DE69629080T2 - Akustische Oberflächenwellenanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Akustische Oberflächenwellenanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung Download PDF

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Description

  • Hintergrund der Erfindung
  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine AOFW-Anordnung entsprechend dem Oberbegriff des Anspruches 1.
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • Eine AOFW-Anordnung entsprechend dem Oberbegriff des Anspruches 1 ist aus der EP 0 246 626 bekannt. Im Allgemeinen bildet eine AOFW-Anordnung durch Bereitstellung einer aus einem Aluminiumfilm hergestellten Elektrode in Kammform an der Oberfläche eines piezoelektrischen Substrates eine Interdigitalwandlerelektrode und wird als Filter oder Resonator verwendet.
  • Da die Frequenzen in der Mobilkommunikation fortwährend größer werden, sind in jüngster Zeit die Betriebsfrequenzen von AOFW-Anordnungen von einigen 100 Megahertz auf einige Gigahertz gestiegen, wobei gleichzeitig eine höhere Abgabeleistung gefordert wird. Als Ergebnis dieses Frequenzanstieges muss die Musterbreite der Interdigitalwandlerelektrode geringer sein. So muss beispielsweise bei einem Filter mit einer 1,5-GHz-Band-Mittenfrequenz die Elektrodendrahtbreite ungefähr 0,7 μm betragen.
  • Wirkt eine hohe elektrische Leistung auf eine AOFW-Anordnung mit einer geringen Elektrodenbreite ein, bewirkt eine durch akustische Oberflächenwellen (AOFW) erzeugte Dehnung eine (mechanische) Spannung an dem Elektrodenfilm. Wenn diese Spannung eine Grenzspannung des Elektrodenfilmes übersteigt, bewegen sich Aluminiumatome in dem Elektrodenmaterial zur Korngrenze. Infolgedessen bilden sich Häufungs- und Mangelstellen, und die Elektrode wird beschädigt, wodurch sich die Kennwerte der AOFW-Anordnung verschlechtern.
  • Zur Lösung derartiger Probleme wurde, wie in der japanischen Patentveröffentlichung 61-47010 offenbart, die Verwendung eines Filmes aus einer Aluminiumlegierung vorgeschlagen, der Kupfer als Elektrodenmaterial enthält. Der Film aus einer Aluminiumlegierung hält im Vergleich zu einem Film aus reinem Aluminium bei Einwirkung einer höheren elektrischen Leistung stand. Es wurde zudem versucht, den Elektrodenfilm durch Zusetzen von Titan, Nickel, Palladium usw. zu verstärken.
  • Die US-A-5,773,917 offenbart ein Verfahren, das auch bei AOFW-Anordnungen die Verwendung des Übergangsmetalls Kupfer als Migrationsbarriere ermöglicht.
  • Vorrichtungen des Standes der Technik erreichen jedoch weder eine ausreichende Stabilität hinsichtlich elektrischer Leistung noch einen in der Übertragungsphase eines Mobiltelefons notwendigen niedrigen Einfügungsverlust für die elektrische Leistung. So muss beispielsweise ein analoges zelluläres Telefon bei Einwirkung einer elektrischen Leistung von 1 Watt oder mehr standhalten sowie einen Einfügungsverlust in der bei dielektrischen Filtern üblichen niedrigen Größenordnung aufweisen. Wie erläutert, kann, um ein Standhalten bei Einwirkung einer höheren elektrischen Leistung zu ermöglichen, die Rate zugesetzter Metalle erhöht werden. Die zugesetzten Metalle führen jedoch zu einer unerwünschten Erhöhung des spezifischen Widerstandes des Legierungsfilmes sowie zu einer Erhöhung des Einfügungsverlustes.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Es ist daher Hauptaufgabe der Erfindung, eine AOFW-Anordnung mit einer Interdigitalwandlerelektrode bereitzustellen, die in der Lage ist, bei Einwirkung einer hohen elektrischen Leistung standzuhalten, und die eine Erhöhung des Einfügungsverlustes verhindert.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine AOFW-Anordnung mit den in Anspruch 1 beschriebenen Merkmalen gelöst.
  • Erfindungsgemäß ist die an der Oberfläche eines piezoelektrischen Substrates vorgesehene Interdigitalwandlerelektrode durch die abwechselnde Beschichtung mit einem Aluminiumfilm und einem Film hergestellt, der ein leitfähiges Material mit einer elasti schen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes aufweist. Zudem ist die Anzahl der Beschichtungen mit Filmen aus leitfähigem Material und Aluminium mindestens zwei.
  • Diese Ausgestaltung ermöglicht eine AOFW-Anordnung, die die durch die Bewegung von Aluminiumatomen bei Einwirkung einer hohen elektrischen Leistung verursachte Erzeugung von Mangel- und Häufungsstellen unterdrückt und eine Erhöhung des Einfügungsverlustes verhindert.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnung
  • 1(a) ist eine perspektivische Ansicht, die eine Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen AOFW-Anordnung zeigt, und 1(b) stellt die Filterstruktur dieser AOFW-Anordnung dar.
  • 2 ist eine Schnittansicht mit einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • 3 ist eine Schnittansicht einer zu Vergleichszwecken hergestellten Elektrode.
  • 4 ist eine Schnittansicht mit einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • 5 ist eine Schnittansicht mit einem vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Ausführungsbeispiele der Endung werden nachstehend eingehend beschrieben. Entsprechend dem Kernpunkt der Erfindung wird die an der Oberfläche eines piezoelektrischen Substrates vorgesehene Interdigitalwandlerelektrode durch die abwechselnde Beschichtung mit einem Aluminiumfilm und einem Film hergestellt, der ein leitfähiges Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes aufweist. Zudem ist die Anzahl der Beschichtungen mit Filmen aus leitfähigem Material und Aluminium mindestens zwei.
  • Die Dicke jeder Aluminiumfilmschicht beträgt ungefähr 150 nm oder weniger. Die Dicke jeder Schicht des das leitfähige Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes aufweisenden Filmes ist kleiner als die Dicke des Aluminiumfilmes. Infolgedessen wird eine Erhöhung des elektrischen Widerstandes der Elektrode verhindert und die mechanische Festigkeit der Elektrode erhöht, wodurch ein Standhalten bei höheren elektrischen Leistungen möglich wird.
  • Zudem ist die äußerste Schicht der Schichtelektrode der Erfindung ein Aluminiumfilm, dessen Filmdicke ungefähr 50 nm oder weniger beträgt. Infolgedessen ist die Struktur bei Einwirkung einer hohen elektrischen Leistung widerstandsfähig, da die Erzeugung von Häufungs- und Mangelstellen in der äußersten Schicht verhindert wird.
  • Wird ein akustisches Oberflächenwellenelement angeregt, so wird an dem piezoelektrischen Substrat eine Dehnung erzeugt, die zum Wirken einer (mechanischen) Spannung an der Interdigitalwandlerelektrode führt. Übersteigt die Spannung die Grenzspannung des Filmes, so wandern Al-Atome in der Elektrode durch die Korngrenze und bewegen sich zur Oberfläche, um dort Häufungsstellen zu bilden. Bewegen sich die Aluminiumatome an die Oberfläche, so werden in dem Film Mangelstellen von Aluminiumatomen ausgebildet. Da zahlreiche Häufungs- und Mangelstellen ausgebildet werden, wird der Elektrodenfilm beschädigt, und Frequenzschwankungen sowie eine Erhöhung des Einfügungsverlustes treten auf, wodurch die AOFW-Anordnung schlussendlich nicht mehr richtig funktioniert.
  • Es ist weniger wahrscheinlich, dass eine derartige durch die Bewegung von Aluminiumatomen verursachte Ausbildung von Häufungs- und Mangelstellen auftritt, wenn die mechanische Festigkeit des Filmes zunimmt. Zudem ist eine Ausbildung weniger wahrscheinlich, wenn die Größe der den Aluminiumfilm bildenden Teilchen abnimmt. Bislang war bekannt, dass die Bewegung der Aluminiumatome unterdrückt wird, wenn sich Kupferatome, Titanatome oder dergleichen in der Korngrenze absetzen. Entsprechend wurden Versuche durchgeführt, bei denen verschiedene Materialien zugesetzt wurden. Die Menge zugesetzten Materials war allerdings beschränkt, da eine Erhöhung der Konzentration der zugesetzten Materialien eine Erhöhung des spezifischen Widerstandes des Filmes bewirkt, was zu einer merklichen Erhöhung des Einfügungsverlustes führt.
  • Die Erfinder der vorliegenden Erfindung wiesen nach, dass, wenn die Konzentration der zugesetzten Materialien zunimmt, für den Fall eines Einlegierungsfilmes die Korngrenze kontinuierlich von der Schnittstelle des piezoelektrischen Substrates und der Elektrode bis zur Oberfläche der Elektrode besteht, und dass die Teilchen an der Oberfläche der Elektrode größer sind. Wenn die auf die Elektrode einwirkende Spannung die Grenzspannung der Legierungselektrode übersteigt, ergibt sich, dass sich die Aluminiumatome durch die Korngrenze zur Oberfläche der Elektrode hin aufwärts bewegen, wodurch Häufungsstellen entstehen.
  • Auf der Grundlage dieser Versuchsergebnisse wirkt die vorliegende Erfindung bei der Verhinderung der Zunahme der Teilchengröße des Aluminiumfilmes wie auch bei der Verhinderung der Aufwärtsbewegung der Aluminiumatome durch die Korngrenze zur Oberfläche der Elektrode dadurch, dass der Aluminiumfilm von einem Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes in Schichten geteilt ist.
  • Darüber hinaus wird durch die Schichtung eines eine größere elastische Konstante als diejenige des Aluminiumfilmes aufweisenden Materials zwischen die Aluminiumfilme die elastische Festigkeit des gesamten Elektrodenfilmes erhöht, wodurch das Einwirken einer hohen Spannung kaum mehr Wirkung entfaltet. Für den Fall, dass die Dicke jeder Schicht der geschichteten Aluminiumfilme groß ist, bewegen sich aufgrund der anregungsbedingten Spannung Aluminiumatome in seitlicher Richtung, wodurch seitliche Häufungsstellen ausgebildet werden. Die seitlichen Häufungsstellen führen zu einer (leistungsmäßigen) Verschlechterung der Elektrode und bewirken bei einem Kontakt mit der anliegenden Interdigitalwandlerelektrode einen kurzzeitigen Ausfall.
  • Eine Vorgehensweise zur Verhinderung dieses Effektes ist die Verringerung der Dicke der aufzuschichtenden Aluminiumfilme. Insbesondere wiesen die Erfinder der vorliegenden Erfindung experimentell nach, dass es wirkungsvoll ist, die Dicke des Aluminiumfilmes auf ungefähr 100 nm oder weniger festzusetzen, um mit Blick auf eine Verwendung bei einem Überträger ein Standhalten bei einer elektrischen Leistung von 1 Watt oder mehr zu ermöglichen. Darüber hinaus ist, da das leitfähige Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes im Allgemeinen eine größere Dichte als der Aluminiumfilm aufweist, bevorzugt, den leitfähigen Film möglichst dünn auszubilden, wobei zumindest durch die Ausbildung des leitfähigen Filmes dünner als der Alu miniumfilm eine Zunahme des elektrischen Widerstandes der Elektrode verhindert werden kann.
  • Beispiele
  • Einzelne Beispiele werden nachstehend beschrieben.
  • Beispiel 1
  • Eine AOFW-Anordnung entsprechend der vorliegenden Erfindung wird anhand der 1(a) und 1(b) beschrieben. 1(a) ist eine perspektivische Ansicht, die ein 872-MHz-Filter-Gebilde vom Leitertyp zeigt.
  • 1(b) stellt die Filterstruktur dieser Filteranordnung dar. Bezugszeichen 1 bezeichnet ein piezoelektrisches Substrat, wobei im Ausführungsbeispiel Lithiumtantalat Verwendung fand (Das Lithiumtantalatsubstrat wird nachstehend LT-Substrat genannt). Bezugszeichen 2 bezeichnet eine Interdigitalwandlerelektrode und Bezugszeichen 3 eine Reflektorelektrode.
  • 2(a) bis 2(c) zeigen ein erstes Ausführungsbeispiel der Interdigitalwandlerelektrode der vorliegenden Erfindung. Genauer gesagt sind 2(a) bis 2(c) schematische Schnittansichten, die die Schichtelektrode darstellen, wobei die Elektrode eine variable Anzahl von Schichten aufweist. Die gezeigten Schnittansichten stellen lediglich eine Interdigitalwandlerelektrode dar. In der Zeichnung bezeichnen Bezugszeichen 31 bis 33, 35 bis 38 sowie 40 bis 45 Aluminiumfilme und Bezugszeichen 51 und 52, 53 bis 55 sowie 56 bis 60 Filme aus einem leitfähigen Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes. Die in 2(a) gezeigte Interdigitalwandlerelektrode 2 enthält Filme 31 bis 33 sowie 51 und 52. Die in 2(b) gezeigte Interdigitalwandlerelektrode 2 enthält Filme 35 bis 38 und 53 bis 55. Die in 2(c) gezeigte Interdigitalwandlerelektrode 2 enthält Filme 40 bis 45 und 56 bis 60.
  • Die in 2(a) bis 2(c) dargestellte Interdigitalwandlerelektrode wurde in dem nachstehend beschriebenen Verfahren hergestellt. Zunächst wurde der Elektrodenfilm in einem Sputterverfahren hergestellt, wobei das Sputtergerät ein Sputtergerät vom Karus selltyp (SPC-530H von Nichiden Anerva) war. Aluminium- und Titantargets wurden an dem Sputtergerät angebracht, das LT-Substrat 1 wurde in einen Substrathalter eingesetzt, das Vakuum wurde auf 5 m Torr eingestellt, und die Filme wurden bei Raumtemperatur als Substrattemperatur aufgeschichtet.
  • Zu Vergleichszwecken wurden die in 3(a) und 3(b) gezeigten Elektrodengebilde hergestellt und vermessen. Wie in 3 gezeigt ist, bezeichnen Bezugszeichen 1 ein piezoelektrisches Substrat, Bezugszeichen 2 eine Interdigitalwandlerelektrode, Bezugszeichen 46 einen aus einem Material hergestellten Film, Bezugszeichen 47 einen Aluminiumfilm und Bezugszeichen 61 einen Film aus einem leitfähigen Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiums. Beim Ausführungsbeispiel gemäß 3(a) wurde ein Gebilde aus einem Material in Form eines reinen Aluminiumfilmes sowie eines Aluminium-1-Gew.-%-Titan-Legierungsfilmes hergestellt. Beim Ausführungsbeispiel gemäß 3(b) wurde in derselben Vorrichtung eine Dreischichtenelektrode in Form eines Aluminium/Titan/Aluminium-Film-Gebildes hergestellt. Die Dicke des Elektrodenfilmes der hergestellten Elektrode ist in Tabelle 1 gezeigt. Da die Mittenfrequenz des AOFW-Filters in Abhängigkeit vom Massenbelastungseffekt der Elektrode variiert, werden Frequenzschwankungen bei diesem Ausführungsbeispiel verhindert, indem die Schichtdicke derart gewählt wird, dass die Masse gleich der Masse der Elektrode zum Zeitpunkt der Herstellung der Elektrode durch den Aluminiumfilm sein kann.
  • In diesen Elektrodenfilmproben wurden bestimmte Muster mittels Fotolithografie und Trockenätztechniken ausgebildet. Durch Zerschneiden und Substratkontaktieren für Gehäuse und Drahtverbindungsanschlüsse war ein 872-MHz-Filter hergestellt.
  • Bei den hergestellten Proben lies man 4 Watt bei der Mittenfrequenz in einer Atmosphäre von 100°C einwirken und testete die Leistungsstabilität. Die Lebensdauer wurde bei diesem Leistungsstabilitätstest durch Normierung der Zeit bis zu einer Verschlechterung des Einfügungsverlustes um 0,5 dB von dem Anfangswert bezüglich der Lebensdauer des Aluminiumfilmes ausgedrückt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt. Tabelle 1: Zusammensetrung der Elektrode und Bestimmung der Lebensdauer der AOFW-Anordnung von Beispiel 1
    Figure 00080001
  • Wie aus Tabelle 1 ersichtlich ist, wurden für den Fall eines Dreischichtengebildes gemäß 3(b) Häufungsstellen an der Oberfläche sowie seitliche Häufungsstellen an der Seite der Elektrode nachgewiesen, wobei die Lebensdauer der AOFW-Anordnung etwa 20 mal so hoch wie diejenige des mit Titan versetzten Legierungsfilmes war.
  • Andererseits war bei denjenigen Proben, bei denen zwei oder mehr Schichten jeweils eines Titanfilmes und eines Aluminiumfilmes mit einer Filmdicke der Aluminiumschicht von 150 nm oder weniger, wie in 2(a), 2(b) und 2(c) gezeigt, aufgeschichtet wurden, die Lebensdauer der AOFW-Anordnung merklich – über 10' oder mehr – größer. Bei den Proben gemäß 2(a) und 2(b) wurden jedoch teilweise Häufungsstellen an der Oberfläche der Elektrode nachgewiesen. Im Gegensatz hierzu wurde bei der Probe gemäß 2(c) keine Veränderung festgestellt, und die Lebensdauer der AOFW-Anordnung endete nicht während des Testes.
  • Man hat erkannt, dass die Zusammensetzung der Elektrode der vorliegenden Erfindung aus Schichten bei der Verlängerung der Lebensdauer der AOFW-Anordnung sehr wirkungsvoll ist. Der auf den Einfügungsverlust wirkende Schichtwiderstand des Elektrodenfilmes wurde durch Festlegung des Aluminiumelektrodenfilmes auf 1 normiert. Insbesondere beträgt der Schichtwiderstand in der Schichtelektrode das 1,6 bis 1,9-fache, was im Vergleich zu einem mit einem Gewichtsprozent Titan versetzten Legierungsfilm einen kleinen Wert darstellt. Infolgedessen war der Einfügungsverlust kleiner als bei dem Filter mit dem Al-1-Gew.-%-Ti-Legierungsfilm.
  • Bei diesem Ausführungsbeispiel wurde die Filmdicke des Titans auf 15 nm festgesetzt. Es wurde jedoch experimentell nachgewiesen, dass, um die Wirkungen der Erfindung zu erhalten, die Filmdicke des Titans zumindest geringer als die Dicke des Aluminiumfilmes sein sollte. Die Dicke jeder Aluminiumfilmschicht ist bei diesem Ausführungsbeispiel gleich. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf dieses Ausführungsbeispiel beschränkt. Es treten keinerlei Probleme auf, wenn die Dicke der Schichten unterschiedlich ist.
  • Eine Beschränkung auf Titan ist bei dem Elektrodengebilde nicht notwendig, da dieselben Effekte bei der Verwendung von Kupfer, Palladium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Zirkonium, Hafnium, Vanadium, Nickel und Silber nachgewiesen wurden.
  • Beispiel 2
  • Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung wurde eine Elektrode mit einem Schichtengebilde gemäß 2 in dem in 1 gezeigten AOFW-Filter-Gebilde hergestellt. Zu Vergleichszwecken wurden, wie in 3(a) gezeigt, eine Einschichtenelektrode in Form eines reinen Aluminiumfilmes und eines Aluminium-1-Gew.%-Kupfer-Legierungsfilmes, und, wie in 3(b) gezeigt, eine Dreischichtenelektrode in Form eines Aluminium/Kupfer/Aluminium-Schichtenfilmes hergestellt.
  • Das Elektrodengebilde dieses Ausführungsbeispieles weist eine Schichtstruktur aus einem Aluminiumfilm und einem Kupferfilm auf, wobei die Elektrodenfilmdicke in Tabelle 2 gezeigt ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel wurde die Filmdicke gleich der Masse der Elektrode gewählt, wenn die Elektrode einen Aluminiumfilm enthält, und Frequenzschwankungen wurden verhindert.
  • Bei der Herstellung des zweiten Ausführungsbeispiels wurde zunächst auf einem LT-Substrat ein Fotoresistfilmmuster als Negativmuster eines Elektrodenfilmes ausgebildet. Ein Aluminiumfilm und ein Kupferfilm wurden mit bestimmter Dicke in einem Elektronenstrahl-Bedampfungsverfahren mit einem Vakuum von 10–4 Pa und bei Raumtemperatur als Substrattemperatur auf das Substrat aufgeschichtet. Der auf der Fotoresistschicht ausgebildete Elektrodenfilm wurde anschließend durch Ätzen und Entfernen der Fotoresistschicht zeitgleich entfernt, wodurch eine Interdigitalwandlerelektrode hergestellt wurde.
  • Nach einem Zerschneiden der hergestellten Probe und einem Substratkontaktieren für Gehäuse und Drahtverbindungsanschlüsse war ein 872-MHz-Filter wie in Beispiel 1 hergestellt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 zusammengefasst. Tabelle 2: Zusammensetzung der Elektrode und Bestimmung der Lebensdauer der AOFW-Anordnung von Beispiel 2
    Figure 00100001
  • Bei der Dreischichtenelektrode gemäß 3(b) war die Lebensdauer der AOFW-Anordnung ungefähr zehnmal so groß wie bei der mit Kupfer versetzten Probe gemäß 3(a). Bei den Proben gemäß 2(a), 2(b) und 2(c) mit einer Beschichtung mit zwei oder mehr Schichten aus Kupfer und Aluminium betrug die Lebensdauer 1 × 106 und mehr, was eine merkliche Verbesserung im Vergleich zu der Aluminium-1-Gew.-%-Kupfer-Legierungselektrode gemäß 3(a) oder der Dreischichtenelektrode gemäß 3(b) darstellt. Bei den Proben gemäß 2(a) und 2(b) wurden teilweise Häufungsstellen an der Oberfläche nachgewiesen, wohingegen bei der Probe gemäß 2(c) keine Veränderung nachgewiesen wurde. Zudem war die Lebensdauer länger als die Testphase. Der Schichtwiderstand des Elektrodenfilmes war nicht merklich verschieden von demjenigen des Aluminium-1-Gew.-%-Kupfer-Filmes gemäß 3(a), und es traten keinerlei praktische Probleme auf.
  • Des weiteren wurde beim ersten Ausführungsbeispiel die Dicke des aufzuschichtenden Kupferfilmes auf 15 nm festgelegt. Zur Erreichung der Effekte der Erfindung sollte diese Filmdicke jedoch zumindest kleiner als die Dicke des Aluminiumfilmes sein. Des weiteren ist es nicht erforderlich, dass die Dicke jeder Schicht gleich ist. Die Dicke der Aluminiumfilme ist bei diesem Ausführungsbeispiel gleich ausgebildet. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht hierauf beschränkt: Es tritt keinerlei praktisches Problem auf, wenn die Dicke der Schichten unterschiedlich ist.
  • Eine Beschränkung auf Kupfer ist bei dem Elektrodengebilde nicht notwendig. Dieselben Effekte wurden bei Verwendung von Titan, Palladium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Zirkonium, Hafnium, Vanadium, Nickel und Silber nachgewiesen.
  • Beispiel 3
  • Das dritte Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in 4 dargestellt. In 4 bezeichnen Bezugszeichen 1 ein piezoelektrisches Substrat, Bezugszeichen 70 bis 73 Aluminiumfilme und Bezugszeichen 80 bis 82 Filme aus einem leitfähigen Material, die in diesem Ausführungsbeispiel als Kupferfilme ausgebildet sind. Bei diesem Ausführungsbeispiel werden Aluminiumfilme und Kupferfilme aufgeschichtet, wobei die Filmdicke des Aluminiumfilmes 73 in der äußersten Schicht 21 nm beträgt. Die Zusammensetzung der Filmdicken ist in Tabelle 3 gezeigt. Zu Vergleichszwecken wurde eine Probe derselben Zusammensetzung aus sieben Schichten mit einer Filmdicke der äußersten Schicht von 66 nm hergestellt.
  • Diese Proben des Elektrodengebildes wurden nach demselben Verfahren wie in Beispiel 2 hergestellt. Die Testergebnisse zeigt Tabelle 3. Tabelle 3: Zusammensetrung der Elektrode und Bestimmung der Lebensdauer der AOFW-Anordnung von Beispiel 2
    Figure 00120001
  • Wie Tabelle 3 zeigt, kann durch eine dünne Ausbildung der äußersten Schicht des Aluminiumfilmes die Bildung von Häufungsstellen an der Oberfläche verhindert werden, und die Lebensdauer der AOFW-Anordnung wird infolgedessen verlängert. Obwohl der Kupferfilm zur Oxidierung neigt, ist die äußerste Schicht ein oxidationsbeständiger Aluminiumfilm. Es trat für eine lange Zeit keine oxidationsbedingte Frequenzschwankung auf.
  • Eine Beschränkung auf Kupfer ist bei dem Elektrodengebilde nicht notwendig. Dieselben Effekte wurden bei Verwendung von Titan, Palladium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Zirkonium, Hafnium, Vanadium, Nickel und Silber nachgewiesen.
  • Beispiel 4
  • Ein viertes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird in 5 dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind der Film 95 aus einem leitfähigem Material als Titanfilm und die Filme 96 und 97 aus einem leitfähigen Material als Titannitridfilme ausgebildet. Bezugszeichen 90, 91 und 92 bezeichnen Aluminiumfilme, deren Kombination eine Interdigitalwandlerelektrode 2 bildet. Bezugszeichen 1 bezeichnet ein piezoelektrisches Substrat, das in diesem Ausführungsbeispiel ein LT-Substrat ist.
  • Der Elektrodenfilm wurde mittels Vakuumaufbringung hergestellt. Nach einer Evakuierung auf ein Vakuum von 10–4 Pa wurden Aluminium und Titan mittels eines Elektronenstrahles bei Raumtemperatur als Substrattemperatur zur Bildung des Filmes aufgedampft. Zu diesem Zeitpunkt der Ausbildung des Filmes war die mit dem piezoelektrischen Substrat 1 in Kontakt befindliche erste Schicht der Titanfilm 95, und die Schichten 96 und 97 waren Titannitridfilme, die durch eine während der Aufdampfung erfolgende Zufuhr von Stickstoffgas bei 10–3 Pa erzeugt wurden. Während der Ausbildung des Aluminiumfilmes wurde die Zufuhr des Stickstoffgases gestoppt, und der Film wurde in einem Hochvakuumzustand ausgebildet.
  • Bei dem Elektrodengebilde des vierten Ausführungsbeispiels ist eine Titanschicht an dem piezoelektrischen Substrat 1 angelagert, wodurch die Anhaftfestigkeit im Vergleich zum Aluminium verbessert wurde. Die Schicht mit dem Aluminium war ein Titannitridfilm. Eine Reaktion mit dem Aluminiumfilm trat kaum auf, und es trat zudem bei der Erwärmung während des Ätzens oder des Zusammensetzens aufgrund größerer Stabilität kaum Diffusion auf. Des weiteren war die Lebensdauer der AOFW-Anordnung 10' auch nach einer Erwärmung auf 360°C, wobei der elektrische Widerstand der Elektrode vergleichsweise klein war; er betrug nämlich etwa das 1,6-fache desjenigen des Aluminiumfilmes. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird das Verfahren anhand von Titan dargestellt. Dieselben Effekte treten bei dem Verfahren jedoch auch bei Verwendung von Übergangsmetallen, beispielsweise Zirkonium, Hafnium, Vanadium, Niob, Tantal, Chrom, Molybdän, Wolfram und anderen, auf.
  • Beispiel 5
  • Bei dem in 1 gezeigten Filter-Gebilde enthält die Elektrode insgesamt fünf Schichten mit einer Zusammensetzung der Schichten aus einem Aluminiumfilm und einem Titanboratfilm, wobei drei Schichten als Aluminiumfilm und zwei Schichten als Titanboratfilm ausgebildet sind. Der Film wurde durch Sputtern hergestellt, wobei das Gerät ein Sputtergerät vom Karusselltyp (SPC-530H von Nichiden Anelva) war. Aluminium- und Titanborattargets wurden an dem Sputtergerät angebracht, das LT-Substrat 1 wurde in einen Substrathalter eingesetzt, das Vakuum wurde auf 5 m Torr eingestellt, und die Filme wurden bei Raumtemperatur als Substrattemperatur aufgeschichtet. Die Dicke einer Titanboratfilmschicht betrug 10 nm.
  • Nach der Ausbildung der Schichtelektrode wurde mittels Fotolithografie durch Ätzen des Elektrodenfilmes mittels Ionenmahlen (ion milling) ein bestimmtes Muster erzeugt. Die nachfolgende Vorgehensweise entspricht derjenigen von Beispiel 1. Das Testverfahren entspricht ebenfalls demjenigen von Beispiel 1. Bei diesem Ausführungsbeispiel wurden nach dem Testen kleine Anhäufungsstellen an der Oberfläche der Elektrode nachgewiesen. Die Lebensdauer der AOFW-Anordnung betrug 5 × 107 oder mehr. Dies wird durch die Wirkung der größeren mechanischen Festigkeit des Titanboratfilmes und der geringen Teilchengröße des auf dem Titanboratfilm ausgebildeten Aluminiumfilmes verursacht.
  • Bei der Zusammensetzung dieses Ausführungsbeispiels wurden Titan, Kupfer und die zwei Titanverbindungsmaterialen Titanborat und Titannitrid verwendet. Die Wirkung der Erfindung wurde durch Schichtung eines Materials mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes zwischen den Aluminiumfilmschichten erreicht, wobei dieselben Effekte auch bei Verwendung von Palladium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Zirkonium, Hafnium, Vanadium, Nickel, Silber und anderen Einmetallen sowie bei Titancarbiden, Nickel-Chrom, Titannitriden und anderen Carbiden, Nitriden und Legierungen auftraten.
  • Die Schichten des Materials mit einer elastischen Konstante größer als diejenige des Aluminiumfilmes müssen nicht notwendigerweise aus demselben Material sein. Dieselben Wirkungen treten auf, wenn die zwischen die Aluminiumfilme geschichteten Filme aus Materialien mit einer elastischen Konstante größer als diejenige der Aluminiumfilme bestehen.
  • Dieses Ausführungsbeispiel bedient sich eines LT-Substrates, die Erfindung ist jedoch nicht hierauf beschränkt, da dieselben Effekte bei Verwendung beispielsweise eines Lithiumniobatsubstrates, eines Lithiumtetraboratsubstrates oder eines Einkristallsubstrates, beispielsweise eines Quarzsubstrates, auftraten. Zudem treten dieselben Effekte in einem piezoelektrischen Substrat bei Verwendung eines auf einem Saphirsubstrat ausgebildeten Zinkoxidfilmes auf.
  • Zusammenfassend lässt sich feststellen, dass die vorliegende Erfindung eine Interdigitalwandlerelektrode beschreibt, die bei Einwirkung einer hohen elektrischen Leistung standhält, und deren Schichtwiderstand niedrig ist. Dies wird erreicht, indem Aluminiumfilme und Filme aus einem leitfähigen Material mit einer elastischen Konstante größer als diejenige der Aluminiumfilme aufgeschichtet werden. Infolgedessen liefert die vorliegende Erfindung hervorragende Ergebnisse mit Blick auf die Herstellung hochzuverlässiger Überträgerfilter für Mobiltelefone, bei in schlüssellosen Zutrittssystemen verwendeten Oszillatoren wie auch bei anderen Vorrichtungen, bei denen eine hohen elektrische Leistung einwirkt.

Claims (2)

  1. AOFW-Anordnung mit einem piezoelektrischen Substrat (1) und mindestens einer an einer Oberfläche des piezoelektrischen Substrates (1) vorgesehenen Interdigitalwandlerelektrode (2); wobei die Interdigitalwandlerelektrode (2) eine Mehrzahl von Filmen (31 bis 33, 35 bis 38, 40 bis 45, 74 bis 77, 90 bis 92) aus einem ersten Material und eine Mehrzahl von Filmen (51, 52, 53 bis 55, 56 bis 60, 83 bis 86, 95 bis 97) aus einem zweiten Material umfasst, die derart angeordnet sind, dass sie abwechselnde Schichten bilden, wobei die Filme aus dem ersten Material Aluminium enthalten, wobei die Filme aus dem zweiten Material ein leitfähiges Material mit einer elastischen Konstante größer als die elastische Konstante der Filme aus dem ersten Material enthalten, und wobei die Interdigitalwandlerelektrode mindestens zwei Filme aus dem ersten Material und mindestens zwei Filme aus dem zweiten Material umfasst; dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Filme aus dem ersten Material eine Dicke von 100 nm oder weniger aufweist; jeder der Filme aus dem zweiten Material eine Dicke aufweist, die kleiner als die Dicke jedes der Filme aus dem ersten Material ist; und das zweite Material ein Material oder ein Zusammensetzung von Materialien aus einer Titan, Kupfer, Palladium, Chrom, Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Zirkonium, Hafnium, Vanadium, Nickel und Silber enthaltenden Gruppe ist, wobei die Interdigitalelektrode (2) eine von einem der Filme aus dem ersten Material gebildete äußerste Schicht (73) aufweist, die eine Dicke von 50 nm oder weniger aufweist.
  2. AOFW-Anordnung nach Anspruch 1, zudem umfassend eine zwischen dem piezoelektrischen Substrat und der Interdigitalelektrode angeordnete Übergangsmetall-Schicht, die ein leitfähiges Material enthält.
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