener Kunststoffolien
DE2820872A1 (de) Einrichtung zur elektroerzeugung von kupferfolien
DE2944852A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen, elektrolytischen abscheidung eines metalls auf einem blech
DE3440457C2 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen elektrolytischen Abscheidung einer Abdeckmetallschicht auf einem Metallband und Verwendung einer solchen Vorrichtung
DE3003927C2 (de) Kathode für die elektrolytische Raffination von Kupfer
DE2822821C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines mit einem aktiven Metall beschichteten Materials für elektrochemische Generatoren
DE10136890B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines kristallstrukturell texturierten Bandes aus Metall sowie Band
DE2753936C2 (de)
DE1801819C3 (de) Verfahren zum örtlich begrenzten galvanischen Überziehen von Oberflächen elektrisch nichtleitender Gegenstände
EP0369983A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur elektrolytischen Herstellung einer Metallfolie
DE3206262A1 (de) Verfahren zur herstellung von mit edelmetall beschichteten baendern als halbzeug fuer elektrische kontakte
DE3011005C2 (de)
DE3227048C2 (de)
DE912773C (de) Verfahren zur Herstellung eines Mehrfachmetalls
DE3418039A1 (de) Vorrichtung fuer die elektrolytische behandlung metallischer baender
DE19942849A1 (de) Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines metallischen Bandes
DE2009118B2 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen einseitigen Galvanisieren eines Stahlbandes
WO2007009448A1 (de) System zur galvanischen abscheidung einer leitfähigen schicht auf einem nicht-leitfähigen trägermaterial
DE2844708C2 (de) Verfahren zur kontinuierlichen Galvanisierung eines Bandes aus porösem, nichtleitendem Material
DE69722582T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur sequentiellen Metallisierung von Polymerfilmen
DE3209559A1 (de) Verfahren zum galvanischen abscheiden eines legierungsueberzuges auf einem metallgegenstand, insbesondere eines zink-nickel-legierungsueberzuges auf bandstahl
DE2523115A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum oertlichen galvanisieren von bandmaterial
AT278583B (de) Perforierte Schneidfolie für Rasierapparate und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE404895C (de) Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Blattgold