DE69934072T2

DE69934072T2 - Substrat für organische elektrolumineszente anzeige, verfahren zu deren herstellung und elektrolumineszente anzeige

Info

Publication number: DE69934072T2
Application number: DE69934072T
Authority: DE
Inventors: Yifan Taito-ku QIAN; Mamoru Taito-ku ISHIZAKI; Takeshi Taito-ku ITOI; Mizuhiro Taito-ku TANI; Takao Taito-ku MINATO; Yuichi Taito-ku ITO; Teruhiko Taito-ku KAI
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1998-02-25
Filing date: 1999-02-24
Publication date: 2007-05-31
Anticipated expiration: 2019-02-25
Also published as: US6339288B1; EP0996314B1; KR100586650B1; EP0996314A1; WO1999044395A1; KR20010012097A; EP0996314A4; TW420964B; DE69934072D1; CA2287236A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Substrat für ein organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement, das eine Anzeige vom Nicht-Emissionstyp für einen Heimfernseh-Funkempfänger ist, und eine Datenstationanzeigevorrichtung zur Hochleistungsinformationsverarbeitung, ein Verfahren zu deren Herstellung, und ein organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement.
In der folgenden Beschreibung wird das "Elektrolumineszenz"-Element häufig "EL"-Element genannt.
Ein organisches EL-Anzeigeelement, welches eines für Anzeigevorrichtungen vom flachen Tafeltyp ist, ist grundsätzlich derart aufgebaut, dass eine organische EL Mediumschicht zwischen einer ersten Elektrode (Anode oder Kathode) und einer zweiten Elektrode (Kathode oder Anode) sandwichartig eingeschlossen ist. Licht wird emittiert, indem ein elektrischer Strom zwischen den zwei Elektroden strömt. Das organische EL Anzeigeelement ist von einem selbstbeleuchtenden Emissionstyp und zeigt so eine hohe Helligkeit und einen breiten Betrachtungswinkel. Zudem kann das Anzeigeelement unter einer niedrigen Spannung angetrieben werden. Im Allgemeinen besteht jede der ersten und zweiten Elektroden aus einer Mehrzahl von Elektrodenreihen, die derart angeordnet sind, dass die erste Elektrodenreihe und die zweite Elektrodenreihe einander kreuzen, um eine Matrix-Struktur auszubilden. Der Abschnitt der organischen EL Mediumschicht, welche an der Kreuzung zwischen der ersten Elektrodenreihe und der zweiten Elektrodenreihe positioniert ist, setzt ein Pixel zusammen.
Um ein organisches EL Anzeigeelement mit einer hohen Kapazität und einer hohen Präzision herzustellen, das eine Elektrodenmatrix-Struktur besitzt, muss eine sehr feine Musterungsbehandlung auf die Elektrodenreihe angewendet werden.
Im Allgemeinen ist ein Photolithographieverfahren oder ein maskiertes Dampfabscheidungsverfahren als ein Verfahren zum Ausbilden eines feinen Musters eines Dünnfilms bekannt.
Jedoch dringt, wenn die zweite Elektrodenschicht durch das Photolithographieverfahren gemustert wird, das Lösungsmittel des Photoresists oder die Entwicklungslösung in die Grundierungsschicht der organischen EL Mediumschicht ein, um so ein Reißen oder eine Verschlechterung des Elementes zu bewirken.
Andererseits ist es im Fall des maskierten Dampfabscheidungsverfahrens wichtig, der Bindungsfestigkeit zwischen der Dampfabscheidungsmaske und dem Substrat Beachtung zu schenken. Wenn die Bindungsstärke unzureichend ist, wird das verdampfte Material teilweise auf der Rückseite des Dampfabscheidungsmaskenmusters abgeschieden, um so die Auflösung herabzusetzen. Wenn die Dampfabscheidungsmaske gewaltsam an das Substrat gebunden wird, um zu versuchen, die vorstehend bemerkte Schwierigkeit zu vermeiden, wird die organische EL Mediumschicht selbst zerkratzt.
Ein Verfahren zum Feinmustern der zweiten Elektrodenreihe ohne Verleihung von Schaden für die organische EL Mediumschicht ist in der japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 5-258859 und der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 5-258860 offenbart. Im Einzelnen ist eine Technologie zur undurchsichtigen Dampfabscheidung eines organisches EL Mediums und eines Metalls, das eine Mehrzahl von Trennwänden verwendet, offenbart. In diesem Verfahren werden eine Mehrzahl von Trennwänden ausgebildet, um das Anodenmuster zu kreuzen, gefolgt vom undurchsichtigen Auftragen von Dampfabscheidung zum Ausbilden der organischen EL Mediumschicht und der Kathode in der erwähnten Reihenfolge. In diesem Verfahren werden Laminierung und Mustergebung des organischen EL Mediums und des Kathodenmaterials gleichzeitig ausgeführt. In diesem Verfahren ist es jedoch schwierig, die Dampfabscheidung auszuführen, während das Substrat rotiert wird, und die Richtungen der Dampfabscheidungsstrahlen über eine große Fläche gleichförmig zu steuern. Zudem ist das Anodenmuster auf ein lineares Muster begrenzt.
Eine Verbesserung der undurchsichtigen Trennwand oder schräges Dampfabscheidungsverfahren, das vorstehend umrissen wurde, wird in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 8-315981 und der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 9-102393 offenbart. Indem in diesem Stand der Technik offenbarten Verfahren wird eine Trennwand mit einer überhängenden Struktur (sich invers verjüngenden Trennwand oder einer Trennwand mit einem T-förmigen Querschnitt) verwendet. Die besondere Trennwand ist auf das Substrat mit einer ersten darauf gebildeten Elektrodenreihe montiert. Diese herkömmlichen Trennwandverfahren machen es im Prinzip möglich, die Dampfabscheidung und Mustergebung des organischen EL Mediums und der zweiten Elektrodenreihe gleichzeitig auszuführen, indem das Vorhandensein der Trennwand verwendet wird. Es sei angemerkt, dass, da die Trennwand eine überhängende Struktur besitzt, die Mustergebung durch die Dampfabscheidung in einer Richtung durchgeführt werden kann, die senkrecht zu dem Substrat ist, mit dem Ergebnis, dass die Dampfabscheidung ausgeführt werden kann, während das Substrat rotiert wird.
Jedoch ist es im Fall der Verwendung einer sich invers verjüngenden Trennwand möglich, dass der Einfallwinkel des Dampfabscheidungsstrahls kleiner als der sich verjüngenden Winkel ist. In diesem Fall findet eine Abscheidung auch auf der Seitenwand der Trennwand statt, was zu der Möglichkeit eines Kurzschlusses zwischen den zwei Elektroden führt. Es folgt daraus, dass das Verfahren, das inverse sich verjüngende Trennwand verwendet, nicht für die Dampfabscheidung auf einem Substrat mit einer großen Fläche adaptiert ist. Andererseits werden komplexe Schritte zum Ausbilden einer Trennwand mit einem T-förmigen Querschnitt benötigt. Da es ferner einen Freiraum zwischen der Trennwand und der organischen EL Mediumschicht gibt, wird eine Schwierigkeit verursacht, wenn Dampfabscheidung des organischen EL Mediums und des zweiten Elektrodenmaterials unter Verwendung der Trennwand ausgeführt werden. Im Einzelnen wird das zweite Elektrodenmaterial auch auf den Bereich abgeschieden, wo die organische EL Mediumschicht nicht vorhanden ist. Folglich wird die zweite Elektrode in direkten Kontakt mit der ersten Elektroden gebracht, was zu Kurzschluss führt, der den normalen Betrieb der Vorrichtung verschlechtert. Sogar, wenn das zweite Elektrodenmaterial selektiv auf den organischen EL Medium abgeschieden wird, um so den Kurzschluss zu verhindern, wird das elektrische Feld in der Nachbarschaft des Endabschnitts der zweiten Elektrode konzentriert, in welchem das organische EL Medium dünn laminiert ist oder in dem Kantenabschnitt der zweiten Elektrodenreihe, um so eine Verschlechterung zu bewirken, die durch Isolationszusammenbruch oder Joule'sche Wärme verursacht wird. Um diese Probleme zu verhindern, wird vorgeschlagen, eine elektrische Isolierungsschicht in dem Basisabschnitt der Trennwand auszubilden. Jedoch macht die Bildung der Isolierungsschicht das Herstellungsverfahren komplex. Ferner besteht die Tendenz, da der Kantenabschnitt der organischen EL Mediumschicht/zweiten Elektrodenreihe zur Außenseite ausgesetzt ist, dass eine Verschlechterung aus dem Kantenabschnitt stattfindet. Da zudem ein Freistand zwischen der Trennwand und der organischen EL Mediumschicht/zweiten Elektrodenreihe bereitgestellt wird, oder da Licht durch die Trennwand übertragen wird, läuft das Licht, das von der rückwärtigen Oberfläche des Substrats kommt, durch den Freistand oder die Trennwand, um die Anzeigenoberfläche zu erreichen, um so die Anzeige zu inhibieren.
Ein zweites Problem, das sich auf das organische EL Anzeigeelement bezieht, ist, dass der Widerstand der Anodenreihe sich erhöht, wenn die Anodenreihen feiner gemacht wird. Wenn der Widerstand der Anodenreihe sich erhöht, wird der Spannungsabfall, der durch den Widerstand der Anodenreihe verursacht wird, in dem Fall erhöht, wo ein Strom, der benötigt wird, um eine ausreichende Helligkeit zu erreichen, durch die Anodenreihen strömt. Folglich wird eine hohe Antriebsspannung benötigt. Sogar in einer Vorrichtung vom Spannungsantriebstyp, wie etwa einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung oder einem anorganischen EL Anzeigeelement vom AC-Typ, ist es notwendig, dem Widerstand der Elektrodenreihe zu verringern, die einen transparenten Leitungsfilm einschließt, um die Anzeigeeigenschaften über die gesamte Anzeigetafel gleichförmig zu machen. Wenn es zu einem Element vom Stromantriebstyp kommt, wie etwa einem organischen EL Anzeigeelement, ist es weiter notwendig, den Widerstand zu verringern.
Verschiedene Techniken zum Verringern des Widerstands in der Anodenreihe werden z.B. offenbart in der japanischen Patentoffenbarung Nr. 10-106751 und der japanischen Patentoffenbarung Nr. 9-230318. Im Einzelne die japanische Patentoffenbarung Nr. 10-106751, das leitende Metallreihen in Kontakt mit beiden Seitenoberflächen der transparenten Elektrodenreihe ausgebildet werden, um so den Widerstand der Anodenreihe zu verringern. In diesem Fall ist jedoch die Höhe der leitenden Metallreihe durch die Höhe der transparenten Elektrodenreihe begrenzt, was es erschwert, den Widerstand der Anodenreihe weiter zu verringern, obwohl der Widerstand in einigem Ausmaß verringert werden kann.
Andererseits lehrt die japanische Patentoffenbarung Nr. 9-230318, dass der Freistand zwischen den benachbarten Metallverdrahtungen mit einem Ultraviolett (UV) härtenden Harz zum Zweck des Abflachens gefüllt wird. Jedoch wird, da die Mustergebung der transparenten Elektrode in diesem Verfahren benötigt wird, das Herstellungsverfahren komplex gemacht. Zudem ist, was insbesondere in diesem Fall herausgestellt werden sollte, dass, wenn das transparente Elektrodenmaterial mit einem Ätzmittel gemustert wird, die Metallverdrahtung unvermeidlicherweise durch das Ätzmittel korrodiert wird. Es ist möglich, zu verhindern, dass die Metallverdrahtung korrodiert wird, indem die Seitenkanten der transparenten Elektrodenreihe über die Metallverdrahtung erstreckt wird, um so das benachbarte UV härtende Harz zu bedecken. Jedoch ist es, wenn Anzeige durch den besonderen Aufbau erhalten wird, unmöglich, eine Anzeige aus reinen Farben zu erhalten, da Farben vermischt werden.
Ein drittes Problem, das sich auf das organische EL Anzeigeelement bezieht, ist, dass die organische EL Mediumschicht und die zweite Elektrodenreihe verschlechtert werden.
Im Einzelnen werden die organische EL Mediumschicht und die zweite Elektrodenreihe durch das Wasser, Sauerstoff, etc., die in der Atmosphäre enthalten sind, verschlechtert. Um zu verhindern, dass die zweite Elektrode und das organische EL Medium durch das Wasser, Sauerstoff, etc. verschlechtert werden, werden die zweite Elektrodenreihe und das organische EL Medium durch eine Abdeckung abgedichtet, die die zweite Elektrodenreihe und das organische EL Medium abdeckt. Zum Beispiel wird eine boxförmige Abdeckung, die zweite Elektrodenreihe und das organische EL Medium abdeckt, an das Substrat unter Vakuum oder unter einer Inertgasatmosphäre gebunden, um so die zweite Elektrodenreihe und das organische EL Medium hermetisch abzudichten.
Jedoch werden im Fall der Verwendung einer Abdeckung einige Probleme verursacht. Zunächst ist es, wenn die boxförmige Abdeckung auf das Substrat montiert wird, möglich, dass die Bodenoberfläche der Deckwand in direktem Kontakt mit der zweiten Elektrodenreihe gebracht wird, um so einen Kurzschluss zu verursachen. Es ist auch möglich, dass die zweite Elektrode oder die organische EL Mediumschicht durch die Bodenoberfläche der Deckwand zerkratzt wird, um so einen Kurzschluss oder eine schlechte Lichtemission zu verursachen.
Es sei auch angemerkt, dass die Bodenoberfläche der Deckwand, der Vorderoberseitenfläche des Substrat gegenübersteht, mit einem Klebstoff zum Binden der boxförmigen Abdeckung an das Substrat beschichtet ist. Da der Klebstoff eine Fluidität zeigt, wird die Klebstoffschicht teilweise derart bewegt, dass sie die organische EL Mediumschicht oder die zweite Elektrodenreihe kontaktiert. Folglich wird die organische EL Mediumschicht oder die zweite Elektrodenreihe verschlechtert.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, wenigstens eines der vorstehend bemerkten Probleme, die den herkömmlichen Techniken inhärent sind, zu überwinden, insbesondere einen Kurzschluss zu verhindern. Dieses Problem ist durch den spezifischen Aufbau des Substrats, wie er in Anspruch 1 definiert ist, gelöst worden.
Genauer ist es eine erste besondere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement mit einer verbesserten Trennwandstruktur bereitzustellen, die hergestellt werden kann, ohne die Struktur komplex zu machen und ohne eine große Begrenzung auf das Herstellungsverfahren zu bewirken, ein Verfahren zur Herstellung desselben, und ein organisches EL Anzeigeelement bereitzustellen.
Eine zweite besondere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement bereitzustellen, das das Herabsetzen des elektrischen Widerstands der Anodenreihe in einem organischen EL Anzeigeelement erlaubt, das einen großen Anzeigebildschirm mit hoher Feinheit besitzt, ein organisches EL Anzeigeelement, und ein Verfahren zur Herstellung desselben bereitzustellen.
Ferner ist es eine dritte besondere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement bereitzustellen, das ermöglicht, zur verhindern, dass die zweite Elektrodenreihe und die organische EL Mediumschicht beschädigt und verschlechtert werden und auch ermöglicht, dass diese zweite Elektrodenreihe und die organische EL Mediumschicht und ein organisches EL Anzeigeelement leicht abgedichtet werden.
Die erste besondere Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird gemäß einem ersten bevorzugten Aspekt der vorliegenden Erfindung mit einem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement erreicht, das auf einem Träger umfasst: eine Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen, die voneinander entfernt angeordnet sind, und eine Mehrzahl von Trennwänden, die voneinander entfernt angeordnet sind und sich in einer Richtung erstrecken, um die ersten Elektrodenreihen zu kreuzen, wobei jede der Trennwände Vorsprünge in einem oberen Abschnitt und Seitenoberflächen mit Ausbuchtungen in einem unteren Abschnitt besitzen.
Das Substrat gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann hergestellt werden, indem ein Träger mit einer Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen, die darauf gebildet sind, mit einer negativen Photoresistschicht beschichtet zu werden; für die negative Photoresistschicht, Anwenden von Belichtung, um eine Mehrzahl von Bereichen zu belichten, die Oberabschnitte, einschließlich Ausbuchtungen der Trennwänden entsprechen, mit Licht; und anschließendes Entwickeln des unbelichteten Abschnitts. Nach der Entwicklung wird Nachbrennen in der vorliegenden Erfindung nach Bestrahlen mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht durchgeführt.
Alternativ kann das Substrat gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung vorzugsweise hergestellt werden, indem eine negative Photoresistschicht auf einem Träger mit ersten Elektrodenreihen, die darauf gebildet sind, ausgebildet werden; für die negative Photoresistschicht, Anwenden, gleichzeitig oder eines vor dem anderen, einer ersten Belichtung, um eine Mehrzahl von ersten Bereichen, die den oberen Abschnitten entsprechen, die Vorsprünge der Trennwände einschließen, zu belichten, eine zweite Belichtung, um eine Mehrzahl von zweiten Bereichen, die wenigstens den unteren Endabschnitten mit Ausbuchtungen der Trennwände entsprechen, zu belichten; und Entwickeln des unbelichteten Abschnitts, um die Trennwände auszubilden.
Alternativ kann das Substrat gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung vorzugsweise hergestellt werden, indem eine negative Photoresistschicht auf einem Träger ausgebildet wird, der erste Elektrodenreihen, die darauf gebildet sind, besitzt; für die negative Photoresistschicht, gleichzeitiges Anwenden oder eines nach dem anderen, einer ersten Belichtung einer Mehrzahl von Bereichen, die oberen Abschnitten, die Ausbuchtungen der Trennwände einschließen, entsprechen, Belichten und eine zweite Belichtung, um Bereiche zu belichten, die wenigstens den Böden der Trennwände entsprechen; und Entwickeln des unbelichteten Abschnitts, um die Trennwände auszubilden.
Ferner kann das Substrat gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung vorzugsweise hergestellt werden, indem eine negative Photoresistschicht auf einem Träger mit darauf gebildeten ersten Elektrodenreihen ausgebildet wird; und, für die negative Photoresistschicht, Anwenden einer ersten Belichtung, um eine Mehrzahl von ersten Bereichen, die den oberen Abschnitten entsprechen, die Buchtungen von Trennwänden entsprechen, zu belichten, Entwickeln des unbelichteten Abschnitts in einer vorbestimmten Dicke, dann Anwenden einer zweiten Belichtung, um eine Mehrzahl von zweiten Bereichen zu belichten, die den unteren Endabschnitten der Trennwände mit Ausbuchtungen entsprechen, zu belichten, und Entwickeln des unbelichteten Abschnitts, um die Trennwände auszubilden.
In dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement in einer bevorzugten Ausführungsform gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung werden die benachbarten Trennwände miteinander bei den unteren Endabschnitten mit Ausbuchtungen durch eine Mehrzahl von Verbindungsbändern verbunden.
Das besondere Substrat der bevorzugten Ausführungsform kann hergestellt werden, indem zudem ein Bereich belichtet wird, der benachbarte Trennwände verbindet, in dem zweiten Belichtungsschritt, der in dem Verfahren der Herstellung ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement gemäß dem ersten Aspekt einschließt.
Das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement in einer bevorzugten Ausführungsform des ersten Aspektes kann zudem hergestellt werden, indem eine Mehrzahl von Farbfiltern verwendet wird, die auf einem Träger angeordnet sind. Um genau zu sein, kann das besondere Substrat hergestellt werden, indem eine Mehrzahl von Farbfiltern voneinander weg auf einem Träger angeordnet werden, um Reihen und Spalten der Farbfilter auszubilden; Ausbilden einer Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen, die voneinander entfernt sind, auf den Farbfiltern auf eine Weise, um sich in der Reihenrichtung der Farbfilter zu erstrecken; Ausbilden einer negativen Photoresistschicht auf den ersten Elektrodenreihen; für die negative Photoresistschicht, Anwenden, gleichzeitig oder eines nach dem anderen, einer ersten Lichtbelichtung auf erste Bereiche, die den oberen Abschnitten entsprechen, die Vorsprünge der Trennwände einschließen, und eine zweite Belichtung, mit Farbfiltern, die als Maske verwendet werden, auf zweite Bereiche, die den Bodenabschnitten der Trennwände entsprechen, die zwischen benachbarten Spalten der Farbfilter positioniert sind und dritten Bereichen, die zwischen benachbarten Reihen der Farbfiltern positioniert sind, von der rückwärtigen Seite des Trägers; und Entwickeln des unbelichteten Abschnitts, um Trennwände auszubilden, die miteinander durch ein Verbindungsband verbunden sind, das dem dritten Bereich entspricht.
Die zweite besondere Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird gemäß einem bevorzugten zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung durch ein Substrat für ein organisches Lumineszenzanzeigeelement erreicht, das auf einem Träger umfasst: eine Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen, die voneinander weg auf dem Träger angeordnet sind, und eine Mehrzahl von leitenden Busreihen, die sich im Wesentlichen parallel zu den ersten Elektrodenreihen erstrecken, wobei die ersten Elektrodenreihen von dem Träger weg angeordnet sind und ein Seitenkantenabschnitt der ersten Elektrodenreihe sich über die Oberfläche der benachbarten leitenden Busreihe erstreckt.
Das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann hergestellt werden, indem eine Mehrzahl von elektrisch isolierenden Schichten, die auf einem Träger sich invers verjüngen, ausgebildet werden; Ausbilden einer elektrisch leitenden Materialschicht auf im Wesentlichen der gesamten Oberfläche des Trägers mit den darauf gebildeten isolierenden Schichten; Ausbilden einer Mehrzahl von elektrisch leitenden Busreihen, die jeweils an nur eine Seitenkante von jeder der isolierenden Schichten gebunden sind, indem der Abschnitt der leitenden Materialschicht entfernt wird, welcher auf der isolierenden Schicht derart positioniert ist, dass die leitende Materialschicht, die auf der Oberfläche des Trägers verbleibt, in Kontakt mit der einen Seitenkante der isolierenden Schicht ist und von der anderen Seitenkante der isolierenden Schicht separiert ist; und Ausbilden einer Mehrzahl von Elektrodenreihen, indem eine erste Elektrodenschicht auf dem Träger mit den isolierenden Schichten und den leitenden Busreihen, die darauf gebildet sind, ausgebildet werden, wobei jede der ersten Elektrodenreihen auf der isolierenden Schicht positioniert ist und sich über die leitende Busreihe erstreckt, die an die isolierende Schicht gebunden ist, und die mehreren ersten Elektrodenschichten voneinander an den anderen Kanten der isolierenden Schichten separiert sind.
Die dritte besondere Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird gemäß einem dritten bevorzugten Aspekt der vorliegenden Erfindung durch ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement erreicht, das auf einem Träger umfasst: eine Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen, die auf dem Träger voneinander entfernt angeordnet sind, eine Mehrzahl von Trennwänden, die voneinander entfernt angeordnet sind und sich in einer Richtung erstrecken, um die ersten Elektrodenreihen zu kreuzen, und ein Rahmen, auf welchen eine Abdeckung angeordnet ist, wobei der Rahmen angeordnet ist, um die mehreren Trennwände zu umgeben.
Die vorliegende Erfindung stellt auch ein organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement bereit, das ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung ist, und ein organisches EL Medium und zweite Elektrodenreihen, die auf dem Substrat ausgebildet sind, umfasst.
Weitere Entwicklungen der vorliegenden Erfindung werden in den angefügten Ansprüchen definiert.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
1 ist eine Querschnittsansicht, die einen wesentlichen Abschnitt eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt;
2 ist eine undurchsichtige Ansicht, die teilweise eine Trennwand der vorliegenden Erfindung zeigt;
3 zeigt im Detail den Aufbau einer Trennwand der vorliegenden Erfindung;
4A bis 7B zeigen schematisch ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung und ein Verfahren zur Herstellung eines organischen EL Anzeigeelements der vorliegenden Erfindung, wobei 4A, 5A, 6A und 7A Draufsichten sind, 4B eine Querschnittsansicht entlang einer Linie IVB-IVB, die in 4A gezeigt wird ist, 5B eine Querschnittsansicht entlang einer Linie VB-VB ist, die in 5A gezeigt wird, 6B eine Querschnittsansicht entlang einer Linie VIB-VIB ist, die in 6A gezeigt wird, und 7B eine Querschnittsansicht ist, die entlang der Linie VIIB-VIIB ist, die in 7A gezeigt wird;
8A bis 8D sind Querschnittsansichten, die schematisch das Prinzip zum Ausbilden der Trennwand der vorliegenden Erfindung zeigen;
9A bis 12B zeigen schematisch ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung, wobei 9A, 10A, 11A und 12A Draufsichten sind, 9B eine Querschnittsansicht entlang Linie XI-IX ist, die in 9A gezeigt wird, 9B Querschnittsansicht entlang Linie XB-XB ist, die in 10A gezeigt wird, 11B eine Querschnittsansicht entlang Linie XIB-XIB ist, die in 11A gezeigt wird, und 12B eine Querschnittsansicht entlang Linie XIIB-XIIB ist, die in 12A gezeigt wird,
13 ist eine Draufsicht, die ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung zeigt, das mit Trennwänden ausgestattet ist, die durch verbindende Banden verbunden sind;
14A bis 15B zeigen schematisch ein Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung, das mit einer Trennwand ausgestattet ist, die durch verbindende Banden verbunden sind; wobei 14A und 15A Draufsichten sind, 14B eine Querschnittsansicht entlang Linie XIVB-XIVB ist, die in 14A gezeigt wird, und 15B eine Querschnittsansicht entlang Linie XVB-XVB ist, wie in 15A gezeigt wird;
16A bis 17B zeigen schematisch ein anderes Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung, das mit einer Trennwand ausgestattet ist, die durch verbindende Banden verbunden sind; wobei 16A und 17A Draufsichten sind, 16B eine Querschnittsansicht entlang Linie XVIB-XVIB ist, die in 16A gezeigt wird, und 17B eine Querschnittsansicht entlang Linie XVIIB-XVIIB ist, die in 17A gezeigt wird;
18A bis 18C sind Querschnittsansichten, die schematisch ein anderes Verfahren zur Herstellung eines Substrats für organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung zeigen, mit einer Trennwand ausgestattet ist, die durch verbindende Banden verbunden sind;
19A bis 19D sind Querschnittsansichten, die schematisch ein Verfahren zur Herstellung eines organischen EL Anzeigeelements zeigen, in dem ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung verwenden wird, das mit einer Trennwand ausgestattet ist, die durch verbindende Banden verbunden sind;
20A bis 20E sind Querschnittsansichten, die schematisch ein Verfahren zur Herstellung eines Substrat für ein organisches EL Anzeigeelements zeigen, das mit einer leitenden Busreihe und einem organischen EL Anzeigeelement ausgestattet ist;
21A und 21B sind Querschnittsansichten, die schematisch in verschiedenen Richtungen ein anderes Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement zeigen, das mit einer leitenden Busreihe ausgestattet ist;
22 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement verwendet, das mit einer Trennwand ausgestattet ist, welches in 21A und 21B gezeigt ist;
23 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch ein anderes organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung zeigt, das mit einer leitenden Busreihe ausgestattet ist;
24 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch noch ein anderes organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung zeigt, das mit einer leitenden Busreihe ausgestattet ist;
25 ist eine undurchsichtige Ansicht, die schematisch ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das mit einem Rahmen ausgestattet ist;
26 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch ein organisches EL Anzeigelement der vorliegenden Erfindung zeigt, in welchem eine Abdeckung auf einem Rahmen montiert ist;
27 ist eine SEM Photographie, die die Struktur zeigt, das ein organisches EL Medium und eine zweite Elektrodenschicht durch Dampfabscheidung in Beispiel 1, das nachstehend im Detail beschrieben wird, ausgebildet wurden, indem eine Trennwand der vorliegenden Erfindung verwendet wird; und
28 ist eine SEM Photographie, die eine Trennwand eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das in Beispiel 2 hergestellt wurde, das nachstehend im Detail beschrieben wird.
Beste Ausführungsform zum Ausführen der Erfindung
Die vorliegende Erfindung wird anhand der begleitenden Zeichnungen erläutert werden. Über die ganzen Zeichnungen hinweg, werden die gleichen Teile oder Elemente durch die gleichen Bezugszeichen bezeichnet. Die folgende Beschreibung ist hauptsächlich auf die Struktur ausgerichtet, in welcher die ersten und zweiten Elektroden, die Anode und die Kathode jeweils zusammensetzen. Jedoch kann die vorliegende Erfindung auf ähnliche Weise auf die Struktur angewendet werden, in welcher die ersten und zweiten Elektroden jeweils die Kathode die Anode zusammensetzen.
Zunächst wird die Basisstruktur eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung anhand von 1 beschrieben. 1 bezieht sich auf eine Struktur, in welcher eine erste Elektrode eine Anode zusammensetzt, während eine zweite Elektrode eine Kathode zusammensetzt, und zeigt einen Querschnitt entlang einer ersten Elektrodenreihe.
Wie in 1 gezeigt, umfasst ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung eine Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen 12, die voneinander weg auf einem Träger 11 angeordnet sind (wobei eine einzige erste Elektronenreihe 12 allein in 1 gezeigt wird). Eine Mehrzahl von Trennwänden 13 (wobei zwei Trennwände allein in 1 gezeigt werden) sind voneinander weg in einer Richtung angeordnet, die die ersten Elektrodenreihen 12 kreuzt.
Der Träger 11, welcher transparent ist und elektrisch isolierend ist, kann z.B. ausgebildet werden aus Quarz, Glas oder einem transparenten Kunststoffmaterial.
Die erste Elektrodenreihe 12, welche eine Anodenreihe in 1 zusammensetzt, kann aus einem transparenten leitenden Material, vorzugsweise einem Indiumzinnverbindungsoxid (ITO) einem Indiumzinkverbindungsoxid, oder einem Indiumaluminiumverbindungsoxid ausgebildet werden.
Die Trennwand 13 dient dazu, zweite Elektrodenreihen voneinander zu separieren, welche später ausgebildet werden. Die Trennwand 13 der vorliegenden Erfindung besitzt einen oberen Teil mit Vorsprüngen und einen unteren Teil mit Ausbuchtungen. Die Trennwand 13 kann vorzugsweise aus einem negativen Photoresist ausgebildet werden.
2 und 3 zeigen den Aufbau der typischen Trennwände der vorliegenden Erfindung. Im Einzelnen ist 2 eine undurchsichtige Ansicht, die teilweise die Trennwand zeigt, und 3 ist eine Querschnittsansicht der Trennwand.
Die Trennwand 13 besitzt eine schlanke oder längliche schienenähnliche feste Gestalt als ein Ganzes, und, obwohl sie eine einstückige Struktur besitzt, kann sie im Konzept in gestreiften Oberabschnitt 132, Ausbuchtungen 132a, 132b zusammengesetzt, einen gestreiften Untereil 133, und einen Körperteil 131, der zwischen dem Oberteil 132 und dem Untereil 133 eingeschoben ist, und ähnlichen einen Berg im Querschnitt zusammengesetzt ist, um eine Vertiefung zusammenzusetzen, eingeteilt werden. Der bergförmige Körperabschnitt 131 besitzt moderat gekrümmte Seitenoberflächen 131a, 131b, die sich von dem entfernten Endabschnitt von jedem der Ausbuchtungen 132a, 132b in der unteren Oberfläche des Oberabschnitts 232 erstrecken, um die Kanten in der Bereitenrichtung der oberen Oberfläche des Bodenabschnitts 133 zu erreichen.
Bezugnehmend auf 3 besitzt die Trennwand 13 eine Höhe a von vorzugsweise 0,2 μm bis 100 μm, weiter bevorzugt 1 μm bis 30 μm. Der bergförmige Körperabschnitt 131 besitzt eine Breite b auf der oberen Oberfläche (Differenz zwischen der gesamte Breite des Oberabschnitts 132 und der Summe der Breiten der Vorsprünge 132a, 132b) von vorzugsweise 0,05 μm oder mehr, weiter bevorzugt 1 μm oder mehr. Jede der Vorsprünge 132a, 132b besitzt eine Dicke c von vorzugsweise 0,05 μm bis 10 μm, weiter bevorzugt 0,1 μm bis 5 μm, und eine Breite d von vorzugsweise 0,05 μm bis 50 μm, weiter bevorzugt 0,5 μm bis 10 μm. Der Vorsprung besitzt eine Breite von vorzugsweise 0,1 μm bis 100 μm, weiter bevorzugt 1 μm bis 30 μm. Ferner ist es für die Breite e des Vorsprungs erwünscht, 0,1 bis 10 mal, weiter bevorzugt 0,5 bis 3 mal so groß wie die Höhe h der Trennwand zu sein. Im Übrigen ist die Breite des Bodenabschnitts 233 größer als die Breite des Oberabschnitts 132. Mit anderen Worten, die Breite e des Vorsprungs ist größer als die Breite d der Vorsprünge.
Ferner beträgt ein Winkel (dieser Winkel wird als Ausbuchtungskantenwinkel in dieser Druckschrift bezeichnet) θ, der zwischen der oberen Oberfläche des Bodenabschnitts und einer geraden Linie, die jede Frontkante der Ausbuchtung verbindet (entsprechend jeder Kante des Bodenabschnitts 133 in dessen Dickenrichtung) mit p eingeschlossen wird, bei welcher eine vertikale Linie, die sich nach oben von dem Zentrum oder der Hälfte der Ausbuchtung in der horizontalen Richtung erstreckt, die gekrümmte Seitenoberfläche 131b kreuzt, 45° oder weniger (siehe 3).
Die Trennwand der vorliegenden Erfindung besitzt eine Ausbuchtung zusätzlich zu Vorsprüngen, was es ermöglicht, die Probleme zu überwinden, die in dem Stand der Technik inhärent sind, während die Vorteile des Stands der Technik beibehalten werden. Im Einzelnen kann eine organische EL Mediumschicht ausgebildet werden, um sich über die Ausbuchtung der Trennwand zu erstrecken, ohne einen Freistand zwischen der organischen EL Mediumschicht und der Trennwand auszubilden, und die zweiten Elektrodenreihen, die darauf gebildet werden, können auf der organischen EL Mediumschicht ausgebildet werden, um sich über die Ausbuchtung der Trennwand zu erstrecken. So kann ein Kurzschluss und ein Isolationszusammenbruch, der durch das Vorhandensein eines Freistands um die Trennwand herum verursacht wird, genau so wie das Problem der Lichttransmission vermieden werden. Zudem kann die Beschränkung in der Laufrichtung Dampfabscheidungsstrahls bemerkenswert erleichtert werden, was es ermöglicht, ein Substrat mit einer großen Fläche zu verwenden und das Substrat in den Dampfabscheidungsschritt zu ratieren. Ferner ist es möglich, das Problem der Lichttransmission innerhalb der Trennwand zu vermeiden, indem ein färbendes Material in die Trennwand vermischt wird.
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das wie in 1 gezeigt, aufgebaut ist, und ein Verfahren zur Herstellung eines organisches EL Anzeigeelements, das das besondere Substrat verwendet, wird nachstehend anhand von 4A bis 7B beschrieben.
In dem ersten Schritt werden eine Mehrzahl von gestreiften ersten Elektrodenreihen 12 (Anodenreihen in dieser Ausführungsform) ausgebildet, zusammen mit einer Mehrzahl von Endanschlussflächen (nicht gezeigt), sofern benötigt, auf einem Träger 11, wie in 4A und 4B gezeigt, ausgebildet. In diesem Schritt ist es möglich, eine Mehrzahl von externen Führungselektroden (nicht gezeigt), die für die zweiten Elektrodenreihen in den anschließenden Schritt verwendet werden, auszubilden. 4A und 4B zeigen die in mehreren ersten Elektrodenreihen 12, wie sie in einem vorbestimmten Abstand voneinander weg angeordnet sind.
Die mehreren ersten Elektrodenreihen 12 können ausgebildet werden, indem ein erstes Elektrodenmaterial auf der gesamten oberen Oberfläche des Trägers 11 ausgebildet werden, gefolgt von Mustergebung der ersten Elektrodenmaterialschicht durch z.B. die gewöhnliche Photolithographie-Technologie. In dieser Ausführungsform setzt die erste Elektrode die Anode zusammen, wie vorstehend beschrieben. Daher kann ein transparentes leitendes Material, vorzugsweise Indiumzinnverbindungsoxid (ITO), Indiumzinkverbindungsoxid, Zinkaluminiumverbindungsoxid etc. als das Elektrodenmaterial verwendet werden. Diese Elektrodenmaterialien können auf dem Träger 31 mittels eines Sputter-Verfahrens ausgebildet werden.
Als nächstes werden Trennwände 13 auf eine Weise ausgebildet, um die ersten Elektrodenreihen zu kreuzen, wie in 5A und 5B gezeigt, wodurch ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung hergestellt wird.
Die Trennwand 13 besitzt Vorsprünge und eine Ausbuchtung. So kann die Beschränkung in der Laufrichtung des verdampften Materials, das abgeschieden wird, bemerkenswert moderiert werden, wie zuvor beschrieben. Es folgt daraus, dass es möglich ist, einen Träger zu verwenden, der eine große Fläche aufweist und den Träger zu rotieren. 5A und 5B zeigen, dass die Trennwand linear ausgebildet wird. Somit ist es möglich, eine gekrümmte oder gefaltete Trennwand in der vorliegenden Erfindung auszubilden.
Das Prinzip des Ausbildens der Trennwand 13 wird anhand von 8A bis 8D beschrieben. Wie in 8A gezeigt, wird eine negative Resistschicht 32, die eine UV-absorbierende Substanz oder ein färbendes Material enthält, im Wesentlichen auf der gesamten Oberfläche eines Substrats 31 ausgebildet (welches dem Träger 11 entspricht, der die ersten Elektrodenreihen 12 aufweist, die darauf gebildet sind, wie in 4A gezeigt), gefolgt von Aussetzen der Resistschicht 32 einem UV-Licht (bezeichnet durch Pfeile in der Figur), wobei eine Photomaske 33 mit Licht transmittierenden Abschnitten 33a verwendet wird, die in einem zweckmäßigen Pitch angeordnet sind. Folglich wird der belichtete Bereich der Resistschicht 32 in einer vorbestimmten Tiefe photosensibilisiert, um einen photosensibilisierten Abschnitt 32a auszubilden. Es sei angemerkt, dass das UV-Licht die UV-absorbierende Substanz oder das färbende Material absorbiert wird, das in der Resistschicht 32 enthalten ist. Daher kann das UV-Licht nicht tief innerhalb der Resistschicht 32 transmittiert werden und so wird der untere Abschnitt der Resistschicht 32 nicht dem UV-Licht ausgesetzt. Wenn eine Entwicklung unter dieser Bedingung durchgeführt wird, wird der unbelichtete Abschnitt in dem Oberflächenbereich der Resistschicht 32 entfernt, obwohl der photosensibilisierte Abschnitt 32 nicht-entfernt belassen wird (8B). Da der ganze untere Abschnitt der Resistschicht 32 nicht dem UV-Licht ausgesetzt wird, schreitet die Entwicklung ferner seitwärts voran, um eine sich verjüngende Ausbuchtung auszubilden (8C). Wenn die Entwicklungsbedingungen zweckmäßig ausgewählt werden, ist es möglich, die Trennwand 13 mit einer Ausbuchtung auszubilden, die länger als die Vorsprünge sind (8D).
Im Übrigen ist es, da der positive Photoresist in dessen Licht-ausgesetzten Abschnitt aufgelöst wird, unmöglich, die vorstehend bemerkte Verarbeitung, die auf den negativen Photoresist angewendet wurde, auf einen positiven Photoresist anzuwenden.
Wenn Nachbrennen in der vorliegenden Erfindung angewendet wird, nachdem im Wesentlichen die gesamte Oberfläche der Trennwand 13 mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht bestrahlt wird, ist es möglich, eine im Wesentlichen vollständige Deformierung der Trennwand in dem Nachbrennschritt zu eliminieren.
Die UV-absorbierende Substanz, die in dem negativen Photoresist vermischt ist, beinhaltet z.B. organische UV-absorbierende Substanzen, die herkömmlicherweise als gewöhnliche UV-absorbierende Substanzen verwendet werden, wie etwa Benzophenone, Phenylsalicysäuren, Cyanoacrylate, Benzotriazole, Oxalsäureanilide, und Triazine und/oder anorganische UV-absorbierende Substanzen, die als gewöhnliche UV-absorbierende Substanzen verwendet werden, wie etwa Glaspulver, Ceroxid, Kohlenstoff, Titandioxid, Zinkoxid und Eisenoxid, genau so wie deren Kombination. Andererseits ist es erwünscht, ein färbendes Material, ein schwarzes Pigment oder ein gemischtes Pigment aus Rot, Grün und Blau zu verwenden, um zu ermöglichen, dass die Trennwand auch die Funktion eines schwarzen Streifens leistet. Jedoch kann, wenn es einfach beabsichtigt ist, die Trennwand auszubilden, ein einziges Farbpigment verwendet werden. Es ist auch möglich, eine Mehrzahl von färbenden Materialien zu verwenden. Ferner können ein einzelnes oder eine Mehrzahl von färbenden Materialien in Kombination mit der UV-absorbierenden Substanz verwendet werden.
Nach Bildung der Trennwand 13, wie vorstehend beschrieben, werden eine organische EL Mediumschicht 21 und eine zweite Elektronenreihe 22 aufeinander folgend durch ein Dampfphasenabscheidungsverfahren, wie etwa ein Dampfabscheidungsverfahren, wie in 6A und 6B gezeigt, ausgebildet. Die organische EL Mediumschicht 21 und die zweite Elektronenreihe 22 werden auf der oberen Oberfläche von jeder der Trennwände 13 ausgebildet und werden auf dem Träger 11 auf eine Weise abgeschieden, um durch die Ausbuchtungen der Trennwand 13 derart separiert zu werden, dass sie automatisch gemustert werden. Der Hauptabschnitt der zweiten Elektrodenreihe 22/EL Mediumschicht 21 wird direkt auf der ersten Elektrodenreihe 12 ausgebildet. Jedoch erstreckt sich der Kantenabschnitt von jeder der zweiten Elektrodenreihe 22 über die Ausbuchtung in einem unteren Abschnitt der Trennwand 13, um so weg von der ersten Elektrodenreihe 12 positioniert zu werden. Dies ist, da die Ausbuchtung sich moderat derart verjüngt, dass deren Kantenwinkel nicht größer als 45° ist. Folglich ist es möglich, den Isolierungszusammenbruch zu unterdrücken. Es sei auch angemerkt, dass, wenn die Ausbuchtung länger als die Vorsprünge der Trennwand ist, die organische EL Mediumschicht 21 und die zweite Elektrodenreihe 22 durch vertikale Dampfabscheidung ausgebildet werden können.
Die zweite Elektrodenreihe 22 kann hergestellt werden, um sich über die Kante der organischen EL Mediumschicht 21 zu erstrecken, um zu ermöglichen, dass die organische EL Mediumschicht 21 vollständig mit der zweiten Elektrodenreihe 22 bedeckt wird, indem auf zweckmäßige Weise die Bedingungen zum Ausbilden der zweiten Elektrodenreihe 22 gesteuert werden. Der besondere Aufbau macht es möglich, zu verhindern, dass die Grenzfläche an der Kathoden Elektroden/der organischen EL Mediumschicht 21 der Außenseite ausgesetzt wird und so verschlechtert wird (siehe 6A und 6B).
In der vorliegenden Erfindung kann die organische EL Mediumschicht 21 als ein Phosphor-enthaltender Einzelschichtfilm oder vielschichtiger Film ausgebildet werden, wie in der Technik bekannt ist.
Es ist für die organische EL Mediumschicht 21 möglich, von eine zweischichtigen Struktur zu sein, die aus einer Kombination einer Locheinspritz-Transferschicht und einer Elektronen übertragenden Licht-emittierenden Schicht oder einer anderen Kombination aus einer Elektronen übertragenden Licht-emittierenden Schicht und eine Elektronen übertragenden Schicht besteht. Es ist für die organische EL Mediumschicht 21 auch möglich, von einer dreischichtigen Struktur zu sein, die aus einer Locheinspritz-Übertragungsschicht, einer Licht-emittierenden Schicht, und einer Elektronen übertragenden Schicht besteht. Die organische EL Mediumschicht 21 kann ferner zusätzliche Schichten umfassen. In diesem Fall werden die Schichten, die die organische EL Mediumschicht 21 zusammensetzen, aufeinander folgend auf dem Substrat ausgebildet.
Das Locheinspritz-Transfermaterial kann ausgewählt werden aus: Metallphthalocyaninen, die Kupferphthalocyanin und Tetra(t-butyl)kupferphthalocyanin einschließen, metallfreien Phthalocyaninen, Chinacridon-Verbindungen, Locheinspritz-Transfermaterialien der aromatischen Aminreihen mit einem niedrigen Molekulargewicht, wie etwa 1,1-Bis(4-di-p-tolylaminophenyl)cyclohexan, N,N'-Diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamin und N,N'-Di(1-naphtyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamin, Lochtransfermaterialien mit einem hohen Molekulargewicht, wie etwa Polyanilin, Polythiophenoligomermaterial, und anderen bekannten Lochtransfermaterialien.
Das Licht-emittierende Material beinhaltet z.B.: 9,10-Diarylanthracen, Pyrol, Coronen, Perylen, Rublen, 1,1,4,4-Tetraphenylbutadien, Tris(8-chinolat)aluminium-Komplex, Tris(4-methyl-8-chinolat)aluminium-Komplex Bis (8-chinolat)zink-Komplex, Tris(4-methyl-5-trifluormethyl-8-chinolat)aluminium-Komplex, Bis(2-methyl-5-trifluormethyl-8-chinolat[4-(4-Cyanophenyl)phenolat]aluminium-Komplex, Bis(2-methyl-5-cyano-8-chinolinolato)[4-(4-cyanophenyl)phenolat)aluminium-Komplex, Tris(8-chinolinolat)scandium-Komplex, Bis[8-(p-tolyl)aminochinolin)zink-Komplex und Cadmium-Komplex, 1,2,3,4-Tetraphenylcyclopentadien, Pentaphenyl, Cyclopentadien, Poly-2,5-diheptyloxy-p-phenylenvinylen, Cumarinphosphor, Perylenphosphor, Pyranphosphor, Anthronphosphor, Polyphyrenphosphor, Chinacridonphosphor, N,N'-Dialkyl-substituiertes Chinacridonphosphor, Naphthalimidphosphor und N,N'-Diaryl-substituiertes Pyrrolopyrrolphosphor. Diese Licht-emittierenden Materialien können allein oder in Kombination mit einem anderen Material mit niedrigem Molekulargewicht oder einem Material mit hohem Molekulargewicht verwendet werden.
Das Elektronen übertragende Material beinhaltet z.B.: 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-t-butylphenyl)-1,3-4-oxadiazol, 2,5-Bis(1-naphtyl)-1,3,4-oxadiazol, 2,5-Bis(1-naphtyl)-1,3,4-oxadiazol, Oxadiazolderivate, das von Hamada et al. synthetisiert wurde (Japan, Chemical Institute Magazin, Seite 1540, 1991),
Bis(10-hydroxybenzol[h]chionolinolat)beryllium-Komplex, und Triazol-Verbindungen, die in der japanischen Patentoffenbarung (Kokai) Nr. 7-90360 offenbart sind.
Die organische EL Mediumschicht 21 kann durch ein Vakuumverdampfungsabscheidungsverfahren ausgebildet werden. Die Dicke der Schicht 21 sollte vorzugsweise 1 μM oder weniger, weiter bevorzugt 50 bis 150 nm in jedem der Fälle, wo die Schicht 21 aus einer Einfachschichtstruktur und aus Vielfachschichtstruktur ist.
Es ist erwünscht, ein Material mit einer hohen Elektroneneinspritzeffizienz zum Ausbilden der Kathodenelektronenreihe zu verwenden. Im Einzelnen können ein Elementmetall, wie etwa Magnesium, Aluminium oder Ytterbium verwendet werden. Die Elektrodenreihe kann zudem ausgebildet werden, indem eine Schicht aus Lithium, Lithiuoxid oder Lithiumfluorid in einer Dicke von ungefähr 1 nm in direktem Kontakt mit der organischen EL Mediumschicht ausgebildet wird, gefolgt von Laminieren einer Aluminium- oder Kupferschicht mit einer hohen Stabilität und einer hohen elektrischen Leitfähigkeit auf der Lithiumschicht oder dergleichen.
Alternativ kann, um sowohl die Elektroneneinspritzeffizienz als auch die Stabilität zu erfüllen, die zweite Elektrodenreihe ausgebildet werden, indem eine Legierung verwendet wird, die wenigstens eines aus Metallen mit einer niedrigen Arbeitsfunktion enthält, wie etwa Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y und Yb, und wenigstens eines aus stabilen Metallen, wie etwa Ag, Al, und Cu. Zum Beispiel können eine Mg-Ag Legierung, eine Al-Li Legierung oder eine Cu-Li Legierung verwendet werden, um die zweite Elektrode auszubilden.
Die Kathodenelektrodenreihe kann mittels eines Widerstandserhitzungsverdampfungsabscheidungsverfahrens, eines Elektronenstrahldampfabscheidungsverfahrens, eines reaktiven Dampfabscheidungsverfahrens, und eines Ionenplattierverfahrens oder eines Sputter-Verfahrens abhängig von dem Kathodenelektrodenmaterial, das verwendet wird, ausgebildet werden. Die Dicke der Kathodenelektrode sollte vorzugsweise ungefähr 10 nm bis 1 μM betragen.
Schließlich wird eine Abdichtungsschicht 23 im Allgemeinen ausgebildet, wie in 7A und 7B gezeigt. Die Abdichtungsschicht 23 dient dazu, zu verhindern, dass die Kathodenelektrodenreihe und die organische EL Mediumschicht 21 durch Wasser und Sauerstoff verschlechtert werden.
Im Übrigen kann eine Farbanzeige erhalten werden, wenn Farbfilterschichten aus Rot (R), Grün (G) und Blau (B) unterhalb der transparenten Elektrode in dem Fall der Verwendung eines organischen EL Mediums, das weißes Licht emittiert, ausgebildet werden. Zudem kann eine Vollfarbanzeige erreicht werden, wenn rotes und grünes fluoreszierendes Licht umwandelnde Filme in einem unteren Abschnitt der transparenten Elektrode in dem Fall der Verwendung eines blauen organischen EL Mediums ausgebildet werden. In diesem Fall macht es das Vorhandensein einer Mehrzahl von Trennwänden für das EL Medium von jeder Farbe möglich, vollständig eines von dem anderen separiert und laminiert zu werden, indem ein Maskendampfabscheidungsverfahren verwendet wird. Zudem werden die Maske und die organische EL Mediumschicht voneinander entfernt gehalten, und das EL Medium wird nicht diffundiert.
Es muss nicht besonders betont werden, dass das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement und das organische EL Anzeigeelement, das das besondere Substrat verwendet, durch das vorstehend beschriebene Verfahren sogar in dem Fall verwendet werden können, wo die ersten und zweiten Elektroden jeweils die Kathode und die Anode zusammensetzen.
Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung, das in 1 gezeigt wird, wird anhand von 9A bis 12B nun beschrieben.
In dem ersten Schritt werden eine Mehrzahl von Streifenersten Elektrodenreihen 12 (Anodenreihen in dieser Ausführungsform) auf dem Träger 11 ausgebildet, wie in 9A und 9B durch das in Verbindung mit 5A und 5B zuvor beschriebene Verfahren gezeigt. Dann wird die gesamte obere Oberfläche der ersten Elektrodenreihen 12, die auf dem Träger 11 ausgebildet sind, mit einer negativen Photoresistschicht 32 beschichtet, wie in 10A und 10B gezeigt, wobei die Photoresistschicht 32 eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie, zur vollen Verbindung mit 8A und 8B beschrieben wurde, enthält.
Nachdem die Beschichtung der negativen Photoresistschicht 32 vorgebrannt wird und, dann, eine Photomaske 41 mit einer Mehrzahl von Licht-transmittierenden Abschnitten 41a, die geformt sind, um mit den Gestalten der oberen Oberflächen der Trennwände, die jeweils Ausbuchtungen besitzen, konform zu sein, auf der oberen Oberfläche der vorgebrannten negativen Photoresistschicht 32 angeordnet. Unter diesen Bedingungen wird die negative Photoresistschicht 32 mit einem UV-Licht 42 bestrahlt. Folglich werden die oberen Oberflächenbereiche 132' der Schicht 32, die den oberen Abschnitten 132 (sieh 3) der Trennwände entspricht, die jeweils Vorsprünge besitzen, dem UV-Licht ausgesetzt. Daher wird der obere Oberflächenbereich 132', der eine vorbestimmte Tiefe von der Oberfläche der Photoresistschicht 32 besitzt, durch das UV-Licht 42 sensibilisiert. Jedoch wird das UV-Licht 42 durch die UV-absorbierende Substanz oder die färbende Materie, die in der Photoresistschicht 32 enthalten ist, absorbiert, wobei sie keinen Bereich unterhalb des oberen Oberflächenbereichs 132' erreicht. Natürlich wird der Bereich unterhalb des oberen Oberflächenbereichs 132' nicht gegenüber dem UV-Licht ausgesetzt. Die Lichtaussetzung in diesem Schritt verwendet das UV-Licht, das von oberhalb des Trägers 11 emittiert wurde, und wird so hierin eine Frontoberflächenlichtaussetzung genannt.
Dann wird die Photomaske 41 entfernt.
Nachdem die Frontoberflächenlichtaussetzung wie vorstehend beschrieben ausgeführt wurde, wird eine Photomaske 43 mit einer Mehrzahl von Licht-transmittierenden Abschnitten 43a die geformt sind, um mit den Gestalten der Bodenabschnitte der Trennwände konform zu sein, auf der rückwärtigen Oberfläche des Trägers 11 angeordnet, wie in 11A und 11B gezeigt. Dann werden die Bodenoberflächenbereiche 133', die geformt sind, um mit den Bodenabschnitten der Trennwände konform zu sein (siehe den Bodenabschnitt 133, der in 2 gezeigt wird), einem UV-Licht 44 ausgesetzt, das von unterhalb des Trägers 11 emittiert wird. Wie vorstehend beschrieben, tritt das UV-Licht durch den Licht-transmittierenden Träger 11 und die transparente erste Elektronenreihe 12, um den Bodenoberflächenbereich 133' mit einer vorbestimmten Tiefe von der rückwärtigen Oberfläche der Photoresistschicht 32 zu erreichen, um so den Bodenoberflächenbereich 133' zu sensibilisieren. Jedoch kann, das das UV-Licht durch die UV-absorbierende Substanz oder die färbende Materie, die in der Photoresistschicht 32 enthalten ist, absorbiert wird, das UV-Licht 44 nicht einem Bereich oberhalb des Bodenoberflächenbereichs 133' erreichen. Natürlich wird der Bereich oberhalb des Bodenoberflächenbereichs 133' nicht dem UV-Licht ausgesetzt. Die Lichtaussetzungen in diesem Schritt verwendet das UV-Licht 44, das von unterhalb des Trägers 11 emittiert wurde, und wird so hierin eine rückwärtige Oberflächenlichtaussetzung genannt.
Dann wird die Photomaske 43 entfernt.
In dem nächsten Schritt wird die Photoresistschicht 32 mit den oberen Oberflächenbereichen 132' und den Bodenoberflächenbereichen 133', die dem UV-Licht ausgesetzt wurden, unter Verwendung einer Entwicklungslösung entwickelt. In diese Entwicklungsbehandlung wird der nicht-ausgesetzte Abschnitt der Photoresistschicht 32 in der Entwicklungslösung aufgelöst, um so entfernt zu werden. Die Entfernung beginnt von der oberen Oberfläche des nicht-ausgesetzten Abschnitts und schreitet auch seitwärts in einen Bereich unterhalb des oberen Oberflächenbereichs 132' voran, um so die sich verjüngenden Seitenoberflächen 131a, 131b auszubilden (siehe auch 1), die moderat gekrümmt sind, um beide Kanten auf der oberen Oberfläche des Bodenoberflächenbereichs 133' zu erreichen, wodurch eine Mehrzahl von Trennwänden 13 ausgebildet werden, die jeweils Vorsprünge in dem oberen Abschnitt und eine Ausbuchtung in dem unteren Abschnitt besitzen, wie in 2 und 3 gezeigt. 12A und 12B zeigen, dass die Trennwände 13 voneinander entfernt positioniert sind und sich in einer Richtung erstrecken, die senkrecht zu den ersten Elektrodenreihen 12 ist.
Schließlich wird Nachbrennen mittels Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht ausgeführt, um die Herstellung des Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden. Im Übrigen können die Frontoberflächen Lichtaussetzung (erste Lichtaussetzung) und die rückwärtige Oberflächenlichtaussetzung (zweite Lichtaussetzung) in der umgekehrten Reihenfolge, oder gleichzeitig ausgeführt werden.
Indem die Lichtaussetzung auf den Bereich angewendet wird, der dem Bodenabschnitt der Trennwand entspricht, zusätzlich zu der Lichtaussetzung auf dem Bereich, der dem oberen Abschnitt der Trennwand entspricht, ist es auch möglich, genau die Breite der Ausbuchtung der Trennwand zu definieren. Folglich ist es möglich, ein organisches EL Anzeigelement herzustellen, das eine geringere Ungleichförmigkeit in der Größe der Pixel besitzt.
13, welche auf eine bevorzugte Ausführungsform eines ersten Aspektes der vorliegenden Erfindung gerichtet ist, zeigt eine Mehrzahl von Trennwänden 13, wie von oben gesehen. In dieser Ausführungsform sind eine Mehrzahl von Verbindungsbändern 51 zwischen benachbarten Trennwänden 13 angeordnet. Jedes Verbindungsband 51 dient dazu, die benachbarten Trennwände 13 miteinander an den unteren Abschnitten zu verbinden. Wie in 13 gezeigt, werden eine Mehrzahl der Trennwände 13, die wie in 2 und 3 gezeigt, aufgebaut sind, in einem vorbestimmten Abstand voneinander entfernt angeordnet. Es sei angemerkt, dass die benachbarten Trennwände 13 miteinander durch eine Mehrzahl der Verbindungsbändern 51 an den unteren Endabschnitten verbunden sind, d.h. an den Bodenabschnitt 133, die in 2 gezeigt werden. Wie hierin nachstehend beschrieben, sollten die Verbindungsbänder 51 in erwünschter Weise angeordnet werden, um den Freistand zwischen benachbarten ersten Elektrodenreihen (nicht gezeigt) zu füllen und sie einander gegenüberstehenden Kantenabschnitten der benachbarten ersten Elektrodenreihen zu bedecken.
Diese Verbindungsbänder 51 erlauben effektiv, das Kurzschließen an dem Seitenkantenabschnitt der ersten Elektrodenreihe zwischen den ersten und zweiten Elektrodenreihen zu verhindern. Um genauer zu sein, die Seitenoberfläche mit Ausbuchtung der Trennwand erlaubt es, zu verhindern, dass das Kurzschließen an der Seitenkante der zweiten Elektrode zwischen der zweiten Elektrodenreihe und der ersten Elektrodenreihe stattfindet. Jedoch ist es, wo die Filmdicke zum Herabsetzen des elektrischen Widerstands der ersten Elektrodenreihe erhöht wird, möglich, dass die organische EL Mediumschicht an den gestuften Seitenabschnitt der dicken ersten Elektrodenreihe gebrochen wird. Zudem besteht die Tendenz, dass Kurzschließen an den gestuften Kantenabschnitt der dicken ersten Elektrode zwischen den ersten und zweiten Elektrodenreihen stattfindet. Das Verbindungsband 51 dient dazu, effektiv den Zusammenbruch oder das Kurzschließen des gestuften Abschnitts zu verhindern.
14A bis 15B zeigen zusammengenommen, wie ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das wie in 13 gezeigt, aufgebaut ist, hergestellt wird.
In dem ersten Schritt werden die ersten Elektrodenreihen 12 auf den Träger 11, wie vorstehend in Zusammenhang mit 4A und 4B gezeigt, ausgebildet, gefolgt von Ausbilden der negativen Photoresistschicht 32, die ein UV-absorbierende Substanz enthält, und anschließend auf Enden der Vorderseitenoberflächenlichtbelichtung auf die Photoresistschicht 32. Dann wird die rückwärtige Oberflächenlichtbelichtung angewendet, indem eine Photomaske verwendet wird, die sich von derjenigen unterscheidet, die zuvor in Zusammenhang mit 11A und 11B beschrieben wurde.
Um genauer zu sein, wird eine Photomaske 43', die in 14A und 14B gezeigt wurde, in dieser Ausführungsform verwendet. Die Photomaske 43' wird mit einer Mehrzahl von ersten Licht-transmittierenden Fenstern 43a ausgestattet, die geformt sind, um mit der Gestalt der Bodenabschnitte 133 der Trennwände und mit einer Mehrzahl von zweiten Licht-transmittierenden Fernstern 43b konform zu sein, die geformt sind, um mit der Gestalt der Verbindungsbänder 51 konform zu sein (siehe 13). Die zweiten Fenster 43b sollten vorzugsweise angeordnet sein, um zu ermöglichen, dass der Freistand zwischen benachbarten ersten Elektrodenreihen 12 und Seitenkantenabschnitten 12a, 12b, welche einander gegenüberstehen, der benachbarten ersten Elektrodenreihen 12, belichtet werden.
Die Belichtung der rückwärtigen Oberfläche wird in Zusammenhang mit 11A und 11B beschrieben, durchgeführt, indem die Photomaske 43' verwendet wird, um so Bereiche 133 auszusetzen, welche den Bodenabschnitten der Trennwände entsprechen, des Photoresistfilms 32 und Bereiche 51' die Verbindungsbändern entsprechen.
Dann wird die Photoresistschicht 32, wie zuvor beschrieben, entwickelt, um so eine Mehrzahl von Trennwänden 13 zu erhalten, wie in 15A und 15B gezeigt. Jede Trennwand 13 besitzt Vorsprünge in einem oberen Abschnitt und eine Ausbuchtung in einem unteren Abschnitt. Zudem sind die Trennwände 13 derart geformt, dass die unteren Abschnitte mit Ausbuchtungen der benachbarten Trennwände 13 miteinander durch eine Mehrzahl von Verbindungsbändern 51 verbunden sind. Wie zuvor beschrieben, ist es erwünscht, jedes Verbindungsband 51 auszubilden, um die Seitenkanten 12a, 12b zu bedecken, die jeder anderen der benachbarten ersten Elektrodenreihen gegenüberstehen. In diesem Fall ist es möglich, das Kurzschließen der später ausgebildeten, zweiten Elektrodenreihe und der ersten Elektrodenreihe 12 an den Seitenkanten 12a, 12b der benachbarten ersten Elektrodenreihen 12 vollständig zu verhindern.
Schließlich wird Nachbrennen nach Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht angewendet, um so die Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden.
17A bis 17B zusammengenommen ein anderes Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement, das wie in 13 gezeigt aufgebaut ist. In diese Ausführungsform werden Farbfilter im Vorhinein auf dem Träger 11 ausgebildet und diese Farbfilter werden als eine Photomaske beim Durchführen der rückwärtigen Oberflächenlichtaussetzung verwendet.
In dem ersten Schritt werden im Wesentlichen rechteckige Farbfilter 61 mit drei Farben von R, G, B durch das gewöhnliche Verfahren auf dem Träger 11 ausgebildet, wie in 16A und 16B gezeigt. Diese Farbfilter 61 sind angeordnet, um Reihen und Spalten der Farbfilter derart auszubilden, dass ein gitterförmiger Freistand dazwischen ausgebildet wird. Dann wird eine Überbeschichtungsschicht 62 auf der gesamten Vorderseitenoberfläche des Trägers 11 ausgebildet, um die Farbfilter 61 zu bedecken. Wie weithin auf diesem technischen Gebiet bekannt, kann die Überschichtungsschicht 62, welche die Oberfläche abflachen soll und die Farbfilter 61 beschützen soll, mit einem transparenten Harz ausgebildet werden. Die ersten Elektrodenreihen 12 werden auf der Überbeschichtungsschicht 62 ausgebildet. Es muss nicht besonders betont werden, dass jede der ersten Elektrodenreihen 12 angeordnet ist, um eine Mehrzahl von Farbfiltern 61, die einzelne Reihe ausbilden, zu bedecken, und eine Breite besitzt, die größer als die Breite der Reihe der Farbfilter ist, wie in 16A gezeigt. Es folgt daraus, dass der Freistand zwischen benachbarten ersten Elektrodenreihen 12 kleiner als der Freistand zwischen benachbarten Reihen der Farbfilter ist.
In dem nächsten Schritt wird die negative Photoresistschicht 32, die eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie enthält, ausgebildet, gefolgt von der Vorderseitenoberflächenlichtaussetzung, um Bereiche 132' zu belichten, die den oberen Abschnitten der Trennwände entsprechen. Dann wird die rückwärtige Oberflächenlichtaussetzung durchgeführt, um Bereiche 133', die den Bodenabschnitten der Trennwände entsprechen, einem UV-Licht auszusetzen, ohne neu gebildete Photomaske zu verwenden. In diesem Schritt werden die Farbfilter 61 als eine Photomaske verwendet. Es sei angemerkt, dass das UV-Licht durch den gitterförmigen Freistand zwischen benachbarten Farbfiltern 61 tritt. Es folgt daraus, dass nicht nur die Bereiche 133'; die den Bodenabschnitten der Trennwände entsprechen, sondern auch Bereiche 51', die den Verbindungsbändern entsprechen, dem UV-Licht ausgesetzt werden, wobei die Bereich 133' und 51' in der Photoresistschicht 32 eingeschlossen sind.
Dann werden die Trennwände 13 wie in 17A und 17B gezeigt, ausgebildet, indem die Photoresistschicht 32 entwickelt wird.
Schließlich werden eine Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht und Nachbrennen durchgeführt, um die Herstellung des Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden. Im Übrigen können die erste Lichtbelichtung und die rückwärtige Oberflächenlichtaussetzung in der umgekehrten Reihenfolge oder gleichzeitig durchgeführt werden.
18A bis 18C sind Querschnittsansichten, die schematisch ein anderes Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das wie in 1 oder 13 aufgebaut ist. In dieser Ausführungsform wird die Belichtung der Vorderseitenoberfläche zweimal ausgeführt.
In dem ersten Schritt werden die ersten Elektrodenreihen 12 auf den Träger 11 ausgebildet, wie in 18A gezeigt, gefolgt von Ausbilden der negativen Photoresistschicht 32, die eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie enthält, und anschließendes Belichten der Vorderseitenoberfläche, um die Bereiche 132' die den oberen Abschnitten der Trennwänden entsprechen, einem UV-Licht auszusetzen. Dann wird die Photoresistschicht 32 teilweise mit einer Entwicklungslösung entwickelt. Um genauer zu sein, wird die Photoresistschicht 32 entwickelt, um zu ermöglichen, dass die Ausbuchtungen der Trennwände, von oben gesehen, aus den Spitzen der Vorsprünge vorragen, und wird gestoppt, um zu verhindern, dass diejenigen Abschnitte der Photoresistschicht 32, die zwischen den benachbarten Breichen positioniert sind, die den Trennwänden entsprechen, vollständig entfernt werden. Mit anderen Worten, die Photoresistschicht 32 wird entwickelt, um zu ermöglichen, dass kontinuierliche dünne Filmabschnitte 511 nicht-entfernt zwischen benachbarten Trennwandbereichen verbleiben.
Dann wird eine Photomaske 71 von der oberen Seite der Struktur, die in 18A gezeigt wird, angeordnet, wie in 18B gezeigt. Die Photomaske 71 beinhaltet schlitzähnliche Licht-transmittierende Abschnitte 71a, die jeweils eine Breite besitzen, die der Breite des Bodenabschnitts 133 (siehe 2) von jeder der Trennwände und undurchsichtigen Abschnitten 71b entsprechen, die oberhalb der kontinuierlichen Dünnfilmabschnitte 511 positioniert sind. Vorzugsweise sollte die Photomaske 71 auch Licht-transmittierende Abschnitte (nicht gezeigt) einschließen, die den Verbindungsbändern 51 entsprechen (siehe 13). In diesem Fall bestimmt die Dicke in dem zentralen Abschnitt des kontinuierlichen Dünnfilmabschnitts 511 die Dicke des Verbindungsbandes 51. Wenn die Vorderseitenoberflächenlichtbelichtung durchgeführt wird, indem eine Photomaske 71 und das UV-Licht 72 verwendet wird, das von oberhalb des Trägers emittiert wurde, wirken die Bereiche 132', die den oberen Abschnitten der Trennwände entsprechen, auch als eine Maske. Folglich werden die Bereiche 511a der kontinuierlichen Dünnfilmabschnitte 511, wobei die Bereiche 511a den Spitzenabschnitten der Ausbuchtungen der Trennwände entsprechen, selektiv mit UV-Licht belichtet.
Dann wird die Struktur, die in 18B gezeigt wird, entwickelt. 18C, um die Trennwände 13 aus, die wie in 1 oder 13 gezeigt, aufgebaut sind (18C).
19A bis 19D sind Querschnittsansichten, die zusammengenommen zeigen, wie ein organisches Elektrolumineszenz-(EL)Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung hergestellt wird.
Ein Substrat 80 für ein organisches EL Anzeigeelement, das wie in 13 gezeigt, aufgebaut ist, wird wie in 19A gezeigt, hergestellt.
Dann wird ein organisches EL Medium 21 in wenigstens jedem der Bereiche zwischen benachbarten Trennwänden 13 ausgebildet, wie in 19B gezeigt. Dampfabscheidungsstrahlen zum Ausbilden des organischen EL Mediums werden als Pfeile 211 in 19B bezeichnet. Die Dampfabscheidung kann durchgeführt werden, während das Substrat 80 rotiert wird. 19B zeigt, dass die Dampfabscheidungsstrahlen 211 in einer Richtung laufen, die im Wesentlichen senkrecht zu Träger 11 ist. Durch diese Dampfabscheidung wird das organische EL Medium 21 zwischen benachbarten Trennwänden 13 ausgebildet, auf den gegenseitig sich gegenüberstehenden Abschnitten mit Ausbuchtungen der benachbarten Trennwände 13, und auf den Spitzen der Trennwände 1.3. Mit anderen Worten das organische EL Medium wird durch das Vorhandensein der Trennwände 13 gleichzeitig mit der Dampfabscheidung gemustert.
In dem nächsten Schritt werden die zweiten Elektrodenreihen 22 in wenigstens den Bereichen zwischen benachbarten Trennwänden 13 ausgebildet, wie in 19C gezeigt. Da die ersten Elektrodenreihen 12 die Anode zusammensetzen, setzen die zweiten Elektrodenreihen 22 natürlich die Kathode zusammen.
Es ist erwünscht, die zweiten Elektrodenreihen 22, d.h. die Kathode, auszubilden, während das Substrat 80 rotiert wird.
Wenn der Strahl 221 des zweiten Elektrodenmaterials auf das gesamte Substrat 80 gerichtet wird, während das Substrat rotiert wird, kommt der zweite Elektrodenmaterialstrahl 221 bei dem Substrat 80 in einer Richtung an, die einigermaßen relativ zu dem Substrat 80 geneigt ist. Folglich bedeckt die zweite Elektrodenreihe 22 das organische EL Medium 21, das zwischen benachbarten Trennwänden 13 positioniert ist und erstreckt sich über die Seitenwand von jeder Trennwand 13 mit Ausbuchtungen. Zudem wird das organische EL Medium 21 auch auf der oberen Oberfläche der Trennwand 13 ausgebildet. Mit anderen Worten ermöglicht das Vorhandensein der Trennwände 13, dass die zweiten Elektrodenreihen 22 gemustert werden, wenn sie gebildet werden. Auf diese Weise ist die zweite Elektrodenreihe 22, die zwischen benachbarten Trennwänden 13 positioniert ist, vollständig von der ersten Elektrodenreihe 12 isoliert.
Schließlich wird eine gewöhnliche Abdichtungsschicht 23 gebildet, um zu verhindern, dass die Kathode und das organische EL Medium durch Wasser oder Sauerstoff verschlechtert werden. Wenn die gesamte Oberfläche des Substrats 80 mit einem Abdichtungsmaterialstrahl 231 bestrahlt wird, während das Substrat 80 rotiert wird, wird die Abdichtungsschicht 23 auch gemustert, wenn sie gebildet wird. Folglich wird die Abdichtungsschicht 23 gebildet, um die zweite Elektrodenreihe 22 abzudecken, die zwischen benachbarten Trennwänden 13 positioniert ist, und erstreckt sich über die Seitenwand mit Ausbuchtungen der Trennwand 13. Die Abdichtungsschicht 23 wird zudem gebildet, um die obere Oberfläche der zweiten Elektrodenreihe 22 abzudecken, die auf der oberen Oberfläche der Trennwand 13 positioniert ist und die Seitenoberflächen des oberen Abschnittes der Trennwand 13, das organische EL Medium 21 und die zweite Elektrodenreihe 22, die in dem oberen Abschnitt der Trennwand 13 positioniert ist, abzudecken.
20A bis 20I zeigen zusammengenommen ein Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement und ein Anzeigeelement, das das besondere Substrat verwendet.
In dem ersten Schritt wird die gesamte Oberfläche eines Trägers 911, der dem Träger 11, der vorstehend beschrieben wurde, ähnlich ist, mit einer negativen Photoresistschicht 912 beschichtet, die eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie enthält, wie in 20A gezeigt, gefolgt von Trocknen der Photoresistschicht 912. Die negative Photoresistschicht 912 ist der zuvor beschriebenen negativen Photoresistschicht 32 ähnlich.
In dem nächsten Schritt werden eine UV-Lichtaussetzung und Entwicklung durchgeführt, indem eine Photomaske (nicht gezeigt) mit Licht-transmittierenden Abschnitten, die bei einem vorbestimmten Abstand ausgebildet sind, verwendet wird, um so eine gestreifte elektrische Isolierungsschicht 913 auszubilden, wie in 20B gezeigt. In dem Schritt der Lichtbelichtung, wird ein Oberflächenbereich mit einer vorbestimmten Tiefe von der Oberfläche der Photoresistschicht 912 sensibilisiert. Dann jedoch das UV-Licht durch die UV-absorbierende Substanz oder färbende Materie, die in der Photoresistschicht 912 enthalten ist, absorbiert wird, kann das UV-Licht nicht einem Bereich unterhalb des Oberflächenbereichs, der vorstehend bemerkt wurde, erreichen. Daher wird der untere Bereich der Photoresistschicht 912 nicht mit UV-Licht belichtet. Wenn die Photoresistschicht unter diesen Bedingungen entwickelt wird, wird der unbelichtete Abschnitt entfernt, obwohl der belichtete Abschnitt in dem Oberflächenbereich der Photoresistschicht 912 nicht in der Entwicklungslösung aufgelöst wird, um so nicht-entfernt zu verbleiben. Wenn die Bedingungen für die Lichtaussetzung und die Entwicklung zweckmäßig ausgewählt werden, ist es möglich, die elektrische Isolierungsschicht 913, die sich invers verjüngt, wie in 20B gezeigt, auszubilden.
Dann wird eine elektrisch leitende Materialschicht 914 auf der gesamten Oberfläche des Trägers 911 mit der elektrisch isolierenden Schicht 913, die darauf ausgebildet ist, ausgebildet, wie in 20C gezeigt. Zum Ausbilden der leitenden Materialschicht 914 ist es erwünscht, ein Metallmaterial zu verwenden, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die auf Ni, Cu, Cr, F, Co, Au, Ag, Pt, Rh, Pd, Pb, Sn und einer Legierung, die wenigstens eines dieser Metallelemente enthält, besteht. Die leitende Materialschicht 914 kann z.B. ausgebildet werden durch ein Sputter-Verfahren.
Wie in 20C gezeigt wird die leitende Materialschicht 914 ausgebildet, um die Oberfläche des Trägers 911, die zwischen benachbarten elektrischen isolierenden Schichten 913 und der oberen Oberfläche der isolierenden Schicht 913 positioniert ist, zu bedecken. Wenn die isolierende Schicht 913 sich invers verjüngt, wird ein im Wesentlichen gestreifter Abschnitt 914a zwischen benachbarten isolierenden Schichten 913 ausgebildet, und ein Freistand 915 wird zwischen der Seitenoberfläche des gestreiften Abschnitts 914a und der Seitenoberfläche der isolierenden Schicht 91 ausgebildet. Der gestreifte Abschnitt 914a der leitenden Materialschicht 914 entspricht einem Abschnitt 914b, der auf der oberen Oberfläche der isolierenden Schicht 913 positioniert ist, über einen dünnen gestuften Abschnitt 914c, der dazwischen ausgebildet ist.
In dem nächsten Schritt wird eine Photoresistschicht 916 auf der leitenden Materialschicht 914, wie in 20D gezeigt, ausgebildet, um eine Maske zum Ätzen der leitenden Materialschicht 914 auszubilden.
Dann wird eine Photoresistschicht 916 bearbeitet, um eine vorbestimmte Ätzmaske 917 auszubilden, gefolgt vom Ätzen der leitenden Materialschicht 914, um eine leitende Busreihe 918 auszubilden. Es sei angemerkt, dass die leitende Busreihe 918 in Kontakt mit der isolierenden Schicht 913 nur auf einer Seite gebracht wird (siehe 20F).
Es ist eine Ausführungsform, die leitende Busreihe 918 in Kontakt mit der elektrischen Isolierungsschicht 913 auf nur einer Seite zu bringen. Um die besondere Struktur auszubilden, wird das Resistmuster 917, das auf der leitenden Materialschicht 914 positioniert ist, geformt, um bei einem Endabschnitt einen der gestuften Abschnitte 914c, welche einander gegenüberstehen, der leitenden Materialschicht und den Abschnitt 914b auf der isolierenden Schicht 913 abzudecken und bei dem anderen Endabschnitt den anderen gestuften Abschnitt 914c auszusetzen, wie in 20E gezeigt. Wenn die leitende Materialschicht 914 unter Verwendung der besonderen Ätzmaske geätzt wird, schreitet das Ätzen durch den ausgesetzten gestuften Abschnitt 914c voran, obwohl der gestufte Abschnitt 914c, der mit der Ätzmaske bedeckt ist, nicht geätzt wird. Folglich ist es möglich, die leitende Busreihe 918 auszubilden, die in ihren nur einseitigen Kontakt mit der isolierenden Schicht 913 gebracht wird (ein Seitenkantenabschnitt 913b der isolierenden Schicht 913 in 20F) in dem Bereich, der dem verbleibenden gestuften Abschnitt 914c entspricht, wie in 20F gezeigt.
Der elektrische Widerstand zwischen beiden Kanten der leitenden Busreihe 918 sollte vorzugsweise so gering wie möglich sein. Im Einzelnen sollte der Widerstand vorzugsweise 1000 Ω oder weniger, weiter bevorzugt 100 Ω oder weniger betragen. Jedoch sollte die Breite von jeder Busreihe 918 vorzugsweise 1/2 oder weniger der maximalen Breite des Pixels, weiter bevorzugt 1/4 oder weniger der maximalen Breite des Pixels sein, um das Transmissionsvermögen des EL Lichts sicherzustellen. Zudem ist es für jede Busreihe 918 erwünscht, eine Breite zu besitzen, die größer als 1/20 der maximalen Breite des Pixels ist, da es schwierig ist, den Widerstand der Busreihe 918 ausreichend herabzusetzen, wenn die Breite der Busreihe 918 kleiner als 1/20 der Breite der ersten Elektrodenreihe ist. Die Höhe von jeder Busreihe 918 sollte vorzugsweise 0,1 μm oder mehr im Allgemeinen betragen. Ferner ist es bevorzugt, jede Busreihe 918 derart auszubilden, dass die obere Oberfläche der Busreihe 918 im Wesentlichen mit der oberen Oberfläche der isolierenden Schicht 913 bündig ist. Im Übrigen sollte die Höhe von jeder Busreihe 918 vorzugsweise 50 μm oder weniger betragen, um zu verhindern, dass die strahlende Richtung des EL Lichts beschränkt wird, um den Sichtwinkel einzuengen.
Zum Beispiel beträgt, wo die erste Elektrodenreihe eine Breite von 100 μm besitzt und eine Busreihe 918 mit einer Länge von 7 cm ausgebildet wird, indem ein auf Kupfer basierendes Metall mit einem spezifischen Widerstand von 2E-6 Ωcm ausgebildet wird, der Widerstand zwischen beiden Kanten der Busreihe 918 ungefähr 10 Ω, wenn die Busreihe 918 eine Breite 25 μm besitzt, welches 1/4 der Pixelbreite ist, und eine Höhe von 5 μm. Der Widerstand von 10 Ω, der vorstehend bemerkt wurde, ist weniger als ein teil pro einigen Million des Widerstands der ersten Elektrodenreihe, die aus z.B. Indiumzinnverbindungsoxid (ITO) allein hergestellt ist. Es folgt daraus, dass es möglich ist, den Energieverlust zu verhindern, der durch den Spannungsabfall über die erste Elektrodenreihe verursacht wird.
Es ist auch bevorzugt, eine Licht-absorbierende Metalloxidschicht (nicht gezeigt) in Kontakt mit dem Träger 911 der leitenden Busreihe 918 auszubilden. In diesem Fall leistet die leitende Busreihe 918 die Funktion eines schwarzen Streifens, um so eine Reflexion des externen Lichts zu verhindern. Folglich kann der Kontrast des EL Anzeigeelements verbessert werden.
Nach Bildung der Busreihe 918 wird ein transparenter leitender Film 920, der die erste Elektrodenreihe zusammensetzt, ausgebildet durch vorzugsweise ein Sputter-Verfahren, wie in 20G gezeigt. Es sei angemerkt, dass die isolierende Schicht 913 sich invers verjüngt, um Ausstülpungen in einem oberen Abschnitt auszubilden, so dass die Seitenkantenabschnitte 913b und 913a jeweils in Kontakt und nicht in Kontakt mit der leitenden Busreihe sind, wie aus 20F ersichtlich ist. Mit anderen Worten wird ein Freistand 919 zwischen dem Seitenkantenabschnitte 913a und der Busreihe 918 ausgebildet. Es folgt daraus, dass der transparente Elektrodenfilm 920 automatisch gemustert wird, wenn er gebildet wird (Weglassen des Musterbildungsschrittes). Natürlich muss man sich keine Sorgen über die Korrosion der leitenden Busreihe 918 mit einer Ätzlösung machen.
Ein Elektrodenmaterial, das demjenigen ähnlich ist, das zum Ausbilden der ersten Elektrodenreihe 12, die vorstehend beschrieben wurde, ist, kann zum Ausbilden des transparenten leitenden Films 920 verwendet werden.
Nach Bildung des transparenten leitenden Films 920 wird der Freistand 919 zwischen der isolierenden Schicht 913 und der benachbarten leitenden Buslinie mit einem elektrisch isolierenden Material 921, wie etwa Harz, gefüllt, wodurch ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement ausgebildet wird (siehe 20H).
Wie aus der vorstehend gegebenen Beschreibung ersichtlich ist, ist das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement derart aufgebaut, dass eine Mehrzahl der ersten Elektrodenreihe 920 voneinander entfernt angeordnet sind, und die leitenden Busreihen 918 erstrecken sich im Wesentlichen parallel zu den ersten Elektrodenreihen 920. Zudem sind die ersten Elektrodenreihen 920 von dem Träger 911 entfernt angeordnet (aufgrund des Vorhandenseins der isolierenden Schichten 913). Zudem ist (nur) ein Endabschnitt der ersten Elektrodenreihe 920 auf der Oberfläche der benachbarten leitenden Busreihe 918 positioniert. Was bemerkt werden sollte ist, dass die ersten Elektrodenreihe in Kontakt mit einer relativ großen Oberfläche der leitenden Busreihe 918 ist, die auf dem Träger ausgebildet wurde. Folglich wird der Widerstand der ersten Elektrodenreihe 920 ferner derart herabgesetzt, dass die Antriebsspannung des organischen EL Anzeigeelements herabgesetzt wird. Es sei auch angemerkt, dass die erste Elektrodenreihe gemustert wird, wenn sie gebildet wird, was es ermöglicht, einen Mustergebungsschritt mit einer Ätzlösung wegzulassen.
Ferner werden die organische EL Mediumschicht 21 und zweite Elektrodenreihen 22, die voneinander entfernt sind, durch das gewöhnliche Verfahren auf eine Weise ausgebildet, um sich in einer Richtung zu erstrecken, die die ersten Elektrodenreihen kreuzt, wie in 20I gezeigt. Die organische EL Mediumschicht 21 und die zweiten Elektrodenreihen 22 sollten sich vorzugsweise in einer Richtung erstrecken, die zu den ersten Elektrodenreihen senkrecht ist. Schließlich wird die Abdichtungsschicht 23 ausgebildet durch z.B. ein Ionenplattierungsverfahren, um so die Herstellung des organischen EL Anzeigeelements zu beenden.
In der vorliegenden Erfindung ist es erwünscht, eine Mehrzahl von Trennwänden auszubilden, eine Mustergebung der organischen EL Mediumschicht und der zweiten Elektrodenreihen ermöglichen, wenn sie gebildet werden. Diese Trennwände sollten voneinander entfernt auf dem Substrat für das organische EL Anzeigeelement, das in 20H gezeigt wird, auf eine Weise ausgebildet werden, um sich an einer Richtung zu erstrecken, die die ersten Elektrodenreihen 920 kreuzt, vorzugsweise in einer Richtung, die zu der ersten Elektrodenreihe 920 senkrecht ist. Jede Trennwand sollte invers verjüngt sein oder sollte T-förmig sein. Vorzugsweise sollte die Trennwand Vorsprünge und einer Seitenwand mit Ausbuchtungen besitzen, wie in der vorliegenden Erfindung definiert.
In der vorliegenden Erfindung besitzt die Seitenwand Vorsprünge in einem oberen Abschnitt und eine Ausbuchtung in einem unteren Abschnitt, wie in 2 und 3 gezeigt. Weiter bevorzugt sollten die Trennwände eine Mehrzahl von Verbindungsbanden besitzen, die dazu dienen, die Abschnitte mit Ausbuchtungen der benachbarten Trennwände zu verbinden.
21A und 21B zeigen zusammengenommen ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung mit Trennwänden 13, die auf dem Substrat, das in 20H gezeigt wird, ausgebildet sind. Im Einzelnen ist 21A eine Querschnittsansicht in einer Richtung, die derjenigen von 20A bis 20I entspricht, und 21B ist eine Querschnittsansicht in einer Richtung, die zu derjenigen von 21A senkrecht ist. Jede Trennwand 13 besitzt Vorsprünge 132A, 132 in einem oberen Abschnitt und Ausbuchtungen 133a, 133b in einem unteren Abschnitt, und erstreckt sich in einer Richtung, die zu der ersten Elektrodenreihe 920 senkrecht ist.
Beim Ausbilden der besonderen Trennwand, füllt der negative Photoresist (siehe z.B. Resistschicht 32, die in 8A gezeigt wird) selbst zum Ausbilden der Trennwand, welche auf dem Träger beschichtet ist, auf natürliche Weise den Freistand 919 zwischen der Isolierungsschicht 913 und der benachbarten leitenden Busreihe, was es nicht notwendig macht, im Vorhinein den Freistand 919 mit dem isolierenden Material 921 aufzufüllen (siehe 20H). In diesem Fall sollte die Breite des Freistandes 919 vorzugsweise 1 bis 500 μm betragen.
Im Übrigen ist das Prinzip zum Ausbilden der sich invers verjüngenden Isolierungsschicht 913 grundsätzlich zu dem Prinzip zum Ausbilden der Trennwand 13 gleich. Im Fall der isolierenden Schicht 913 werden die Entwicklungsbedingungen ausgewählt, um die Ausbuchtung kürzer als die Vorsprünge zu machen.
22 zeigt, wie ein organisches EL Anzeigeelement herzustellen ist, indem das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement verwendet wird, das mit Trennwänden ausgestattet ist, wie in 21A und 21B gezeigt. In dem ersten Schritt wird die organische EL Mediumschicht 21 durch z.B. eine Vakuumdampfabscheidung, wie zuvor beschrieben, auf dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das mit den Trennwänden ausgestattet ist, ausgebildet, gefolgt von Ausbilden der zweiten Elektrodenreihen 22 durch z.B. ein Vakuumabscheidungsverfahren auf der organischen EL Mediumschicht 21. Ferner wird die Abdichtungsschicht 23 auf der zweiten Elektrodenreihe 22 durch z.B. ein Ionenplattierungsverfahren ausgebildet. Aus dieser organischen EL Mediumschicht 21 und der zweiten Elektrodenmaterialschicht 22 wird gemustert, wenn gebildet, durch das Vorhandensein der Trennwände 13, was es nicht-notwendig macht, eine Ätzbehandlung separat anzuwenden. Die Abdichtungsschicht 23, welche aus Germaniumoxid besteht, kann in einer Dicke von z.B. 1 μm ausgebildet werden.
In der vorliegenden Erfindung kann die isolierende Schicht 913 aus Farbfilterschichten (R, G, B), wie in 23 und 24 gezeigt, ausgebildet werden. 23 ist eine Querschnittsansicht, die 20I entspricht und 24 entspricht 22. 23, welche den Endaufbau des organischen EL Anzeigeelements zeigt, sollte derart verstanden werden, dass es das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das demjenigen entspricht, das in 20H gezeigt wird. Genau so sollte 24, welches den Endaufbau eines organisches EL Anzeigeelements zeigt, das mit Trennwänden ausgestattet ist, so verstanden werden, dass diese auch das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das demjenigen entspricht, das in 20H gezeigt wird, und das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement zeigt, das mit Trennwänden ausgestattet ist, die denjenigen entsprechen, die in 21A und 21B gezeigt werden.
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun anhand von 25 beschrieben.
Wie in 25 gezeigt, werden eine Mehrzahl von gestreiften ersten Elektrodenreihen 12 (Anodenreihen in dieser Ausführungsform) auf einem Träger 11 aus einem Licht-transmittierden Material, wie etwa Quarz, Glas oder einem Kunststoffmaterial, vorzugsweise einem transparenten Material, ausgebildet. Ferner ist es erwünscht, eine Mehrzahl von gestreiften Hilfselektrodenreihen 91 in einem Bereich zwischen einer Kante des Trägers und einem Bereich, der die ersten Elektrodenreihen umgibt, auszubilden. Diese Hilfselektrodenreihen 91 werden von den ersten Elektrodenreihen 12 auf eine Weise ausgebildet, um sich von innerhalb eines Bereichs zu erstrecken, der durch einen Rahmen 92, der nachstehend beschrieben wird, zu der Außenseite des Rahmens 92 erstreckt. Natürlich kreuzen die Hilfselektrodenreihe 91 den Rahmen 92 und können als Elektroden verwendet werden, die mit zweiten Elektrodenreihen, die später beschrieben werden, verbunden sind. 25 zeigt, dass die ersten Elektrodenreihen 12 in einem vorbestimmten Abstand weg voneinander angeordnet sind, und dass die Hilfselektrodenreihen 91 zudem weg voneinander angeordnet sind. Es wird auch gezeigt, dass die Hilfselektrodenreihen 91 sich von einer Position in einen vorbestimmten Abstand weg von einer Seitenkante der ersten Elektrodenreihe 12 zu der Kante des Trägers in eine Richtung senkrecht zu der ersten Elektrodenreihe 12 erstrecken.
Die mehreren ersten Elektrodenreihen 12 können ausgebildet werden, indem eine Elektrodenmaterialschicht auf der oberen Oberfläche des Trägers 11 ausgebildet wird, gefolgt von Mustergebung der Elektrodenmaterialschicht durch z.B. die gewöhnliche Photolithographietechnologie. Vorzugsweise sollten die Hilfselektrodenreihen 91 Nachbildung der ersten Elektrodenreihen 12 ausgebildet werden. Um genauer zu sein, wird eine Elektrodenmaterialschicht für die Hilfselektrode auf der Vorderseitenoberfläche des Trägers 11 ausgebildet, gefolgt von Mustergebung der Elektrodenmaterialschicht durch z.B. eine Photolithographietechnologie wie bei der Bildung der ersten Elektrodenreihen 12. Vorzugsweise sollten die ersten Elektrodenreihen 12 und die Hilfselektrodenreihen 91 gleichzeitig ausgebildet werden, indem das gleiche Elektrodenmaterial verwendet wird.
In dem in 25 gezeigten Beispiel setzen die ersten Elektrodenreihen 12 die Anode zusammen. Daher ist es erwünscht, ein transparentes leitendes Material, wie etwa Indiumzinnverbindungsoxid (ITO), Indiumzinkverbindungsoxid oder Zinkaluminiumverbindungsoxid zur Ausbildung der ersten Elektrodenreihen 12 zu verwenden. Das gleiche Elektrodenmaterial kann zudem zur Ausbildung der Hilfselektrodenreihen 91 verwendet werden.
Diese Elektrodenmaterialien können auf dem Träger 11 durch ein Sputter-Verfahren abgeschieden werden.
Der Rahmen 92 umgibt die ersten Elektrodenreihen 12, die auf dem Träger 11 und den Trennwänden 13 ausgebildet sind, die weg voneinander angeordnet sind und sich erstrecken, um die Elektrodenreihen 12 zu kreuzen. Vorzugsweise sollte der Rahmen 92 angeordnet sein, um die ersten Elektrodenreihen 12 derart zu kreuzen, dass die ersten Elektrodenreihen 12 sich zur Außenseite des Rahmens 92 erstrecken. Zudem sollte in einer bevorzugten Ausführungsform, in welcher die Hilfselektrodenreihen 91 gebildet werden, der Rahmen ausgebildet sein, um die Hilfselektrodenreihen 91 derart zu kreuzen, dass die Hilfselektrodenreihen 91 sich von innerhalb des Rahmens 91 zur Außenseite des Rahmens 91 erstrecken.
Es ist erwünscht, das Verfahren der vorliegenden Erfindung, das vorstehend beschrieben wurde, zur Ausbildung der Trennwände 13 und des Rahmens 92 zu verwenden.
In der vorliegenden Erfindung können die Trennwände 13 und der Rahmen 92 gleichzeitig ausgebildet werden, indem das gleiche Material verwendet wird. Es ist erwünscht, die Trennwände 13 und den Rahmen 92 gleichzeitig unter Verwendung des gleichen Materials auszubilden, obwohl es auch möglich ist, diese Trennwände und Rahmen separat unter Verwendung unterschiedlicher Materialien auszubilden.
Es ist möglich, das besondere Verfahren der vorliegenden Erfindung in Kombination mit einem in diesem technischen Gebiet bekannten Verfahren zu verwenden, um die Trennwand 13 und den Rahmen 92 in verschiedenen Gestalten auszubilden. Gemäß der vorliegenden Erfindung besitzt die Trennwand 13 Vorsprünge und eine Ausbuchtung. Jedoch kann der Rahmen 92 eine vertikale Seitenoberfläche, wie in 25 gezeigt, besitzen. 25 zeigt auch, dass die Trennwände 13 weg voneinander angeordnet sind und sich in einer Richtung erstrecken, die senkrecht zu den ersten Elektrodenreihen 12 ist, und, dass der Rahmen 92 rechteckig geformt ist, um zu ermöglichen, dass die ersten Elektrodenreihen 12 und die Hilfselektrodenreihen 91 den Rahmen 91 bei rechten Winkeln kreuzen.
Diese Rahmen 92 und Trennwände 13 werden mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht bestrahlt und dann einem Nachbrennen unterzogen, um so die Herstellung des Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung zu beenden. Die Endhöhe dieser Trennwand 13 und des Rahmens 92 sollten vorzugsweise 1 bis 50 μm betragen.
Als ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung, das mit einem Rahmen ausgestattet ist, wird nachstehend anhand von 26 beschrieben.
Wie in 26 gezeigt, wird die organische EL Mediumschicht 21 in wenigstens den Bereich zwischen benachbarten Trennwänden 13 gebildet, und die zweite Elektrodenreihe 92 wird auf der organischen EL Mediumschicht 21 ausgebildet.
Wo die Hilfselektrodenreihe 91 wie in vorstehend beschriebenen bevorzugten Ausführungsform ausgebildet ist, kann die Hilfselektrodenreihe 91 mit der zweiten Elektrodenreihe 22 verbunden werden. In dieser Ausführungsform setzt die erste Elektrodenreihe 12 die Anode zusammen und setzt die zweite Elektrodenreihe 22 die Kathode zusammen.
Eine Abdeckung 93 ist auf dem Rahmen 92 montiert.
Die Abdeckung 93 bedeckt wenigstens die obere Oberfläche des Rahmens 92 und den Bereich, der durch den Rahmen 92 umgeben wird, und vorzugsweise einen Abschnitt einschließt, der sich auswärts von der äußeren Kante der oberen Oberfläche des Rahmens 92 erstreckt. 26 zeigt, dass die Abdeckung 93 wie eine flache Platte geformt ist und einen Abschnitt einschließt, der sich auswärts von der Seitenkante der oberen Oberfläche des Rahmens 92 über die gesamte Peripherie erstreckt, obwohl der sich erstreckende Abschnitt nicht klar in der Zeichnung gezeigt wird.
Die Abdeckung 93 kann aus Glas, einem Metallmaterial etc ausgebildet werden.
In der vorliegenden Erfindung ist es möglich, den Druck innerhalb des Raums zu verringern, der durch den Rahmen 92 und die Abdeckung 93 umgeben wird. Die Druckverringerung ermöglicht, die Verringerung des Wassergehalts und Sauerstoffgehalts innerhalb des Raums, der durch den Rahmen 92, die Abdeckung 93 und den Träger 11 umgeben wird, was es ermöglicht, zu verhindern, dass die zweite Elektrodenreihe 22 und die organische EL Mediumschicht 21 verschlechtert werden. Nach der Druckverringerung kann ein Inertgas in dem vorstehend bezeichneten Raum abgedichtet werden.
Der Rahmen 92 und die Abdeckung 93 werden aneinander durch einen Klebstoff 94 gebunden. Insbesondere ist es am meisten bevorzugt, dass die äußere periphere Oberfläche des Rahmens 92 mit dem Klebstoff 94 beschichtet ist. In diesem Fall kann sich der Klebestoff 94 nicht in einem Bereich innerhalb des Rahmens 92 bewegen, um so ohne Versagen zu verhindern, dass der Klebstoff 94 die zweite Elektrodenreihe 92 und das organische EL Medium 21 kontaktiert. In einer bevorzugten Ausführungsform, in welcher die Abdeckung 93 einen Bereich einschließt, der sich geringfügig auswärts von der äußeren Kante der oberen Oberfläche des Rahmens 92 erstreckt, kann die Klebstoffschicht in einem Bereich ausgebildet werden, der durch die untere Oberfläche an der Kante der Abdeckung umgeben wird, die sich auswärts von der äußeren Kante der oberen Oberfläche des Rahmens 92, der äußeren umgebenden Oberfläche des Rahmens 92 und der oberen Oberfläche von dem Abschnitt des Trägers erstreckt, welcher auswärts des Rahmens 92 positioniert ist. In diesem Fall kann sich der Klebstoff 94 in einem Bereich innerhalb des Rahmens 92 bewegen. Zudem können der Träger 11, der Rahmen 92 und die Abdeckung 93 einstückig verbunden sein. 26 zeigt, dass der Klebstoff 94 auf der gesamten äußeren umgebenden Oberfläche des Rahmens 92 beschichtet ist.
Ein gewöhnliches Harz, das bei Raumtemperatur gehärtet werden kann, kann als der Klebstoff 94 verwendet werden. Jedoch ist es erwünscht, ein UV-härtendes Harz zu verwenden, das schnell gehärtet werden kann, um eine Bindung effizient zu erreichen.
In dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung wird ein Rahmen im Vorhinein auf dem Träger ausgebildet. Daher können die zweite Elektrodenreihe 22 und die organische EL Mediumschicht 21 leicht bedeckt werden, indem z.B. eine flache Abdeckung 93 montiert wird. Zudem macht es das Vorhandensein des Rahmens 92 möglich, die Möglichkeit des fehlerhaften in Kontaktbringens der Abdeckung mit der zweiten Elektrodenreihe 92 in dem Schritt des Montierens der Abdeckung zu vermeiden.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen beschrieben werden.
Beispiel 1
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement und ein organisches EL Anzeigeelement wurden in diesem Beispiel in Zusammenhang mit 4A bis 7B vorstehend beschriebenen Verfahren hergestellt.
In dem ersten Schritt wurde ein ITO Schicht für die erste Elektrodenreihe auf einem Glasträger 11 mittels Sputtern ausgebildet. Dann wurde zum Verbessern sowohl der Transparenz als auch der elektrischen Leitfähigkeit der ersten Elektrodenreihe eine Hitzebehandlung auf die ITO Schicht innerhalb einer Luftatmosphäre ausgeführt, um so die ITO Schicht zu kristallisieren.
Dann wurde die ITO Schicht durch Photolithographie gemustert und nass geätzt, um so die erste Elektrodenreihe 12 auszubilden (siehe 4A und 4B).
In dem nächsten Schritt wurde der Träger 11 mit der ersten Elektrodenreihe 12, der darauf gebildet war, mit einem negativen Licht-empfindlichen Harz mit feinen Grafitteilchen, die als schwarzfärbende Materie, die darin dispergiert ist, wirkt, beschichtet, gefolgt von Vorbrennen, Belichten, Entwickeln, und Nachbrennen der Licht-empfindlichen Harzschicht, um Trennwände 13 auszubilden, die jeweils Ausbuchtungen und Vertiefungen besitzen, wodurch ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung ausgebildet wird (siehe 5A und 5B).
Dann wurde die organische EL Mediumschicht 21 aus einer dreischichtigen Struktur durch Vakuumabscheidungsbeschichtung von Kupferphthalocyanin (20 nm dick), N,N'-Di(1-naphtyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamin, (60 nm dick) und Tris(8-chinolinolato)aluminium-Komplex (70 nm dick) ausgebildet, gefolgt von Ausbilden der zweiten Elektrodenreihe auf der organischen EL Mediumschicht 21 durch Dampfabscheidung von Aluminium, die ausgeführt wird, während das Substrat rotiert wird (siehe 6A und 6B). Ferner wurde die Versieglungsschicht 23 in einer Dicke von 1 μm durch Ionenplattieren von Germaniumoxid ausgebildet, um so das organische EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung herzustellen (siehe 7A und 7B).
27 ist eine SEM Photo, das den Zustand nach zur Ausbildung des EL Mediums und der zweiten Elektrodenschicht zeigt, indem Trennwände der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Es ist aus 27 zu ersehen, dass das EL Medium und die zweite Elektrodenschicht gemustert sind, um einen Streifen zwischen benachbarten Trennwänden auszubilden, und, dass die Endabschnitte auf beiden Seiten der zweiten Elektrodenreihe sich über die unteren Abschnitten der Vertiefungen der Licht-absorbierenden Trennwand erstrecken, um so das EL Medium vollständig zu bedecken.
In dem organischen EL Anzeigeelement, das so hergestellt wurde, wurden die zweiten Elektrodenreihen vollständig voneinander separiert, um so vollständig das Kurzschließen zwischen benachbarten zweiten Elektrodenreihen zu eliminieren. Zudem wurde das Kurzschließen des Elements an der Kante der zweiten Elektrodenreihe nicht beobachtet, sogar wenn die Antriebsspannung auf 10 V oder mehr erhöht wurde.
Beispiel 2
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement und ein organisches EL Anzeigeelement wurden wie in Beispiel 1 hergestellt, bis darauf, dass eine auf Triazinbasierende organische UV-absorbierende Substanz anstelle der feinen schwarzen Grafitteilchen verwendet wurde. 28 ist ein SEM Photo, dass die Trennwand des Substrats für das so hergestellte Anzeigeelement zeigt.
Das Anzeigeelement besaß im Wesentlichen die gleiche Leistung wie das Element, das in Beispiel 1 hergestellt wurde.
Beispiel 3
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement und ein organisches EL Anzeigeelement wurden wie in Beispiel 1 hergestellt, bis darauf, dass eine gemischte färbende Materie, die aus einer Anthrachinon-basierten rot färbenden Materie und Kupferphthalocyanin-basiertes grün und blau färbende Materien anstelle der feinen schwarzen Grafitteilchen verwendet wurde. Das Anzeigeelement besaß im Wesentlichen die gleiche Leistung wie das in Beispiel 1 hergestellte Element.
Beispiel 4
Eine im Wesentlichen ganze Oberfläche der Trennwand 13, die wie in Beispiel 1 hergestellt wurde, wurde mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht bestrahlt, gefolgt von Anwenden eines Nachbrennens bei 150 bis 300°C für 10 bis 120 Minuten, um so ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung herzustellen. Dann wurde ein organisches EL Anzeigeelement wie in Beispiel 1 hergestellt. In dem organischen EL Anzeigeelement, das so hergestellt wurde, wurde festgestellt, dass die zweiten Elektrodenreihen vollständig voneinander separiert sind, um so vollständig das Kurzschließen zwischen benachbarten zweiten Elektrodenreihen zu eliminieren. Zudem wurde das Kurzschließen an der Kante der zweiten Elektrodenreihe nicht beobachtet, sogar wenn die Antriebsspannung auf 10 V oder mehr erhöht wurde.
Vergleichsbeispiel 1:
Ein organisches EL Anzeigeelement wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, bis darauf, dass die Trennwand unter Verwendung eines negativen Licht-empfindlichen Harzes hergestellt wurde, das keine schwarze färbende Materie besaß, die daran dispergiert war, nach der Bildung der ersten Elektrodenreihe 12 wie in Beispiel 1. Der Ausbuchtungskantenwinkel des organischen EL Anzeigeelements wurde mit 45° oder mehr festgestellt, und der obere Abschnitt der Seitenoberfläche der Trennwand war frei von Vorsprüngen. Kurzschließen wurde in einem Teil der zweiten Elektrodenreihe durch eine Substanz verursacht, die durch Dampfabscheidung an der Seitenoberfläche der Trennwand angebracht war. Zudem fand Kurzschließen zwischen der Kante der zweiten Elektrodenreihe und der ersten Elektrodenreihe statt, wenn die Antriebsspannung auf 10 V oder mehr erhöht wurde.
<Einfluss, gegeben durch Seitenkante>
Proben von Trennwänden, die jeweils einen Vertiefungskantenwinkel von ungefähr 30°, 45° und 60° besaßen, wurden zum Vergleich mit der Probe der Trennwand hergestellt, die keine Seitenoberflächen mit Vertiefungen besaß. In den Proben der Trennwänden, die jeweils einen Kantenwinkel mit Vertiefungen von 30° und 45° besaßen, fand kein Kurzschließen statt, sogar wenn eine Spannung von 10 V zwischen den ersten und zweiten Elektroden angelegt wurde. Andererseits wurde Kurzschließen in ungefähr 5% der 4096 Proben der Trennwände mit einem Vertiefungskantenwinkel von 60° beobachtet. Zudem wurde Kurzschließen in ungefähr 15% der Proben beobachtet, die keine Seitenoberflächen mit Vertiefungen besaßen.
<Einflüsse, gegeben durch Vertiefungsbreite und Höhe der Trennwand>
Kurzschließen wurde nicht unter Anwendung von 10 V in den Proben der Trennwände mit einer Höhe von 2,5 μm und einer Vertiefungsbreite von 0,3 μm beobachtet. Andererseits wurde Kurzschließen in ungefähr 5% der 4096 Proben der Trennwände mit einer Vertiefungsbreite von 0,2 μm beobachtet. Wenn es zu den Proben der Trennwände mit einer Höhe von 10 μm und einer durchschnittlichen Vertiefungsbreite von ungefähr 50 μm kommt, wurde eine große Nicht-Gleichförmigkeit, die zwischen 30 μm und 100 μm reicht, in der Vertiefungsbreite festgestellt. Kurzschließen wurde nicht unter Anwendung von 10 V beobachtet. Jedoch wurden die Gestalten der Pixel als nicht-gleichförmig festgestellt. Ferner wurde in den Proben, in welchen der Targetwert Vertiefungsbreite bei 100 μm eingestellt wurde, ein Restfilm in dem Pixelabschnitt festgestellt.
Beispiel 5
Hergestellt wurden ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, in welchem die ersten und zweiten Elektroden, die jeweils die Kathode und die Anode zusammensetzen, und ein organisches EL Anzeigeelement.
In dem ersten Schritt wurde ein Aluminiumfilm zum Ausbilden der ersten Elektrodenreihe auf dem Glasträger 11 ausgebildet, gefolgt von Mustergebung der Aluminiumschicht, um einen Streifen durch das gewöhnliche Photoätzverfahren auszubilden. Dann wurde die Trennwand 13 ausgebildet, indem ein negativer Resist mit einem darin dispergierten Glaspulver verwendet wurde, gefolgt von Ausbilden einer LiF-Schicht mittels von Dampfabscreidung. Ferner wurde eine Schicht aus einer Tris(8-chinolinolato)aluminium, einer Schicht aus N,N'-Di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamin, und einer Schicht auch Kupferphthalocyanin durch Dampfabscheidung in der erwähnten Reihenfolge ausgebildet, um eine organische EL Mediumschicht aus einer Dreischichtstruktur auszubilden, gefolgt von Ausbilden einer Indiumzinkverbindungs-Oxidschicht durch Dampfabscheidung, um die zweite Elektrodenreihe auszubilden. In diesem Fall wird eine Anzeige auf der Seite der zweiten Elektrodenreihe ausgebildet. Kurzschließen wurde unter Anlegung von 10 V nicht beobachtet.
Beispiel 6
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement wurde durch das zuvor in Verbindung mit 9A bis 12B beschriebene Verfahren hergestellt.
In dem ersten Schritt wurde eine ITO Schicht in einer Dicke von 0,1 μm auf dem Glasträgerelement 11 mittels eines Sputter-Verfahrens ausgebildet. Dann wurde, um die Transparenz und die elektrische Leitfähigkeit der ITO Schicht zu verbessern, eine Hitzbehandlung auf die ITO Schicht unter einer Luftatmosphäre zum Kristallisieren der ITO Schicht ausgeführt.
In dem nächsten Schritt wurde die ITO Schicht durch Photolithographie gemustert und nass geätzt, um so eine Mehrzahl erster Elektrodenreihen 12 auszubilden, wie in 9A und 9B gezeigt. Jede der ersten Elektrodenreihen 12 war 170 μm breit und der Abstand zwischen benachbarten Elektrodenreihen 12 betrug 30 μm.
Der Träger 11 mit den darauf gebildeten ersten Elektrodenreihen 12 wurde mit einem negativen Photoresist, das 1 bis 15 Gew.-% schwarzfärbende Materie aufwies, die aus feinen Grafitteilchen bestand, die darin dispergiert waren, beschichtet, um einen Photoresistfilm 32 auszubilden, gefolgt von Vorbrennen des Photoresistfilms 32.
In dem nächsten Schritt wurde eine UV Licht-Aussetzung von der Vorderseitenoberfläche unter Verwendung einer Photomaske 41 angewendet, um so den Bereich 132' der dem oberen Abschnitt der Trennwand entsprach, UV Licht auszusetzen, wie in 10A und 10B gezeigt. Die Breite des ausgesetzten Bereichs 132' betrug 30 μm.
Dann wurde eine zusätzliche UV Licht-Aussetzung von der rückwärtigen Oberfläche angewendet, indem eine andere Photomaske 43 verwendet wurde, um so den Bereich 133', der dem Bodenabschnitt der Trennwand entsprach, UV-Licht auszusetzen, wie in 11A und 11B gezeigt. Die Breite des ausgesetzten Bereichs 133' betrug 50 μm.
Dann wurde die Trennwand 13 mit Ausbuchtungen und Vertiefungen durch die Entwicklung einer Alkaliätzlösung ausgebildet, wie in 12A und 12B gezeigt. Schließlich wurde Nachbrennen durch Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht ausgeführt, um so die Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden. Die Breite der Ausbuchtung war durch die Photomaske 43 begrenzt, um so die Nicht-Gleichförmigkeit, die durch die Entwicklungsbedingungen verursacht wurde, zu eliminieren.
Beispiel 7
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement wurde zuvor in Zusammenhang mit 14A bis 15B beschriebene Verfahren hergestellt.
Im Einzelnen wurde ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement wie in Beispiel 6 hergestellt, bis darauf, dass die Photomaske 43', die in 14A und 14B gezeigt wird, für die rückwärtige Oberflächenlichtaussetzung verwendet wurde. Die Breite des Verbindungsbandes 51 betrug 50 μm.
Beispiel 8
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement wurde durch das zuvor in Verbindung mit 16A bis 17B beschriebene Verfahren hergestellt.
Im Einzelnen wurden Farbfilter aus drei Farben RGB auf dem Glasträger 11 durch Photolithographie ausgebildet, gefolgt von Ausbilden einer Überbeschichtungsschicht 62, die aus einem transparenten Harz auf den Farbfiltern 61 bestand.
Dann wurden die ersten Elektrodenreihen 12 und die negative Photoresistschicht 32 auf der Überbeschichtungsschicht 62 wie in Beispiel 6 hergestellt, gefolgt von Anwenden einer Lichtbelichtung auf dem Bereich 132', der dem oberen Abschnitt der Trennwand entsprach.
In dem nächsten Schritt wurde die gesamte rückwärtige Oberfläche der Trennwand 11 mit einem UV-Licht bestrahlt, das von unterhalb des Trägers 11 emittiert wurde. In diesem Schritt wurden die Farbfilter 61 als eine Maske verwendet, ohne eine Photoresistmaske zu verwenden, die separat hergestellt wurde, um so den Bereich 133', der dem Bodenabschnitt der Trennwand entsprach, dem UV-Licht auszusetzen (16A und 16B).
Schließlich wurde die Photoresistschicht wie im Beispiel 6 entwickelt, gefolgt von Elektronenstrahlbestrahlung und Nachbrennen, um die Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden (17A und 17B).
Beispiel 9
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement wurde durch das zuvor in Verbindung mit 18A bis 18C beschriebene Verfahren hergestellt.
Im Einzelnen wurden die ersten Elektrodenreihen 12 und die negative Photoresistschicht 32 auf dem Träger 11 wie im Beispiel 6 ausgebildet, gefolgt von Aussetzen des Bereichs 132', der dem oberen Abschnitt der Trennwand entsprach, dem Licht, und anschließendes Entwickeln der Photoresistschicht 32 mit einer Entwicklungslösung, um zu verursachen, dass der kontinuierliche Film 511 in einer Dicke von 0,5 μm zwischen benachbarten Bereichen verbleibt, die den Trennwänden entsprechen (18A).
Dann wurde die Vorderoberfläche der Photoresistschicht 32 mit einem UV-Licht bestrahlt, das von oberhalb der Schicht 32 emittiert wurde, wobei die Photoresistmaske 71 verwendet wurde, um so dem Bereich 511a, der dem unteren Endabschnitt der Seitenoberfläche mit Vertiefungen mit der Trennwand entsprach, dem UV-Licht auszusetzen (18B).
Ferner wurde die in 18B gezeigte Struktur mit einer Entwicklungslösung entwickelt, um die Trennwände 13 auszubilden (18C).
Schließlich wurden eine Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht und Nachbrennen wie in Beispiel 5 angewendet, um so die Herstellung des Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden.
Beispiel 10
Ein organisches EL Anzeigeelement wurde durch das zuvor in Verbindung mit 19A bis 19D beschriebene Verfahren hergestellt, indem das Substrat für das organische EL Anzeigeelement verwendet wurde, das in Beispiel 7 hergestellt wurde.
In dem ersten Schritt wurden eine Schicht aus Kupferphthalocyanin, einer Schicht aus N,N'-Di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamin und einer Schicht aus Tris(8-chinolinolato) durch Vakuumdampfabscheidung aufeinander folgend in der erwähnten Reihenfolge auf der Oberfläche des Substrats 80 für das organische EL Anzeigeelement, das in Beispiel 7 hergestellt wurde, ausgebildet (19A), um so das organische EL Medium 21 auszubilden (19B). Die organische EL Mediumschicht 21 mit der dreischichtigen Struktur, die so ausgebildet wurde, wurde als 0,1 μm dick festgestellt.
Dann wurde die zweite Elektrodenreihe 22 durch Dampfabscheidung von Aluminium ausgebildet, welches ausgeführt wurde, während der Träger 11 rotiert wurde, wie in 19C gezeigt.
Schließlich wurde die Abdichtungsschicht 32, die aus Germaniumoxid bestand, durch ein Ionenplattierverfahren ausgebildet, um so die Herstellung des organischen EL Anzeigeelements zu beenden (19D). Da die gegenseitig sich gegenüberstehenden Kantenabschnitte der benachbarten ersten Elektrodenreihen mit dem Verbindungsband bedeckt waren, war es möglich, das Kurzschließen zwischen der ersten Elektrodenreihe 12 und der zweiten Elektrodenreihe 22 bei den gegenseitig sich gegenüberstehenden Kantenabschnitten, die vorstehend bemerkt wurden, zu verhindern.
Beispiel 11 (nicht gemäß Anspruch 1)
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement wurde durch das Verfahren, das zuvor in Verbindung mit 20A bis 20H beschrieben wurde, hergestellt.
In dem ersten Schritt wurde ein Glasträger 911 mit einem negativen Photoresist mit einer UV-absorbierenden Substanz und einer färbenden Materie, die daran dispergiert waren, beschichtet, gefolgt vom Trocknen der Beschichtung, um die Photoresistschicht 912 auszubilden (20A).
Dann wurden eine UV-Lichtbelichtung und Entwicklung auf die Resistschicht 912 angewendet, indem eine gestreifte Photomaske mit einem Pitch von 300 μm und einer Breite von 20 μm ausgebildet wurde, um eine Isolierungsschicht 913 auszubilden, die sich invers verjüngte (20B).
in dm nächsten Schritt wurde eine Kupferschicht 914 mit einer Dicke, die im Wesentlichen der der isolierender Schicht 913 entsprach, durch ein Sputter-Verfahren auf dem Glasträger 911 mit der darauf gebildeten isolierenden Schicht ausgebildet (20C).
Dann wurde eine Photoresistschicht 916 auf der Kupferschicht 914 ausgebildet (20D).
Eine UV-Lichtbelichtung und Entwicklung wurden auf die Photoresistschicht 916 angewendet, um ein gewünschtes Resistmuster 917 auszubilden (20E).
Dann wurde die Kupferschicht 914 selektiv geätzt, gefolgt von Entfernen des Resistmusters 917, um eine gewünschte Kupferbusreihe 918 (20F) auszubilden.
Nach der Bildung der Kupferbusreihe 918 wurde ein ITO Muster durch ein Sputter-Verfahren in einer Dicke von 0,1 μm ausgebildet. Bei dem der isolierende Film 913 sich invers verjüngte, wurde die ITO Schicht 920 geschnitten, wenn bei einem Seitenendenabschnitt 913A des isolierenden Films 913 ausgebildet, mit dem Ergebnis, dass die ITO Schicht 920 automatisch gemustert wurde (20G).
Schließlich wurde der Freistand 919 zwischen der isolierenden Schicht 913 und der Kupferbusreihe 918 mit dem negativen Photoresist 921 gefüllt, um so die Herstellung des Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement zu beenden (20H).
Beispiel 12
Trennwände 13, die sich in einer Richtung erstrecken, die senkrecht zu der ITO Reihe 920 und der Kupferbusreihe 918 waren, wurden durch das zuvor in Verbindung mit 8A bis 8B beschriebene Verfahren auf dem Substrat für das in Beispiel 11 hergestellte organische EL Anzeigeelement ausgebildet, um so ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement herzustellen, das mit Trennwänden ausgestattet war, wie in 20I gezeigt.
Beispiel 13
Farbfilterschichten (R, G, B) wurden durch die isolierenden Schicht 913 substituiert, die in jedem von dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement und dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement eingeschlossen waren, die mit den Trennwänden ausgestattet waren, die jeweils in Beispielen 11 und 12 hergestellt wurden, um so ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement herzustellen, das mit Farbfiltern ausgestattet war und ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das sowohl mit Farbfiltern als auch Trennwänden ausgestattet war, herzustellen (siehe 23 und 24).
Beispiel 14
Eine organische Licht-emittierende Schicht 21 und die zweite Elektrodenreihe 22 wurde aufeinander folgend durch Dampfabscheidung in der erwähnten Reihenfolge auf jeden von dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das in Beispiel 11 hergestellt wurde, und dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das mit Trennwänden ausgestattet war, welches in Beispiel 12 hergestellt wurde, ausgebildet, gefolgt von Ausbilden der Abdichtungsschicht 23, um so die organischen EL Anzeigeelemente der vorliegenden Erfindung herzustellen (20I und 22).
Beispiel 15
Eine organische Licht-emittierende Schicht 21 und die zweite Elektrodenreihe 22 wurden aufeinander folgend durch Vakuumdampfabscheidung in der erwähnten Reihenfolge auf jeden des Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement, das mit Farbfiltern ausgestattet war, und dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das mit Farbfiltern und Trennwänden ausgestattet war, ausgebildet, wobei die Substrate in Beispiel 13 hergestellt wurden, gefolgt von Ausbilden der Abdichtungsschicht 23, um so die organischen EL Anzeigeelemente der vorliegenden Erfindung herzustellen (23 und 24).
Der spezifische Widerstand der ersten Elektrodenreihen, die in jedem der organischen EL Anzeigeelemente, die in Beispielen 11 bis 15 hergestellt wurden, eingeschlossen war, wurde als bemerkenswert niedriger als derjenige des herkömmlichen Elementes hergestellt.
Beispiel 16
Ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das wie in 25 gezeigt, aufgebaut war, wurde in diesem Beispiel hergestellt.
In dem ersten Schritt wurde eine ITO Schicht durch ein Sputter-Verfahren in einer Dicke von 0,1 μm auf dem Glasträger 12 ausgebildet. Zur weiteren Verbesserung der Transparenz und der elektrischen Leitfähigkeit der ITO Schicht wurde eine Wärmebehandlung auf die ITO Schicht bei 230°C für eine Stunde und einer Luftatmosphäre angewendet, um so die ITO Schicht zu kristallisieren.
Dann wurde die ITO Schicht durch Photolithographie gemustert und nass geätzt, um eine Mehrzahl der ersten Elektrodenreihen 12 und eine Mehrzahl der Hilfselektrodenreihen 91 auszubilden. Jeder ersten Elektrodenreihen 12 wurde als mit einer Breite von 200 μm, und dem Abstand zwischen ersten benachbarten Elektrodenreihen 12 von 50 μm festgestellt.
In dem nächsten Schritt wurde das Glasträgerelement 11 mit einem negativen Photoresist mit schwarzfärbender Materie beschichtet, die aus feinen Grafitteilchen, die daran dispergiert waren, bestanden, gefolgt von Vorbrennen der beschichteten Photoresistschicht.
Dann wurde eine UV-Lichtbelichtung durchgeführt, indem eine Photomaske verwendet wurde, um so die Bereiche, die den oberen Abschnitten der Trennwänden 13 entsprachen und die Bereiche, die dem oberen Abschnitt des Rahmens 92 entsprachen, UV-Licht auszusetzen. Danach wurde eine Entwicklung durchgeführt, indem eine Alkalientwicklungslösung verwendet wurde, um die Trennwände 13 und den Rahmen 92 auszubilden.
Dann wurden die gesamten Oberflächen der Trennwände 13 und des Rahmens 92 mit einem Elektrodenstrahl oder einem UV-Licht bestrahlt, gefolgt von Nachbrennen bei 150 bis 300°C für 10 bis 120 Minuten, wodurch die Herstellung eines Substrats für ein organisches EL Anzeigeelement beendet wurde. Die Endhöhe der Trennwand 13 betrug 4,5 μm, und die Endhöhe des Rahmens 92 betrugt 5 μm.
Beispiel 17
Ein organisches EL Anzeigeelement, das wie in 26 gezeigt aufgebaut war, wurde unter Verwendung des Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das in Beispiel 16 hergestellt wurde, hergestellt.
In dem ersten Schritt wurden eine Schicht aus Kupferphthalocyanin mit einer Dicke von 20 nm, eine Schicht aus N,N'-Di(1-naphthyl)-N,N'diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamin mit einer Dicke von 60 nm und einer Schicht aus Tris(8-chinolinolato)aluminium-Komplex mit einer Dicke von 70 nm aufeinander folgend in der erwähnten Reihenfolge durch Vakuumdampfabscheidung auf dem Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement, das in Beispiel 16 hergestellt wurde, ausgebildet, um so die organische EL Mediumschicht 21 mit einer dreischichtigen Struktur auszubilden.
Dann wurden die zweiten Elektrodenreihen 22 durch Vakuumdampfabscheidung einer Mg/Ag Legierung ausgebildet, während das Glassubstrat 11 rotiert wurde. Die Dicke der zweiten Elektrodenreihe 22 betrug 0,2 μm.
Ferner wurde die Glasbedeckung 23 auf dem Rahmen 92 angeordnet, unter Druck innerhalb des Raums, der durch das Substrat für das organische EL Anzeigeelement, den Rahmen 92 und die Glasbedeckung 93 definiert war, wurde verringert, gefolgt von Beschichten der äußeren umlaufenden Oberfläche des Rahmens 92 mit einem UV-härtenden Harz (oder Klebstoff) 94. schließlich wurde die Glasbedeckung 93 an den Glasträger 11 mit dem Klebstoff 94 gebunden, um so die Herstellung des organischen EL Anzeigeelements zu beenden.
Das organische EL Anzeigeelement zeigte herausragende Eigenschaften. Im Einzelnen war die anfängliche Helligkeit des Elements 300 cd/m² und die Halbwertslebensdauer betrug 5000 Stunden. Dies unterstützt deutlich, dass das Restwasser, Sauerstoff, etc. durch die Druckverringerung verringert werden kann, um so eine Verschlechterung des organischen EL Anzeigeelements zu unterdrücken. Es sei auch angemerkt, dass, da der Rahmen im Vorhinein ausgebildet wird, die Abdeckung nicht in Kontakt mit der zweiten Elektrode etc. gebracht wird, wenn die Abdeckung auf dem Rahmen 92 montiert wird. Zudem wird verhindert, dass der Klebstoff fluidisiert wird, um so in Kontakt mit den zweiten Elektrodenreihen und der organischen EL Mediumschicht in Kontakt gebracht zu werden.
Beispiel 18
Eine organische EL Mediumschicht und die zweiten Elektrodenreihen wurden wie in Beispiel 17 ausgebildet, indem das Substrat für das organische EL Anzeigeelement verwendet wird, das in Beispiel 16 hergestellt wurde. Dann wurde eine Glasbedeckung angeordnet, gefolgt vom Verringern des Drucks innerhalb des Rahms, der durch das Substrat für das organische EL Anzeigeelement, den Rahmen und die Glasbedeckung definiert wird. Ferner wurde ein Argongas in dem Raum mit einem verringerten Druck abgedichtet, gefolgt von Beschichten der äußeren umlaufenden Oberfläche des Rahmens mit einem Klebstoff und anschließendem Binden einer Glasbedeckung, um so die Herstellung eines organischen EL Anzeigeelements zu beenden.
Das organische EL Anzeigeelement zeigte herausragende Eigenschaften. Im Einzelnen war die anfängliche Helligkeit des Elements 300 cd/m² und die Halbwertslebensdauer betrugt 4000 Stunden. Dies zeigt deutlich, dass das Restwasser, Sauerstoff, etc. die Druckverringerung verringert werden können, um so eine Verschlechterung des organischen EL Anzeigeelements zu unterdrücken. Es sei auch angemerkt, dass, da der Rahmen im Vorhinein wie in Beispiel 17 gebildet wird, die Abdeckung nicht in Kontakt mit der zweiten Elektrode etc. gebracht wird, wenn die Abdeckung auf dem Rahmen 92 montiert wird. Zudem wird ohne Versagen verhindert, dass der Klebstoff fluidisiert wird, um so in Kontakt mit den zweiten Elektrodenreihen und der organischen EL Mediumschicht zu kommen.
Beispiel 19
Organische EL Anzeigeelemente wurden wie in Beispielen 17 und 18 hergestellt, bis darauf, dass der Druck innerhalb des Raums, der durch das Substrat für das organische Anzeigeelement, den Rahmen und die Glasbedeckung definiert wird, nicht verringert wurde, und ein Inertgas wurde nicht in dem Raum, der vorstehend jeweils bezeichnet wurde, abgedichtet.
Jedes der organischen EL Anzeigeelemente, die so hergestellt wurden, zeigt eine anfängliche Helligkeit von 300 cd/m², was gleichwertig zu derjenigen der Elemente war, die in jedem der Beispiele 17 und 18 hergestellt wurden. Jedoch sind die in Beispiel 19 hergestellten Elemente eine einigermaßen schwächeren Widerstand gegenüber Verschlechterung verglichen mit den in Beispielen 17 und 18 hergestellten Elementen.
In der vorstehenden Beschreibung wurden die Merkmale der vorliegenden Erfindung in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen der Erfindung erläutert. Jedoch ist es für die Fachleute offensichtlich, dass diese Merkmale abhängig von dem Gegenstand kombiniert werden können. Mit anderen Worten die vorliegende Erfindung kann in verschiedenen Ausführungsformen, die sich von denjenigen, die in den Zeichnungen gezeigt werden, innerhalb des Umfangs der vorliegenden Erfindung ausgearbeitet werden. Zum Beispiel ist in jeder der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen die erste Elektrodenreihe aus einem Anodenmaterial. hergestellt, und die zweite Elektrodenreihe ist aus einem Kathodenmaterial hergestellt. Jedoch ist es für die ersten und zweiten Elektrodenreihen auch möglich, aus jeweils einem Kathodenmaterial und einem Anodenmaterial hergestellt zu werden.
Wie vorstehend beschrieben ist es gemäß dem ersten bevorzugten Aspekt der vorliegenden Erfindung möglich, ein Substrat für ein organisches Elektrolumineszenz (EL) Anzeigeelement bereitzustellen, in welchem die Begrenzung in der Richtung des Dampfabscheidungsmaterials gering ist, um das Substrat herzustellen, das für eine gleichförmige Dampfabscheidung über eine große Fläche angepasst ist und welches eine Isolierungsschicht zur Verhinderung eines Kurzschlusses nicht bedarf. Es ist auch möglich, ein Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement bereitzustellen, das das aus der rückwärtigen Oberfläche transmittierte Licht und Reflexion des externen Lichts unterdrückt. Es ist auch möglich, ein organisches EL Anzeigeelement bereitzustellen, bei dem es unwahrscheinlich ist, dass ein Kurzschluss durch Isolierungszusammenbruch bewirkt wird und bei dem es unwahrscheinlich ist, dass es verschlechtert wird. Ferner ist es möglich, ein Substrat für ein derartiges organisches EL Anzeigeelement gleich bereitzustellen.
Das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement der vorliegenden Erfindung umfasst eine Trennwand mit Vorsprüngen und Seitenoberflächen mit Ausbuchtungen, wie in Anspruch 1 definiert, und dient dazu, das organische EL Medium/die zweite Elektrodenreihe zu separieren. Beim Herstellen der besonderen Trennungswand ist es möglich, akkurat die Breiten von nicht nur den Vorsprüngen sondern auch den Seitenoberflächen mit Ausbuchtungen der Trennwand genau zu steuern. Zudem wird ein Verbindungsband, das dazu dient, benachbarte Trennwände zu verbinden, erzeugt, um die sich gegenseitig sich gegenüberstehenden Seitenkanten der ersten Elektrode zu bedecken. Folglich ist es möglich, ohne Versagen den Kurzschluss zwischen den ersten und zweiten Elektrodenreihen an den Seitenkantenabschnitten der ersten Elektrodenreihe zu verhindern.
Gemäß dem zweiten bevorzugten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist es möglich, die Antriebsspannung eines organischen EL Anzeigeelements herabzusetzen, indem eine leitende Busreihe in einem Bereich zwischen einer transparenten leitenden Filmreihe, die als eine erste Elektrodenreihe wirkt, und einem Träger anzuordnen. Die leitende Busreihe ist unterhalb der transparenten leitenden Filmreihe in Kontakt mit dem transparenten leitenden Film angeordnet. Gemäß der vorliegenden Erfindung ist die Dicke der so angeordneten leitenden Busreihe nicht durch die Dicke des transparenten leitenden Films begrenzt, was es ermöglicht, den Widerstand der ersten Elektrodenreihe weiter herabzusetzen. Zudem leistet die leitende Busreihe die Funktion eines schwarzen Streifens, um so den Kontrast des EL Anzeigeelements zu verbessern. Ferner wird der transparente leitende Film automatisch dort, wo die Isolierungsschicht oder die Farbfilter sich invers verjüngen, bei der Bildung automatisch gemustert, was es ermöglicht, den Musterungsschritt des transparenten leitenden Films wegzulassen.
Ferner umfasst gemäß dem dritten bevorzugten Aspekt der vorliegenden Erfindung das Substrat für ein organisches EL Anzeigeelement Trennwände und einen Rahmen. Die zweite Elektrodenreihe und das organische EL Medium können einfach bedeckt werden, indem eine Abdeckung auf dem Rahmen angeordnet wird. Zudem wird verhindert, dass die Abdeckung in Kontakt mit der zweiten Elektrodenreihe bei der Anordnung der Abdeckung auf dem Rahmen gebracht wird, da der Rahmen im Vorhinein in dem Substrat gebildet wird. Ferner ist es möglich, die Mengen von Restwasser, Sauerstoff, etc. zu verringern, da der Druck innerhalb des durch den Rahmen und der Abdeckung umgebenen Raums verringert werden kann. Folglich ist es möglich, eine Verschlechterung der zweiten Elektrodenreihe und des organischen EL Mediums zu unterdrücken. Ferner kann der Klebstoff nicht in den Innenbereich des Rahmens dorthin strömen, wo ein Klebstoff zum Binden der Abdeckung auf der äußeren umlaufenden Oberfläche des Rahmens beschichtet wird. Es folgt daraus, dass es möglich ist, ohne Versagen zu verhindern, dass der Klebstoff in Kontakt mit der zweiten Elektrodenreihe und dem organischen EL Medium gebracht wird.

Claims

Substrat für ein organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement, das auf einem Träger (11) eine Mehrzahl von voneinander entfernt auf dem Träger (11) angeordneten ersten Elektrodenreihen (12); und eine Mehrzahl von auf dem Träger (11) voneinander entfernt angeordneten und sich in einer die ersten Elektrodenreihen (12) kreuzenden Richtung erstreckenden Trennwänden (13) umfasst, wobei jede der Trennwände Vorsprünge (132a, 132b) in einem oberen Abschnitt und Ausbuchtungen (131a, 131b) in einem unteren Abschnitt besitzt, dadurch gekennzeichnet, dass die Breite der Ausbuchtungen (131a, 131b) der Trennwand (13) größer als die Breite der Vorsprünge (132a, 132b) der Trennwand (13) in einer zu dem Träger (11) parallelen Richtung ist; und wobei die Trennwand (13) einen Ausbuchtungskantenwinkel von 45° oder weniger besitzt, welches der Winkel ist, der die obere Oberfläche des Bodenabschnittes und eine geraden Linie, die den jeden Frontabschnitt der Ausbuchtung mit dem Punkt (p) verbindet, bei welchem eine sich nach oben von dem Zentrum erstreckende, vertikale Linie die gekrümmte Seitenoberfläche (131b) kreuzt, einschließt.
Substrat gemäß Anspruch 1, wobei die Trennwand (13) als ein Ganzes aus der gleichen Substanz gebildet ist.
Substrat gemäß Anspruch 1, wobei die Breite der Ausbuchtung (131a, 131b) der Trennwand (13) das 0,1- bis 10-fache der Höhe der Trennwand (13) ist.
Substrat gemäß Anspruch 1, wobei die Trennwand (13) aus einem lichtempfindlichen Harz gebildet ist, das eine UV-absorbierende Substanz und/oder eine färbende Materie enthält.
Substrat gemäß Anspruch 4, wobei die Trennwand (13) eine einzelne oder eine Mehrzahl von UV-absorbierenden Substanzen und/oder färbenden Materien enthält.
Substrat gemäß Anspruch 1, wobei die Trennwand (13) transparent oder gefärbt ist.
Substrat gemäß Anspruch 1, wobei dort, wo die Trennwand (13) schwarz gefärbt ist, die Trennwand (13) eine Licht-absorbierende Trennwand bildet, die auch als ein schwarzer Streifen wirkt.
Substrat gemäß Anspruch 1, wobei die benachbarten Trennwände (13) miteinander in ausgebuchteten Abschnitten durch ein Verbindungsband (51) verbunden sind.
Substrat gemäß Anspruch 8, wobei der Trennwand (13) Hauptkörper, die Vorsprünge (132a, 132b), die Ausbuchtungen (131a, 131b), und das Verbindungsband (51) aus der gleichen Substanz gebildet sind.
Substrat gemäß Anspruch 8, wobei das Verbindungsband (51) die sich gegenseitig gegenüberstehenden Seitenkantenabschnitte der benachbarten ersten Elektrodenreihen (12) bedeckt.
Substrat gemäß Anspruch 8, wobei die Trennwand (13) und des Verbindungsbandes (51) jeweils aus einem Photoresist gebildet sind, das eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie enthält.
Substrat gemäß Anspruch 11, wobei die UV-absorbierende Substanz eine schwarze Farbe entwickelt, und die Trennwand (13) und das Verbindungsbandes (51) jeweils auch die Funktion einer schwarzen Matrix leisten.
Substrat gemäß Anspruch 1, das ferner eine Mehrzahl von leitenden Busreihen (918) umfasst, die sich im Wesentlichen parallel zu den ersten Elektrodenreihen (920) erstrecken, wobei die erste Elektrodenreihe (920) von dem Träger (911) und einem Seitenkantenabschnitt der ersten, sich über die Oberfläche der benachbarten leitenden Busreihe (918) erstreckenden Elektrodenreihe (920) entfernt angeordnet ist.
Substrat gemäß Anspruch 13, wobei die erste Elektrodenreihe (920) auf einer isolierenden Schicht (913), die auf dem Träger (911) gebildet ist, positioniert ist.
Substrat gemäß Anspruch 14, wobei die isolierende Schicht (913) sich invers verjüngt.
Substrat gemäß Anspruch 15, wobei eine Seitenkante der isolierenden Schicht (913b) in Kontakt mit der leitenden Busreihe (918) ist, und ein Freistand (919) zwischen der anderen Seitenkante der isolierenden Schicht (913a) und der benachbarten leitenden Busreihe (918) gebildet ist.
Substrat gemäß Anspruch 16, wobei der Freistand (919) zwischen der Isolierungsschicht (913) und der benachbarten leitenden Busreihe (918) eine Breite von 1 bis 500 μm besitzt.
Substrat gemäß Anspruch 16, wobei der Freistand (919) zwischen der Isolierungsschicht (913) und der benachbarten leitenden Busreihe (918) mit einer elektrisch isolierenden Substanz (921) gefüllt ist.
Substrat gemäß Anspruch 14, wobei die isolierende Schicht (913) aus einem negativen Photoresist gebildet ist, der eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie enthält.
Substrat gemäß Anspruch 14, wobei die ersten Elektrodenreihen (920) eine Anode zusammensetzen und die isolierende Schicht (913) eine Farbfilterschicht zusammensetzt.
Substrat gemäß Anspruch 13, wobei die leitende Busreihe (918) aus einem Metallmaterial gebildet ist, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Ni, Cu, Cr, Ti, Fe, Co, Au, Ag, Al, Pt, Rh, Pd, Pb, Sn und Legierungen, die mindestens eines aus diesen Metallelementen enthalten, besteht.
Substrat gemäß Anspruch 13, wobei die leitende Busreihe (918) eine Höhe von 0,1 bis 100 μm und eine Breite von 1 bis 500 μm besitzt.
Substrat gemäß Anspruch 13, wobei eine Licht-absorbierende Schicht auf derjenigen Oberfläche des Trägers ausgebildet ist, welche in Kontakt mit der leitenden Busreihe (918) ist.
Substrat gemäß Anspruch 1, das ferner einen die Trennwände (13) umgebenden Rahmen (92), eine auf dem Rahmen (92) angeordnete Abdeckung (93) umfasst.
Substrat gemäß Anspruch 24, wobei Hilfselektrodenreihen (91) zur Verbindung mit zweiten Elektrodenreihen (22) von den ersten Elektrodenreihen (12) entfernt auf dem Träger in einem Bereich zwischen der Kante des Trägers (11) und einem die ersten Elektrodenreihen (12) umgebenden Bereich ausgebildet sind, wobei die Hilfselektrodenreihen (91) sich von innerhalb des Rahmens (92) erstrecken, und so den Rahmen (92) kreuzen, um einen Bereich außerhalb des Rahmens (92) zu erreichen.
Substrat gemäß Anspruch 25, wobei die Hilfselektrodenreihen (91) und die ersten Elektrodenreihen (12) aus dem gleichen Material gebildet sind.
Organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement, das ein organisches EL Medium (21) und eine zweite Elektrodenreihe (22), die auf dem Substrat für ein organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement montiert ist, das in irgendeinen der Ansprüche 1 bis 26 definiert ist, umfasst.
Organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement gemäß Anspruch 27, wobei die zwei Kantenabschnitte des organischen EL Mediums (21) und der zweiten Elektrodenreihe (22) sich über die ausgebuchteten unteren Seitenoberflächen der benachbarten Trennwände (13) erstrecken, um so nicht in Kontakt mit der ersten Elektrodenreihe (12) gebracht zu werden.
Organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement gemäß Anspruch 27, wobei die zweite Elektrodenreihe (22) sich von der Kante des organischen EL Mediums (21) zu der Außenseite erstreckt, um das EL Medium (21) zu bedecken.
Organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement gemäß Anspruch 27, das ferner eine Abdichtungsschicht (23) umfasst.
Organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement gemäß Anspruch 27, das das in Anspruch 24 definierte Substrat umfasst, wobei eine den durch den Rahmen (92) umgebenen Bereich bedeckende Abdeckung (93) auf dem Rahmen (92) angeordnet ist, der Druck innerhalb des durch die Abdeckung (92) und den Rahmen (92) umgebenen Raums verringert ist, oder ein Inertgas in dem Raum nach der Druckverringerung abgedichtet ist, und das organische EL Medium (21) und die zweiten Elektrodenreihen (22) abgedichtet sind.
Organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement gemäß Anspruch 31, wobei die umlaufende äußere Oberfläche des Rahmens (92) mit einem Klebstoff beschichtet ist, und der Rahmen (92) an die Abdeckung (93) gebunden ist.
Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein in Anspruch 1 definiertes organisches Elektrolumineszenzanzeigeelement, das Beschichten eines Trägers (31) mit einer Mehrzahl von darauf gebildeten ersten Elektrodenreihen (12) mit einer negativen lichtempfindlichen Harzschicht (32); Belichten der negativen lichtempfindlichen Harzschicht (32) unter Verwendung einer Photomaske (33) zur Belichtung einer Mehrzahl von Bereichen, die den oberen Abschnitten (32a) mit Seitenwandvorsprüngen entsprechen; Entwickeln des unbelichteten Abschnitts zur Ausbildung der Trennwände (13); und dann Bestrahlen der Trennwände (13) mit einem Elektronenstrahl oder einem UV-Licht, gefolgt von Nachbrennen, umfasst.
Verfahren gemäß Anspruch 33, wobei auf die negative lichtempfindliche Harzschicht (32) gleichzeitig oder nacheinander eine erste Belichtung zur Belichtung der oberen Abschnitten (132) mit Trennwandvorsprüngen entsprechenden Bereichen, und eine zweite Belichtung zur Belichtung von mindestens den Ausbuchtungsabschnitten (131a, 131b) der Trennwände (13) angewendet wird; und der unbelichtete Abschnitt zur Ausbildung der Trennwände (13) entwickelt wird.
Verfahren gemäß Anspruch 33, wobei auf die negative lichtempfindliche Harzschicht (32), gleichzeitig oder nacheinander, eine ersten Belichtung zur Belichtung von Bereichen, die den oberen Abschnitten (132') mit Trennwandvorsprüngen entsprechen, mit Licht (42), und eine zweite Belichtung mit Licht (44) zur Belichtung der Bodenabschnitte (133') der Trennwände angewendet wird; und der unbelichtete Abschnitt zur Ausbildung der Trennwände (13) entwickelt wird.
Verfahren gemäß Anspruch 33, wobei auf die negative lichtempfindliche Harzschicht (32) eine erste Belichtung auf den negativen Photoresistfilm (32) zur Belichtung der den oberen Abschnitten (132') mit Trennwandvorsprüngen entsprechenden Bereiche mit Licht (42) angewendet wird; der unbelichtete Abschnitt in einer vorbestimmten Dicke entwickelt wird; auf den negativen Photoresistfilm eine zweite Belichtung mit Licht (44) zur Belichtung mindestens der unteren Endabschnitte mit Ausbuchtungen der Trennwände (13) angewendet wird; und der unbelichtete Abschnitt zur Ausbildung der Trennwände (13) entwickelt wird.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 34 bis 36, wobei der Bereich, auf welchen die zweite Belichtung mit Licht (44) angewendet wird, einen Bereich einschließt, der einem Verbindungsband (51) entspricht, das dazu dient, benachbarte Trennwände zu verbinden.
Verfahren gemäß Anspruch 33, wobei der Träger ferner eine Mehrzahl von darauf angeordneten Farbfiltern (61) besitzt, das vor dem Ausbilden der lichtempfindlichen Harzschicht (32), Anordnen der mehreren Farbfilter (61) voneinander entfernt auf dem Träger (11), um Reihen und Spalten der Farbfilter auszubilden; Ausbilden einer Mehrzahl der ersten Elektrodenreihen (12) voneinander entfernt auf den Farbfiltern, wobei die ersten Elektrodenreihen (12) sich in einer Reihenrichtung der Farbfilter erstrecken, umfasst; das eine zweite Lichtbelichtung unter Verwendung der Farbfilter (61) als eine Maske zur Belichtung zweiter Bereiche, die den Bodenabschnitten (133') der Trennwände entsprechen, die zwischen benachbarten Spalten der Farbfilter (61) positioniert sind und Belichten dritter Bereiche, die den Freiständen (51') zwischen benachbarten Reihen der Farbfilter (61) entsprechen, mit Licht, das von unterhalb des Trägers (11) emittiert wird; und Entwickeln des unbelichteten Abschnitts, um Trennwände (13) zu bilden, die miteinander durch ein Verbindungsband (51) verbunden sind, das dem dritten Bereich (51') entspricht, umfasst.
Verfahren gemäß Anspruch 38, wobei der negative Photoresistfilm (32) eine UV-absorbierende Substanz oder eine färbende Materie enthält.
Verfahren gemäß Anspruch 33, das umfasst: vor dem Ausbilden der negativen lichtempfindlichen Harzschicht (32), Ausbilden einer Mehrzahl von isolierenden Schichten (913), die sich auf einem Träger (911) invers verjüngen; Ausbilden einer leitenden Materialschicht (914) auf im Wesentlichen der gesamten Oberfläche des Trägers (911) mit den darauf gebildeten isolierenden Schichten (913); Ausbilden einer Mehrzahl von leitenden Busreihen (918), die jeweils mit nur einer Seitenkante von jeder der isolierenden Schichten (913) verbunden sind, indem der Abschnitt der leitenden Materialschicht entfernt wird, welcher auf der isolierenden Schicht (913) derart positioniert ist, dass die leitende Materialschicht (914), die auf der Oberfläche des Trägers (911) verbleibt, in Kontakt mit der einen Seitenkante der isolierenden Schicht (913B) kommt und von der anderen Seitenkante der isolierenden Schicht (913A) separiert wird; und Ausbilden einer Mehrzahl von ersten Elektrodenreihen (920), indem eine erste Elektrodenschicht auf dem Träger (911) mit den isolierenden Schichten (913) und den darauf gebildeten leitenden Busreihen (918) gebildet werden, wobei jede der ersten Elektrodenreihen (920) auf der isolierenden Schicht (913) positioniert sind und sich über die leitende Busreihe (918) erstrecken, die mit der isolierenden Schicht (913) verbunden ist, und die mehreren ersten Elektrodenschichten (920) voneinander an den anderen Kanten der isolierenden Schichten (913A) separiert sind.