DE112006003096T5

DE112006003096T5 - Organische EL-Lichtemissions-Anzeige

Info

Publication number: DE112006003096T5
Application number: DE112006003096T
Authority: DE
Inventors: Noboru Kurata; Yukinori Hino-shi Kawamura; Kouki Hino-shi Kasai; Koji Hino-shi Kawaguchi
Original assignee: Fuji Electric Holdings Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 2005-11-11
Filing date: 2006-11-09
Publication date: 2008-10-23
Also published as: WO2007055287A1; KR20080066680A; CN101305643B; TW200822414A; JPWO2007055287A1; US20090189516A1; CN101305643A

Abstract

Organische EL-Lichtemissions-Anzeige, aufeinander folgend enthaltend ein transparentes Substrat, eine Art oder mehrere Arten von Farbfilterschichten, eine Verbindungsschicht, eine Farbumwandlungsschicht, eine Sperrschicht, eine transparente Elektrode, eine organische EL-Schicht und eine reflektierende Elektrode, dadurch gekennzeichnet, dass:
die Farbfilterschicht durch einen Nassprozess gebildet ist;
die Farbumwandlungsschicht und die Sperrschicht durch einen Trockenprozess gebildet sind; und
die Verbindungsschicht ausgewählt ist aus einer Gruppe bestehend aus einer anorganischen Verbindungsschicht, einer organischen Verbindungsschicht und einem Schichtkörper aus einer organischen Verbindungsschicht und einer anorganischen Verbindungsschicht.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige mit hoher Auflösung und hoher Sichtbarkeit, die zur Mehrfarbanzeige fähig ist. Insbesondere betrifft sie eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige, in welcher eine Farbumwandlungsschicht und eine Verbindungsschicht und eine Sperrschicht, zwischen welcher die Farbumwandlungsschicht gehalten ist, durch einen Trockenprozess gebildet werden. Die organische EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung ist als Anzeigeeinrichtung in einem Personalcomputer, einem Textverarbeitungsgerät, einem Fernseher, einem Telefax, einem Audiogerät, einem Videogerät, einem Fahrzeugnavigationsgerät, einem Tischrechner, einem Telefon, einem tragbaren Endgerät, einem industriellen Instrument etc. nützlich.
Stand der Technik
Als Systeme zur Herstellung einer Vollfarbanzeige unter Verwendung einer organischen EL-Lichtemissions-Vorrichtung wurden ein "Dreifarb-lichtemittierendes System", in welchem Elemente angeordnet sind, die durch Anlegen eines elektrischen Feldes in der Lage sind, rotes Licht, blaues Licht beziehungsweise grünes Licht zu emittieren, ein "Farbfiltersystem", in welchem die Emission von weißem Licht durch Farbfilter eingeschränkt wird, um rot, blau und grün auszudrücken, und ein Farbumwandlungssystem vorgeschlagen, bei welchem fluoreszierende Pigmente, die in der Lage sind, Licht im nahen Ultraviolettbereich, blaues Licht, blaugrünes Licht oder weißes Licht zu absorbieren und eine Umwandlung der Wellenlängenverteilung durchzuführen, um Licht in einem sichtbaren Lichtbereich zu emittieren, als Filter verwendet werden.
Es herrscht die Meinung, dass unter diesen das Farbumwandlungssystem eine hohe Farbreproduzierbarkeit und Effizienz erzielen kann. Ferner herrscht die Meinung, dass die Schwierigkeiten bei der Erhöhung der Bildschirmgröße einer Anzeige unter Verwendung des Farbumwandlungssystems gering sind, da eine einfarbige organische EL-Lichtemissions-Vorrichtung anders als beim Dreifarblichtemittierenden System verwendet werden kann. Unter diesen Gesichtspunkten wird das Farbumwandlungssystem bevorzugt als Kandidat für Anzeigen der nächsten Generation behandelt. Ein Beispiel der Struktur einer das Farbumwandlungssystem nutzenden organischen EL-Lichtemissions-Anzeige ist in 4 gezeigt. In der Konfiguration von 4 ist ein Farbumwandlungsfilter gebildet, in welchem drei Arten von Farbfilterschichten 32 (R, G und B), drei Arten von Farbumwandlungsschichten 33 (R, G und B), eine Planarisationsschicht 34 und eine Sperrschicht 35 auf einem transparenten Substrat 31 gebildet sind. Eine organische EL-Vorrichtung, die eine transpa rente Elektrode 41, eine organische EL-Schicht 42 und eine reflektierende Elektrode 43 enthält, ist des weiteren auf der Farbumwandlungsschicht gebildet, um so eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige zu bilden.
Allgemein hat die in dem Farbumwandlungssystem verwendete Farbumwandlungsschicht 33 einen Aufbau, in welchem eine Art oder mehrere Arten von fluoreszierenden Pigmenten (einschließlich Farbstoff, Pigment und pigmentierten Partikeln, die separat in einem Harz dispergierten Farbstoff haben) in einem Harz dispergiert sind. Die Farbumwandlungsschicht 33 wurde bisher durch einen Nassprozess gebildet, in welchem die Dispersion des fluoreszierenden Pigments und das Harz aufgetragen und getrocknet werden. Die durch einen derartigen Nassprozess gebildete Farbumwandlungsschicht hat jedoch allgemein eine Filmstärke von 5 μm bis 20 μm, was im Vergleich zu den anderen Schichten, die die organische EL-Lichtemissions-Anzeige bilden, sehr dick ist. Wenn ferner mehrere Arten von Farbumwandlungsschichten 33 verwendet werden, besteht die Möglichkeit, dass ein Niveauunterschied gebildet wird, da die jeweiligen Farbumwandlungsschichten 33 eine unterschiedliche Dicke haben. Es kann erforderlich sein, eine Planarisationsschicht 34 vorzusehen, um den Niveauunterschied auszugleichen.
Ferner ist es schwierig, die durch den Nassprozess gebildete Farbumwandlungsschicht 33 vollständig zu trocknen. Es besteht die Möglichkeit, dass Nichtemissionsdefekte, die als dunkle Bereiche bezeichnet werden, erzeugt werden können, da der in der Farbumwandlungsschicht 33 verbleibende Wassergehalt sich bei einem Prozess der Herstellung der organischen EL-Lichtemissions-Anzeige und/oder bei einer Periode der Ansteuerung der organischen EL-Lichtemissions-Anzeige in die organische EL-Schicht 42 bewegt.
Im Hinblick auf das vorstehend beschriebene Problem entstand eine Diskussion, wie die Farbfilterschichten und die Farbumwandlungsschicht durch einen Trockenprozess gebildet werden können (siehe Patentdokumente 1 bis 3).

Patentdokument 1: JP-A-2001-196175
Patentdokument 2: JP-A-2002-175879
Patentdokument 3: JP-A-2002-184575

Offenbarung der Erfindung
Durch die Erfindung zu lösendes Problem
Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige zu schaffen, die ein Farbumwandlungssystem mit einem neuen Aufbau benutzt, bei welchem die Erzeugung von dunklen Bereichen in einer organischen EL-Vorrichtung unterdrückt werden kann und in welcher die Lichtemission von der organischen EL-Vorrichtung mit hoher Effizienz genutzt werden kann.
Mittel zur Lösung des Problems
Die organische EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung enthält aufeinander folgend ein transparentes Substrat, eine Art oder eine Vielzahl von Arten von Farbfilterschichten, eine Verbindungsschicht, eine Farbumwandlungsschicht, eine Sperrschicht, eine transparente Elektrode, eine organische EL-Schicht und eine reflektierende Elektrode, dadurch gekennzeichnet, dass: die Farbfilterschicht durch einen Nassprozess gebildet ist; die Farbumwandlungsschicht und die Sperrschicht durch einen Trockenprozess gebildet sind; und die Verbindungsschicht ausgewählt ist aus einer Gruppe, bestehend aus einer anorganischen Verbindungsschicht, einer organischen Verbindungsschicht und einem Schichtkörper aus einer organischen Verbindungsschicht und einer anorganischen Verbindungsschicht. Vorzugsweise ist der Brechungsindex der Sperrschicht größer als der Brechungsindex der Farbumwandlungsschicht und kleiner als der Brechungsindex der transparenten Elektrode. Besonders bevorzugt ist der Brechungsindex der Sperrschicht größer als 1,9 und kleiner als 2,2. Die organische EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung kann ferner eine schwarze Matrix enthalten, die in Lücken der einen Art der Vielzahl von Arten von Farbfilterschichten angeordnet ist. Vorzugsweise hat die organische Verbindungsschicht einen Brechungsindex nicht größer als 1,5. Beispielsweise kann die organische Bindungsschicht aus Silikonharz gebildet sein. Die Farbumwandlungsschicht kann selektiv in einer Position gebildet sein, die der einen Art der Farbfilterschicht oder mindestens einer der Vielzahl von Arten von Farbfilterschichten entspricht.
Die organische EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung kann ferner eine Pufferschicht zwischen der Farbumwandlungsschicht und der Sperrschicht enthalten. Die Pufferschicht kann ein für den Filmbildungsprozess tolerantes Material enthalten. Die Pufferschicht kann durch ein Verdampfungsverfahren mit Widerstands-Erwärmung oder durch ein Verdampfungsverfahren mit Elektronenstrahlerwärmung gebildet werden.
Vorteil der Erfindung
Durch Verwendung der vorstehend beschriebenen Konfiguration kann eine durch einen Trockenprozess gebildete dünne Schicht als eine Farbumwandlungsschicht anstelle einer durch einen Nassprozess gebildeten dicken Schicht verwendet werden. Ferner kann durch die Verbindungsschicht eine ausreichende Anhaftung der Farbumwandlungsschicht erzielt werden. Darüber hinaus kann die Sperrschicht verhindern, dass dunkle Bereiche durch das Eindringen des Wassergehalts in die organische EL-Schicht entstehen, obgleich die Möglichkeit besteht, dass der Wassergehalt in der Farbfilterschicht verbleibt. Ferner kann durch Abstimmung der Brechungsindices der Farbumwandlungsschicht, der Sperrschicht und der transparenten Elektrode die Lichtemission von der organischen EL-Vorrichtung mit höherer Effizienz genutzt werden.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen
1 ist eine Schnittansicht, die ein Beispiel der Konfiguration einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung zeigt.
2 ist eine Schnittansicht, die ein weiteres Beispiel der Konfiguration einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung zeigt.
3 ist eine Schnittansicht, die ein weiteres Beispiel der Konfiguration einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung zeigt.
4 ist eine Schnittansicht, die ein Beispiel einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß dem Stand der Technik zeigt.
5 ist eine Schnittansicht, die ein weiteres Beispiel der Konfiguration einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung zeigt.
6 ist eine Schnittansicht, die ein weiteres Beispiel der Konfiguration einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung zeigt.
Beste Ausführungsweise der Erfindung
Ein Beispiel einer Konfiguration einer organischen EL-Lichtemissions-Anzeige gemäß der Erfindung ist in 1 gezeigt. 1 zeigt eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige, die ein Farbumwandlungssystem nutzt, in dem drei Arten von Farbfilterschichten 12 (R, G und B), eine Verbindungsschicht, eine Farbumwandlungsschicht 14, eine Sperrschicht 15 und eine organische EL-Vorrichtung auf einem transparenten Substrat 11 gebildet sind. Die organische EL-Vorrichtung enthält eine transparente Elektrode 21, eine organische EL-Schicht 22 und eine reflektierende Elektrode 23. Die drei Arten von Farbfilterschichten 12 (R, G und B) werden durch einen Nassprozess gebildet, wohingegen die Farbumwandlungsschicht 14 und die Sperrschicht 15 durch einen Trockenprozess gebildet werden.
Das transparente Substrat 11 ist aus einem Material gebildet, das einen hervorragende Transmissionsgrad für sichtbares Licht hat und bei welchem verhindert wird, dass es eine Minderung der Leistungsfähigkeit der organischen EL-Lichtemissions-Anzeige beim Herstellungsprozess der organischen EL-Lichtemissions-Anzeige verursacht. Zu bevorzugten Beispielen des transparenten Substrats 11 zählen ein Glassubstrat und ein starres Harzsubstrat, das aus einem Harz hergestellt ist. Beispielsweise können Polyolefin, Acrylharz (einschließlich Polymethylmethacrylat), Polyesterharz (einschließlich Polyethylenterephthalat), Polycarbonatharz, Polyimidharz oder dergleichen als das Harz verwendet werden. Ein aus Polyolefin, Acrylharz (einschließlich Polymethylmethacrylat), Polycarbonatharz, Polyimidharz oder dergleichen hergestellter flexibler Film kann ebenfalls als das transparente Substrat 11 verwendet werden. Borsilikatglas, Natronkalkglas oder dergleichen sind als Material zum Bilden das Glassubstrats, das als das transparente Substrat 11 verwendet wird, besonders bevorzugt.
Jede Farbfilterschicht 12 in der Erfindung ist eine Schicht, die eine spektrale Anpassung des einfallenden Lichts durchführt, so dass nur Licht in einem gewünschten Wellenlängenbereich durchgelassen wird. In der in 1 gezeigten Konfiguration werden eine rote Farbfilterschicht 12R, eine grüne Farbfilterschicht 12G und eine blaue Farbfilterschicht 12B als die drei Arten von Farbfilterschichten verwendet. Eine Art, zwei Arten oder vier oder mehr Arten Farbfilterschichten können jedoch erforderlichenfalls verwendet werden. Jede Farbfilterschicht 12 kann aus einem Material gebildet sein, in welchem ein Farbstoff oder Pigment mit einer gewünschten Absorption in einem hochmolekularen Matrixharz dispergiert ist. Zu den Beispielen von verwendbaren Materialien zählen beliebige nach dem zugehörigen Stand der Technik bekannte Materialien, wie zum Beispiel im Handel erhältliche Materialien für Flachbildschirmanzeigen, zum Beispiel Farbfiltermaterialien für Flüssigkristall (Color Mosaic, hergestellt von FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd., etc.). Jede Farbfilterschicht in der Erfindung hat eine Filmstärke von 0,5 μm bis 5 μm, bevorzugt von 1 μm bis 3 μm, um Licht im gewünschten Wellenlängenbereich mit hoher Farbreinheit zu erhalten.
Jede Farbfilterschicht in der Erfindung wird durch einen Nassprozess gebildet, der vorzugsweise das Auftragen von flüssigem Material (Lösung oder Dispersion), Musterbildung mittels Licht und Entfernen von überflüssigen Teilen durch eine Entwicklerlösung einschließt, um die erforderliche hohe Auflösung zu erzielen. Um die Stabilität eines organische EL-Lichtemissions-Anzeigen-Produkts zu verbessern, ist es wünschenswert, dass das transparente Substrat 11 und die Farbfilterschichten 12 auf eine hohe Temperatur erwärmt werden, um den in den Farbfilterschichten 12 nach Vollendung der Bildung der Farbfilterschichten 12 durch den Nassprozess verbleibenden Wassergehalt ausreichend zu entfernen.
Obgleich in 1 nicht gezeigt, kann eine lichtundurchlässige schwarze Matrix in einer Lücke zwischen den jeweiligen Farbfilterschichten 12 gebildet werden. Ähnlich den Farbfilterschichten 12 kann die schwarze Matrix aus einem beliebigen, nach dem zugehörigen Stand der Technik bekannten Material gebildet werden, wie zum Beispiel einem im Handel erhältlichen Material für eine Flachbildschirmanzeige, und kann durch den Nassprozess hergestellt werden. Die schwarze Matrix ist zur Verbesserung des Kontrastverhältnisses der organischen EL-Lichtemissions-Anzeige wirksam. Wenn die schwarze Matrix vorgesehen ist, kann die schwarze Matrix gebildet werden, bevor oder nachdem die Farbfilterschichten 12 gebildet werden. Teile der schwarzen Matrix und Teile der Farbfilterschichten 12 können einander überlappend gebildet werden, so dass Licht von der organischen EL-Vorrichtung sicher durch die Farbfilterschichten 12 treten kann und die Farbfilterschichten 12 verlassen kann. Wenn die schwarze Matrix gebildet wird, ist es wünschenswert, dass die Hochtemperatur-Erwärmung zum Entfernen des Wassergehalts durchgeführt wird, nachdem alle Farbfilterschichten 12 und die schwarze Matrix gebildet wurden.
Dann wird die Verbindungsschicht gebildet, so dass sie die Farbfilterschichten 12 (und die schwarze Matrix, sofern vorhanden) bedeckt. Die Verbindungsschicht gemäß der Erfindung ist eine Schicht zur Verbesserung der Anhaftung der Farbumwandlungsschicht 14, die durch einen Trockenprozess auf der Verbindungsschicht gebildet wird. Die Verbindungsschicht gemäß der Erfindung kann eine anorganische Verbindungsschicht 13, wie in 1 und 3 gezeigt, oder eine organische Verbindungsschicht 16, wie in 6 gezeigt, oder ein Schichtkörper aus der organischen Verbindungsschicht 16 und der anorganischen Verbindungsschicht 13 sein, wie in 2 und 5 gezeigt. Wenn ein Schichtkörper der organischen Verbindungsschicht 16 und der anorganischen Verbindungsschicht 13 verwendet wird, ist es wünschenswert, dass die anorganische Verbindungsschicht 13 auf der organischen Verbindungsschicht 16 gebildet wird.
Zusätzlich zu der Funktion der Verbesserung der Anhaftung der Farbumwandlungsschicht 14 hat die anorganische Verbindungsschicht 13 die Funktion, das Eindringen des Wassergehalts, von Sauerstoff und von niedermolekularem Inhalt etc. in die organische EL-Vorrichtung aus den unter der anorganischen Verbindungsschicht 13 gebildeten Farbfilterschichten 12 zu verhindern, um dadurch eine Funktionsminderung der organischen EL-Schicht 22 zu verhindern. Ferner ist es wünschenswert, dass die anorganische Verbindungsschicht 13 transparent ist, so dass sie Licht von der Farbumwandlungsschicht 14 zu der Seite des transparenten Substrat 11 durchlässt. Um diese Erfordernisse zu erfüllen, ist die anorganische Verbindungsschicht 13 aus einem Material gebildet, das im sichtbaren Lichtbereich eine hohe Transparenz (Transmissionsgrad von 50% oder mehr in einem Bereich von 400 nm bis 800 nm) hat und das eine Sperrcharakteristik für den Wassergehalt und Sauerstoff und niedermolekularen Inhalt aufweist. Eine Siliciumverbindung, wie zum Beispiel SiO₂, SiN, etc., oder eine Aluminiumverbindung, wie zum Beispiel Al₂O₃, können als Material zur Bildung der anorganischen Verbindungsschicht 13 verwendet werden. Die anorganische Verbindungsschicht 13 hat eine Filmstärke von 100 nm bis 2 μm, vorzugsweise von 200 nm bis 1 μm. Die anorganische Verbindungsschicht 13 kann durch ein Sputterverfahren (einschließlich Hochfrequenz-Sputterverfahren, Magnetron-Sputterverfahren etc.) gebildet werden, wobei sich um einen Trockenprozess handelt.
Zusätzlich zu der Funktion der Verbesserung der Anhaftung der Farbumwandlungsschicht 14 hat die organische Verbindungsschicht 16 eine Funktion, Niveauunterschiede auszugleichen, die durch die Farbfilterschichten 12 hervorgerufen wurden. Um der Tatsache Rechnung zu tragen, dass Licht von der organischen EL-Vorrichtung durch die organische Verbindungsschicht 16 tritt und nach außen abgestrahlt wird, ist es wünschenswert, dass das Material der organischen Verbindungsschicht 16 eine hervorragende Lichttransmissionscharakteristik (vorzugsweise einen Transmissionsgrad von 50 % oder mehr, bevorzugter einen Transmissionsgrad von 85% oder mehr für Licht im Wellenlängenbereich von 400 nm bis 800 nm) hat. Wenn die anorganische Verbindungsschicht 13 oben auf der organischen Verbindungsschicht 16 gebildet wird, wie in 2 und 5 gezeigt, muss die organische Verbindungsschicht 16 Toleranz für einen Sputterprozess aufweisen. Die organische Verbindungsschicht 16 wird allgemein durch ein Beschichtungsverfahren (Schleuderbeschichtung, Walzenbeschichtung, Rakelbeschichtung oder dergleichen) gebildet. Beispiele für Materialien zur Bildung der organischen Verbindungsschicht 16 schließen thermoplastisches Harz (Acrylharz (einschließlich Methacrylharz), Polyesterharz (Polyethylenterephthalat etc.), Methacrylatharz, Polyamidharz, Polyimidharz, Polyetherimidharz, Polyacetalharz, Polyethersulfon, Polyvinylalkohol und seine Derivate (Polyvinylbutyral, etc.), Polyphenylenether, Norbornenharz, Isobutylen-Maleinanhydrid-Copolymerharz, zyklisches Olefinharz), nicht lichtempfindliches duroplastisches Harz (Alkydharz, aromatisches Sulfonamidharz, Harnstoffharz, Melaminharz, Benzoguanaminharz), oder lichthärtendes Harz ein. Jedes dieser Materialien hat einen Brechungsindex von 1,5 bis 1,6.
Insbesondere dann, wenn die Farbumwandlungsschicht 14 selektiv auf einer Region eines Teils der Verbindungsschicht gebildet wird, ist es wünschenswert, dass die organische Verbindungsschicht 16 aus einem Material gebildet ist, das einen niedrigeren Brechungsindex als der Brechungsindex der anorganischen Verbindungsschicht 13 hat. In diesem Fall ist es wünschenswert, dass die organische Verbindungsschicht 16 einen Brechungsindex von 1,5 oder weniger hat. Die Verwendung eines Materials mit niedrigem Brechungsindex erlaubt die Verbesserung des Wirkungsgrads bei der Extraktion von durch andere Teile als die Farbumwandlungsschicht 14 gestrahltem Licht aus dem von der organischen EL-Schicht 22 emittierten Licht. Zu den Beispielen eines derartigen Materials mit niedrigem Brechungsindex zählt Silikonharz mit einem Brechungsindex von 1,4 bis 1,5 und ein fluoriertes Polymer mit einem niedrigeren Brechungsindex von etwa 1,4, das durch (Co)Polymerisation von fluroriertem Vinylether und/oder Perfluorolefin (Hexaflurorpropylen oder dergleichen) erhalten wird.
Wenn die organische Verbindungsschicht 16 verwendet wird, ist es wünschenswert, dass der Schichtkörper aus dem transparenten Substrat 11, den Farbfilterschichten 12 und der organischen Verbindungsschicht 16 (einschließlich der schwarzen Matrix, sofern vorhanden) auf eine hohe Temperatur erwärmt wird, um den in den Farbfilterschichten 12 und der organischen Verbindungsschicht 16 verbleibenden Wassergehalt ausreichend zu entfernen, nachdem die organische Stille Verbindungsschicht 16 gebildet wurde. Andererseits können die Farbfilterschichten 12 (einschließlich der schwarzen Matrix, sofern vorhanden) auf eine hohe Temperatur erwärmt werden, um den in den Farbfilterschichten 12 verbleibenden Wassergehalt zu entfernen, bevor die organische Verbindungsschicht 16 gebildet wird, und die organische Verbindungsschicht 16 kann erneut auf eine hohe Temperatur erwärmt werden, um den in der organischen Verbindungsschicht 16 verbleibenden Wassergehalt zu entfernen, nachdem die organische Verbindungsschicht 16 gebildet wurde. Die Entfernung des in diesen Schichten verbleibenden Wassergehalts erlaubt eine Verbesserung der Stabilität eines organische EL-Lichtemissions-Anzeigen-Produktes.
Ein Bereich der organischen Verbindungsschicht 16, der die Farbfilterschichten 12 nicht überlappt, hat eine Filmstärke von 0,5 μm bis 3 μm, vorzugsweise von 1 μm bis 2 μm. Die Filmstärke in diesem Bereich kann den Niveauunterschied ausgleichen, der durch die Vielzahl von Arten von Farbfilterschichten 12 hervorgerufen wird, um dadurch eine flache obere Ebene zu schaffen.
Die Farbumwandlungsschicht 14 ist eine Schicht, die eine Umwandlung der Wellenlängenverteilung durchführt, indem ein Teil des einfallenden Lichts (von der organischen EL-Vorrichtung emittiertes Licht) absorbiert wird, um so Licht mit einer unterschiedlichen Wellenlängenverteilung frei zu setzen, einschließlich des nicht absorbierten Teils des einfallenden Lichts und des umgewandelten Lichts. Die Farbumwandlungsschicht 14 ist eine Schicht, die mindestens eine Art oder mehrere Arten von Farbumwandlungspigmenten enthält. Vorzugsweise wandelt die Farbumwandlungsschicht 14 von der organischen EL-Vorrichtung emittiertes blaues Licht oder blaugrünes Licht in weißes Licht um. Das "weiße Licht" gemäß der Erfindung enthält nicht nur Licht, das Wellenlängenkomponenten in einem sichtbaren Lichtbereich (400 nm bis 700 nm) homogen aufweist, sondern auch Licht, dass die Wellenlängenkomponenten inhomogen hat, jedoch für das bloße Auge weiß wirkt. Das Farbumwandlungspigment ist ein Pigment, welches einfallendes Licht absorbiert und Licht in einem unterschiedlichen Wellenlängenbereich abstrahlt. Vorzugsweise ist das Farbumwandlungspigment ein Pigment, das von einer Lichtquelle emittiertes blaues Licht oder blaugrünes Licht absorbiert und Licht in einem gewünschten Wellenlängenbereich (z. B. grün oder rot) abstrahlt. Ein beliebiges nach dem zugehörigen Stand der Technik bekanntes Pigment kann als das Farbumwandlungspigment wendet werden. Beispiele für derartige Pigmente enthalten: Pigmente für rotes Licht emittierendes Material, wie zum Beispiel DCM-1(I), DCM-2(II), DCJTB(III), 4,4-Difluor-1,3,5,7-tetraphenyl-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacen (IV), Nilrot (V), etc.; Rhodaminpigment, Cyaninpigment, Pyridinpigment, Oxazinpigment, etc. zur Abstrahlung von rotem Licht; Cumarinpigment, Naphthalimidpigment, etc. zur Abstrahlung von grünem Licht.
Es ist wünschenswert, das mindestens eine Art der in der Erfindung verwendeten Farbumwandlungspigmente ein Pigment ist, das von der EL-Vorrichtung emittiertes Licht absorbieren kann und rotes Licht mit einer Wellenlänge von 580 nm oder höher freisetzen kann. Oder die Farbumwandlungsschicht 14 kann ein zusätzliches Material enthalten, um die Charakteristik der Farbumwandlungsschicht 14 zu verbessern, wie zum Beispiel die Bindungscharakteristik der Farbumwandlungspigmente. Beispiele für zusätzliche Materialien, die verwendet werden können, schließen einen Aluminiumkomplex ein, wie zum Beispiel Tris(8-chinolinolato)aluminium (Alq₃) oder Tris(4-methyl-8- chinolinolato)aluminium (Almq₃), 4,4'-Bis(2,2-diphenylvinyl)biphenyl (DPVBi), 2,5-Bis-(5-tert-butyl-2-benzooxazolyl)thiophen, etc.
Die Farbumwandlungsschicht 14 wird durch einen Trockenprozess gebildet. Die Farbumwandlungsschicht 14 kann auf der gesamten oberen Oberfläche der Verbindungsschicht gebildet werden oder kann auf einem Teilbereich der Verbindungsschicht selektiv gebildet werden. Beispielsweise kann die Farbumwandlungsschicht 14 selektiv an einer Position gebildet werden, die einer Art der Farbfilterschicht 12 oder zumindest einer Art einer Vielzahl von Arten von Farbfilterschichten 12 entspricht. Wie 5 zeigt, kann die Farbumwandlungsschicht 14 beispielsweise nur an einer Position gebildet werden, die der roten Farbfilterschicht 12R entspricht.
Wenn die Farbumwandlungsschicht 14 auf der gesamten oberen Oberfläche der Verbindungsschicht gebildet wird, kann die Farbumwandlungsschicht 14 durch ein Verdampfungsverfahren gebildet werden. Wenn die Farbumwandlungsschicht 14 gebildet wird, die des Weiteren zusätzliches Material zur Verbesserung der Charakteristik enthält, kann die Farbumwandlungsschicht 14 durch gemeinsames Verdampfen des Farbumwandlungspigments und des zusätzlichen Materials gebildet werden.
Wenn die Farbumwandlungsschicht 14 selektiv auf einem Teilbereich der Verbindungsschicht gebildet wird, kann ein beliebiges der folgenden Verfahren verwendet werden:

(1) Ein Verdampfungsverfahren (gemeinsames Verdampfungsverfahren) unter Verwendung einer Metallmaske mit einem Öffnungsabschnitt in einem zu bildenden Bereich;
(2) Ein Verfahren zur Bildung einer Farbumwandlungsschicht auf der gesamten oberen Oberfläche der Verbindungsschicht unter Verwendung eines Verdampfungsverfahrens (gemeinsamen Verdampfungsverfahrens) und anschließend das Entfernen der Farbumwandlungsschicht mit Ausnahme des benötigten Bereichs unter Verwendung von Laserstrahlen oder Plasmastrahlung mit atmosphärischen Druck; oder
(3) Ein Verfahren zur Herstellung eines Übertragungsmediums, das eine durch ein Verdampfungsverfahren (gemeinsames Verdampfungsverfahren) gebildete Schicht aus Farbumwandlungsmaterial hat, auf einem anderen Träger, und anschließend die Übertragung der Farbumwandlungsmaterialschicht unter Nutzung von Wärme oder eines Energiestrahls (wie zum Beispiel Licht) in einem erforderlichen Bereich.

Die Farbumwandlungsschicht 14 hat eine Filmstärke in einem Bereich von 100 nm bis 1 μm, vorzugsweise von 150 nm bis 600 nm. Entsprechend unterscheidet sich die Farbumwandlungsschicht 14 gemäß der Erfindung von der herkömmlichen Art der Farbumwandlungsschicht, die durch Aufbringen und Trocknen einer Zusammensetzung aus Farbumwandlungspigment/Matrixharz gebildet wird, das heißt, dass ein Niveauunterschied, der Fehler verursacht, wie zum Beispiel Leitungsbruch oder Kurzschluss der transparenten Elektrode 21 und der reflektierenden Elektrode 23, in der Farbumwandlungsschicht 14 gemäß der Erfindung nicht gebildet wird. Demgemäß kann das Erfordernis, eine Planarisationsschicht auf der Farbumwandlungsschicht 14 vorzusehen, beseitigt werden.
Bei der herkömmlichen Art der Farbumwandlungsschicht, die durch Auftragen und Trocknen der Zusammensetzung aus Farbumwandlungspigmenten/Matrixharz gebildet wird, besteht die Möglichkeit, dass der Wassergehalt, der eine Verschlechterung der organischen EL-Vorrichtung verursacht, in der Farbumwandlungsschicht des herkömmlichen Typs enthalten sein kann. Die Farbumwandlungsschicht gemäß der Erfindung ist jedoch frei von Wassergehalt, der eine Verschlechterung der organischen EL-Vorrichtung verursachen kann, da die Farbumwandlungsschicht gemäß der Erfindung durch einen Trockenprozess gebildet wird.
Die Sperrschicht 15 ist eine Schicht, die die Funktion hat, das Eindringen des Wassergehalts von den Farbfilterschichten 12 auf die Seite der organischen EL-Schicht zu verhindern, und die Funktion, die Farbumwandlungsschicht 14 bei dem Prozess der Bildung der transparenten Elektrode 21 der organischen EL-Vorrichtung zu schützen, die auf der Sperrschicht 15 gebildet wird. Demgemäß wird die Sperrschicht 15 aus einem Material gebildet, dass eine Sperreigenschaft gegen den Wassergehalt, Sauerstoff und niedermolekularen Inhalt hat. Ferner ist es wünschenswert, dass die Sperrschicht in dem Wellenlängenbereich des von der organischen EL-Schicht 22 emittierten Lichts transparent ist, um das Licht effizient auf die Seite der Farbumwandlungsschicht 14 durchzulassen, und die Beziehung (Brechungsindex der Farbumwandlungsschicht 14) < (Brechungsindex der Sperrschicht 15) < (Brechungsindex der transparenten Elektrode 21) erfüllt. Im Hinblick auf die Transparenz ist es wünschenswert, dass die Sperrschicht 15 einen hohen Transmissionsgrad von 50% oder mehr in einem Bereich von 400 nm bis 800 nm hat. Bei Betrachtung von typischen Materialien der Farbumwandlungsschicht 14 und der transparenten Elektrode 21 ist es wünschenswert, dass das Material der Sperrschicht 15 die Beziehung von 1,9 < (Brechungsindex der Sperrschicht 15) < 2,2 erfüllt. Ein bevorzugtes Material der Sperrschicht 15 umfasst SiN, SiNH, AlN, etc.
Die Sperrschicht 15 hat eine Filmstärke im Bereich von 100 nm bis 2 μm, bevorzugt von 200 nm bis 1 μm, und wird so gebildet, dass sie die Farbumwandlungsschicht 14 unter der Sperrschicht 15 und Schichten unter der Farbumwandlungsschicht 14 bedeckt.
Die Sperrschicht 15 kann durch ein Sputterverfahren oder ein CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) gebildet werden, bei dem es sich um einen Trockenprozess handelt. Das Sputterverfahren kann ein Hochfrequenz-Sputterverfahren oder ein Magnetron-Sputterverfahren sein. Es ist wünschenswert, dass das CVD-Verfahren ein Plasma-CVD-Verfahren ist. Eine beliebige nach dem zugehörigen Stand der Technik bekannte Einrichtung, wie zum Beispiel elektrische Hochfrequenz-Leistung (die einen kapazitiven Kopplungstyp oder einen induktiven Kopplungstyp verwenden kann), ECR (Electron Cyclotron Resonance), Helicon-Welle etc. kann bei diesem Prozess als Einrichtung zum Erzeugen des Plasmas verwendet werden. Zusätzlich zu elektrischer Leistung mit einer Industriefrequenz (13,56 MHz) kann elektrische Leistung mit einer Frequenz im UHF- oder VHF-Bereich als elektrische Hochfrequenz-Leistung verwendet werden.
Wenn das CVD-Verfahren zur Bildung der Sperrschicht 15 verwendet wird, schließt eine gemäß der Erfindung zu verwendende Si-Quelle SiH₄, SiH₂Cl₂, SiCl₄, Si(OC₂H₅)₄, etc. ein. Eine Al-Quelle, die gemäß der Erfindung verwendet werden kann, schließt AlCl₃, Al(O-i-C₃H₇)₃, eine organische Aluminiumverbindung (Trimethylaluminium, Triethylaluminium, Tributylaluminium oder dergleichen), etc. ein. Es ist praktisch, dass NH₃ in der Erfindung als eine N-Quelle verwendet wird. Zusätzlich zu diesen Rohmaterialgasen können H₂, N₂ oder Inertgas (He, Ar, etc.) als Verdünnungsgase in eine CVD-Vorrichtung eingeführt werden.
Eine Pufferschicht 17 kann auf der Farbumwandlungsschicht 14 gebildet werden, bevor die Sperrschicht 15 durch ein Sputterverfahren oder ein CVD-Verfahren wie vorstehend beschrieben gebildet wird (siehe 3). Die Pufferschicht 17 schützt wirksam die Farbumwandlungspigmente in der Farbumwandlungsschicht 14 vor Plasma, Hochenergiepartikeln (neutrale Atome oder ionisierte Atome), Hochgeschwindigkeitselektronen oder ultravioletten Strahlen, die in dem Prozess zur Bildung der Sperrschicht 15 (Sputterverfahren oder CVD-Verfahren) erzeugt werden. Das Vorsehen der Pufferschicht 17 zwischen der Farbumwandlungsschicht 14 und der Sperrschicht 15 erlaubt es, die Zersetzung der Farbumwandlungspigmente zu verhindern, die wie vorstehend beschrieben durch verschiedene Faktoren verursacht wird, und den durch die Zersetzung der Farbumwandlungspigmente verursachten Verlust der Farbumwandlungsfunktion zu verhindern.
Die Pufferschicht 17 kann aus einem gegen Filmbildung beständigen Material (das heißt einem Material, das Toleranz entweder gegen den Sputter- oder gegen den Plasmaprozess oder beides zeigt) gebildet werden. Ein derartiges Material schließt beispielsweise einen Metallkomplex ein, insbesondere einen Metall-Chelatkomplex. Zu den Beispielen eines Metall-Chelatkomplexes, der verwendet werden kann, zählen Metall-Phthalocyanin, wie zum Beispiel Kupfer-Phthalocyanin (CuPc), etc., oder Aluminium-Chelatkomplexe, wie zum Beispiel Tris(8-hydroxychinolinato)aluminium (Alq₃) oder Tris(4-methyl-8-hydroxychinolinato)aluminium (Almq₃). Oder anorganische Fluoride, insbesondere Fluoride der Erdalkalimetalle (MgF₂, CaF₂, SrF₂, BaF₂, etc.) können zur Bildung der Pufferschicht 17 verwendet werden.
Ein Verfahren unter Verwendung von Niedrigenergie-filmbildenden Partikeln, wie zum Beispiel ein Widerstandserwärmungs-Verdampfungsverfahren oder ein Elektronenstrahlerwärmungs-Verdampfungsverfahren, können zum Abscheiden des vorstehend beschriebenen, gegen Filmbildung beständigen Materials verwendet werden, um dadurch die Pufferschicht 17 zu bilden. Es ist wünschenswert, dass die Pufferschicht 17 eine Filmstärke von 50 nm bis 100 nm hat. Das Vorsehen einer derartigen Filmstärke erlaubt es, dass die Pufferschicht 17 als gleichmäßiger Film die Farbumwandlungsschicht 14 wirksam schützt.
Die organische EL-Lichtemissions-Vorrichtung, die in der Erfindung verwendet werden kann, hat einen Aufbau, bei dem die transparente Elektrode 21, die organische EL-Schicht 22 und die reflektierende Elektrode 23 aufeinander folgend in dieser Reihenfolge übereinander geschichtet werden. Die organische EL-Schicht 22 umfasst mindestens eine organische, lichtemittierende Schicht und hat einen Aufbau, bei dem eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Elektronentransportschicht und/oder eine Elektroneninjektionsschicht erforderlichenfalls zwischengelegt sind. Oder eine Lochinjektionstransportschicht, die die beiden Funktionen der Injektion und des Transports von Löchern hat, oder eine Elektroneninjektionstransportschicht, die die beiden Funktionen der Injektion des Transports von Elektronen hat, können verwendet werden. Genauer ausgedrückt verwendet die organische EL-Vorrichtung die folgenden Schichtstrukturen.

(1) Anode/organische lichtemittierende Schicht/Katode
(2) Anode/Lochinjektionsschicht/organische lichtemittierende Schicht/Katode
(3) Anode/organische lichtemittierende Schicht/Elektroneninjektionsschicht/Katode
(4) Anode/Lochinjektionsschicht/organische lichtemittierende Schicht/Elektroneninjektionsschicht/Katode
(5) Anode/Lochtransportschicht/organische lichtemittierende Schicht/Elektroneninjektionsschicht/Katode
(6) Anode/Lochinjektionsschicht/Lochtransportschicht/organische lichtemittierende Schicht/Elektroneninjektionsschicht/Katode
(7) Anode/Lochinjektionsschicht/Lochtransportschicht/organische lichtemittierende Schicht/Elektronentransportschicht/Elektroneninjektionsschicht/Katode

In den vorstehend genannten Schichtstrukturen entsprechen die Anode und die Katode der transparenten Elektrode 21 und der reflektierenden Elektrode 23 beziehungsweise der jeweils anderen. Da es im zugehörigen Stand der Technik bekannt ist, dass es einfach ist, die Anode transparent zu machen, ist es auch in der Erfindung wünschenswert, dass die transparente Elektrode 21 als die Anode verwendet wird und die reflektierende Elektrode 23 als die Katode. Es ist wünschenswert, dass die transparente Elektrode 21 in dem Wellenlängenbereich des von der organischen EL-Schicht 22 emittierten Lichts transparent ist
Die jeweiligen die organische EL-Schicht 22 die bildenden Schichten können unter Verwendung von im zugehörigen Stand der Technik bekannten Materialien gebildet werden. Um beispielsweise die Emission von blauem Licht oder blaugrünem Licht zu erzielen, können ein fluoreszierendes Aufhellungsmittel, wie zum Beispiel Benzothiazol, Benzoimidazol, Benzooxazol etc., eine Metall-Chelat-bildende Oxoniumverbindung, eine Styrylbenzolverbindung, eine aromatische Dimethylidenverbindung etc. vorzugsweise als die organische lichtemittierende Schicht verwendet werden. Vorzugsweise werden die jeweiligen Schichten, die die organische EL-Schicht 22 bilden, durch ein Verdampfungsverfahren gebildet.
Es ist wünschenswert, dass die transparente Elektrode 21 einen Transmissionsgrad von vorzugsweise 50% oder höher hat, bevorzugter 85% oder höher, und zwar für Licht mit einer Wellenlänge von 400 nm bis 800 nm. Die transparente Elektrode 21 kann aus ITO (In-Sn-Oxid), Sn-Oxid, In-Oxid, IZO (In-Zn-Oxid), Zn-Oxid, Zn-Al-Oxid, Zn-Ga-Oxid und elektrisch leitfähigem transparenten Metalloxid gebildet sein, das ein zu diesen Oxiden zugegebenes Dotierungsmittel, zum Beispiel F, Sb etc. enthält. Die transparente Elektrode 21 wird durch ein Verdampfungsverfahren, ein Sputterverfahren oder ein chemisches Dampfabscheidungsverfahren (CVD) gebildet. Vorzugsweise wird die transparente Elektrode 21 durch ein Sputterverfahren gebildet. Wenn eine transparente Elektrode 21 benötigt wird, die eine Vielzahl von Teilelektroden hat, wie weiter unten beschrieben wird, kann elektrisch leitfähiges transparentes Metalloxid gleichmäßig über die gesamte Oberfläche gebildet werden und dann geätzt werden, um ein vorbestimmtes Muster zu bilden, um dadurch die reflektierende Elektrode 21 mit der Vielzahl von Teilelektroden zu bilden. Oder eine Maske zur Herstellung einer vorbestimmten Form kann zur Bildung der reflektierenden Elektrode 21 mit der Vielzahl von Teilelektroden verwendet werden.
Wenn die transparente Elektrode 21 als Katode verwendet wird, ist es wünschenswert, dass eine Katodenpufferschicht an einer Grenzfläche zwischen der transparenten Elektrode 21 und der organischen EL-Schicht 22 vorgesehen wird, um die Elektroneninjektionseffizienz zu verbessern. Materialien zur Bildung der Katodenpufferschicht schließen Alkalimetalle, wie zum Beispiel Li, Na, K, Cs, etc., Erdalkalimetalle, wie zum Beispiel Ba, Sr, etc., diese Metalle enthaltende Legierungen, Metalle der seltenen Erden oder Fluoride dieser Metalle ein, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Die Filmstärke der Katodenpufferschicht kann unter Berücksichtigung der Ansteuerungsspannung, Transparenz etc. in geeigneter Weise ausgewählt werden. Im gewöhnlichen Fall ist es wünschenswert, dass die Katodenpufferschicht eine Filmstärke von 10 nm oder weniger hat.
Die reflektierende Elektrode 23 wird vorzugsweise aus einem Metall mit hohem Reflexionsgrad gebildet, einer amorphen Legierung mit hohem Reflexionsgrad oder einer microkristallinen Legierung mit hohem Reflexionsgrad. Zu den Metallen mit hohem Reflexionsgrad zählen Al, Ag, Mo, W, Ni, Cr, etc. Die amorphen Legierungen mit hohem Reflexionsgrad schließen NiP, NiB, CrP, CrB, etc. ein. Die microkristallinen Legierungen mit hohem Reflexionsgrad schließen NiAl, etc. ein. Die reflektierende Elektrode 23 kann als die Katode verwendet werden oder kann als die Anode verwendet werden. Wenn die reflektierende Elektrode 23 als die Katode verwendet wird, kann die vorstehend erwähnte Katodenpufferschicht an einer Grenzfläche zwischen der reflektierenden Elektrode 23 und der organischen EL-Schicht 22 vorgesehen werden, um die Effizienz bei der Injektion von Elektronen in die organische EL-Schicht 22 zu verbessern. Oder wenn die reflektierende Elektrode 23 als die Katode verwendet wird, kann ein Alkalimetall, wie zum Beispiel Lithium, Natrium, Kalium etc., oder ein Erdalkalimetall, wie zum Beispiel Calcium, Magnesium, Strontium etc., welches ein Material mit geringer Arbeitsfunktion ist, zu dem vorstehend genannten Metall, der amorphen Legierung oder der microkristallinen Legierung mit hohem Reflexionsgrad zugegeben werden, um dadurch die Legierung durchzuführen, um die Effizienz bei der Injektion von Elektronen zu verbessern. Wenn die reflektierende Elektrode 23 als die Anode verwendet wird, kann eine Schicht des vorstehend genannten elektrisch leitfähigen transparenten Metalloxids an einer Grenzfläche zwischen der reflektierenden Elektrode 23 und der organischen EL-Schicht 22 vorgesehen werden, um die Effizienz bei der Injektion von Löchern in die organische EL-Schicht 22 zu verbessern.
Die reflektierende Elektrode 23 kann durch eine nach dem zugehörigen Stand der Technik bekannte, beliebige Einrichtung, wie zum Beispiel Verdampfung (Erwärmung durch Widerstand oder Erwärmung durch Elektronenstrahl), Sputtern, Ionenplattierung, Laserablation oder dergleichen in Abhängigkeit von den verwendeten Materialien gebildet werden. Wenn eine reflektierende Elektrode 23, die wie weiter unten beschrieben eine Vielzahl von Teilelektroden aufweist, erforderlich ist, kann eine Maske zum Herstellen einer vorbestimmten Form zur Bildung der reflektierenden Elektrode 23 mit der Vielzahl von Teilelektroden verwendet werden. Oder es können Trennwände (nicht dargestellt) mit einer umgekehrt kegelförmigen Querschnittsform vor der Schichtung der organischen EL-Schicht 22 gebildet werden, so dass die Trennwände zur Bildung der reflektierenden Elektrode 23 mit der Vielzahl von Teilelektroden verwendet werden können.
Um eine Vielzahl von unabhängigen lichtemittierenden Abschnitten in der organischen EL-Vorrichtung zu bilden, ist in 1 die transparente Elektrode 21 und die reflektierende Elektrode 23 jeweils aus einer Vielzahl von zueinander parallelen Streifenabschnitten gebildet, so dass die die transparente Elektrode 21 bildenden Streifen und die die reflektierende Elektrode 23 bildenden Streifen einander überkreuzen (vorzugsweise im rechten Winkel). Demgemäß kann die organische EL-Lichtemissions-Vorrichtung eine Matrixansteuerung durchführen. Das heißt, dass dann, wenn eine Spannung zwischen einem bestimmten Streifen der transparenten Elektrode 21 und einem bestimmten Streifen der reflektierenden Elektrode 23 angelegt wird, die organische EL-Schicht 22 Licht in einem Abschnitt emittiert, in dem sich diese Streifen überkreuzen. Oder eine Elektrode (z. B. die transparente Elektrode 21) kann als eine gleichförmige flache Elektrode, die kein Streifenmuster hat, vorgesehen sein, wohingegen die andere Elektrode (z. B. die reflektierende Elektrode 23) als eine Vielzahl von Teilelektroden entsprechend den jeweiligen lichtemittierenden Abschnitten gemustert sein kann. In diesem Fall können eine Vielzahl von Elementen entsprechend den jeweiligen lichtemittierenden Abschnitten vorgesehen sein und an die Teilelektroden angeschlossen sein, die den jeweiligen lichtemittierenden Abschnitten entsprechen, und zwar in der Weise einer Eins-zu-eins-Entsprechung, so dass die so genannte aktive Matrixansteuerung durchgeführt werden kann
Beispiele
[Beispiel 1]
Ein 0,7 mm dickes Glassubstrat 11 wurde mit Ultraschall in reinem Wasser gereinigt, getrocknet und mit UV-Ozon gereinigt. Das gereinigte Glassubstrat wurde mit Color Mosaic CK-7800 (hergestellt von FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd.) durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren beschichtet. Die Musterbildung wurde dann durch ein fotolithografisches Verfahren durchgeführt, um somit eine 1 μm dicke schwarze Matrix zu bilden, in welcher eine Vielzahl von Öffnungsabschnitten mit einer Größe von 0,09 mm Breite × 0,3 mm Länge in Intervallen mit einer Teilung von 0,11 mm in Breitenrichtung und einer Teilung von 0,33 mm in Längsrichtung angeordnet waren.
Rot-, Grün- und Blau-Farbfilterschichten wurden dann unter Verwendung von Color Mosaic CR-7001, CG-7001 beziehungsweise CB-7001 gebildet. Nachdem jede Farbfilterschicht aufgetragen war, wurde die Farbfilterschicht durch ein fotolithografisches Verfahren in eine Vielzahl von Streifenabschnitten gemustert. Die Streifenabschnitte in jeder der roten Farbfilterschicht 12R, der grünen Farbfilterschicht 12G und der blauen Farbfilterschicht 12B hatten eine Größe von 0,10 mm Breite und 1 μm Stärke (auf dem Glassubstrat 11) und waren in Intervallen mit einer Teilung in Breitenrichtung von 0,33 mm angeordnet. In dieser Struktur überlappte jeder der Vielzahl von Streifenabschnitten in der schwarzen Matrix jede der Farbfilterschichten 12 jeweils in einem Bereich von 0,005 mm von einer Seite des Streifenabschnitts.
Dann wurde NN810L (hergestellt von JSR Corporation) durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen und anschließend belichtet, so dass eine organische Verbindungsschicht 16 gebildet wurde, die die Farbfilterschichten 12 und die schwarze Matrix bedeckte. Die Filmstärke der organischen Verbindungsschicht 16 betrug 1,5 μm in einem Bereich, in dem die organische Verbindungsschicht 16 mit der schwarzen Matrix in Kontakt kam.
Das auf diese Weise erhaltene Substrat mit der organischen Verbindungsschicht 16 und Schichten unter der organischen Verbindungsschicht 16 wurde 20 Minuten lang auf 200°C unter einer trockenen Stickstoffatmosphäre (Wasserkonzentration von 1 ppm oder weniger) erwärmt, um den Wassergehalt zu entfernen, der möglicherweise verblieben war.
Dann wurde ein 300 nm starker SiO₂-Film durch ein DC-Sputterverfahren aufgebracht, um eine anorganische Verbindungsschicht 13 zu erhalten. Ein Si-Target des mit Bor dotierten Typs wurde als das Target verwendet. Während ein Ar/O₂-Mischgas mit einem Druck von 1 Pa als ein Sputtergas verwendet wurde, wurden eine Ar-Durchflussmenge und eine O₂-Durchflussmenge auf 200 SCCM beziehungsweise 80 SCCM eingestellt. Eine elektrische Leistung von 3,5 kW wurde zwischen dem Target und der Gegenelektrode angelegt.
Dann wurde das Substrat mit der auf diese Weise gebildeten anorganischen Verbindungsschicht 13 in eine Vakuum-Verdampfungsvorrichtung gegeben und DCM-1 wurde mit einer Verdampfungsgeschwindigkeit von 0,3 Å/s und einem Druck von 1 × 10^–4 Pa auf das Substrat verdampft, um eine Farbumwandlungsschicht 14 mit einer Filmstärke von 500 nm zu bilden. Durch Messung des Brechungsindex eines separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen gebildeten DCM-1-Films wurde bewiesen, dass die Farbumwandlungsschicht 14 in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 1,9 hatte.
Ein 300 nm starker SiNH-Film wurde anschließend durch ein Plasma-CVD-Verfahren aufgebracht, um eine Sperrschicht 15 zu erhalten. Während SiH₄ mit 100 SCCM, NH₃ mit 500 SCCM und N₂ mit 2000 SCCM als Rohmaterialgase verwendet wurden, wurde der Gasdruck auf 80 Pa eingestellt. Hochfrequenz-Elektroleistung von 0,5 kW mit 27 MHz wurde als elektrische Leistung zur Plasmaerzeugung angelegt. Durch Messung eines separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen gebildeten SiNH-Films wurde bewiesen, dass die Sperrschicht 15 in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 1,95 hatte.
Eine organische EL-Vorrichtung wurde auf der Sperrschicht 15 wie vorstehend beschrieben gebildet. Zunächst wurde ein 200 nm starker IZO-Film durch ein DC-Sputterverfahren gebildet. In-Zn-Oxid wurde als ein Target verwendet und O₂ und Ar wurden als Sputtergase verwendet. Anschließend wurde die Musterbildung durch ein fotolithografisches Verfahren unter Verwendung einer wässrigen Lösung von Oxalsäure als Ätzlösung durchgeführt, um eine transparente Elektrode 21 zu erhalten. Die transparente Elektrode 21 wurde aus einer Vielzahl von Streifenabschnitten (mit einer Breite von 0,1 mm und einer Teilung von 0,11 mm) gebildet, die oberhalb der Farbfilterschichten 12 angeordnet waren und in derselben Richtung wie die Streifen der Farbfilterschichten 12 verliefen. Durch Messung des Brechungsindex eines separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen gebildeten IZO-Films wurde bewiesen, dass die transparente Elektrode in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 2,2 hatte.
Dann wurde ein Polyimidfilm unter Verwendung von Photoneece (hergestellt von TORAY Industries, Inc.) gebildet und ein elektrisch isolierender Film wurde durch ein fotolithografisches Verfahren gebildet, so dass eine Vielzahl von Öffnungsabschnitten (die als lichtemittierende Abschnitte der organischen EL-Vorrichtung dienten) mit einer Größe von 0,09 mm Breite × 0,3 mm Länge in dem elektrisch isolierenden Film in Intervallen mit einer Teilung in Breitenrichtung von 0,11 mm und einer Teilung in Längsrichtung von 0,33 mm angeordnet waren. Bei dieser Gelegenheit wurden die Öffnungsabschnitte des elektrisch isolierenden Films so eingestellt, dass sie den Öffnungsabschnitten der schwarzen Matrix entsprechend platziert waren. Dann wurden Trennwände der reflektierenden Elektrode gebildet. Ein Fotoresist des negativen Typs (ZPN1168 (hergestellt von ZEON Corporation) wurde durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen, ein Vorbrennvorgang wurde durchgeführt, ein in einer zu den Streifen der transparenten Elektrode 21 senkrechten Richtung verlaufendes Streifenmuster wurde unter Verwendung einer Fotomaske gebrannt, ein Brennvorgang nach der Belichtung wurde auf einer Heizplatte bei 110°C 60 Sekunden lang durchgeführt, die Entwicklung wurde durchgeführt und eine Erwärmung wurde schließlich auf einer Heizplatte bei 180°C 15 Minuten lang durchgeführt. Auf diese Weise wurden die Trennwände der reflektierenden Elektrode gebildet. Die Trennwände der reflektierenden Elektrode, die auf diese Weise erhalten wurden, hatten eine Querschnittsform eines umgekehrten Kegels und wurden aus einer Vielzahl von Streifenabschnitten gebildet, die in einer zu der Richtung der Streifen der transparenten Elektrode 21 senkrechten Richtung verlaufen.
Das Substrat mit den darauf wie vorstehend beschrieben gebildeten Trennwänden der reflektierenden Elektrode wurde in eine Verdampfungsvorrichtung mit Widerstandserwärmung gesetzt. Eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine organische lichtemittierende Schicht und eine Elektroneninjektionsschicht wurden aufeinander folgend unter aufrechterhaltenem Vakuum gebildet. Wenn die Filmbildung durchgeführt wurde, wurde der Innendruck einer Vakuumkammer auf 1 × 10^–4 Pa reduziert. Ein 100 nm starker Kupferphthalocyanin-(CuPc)-Film als eine Lochinjektionsschicht, ein 20 nm starker 4,4'-Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]biphenyl (α-NPD)-Film als eine Lochtransportschicht, ein 30 nm starker DPVBi-Film als eine lichtemittierende Schicht und ein 20 nm starker Alq₃-Film als eine Elektroneninjektionsschicht wurden übereinander geschichtet, um eine organische EL-Schicht 22 zu erhalten.
Dann wurde ein 200 nm starker Mg/Ag (10:1 Massenverhältnis)-Film unter aufrechterhaltenem Vakuum abgeschieden. Auf diese Weise wurde eine reflektierende Elektrode 23 erhalten, die aus einer Vielzahl von Teilelektroden gebildet war, die in Form von Streifen mit einer Breite von 0,30 mm und einer Teilung von 0,33 mm vorlag.
Die auf diese Weise erhaltene Vorrichtung wurde mit einem Versiegelungsglas und einem UV-härtbaren Klebstoff unter einer trockenen Stickstoffatmosphäre (Wasserkonzentration von 1 ppm oder weniger) in einer Globe-Box versiegelt, um eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige zu erhalten. Die auf diese Weise erhaltene Anzeige emittierte weißes Licht mit einer Leuchtdichte von 1000 cd/m², wenn ein Strom mit einer Stromdichte von 62 mA/m² anfänglich angelegt wurde.
Obgleich die erhaltene Anzeige 1000 Stunden lang bei 85°C unter der Bedingung, dass weißes Licht (Anfangs-Farbwert (CIE) x = 0,31, y = 0,33) mit einer Leuchtdichte von 1000 cd/m² emittiert wurde, kontinuierlich angesteuert wurde, wurde keine Entstehung von dunklen Bereichen beobachtet.
[Beispiel 2]
Eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige wurde durch Wiederholung der gleichen Vorgehensweise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die organische Verbindungsschicht 16 nicht gebildet wurde. Obgleich die erhaltene Anzeige 1000 Stunden lang bei 85°C unter der Bedingung, dass weißes Licht (Anfangs-Farbwert (CIE) x = 0,31, y = 0,33) mit einer Leuchtdichte von 1000 cd/m² emittiert wurde, kontinuierlich angesteuert wurde, wurde keine Entstehung von dunklen Bereichen beobachtet.
[Beispiel 3]
Eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige wurde durch Wiederholung der gleichen Vorgehensweise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass ein 300 nm starker SiO₂-Film als die Sperrschicht 15 verwendet wurde. Durch Messung des Brechungsindex eines separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen abgeschiedenen SiO₂-Films wurde bewiesen, dass die Sperrschicht 15 in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 1,5 hatte. Die auf diese Weise erhaltene Anzeige emittierte weißes Licht mit einer Leuchtstärke 1000 cd/m², wenn Strom mit einer Stromdichte von 80 mA/cm² anfänglich angelegt wurde. Es wurde festgestellt, dass die Effizienz im Vergleich mit der Anzeige in Beispiel 1 geringfügig vermindert war, da der Brechungsindex der Sperrschicht 15 nicht an diejenigen der transparenten Elektrode 21 und der Farbumwandlungsschicht 14 angepasst war. Obgleich andererseits die erhaltene Anzeige 1000 Stunden lang bei 85°C unter der Bedingung, dass weißes Licht (Anfangs-Farbwert (CIE) x = 0,31, y = 0,33) mit einer Leuchtdichte von 1000 cd/m² emittiert wurde, kontinuierlich angesteuert wurde, wurde keine Entstehung von dunklen Bereichen beobachtet. Es wurde festgestellt, dass der vorgegebene Zweck erfüllt war.
[Beispiel 4]
Schichten von einer schwarzen Matrix bis zu einer Farbumwandlungsschicht 14 wurden auf einem Glassubstrat 11 durch Wiederholung derselben Vorgehensweise wie in Beispiel 1 gebildet. Dann wurde in einer Vakuumverdampfungsvorrichtung unter einem Druck von 1 × 10^–4 Pa Alq₃ verdampft, um so eine Pufferschicht 17 mit einer Filmstärke von 80 nm zu bilden.
Dann wurde ein 300 nm starker SiNH-Film durch einen Plasma-CVD-Verfahren aufgebracht, um dadurch eine Sperrschicht 15 zu erhalten. Während SiH₄ mit 100 SCCM, NH₃ mit 500 SCCM and N₂ mit 2000 SCCM als Rohmaterialgase verwendet wurden, war der Gasdruck auf 80 Pa eingestellt. Elektrische Hochfrequenz-Leistung mit 1,0 kW mit 27 MHz wurde als elektrische Leistung zur Plasmaerzeugung angelegt. Durch Messung des Brechungsindex eines separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen abgeschiedenen SiNH-Films wurde bewiesen, dass die Sperr schicht 15 in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 2,0 hatte, was höher war als der Brechungsindex der Sperrschicht in Beispiel 1.
Dann wurde eine organische EL-Vorrichtung durch dieselbe Vorgehensweise wie in Beispiel 1 gebildet, um eine organische EL-Anzeige zu bilden. Die erhaltene Anzeige emittierte weißes Licht (Anfangs-Farbwert (CIE) x = 0,31, y = 0,33). Obgleich die erhaltene Anzeige weiter 1000 Stunden lang bei 85°C unter der Bedingung, dass weißes Licht mit einer Leuchtdichte von 1000 cd/m² emittiert wurde, kontinuierlich angesteuert wurde, wurde keine Entstehung von dunklen Bereichen beobachtet. Aus dieser Tatsache wurde festgestellt, dass das Vorsehen der Pufferschicht 17 verhindern konnte, dass die Farbumwandlungspigmente in der Farbumwandlungsschicht 14 beschädigt werden, auch wenn die zum Zeitpunkt der Bildung der Sperrschicht 15 angelegte elektrische Hochfrequenzleistung erhöht wurde, um die Filmbildungsrate zu steigern.
[Beispiel 5]
Eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige wurde durch Wiederholung derselben Vorgehensweise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die Bildung der Farbumwandlungsschicht 14 wie folgt durchgeführt wurde. Eine Metallmaske, in der eine Vielzahl von Öffnungsabschnitten mit einer Größe von 0,09 mm Breite × 0,3 mm Länge in Intervallen mit einer Teilung in Breitenrichtung von 0,33 mm und einer Teilung in Längsrichtung von 0,33 mm angeordnet waren, wurde hergestellt. Die Metallmaske war so ausgerichtet, dass die Öffnungsabschnitte an einer Position angeordnet waren, die der roten Farbfilterschicht 12R entsprach. Dann wurde unter einem Druck von 1 × 10^–4 Pa DCM-1 verdampft, um dadurch eine Farbumwandlungsschicht 14 mit einer Filmstärke von 500 nm zu bilden. Die erhaltene Farbumwandlungsschicht 14 war nur über dem rotes Licht emittierenden Abschnitt angeordnet, wie 5 zeigt, war jedoch nicht über dem blaues Licht emittierenden Abschnitt und dem grünes Licht emittierenden Abschnitt angeordnet.
Obgleich eine kontinuierliche Ansteuerung unter denselben Bedingungen wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, wurde keine Erzeugung von dunklen Bereichen beobachtet. Wenn nur der blaues Licht emittierende Abschnitt zur Emission von Licht gebracht wurde und wenn nur der grünes Licht emittierende Abschnitt zur Emission von Licht gebracht wurde, zeigte die organische EL-Lichtemissions-Anzeige in diesem Beispiel eine 30–40% höhere Leuchtdichte im Vergleich zu der Anzeige in Beispiel 1. Der Grund für die Steigerung der Leuchtdichte lag daran, dass die Farbumwandlungsschicht 14 nicht über dem blaues Licht emittierenden Abschnitt und dem grünes Licht emittierenden Abschnitt angeordnet war.
[Beispiel 6]
Eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige mit einer in 6 gezeigten Konfiguration wurde durch Wiederholung der gleichen Vorgehensweise wie in Beispiel 5 erhalten, mit der Ausnahme, dass die anorganische Verbindungsschicht 13 nicht gebildet wurde und die Bildung der organischen Verbindungsschicht 16 wie folgt durchgeführt wurde.
Ein Glassubstrat 11, auf dem die Farbfilterschichten 12 und eine schwarzen Matrix gebildet wurden, wurde durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren mit NN810L (hergestellt von JSR Corporation) beschichtet. Der erhaltene Film wurde dann belichtet, um dadurch eine organische Verbindungsschicht 16 zu bilden, um die Farbfilterschichten 12 und die schwarze Matrix abzudecken. Die Filmstärke der organischen Verbindungsschicht 16 betrug 1,5 μm in einem Bereich, in dem die organische Verbindungsschicht 16 mit der schwarzen Matrix in Kontakt kam. Dann wurde das erhaltene Substrat mit der organischen Verbindungsschicht 16 und Schichten unter der organischen Verbindungsschicht 16 unter einer trockenen Stickstoffatmosphäre (Wasserkonzentration von 1 ppm oder weniger) 20 Minuten lang auf 230°C erwärmt, um den möglicherweise verbleibenden Wassergehalt zu entfernen. Durch Messung des Brechungsindex einer separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen gebildeten organischen Verbindungsschicht wurde bewiesen, dass die organische Verbindungsschicht 16 in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 1,54 hatte. Als die Farbumwandlungsschicht auf die organische Verbindungsschicht 16 aufgedampft wurde, wurde keine Ablösung der Farbumwandlungsschicht 14 beobachtet.
Obgleich eine kontinuierliche Ansteuerung unter denselben Bedingungen wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, wurde in der organischen EL-Lichtemissions-Anzeige in diesem Beispiel keine Erzeugung von dunklen Bereichen beobachtet. Wenn nur der blaues Licht emittierende Abschnitt zur Emission von Licht gebracht wurde und wenn nur der grünes Licht emittierende Abschnitt zur Emission von Licht gebracht wurde, zeigte die organische EL-Lichtemissions-Anzeige in diesem Beispiel eine 30–40% höhere Leuchtdichte im Vergleich zu der Anzeige in Beispiel 1. Der Grund für die Steigerung der Leuchtdichte lag daran, dass die Farbumwandlungsschicht 14 nicht über dem blaues Licht emittierenden Abschnitt und dem grünes Licht emittierenden Abschnitt angeordnet war.
[Beispiel 7]
Eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige wurde durch Wiederholung der gleichen Vorgehensweise wie in Beispiel 6 erhalten, mit der Ausnahme, dass die organische Verbindungsschicht 16 unter Verwendung von Silikonharz (KP-85, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) an Stelle von NN810L (hergestellt von JSR Corporation) gebildet wurde. Durch Messung des Brechungsindex einer separat auf einem Glassubstrat unter denselben Bedingungen gebildeten organischen Verbindungsschicht wurde bewiesen, dass die organische Verbindungsschicht 16 in diesem Beispiel einen Brechungsindex von 1,43 hatte. Als die Farbumwandlungsschicht auf die organische Verbindungsschicht 16 aufgedampft wurde, wurde keine Ablösung der Farbumwandlungsschicht 14 beobachtet.
Obgleich eine kontinuierliche Ansteuerung unter denselben Bedingungen wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, wurde keine Entstehung von dunklen Bereichen beobachtet. Im Hinblick auf alle Licht emittierenden Farben (Rot, Grün und Blau) zeigte die organische EL-Lichtemissions-Anzeige in diesem Beispiel eine 30% höhere Leuchtdichte im Vergleich mit der Anzeige in Beispiel 6. Der Grund für die Steigerung der Leuchtdichte lag daran, dass die organische Verbindungsschicht 16 mit einem niedrigeren Brechungsindex verwendet wurde.
[Vergleichsbeispiel 1]
Eine Farbumwandlungsschicht 14 wurde auf Farbfilterschichten 12 und eine schwarze Matrix durch Wiederholung derselben Vorgehensweise wie in Beispiel 1 aufgebracht, mit der Ausnahme, dass keine Verbindungsschicht (weder die organische Verbindungsschicht 16 noch die anorganische Verbindungsschicht 13) gebildet wurden. Die Anhaftung der Farbumwandlungsschicht 14 an den Farbfilterschichten 12 war jedoch so schlecht, dass die Farbumwandlungsschicht 14 teilweise abgetrennt wurde.
[Vergleichsbeispiel 2]
Eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige wurde durch Wiederholung derselben Vorgehensweise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die Farbumwandlungsschicht 14 unter Verwendung einer auf einem Nassprozess beruhenden Vorgehensweise wie folgt gebildet wurde. DCM-1 (0,7 Gewichtsteile) wurde in 120 Gewichtsteilen Propylenglykolmonoethylacetat (PGMEA) als Lösemittel aufgelöst. 100 Gewichtsteile "VPA100" (Handelsname, hergestellt von Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) als eine fotopolymerisierbare Harzzusammensetzung wurden dazugegeben und aufgelöst, um dadurch eine Beschichtungszusammensetzung zu erhalten. Diese Beschichtungszusammensetzung wurde auf die anorganische Verbindungsschicht 13 durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen, um dadurch eine Farbumwandlungsschicht mit einer Filmstärke von 10 μm zu bilden.
Als die erhaltene Anzeige bei 85°C 1000 Stunden lang unter der Bedingung, dass weißes Licht (Anfangs-Farbwert (CIE), x = 0,31, y = 0,33) mit einer Leuchtdichte von 1000 cd/m² emittiert wurde, kontinuierlich angesteuert wurde, wurden mehrere dunkle Bereiche pro 1 cm² erzeugt.
ZUSAMMENFASSUNG
Bereit gestellt wird eine organische EL-Lichtemissions-Anzeige mit einem Farbumwandlungssystem mit neuem Aufbau, bei dem die Erzeugung dunkler Bereiche in einem organischen EL-Element unterdrückt werden kann und die Emission des organischen EL-Lichtemissions-Elements sehr wirkungsvoll genutzt werden kann. Die organische EL-Lichtemissions-Anzeige enthält aufeinander ein transparentes Substrat, eine Art oder mehrere Arten von Farbfilterschichten, eine Verbindungsschicht, eine Farbumwandlungsschicht, eine Sperrschicht, eine transparente Elektrode, eine organische EL-Schicht und eine reflektierende Elektrode. Die Farbfilterschicht ist durch einen Nassprozess gebildet, die Farbumwandlungsschicht und die Sperrschicht sind durch einen Trockenprozess gebildet, und die Verbindungsschicht ist eine anorganische Verbindungsschicht, eine organische Verbindungsschicht oder ein Schichtkörper aus einer organischen Verbindungsschicht und einer anorganischen Verbindungsschicht.

11, 31: transparentes Substrat
12, 32 (R, G, B): Farbfilterschicht
13: anorganische Verbindungsschicht
14: Farbumwandlungsschicht
15, 35: Sperrschicht
16: organische Verbindungsschicht
17: Pufferschicht
21, 41: transparente Elektrode
22, 42: organische EL-Schicht
23, 43: reflektierende Elektrode
33 (R, G, B): Farbumwandlungsschicht des herkömmlichen Typs
34: Planarisationsschicht

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

- JP 2001-196175 A [0006]
- JP 2002-175879 A [0006]
- JP 2002-184575 A [0006]

Claims

Organische EL-Lichtemissions-Anzeige, aufeinander folgend enthaltend ein transparentes Substrat, eine Art oder mehrere Arten von Farbfilterschichten, eine Verbindungsschicht, eine Farbumwandlungsschicht, eine Sperrschicht, eine transparente Elektrode, eine organische EL-Schicht und eine reflektierende Elektrode, dadurch gekennzeichnet, dass: die Farbfilterschicht durch einen Nassprozess gebildet ist; die Farbumwandlungsschicht und die Sperrschicht durch einen Trockenprozess gebildet sind; und die Verbindungsschicht ausgewählt ist aus einer Gruppe bestehend aus einer anorganischen Verbindungsschicht, einer organischen Verbindungsschicht und einem Schichtkörper aus einer organischen Verbindungsschicht und einer anorganischen Verbindungsschicht.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Brechungsindex der Sperrschicht größer ist als der Brechungsindex der Farbumwandlungsschicht und kleiner als der Brechungsindex der transparenten Elektrode.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Brechungsindex der Sperrschicht größer ist als 1,9 und kleiner als 2,2.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Farbumwandlungsschicht durch ein Verdampfungsverfahren gebildet ist.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Farbumwandlungsschicht aus einer Art oder einer Vielzahl von Arten von Farbumwandlungspigmenten gebildet ist.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, ferner enthaltend eine schwarze Matrix, dadurch gekennzeichnet, dass die schwarze Matrix in Lücken der einen Art oder der Vielzahl von Arten der Farbfilterschichten angeordnet ist.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die organische Verbindungsschicht einen Brechungsindex nicht größer als 1,5 hat.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die organische Verbindungsschicht aus Silikonharz gebildet ist.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie ferner eine Pufferschicht zwischen der Farbumwandlungsschicht und der Sperrschicht enthält.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Pufferschicht ein filmbildungs-resistentes Material enthält.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Pufferschicht durch ein Verdampfungsverfahren mit Widerstandserwärmung oder durch ein Verdampfungsverfahren mit Elektronenstrahlerwärmung gebildet ist.
Organische EL-Lichtemissions-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Farbumwandlungsschicht selektiv an einer Position gebildet wird, die der einen Art der Farbfilterschicht oder mindestens einer der Vielzahl von Arten von Farbfilterschichten entspricht.